JP2019072801A - 研磨用保持具 - Google Patents
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Abstract
Description
[1]
被研磨物を保持するための保持パッドと、
前記保持パッド上に配され、かつ、前記被研磨物を囲むための枠材と、
前記枠材上に配されるコーティング層と、
を備え、
前記枠材が、樹脂と強化繊維とを含み、
前記コーティング層の接触角が、85°以下である、研磨用保持具。
[2]
前記コーティング層の厚さが、20〜100μmである、[1]に記載の研磨用保持具。
[3]
前記コーティング層が、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂及びウレタン系樹脂からなる群より選択される1種以上の樹脂を含む、[1]又は[2]に記載の研磨用保持具。
[4]
前記コーティング層における前記樹脂の含有量が、50質量%以上である、[1]〜[3]のいずれかに記載の研磨用保持具。
本実施形態の研磨用保持具は、被研磨物を保持するための保持パッドと、前記保持パッド上に配され、かつ、前記被研磨物を囲むための枠材と、前記枠材上に配されるコーティング層と、を備え、前記枠材が、強化繊維を含み、前記コーティング層の接触角が、85°以下である。本実施形態の研磨用保持具は、このように構成されているため、強化繊維により枠材の強度を確保しつつ当該繊維の脱落を防止し、さらに研磨時における研磨スラリーの供給性ないし循環性をも良好なものとすることができる。
本実施形態における保持パッドとしては、ワークを保持する(保持面を有する)ものである限り、その材質や形状については特に限定されない。保持パッドは、シート状であると好ましく、その場合、シートの表面が保持面となる。ただし、保持パッドの形状はシート状に限定されない。
弾性樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリノルボルネン樹脂、トランス−ポリイソプレン樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂が挙げられる。このなかでも、硬度、粘弾性特性の調整、良好な発泡性、耐摩耗性の観点からポリウレタン樹脂が好ましい。これらは1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。
本実施形態において、弾性樹脂発泡体に存在する気泡としては、特に限定されないが、例えば、複数の気泡が独立して存在する独立気泡、複数の気泡が連通孔でつながっている連続気泡が挙げられ、これらが混在していてもよい。これらのなかでも、弾性樹脂発泡体は保持パッドに要求されるクッション性及び密着性(保持性能)を確保し易いという観点から連続気泡を有することが好ましい。気泡の形状は特に限定されないが、例えば、球形状、略球形状、弾性樹脂発泡体の面方向に扁平になった形状(扁平形状)、涙型形状が挙げられる。このうち、保持パッドに要求されるクッション性及び密着性(保持性能)を確保しやすいという観点から涙型形状であることが好ましい。
本実施形態において、保持パッドの硬度は、好ましくはショアA硬度10°以上ショアD硬度70°以下であり、より好ましくはショアA硬度10°以上ショアA硬度80°以下であり、さらに好ましくはショアA硬度10°以上ショアA硬度50°以下である。ショアA硬度が10°以上であることにより、高い研磨圧により研磨加工された際に保持パッドの沈み込みが抑制され、被研磨物の一層高度な平坦化が達成される傾向にある。また、ショアD硬度が70°以下であることにより、研磨時の衝撃に由来する研磨物表面の研磨傷の発生をより抑制できる傾向にある。保持パッドの硬度は、例えば、保持パッドとしての弾性樹脂発泡体に含まれる気泡の量を制御することにより、調整することができる。なお、ショアA硬度及びショアD硬度は、JIS−K−6253(2012)に準拠して測定することができる。
本実施形態における枠材は、研磨加工中に被研磨物が横ずれを起こして、保持パッドのワーク保持面から脱落することを防止する(横ずれ範囲を規制する)ものである。そのため、枠材は、保持パッド上に配され、典型的には、保持パッドのワーク保持面の周囲にある面上に設けられる。また、枠材は、変形等を防止する観点から、樹脂と強化繊維とを含むもの(繊維強化樹脂)である。枠材の形状及び寸法は、被研磨物が研磨領域から飛び出さないようなものであれば特に限定されず、例えば、円形の被研磨物の場合に枠材は、その内径が被研磨物よりやや大きい円形状を有する、すなわち保持穴を有していてもよい。また、枠材は、研磨の際に要求される硬度や耐薬品性、精度の観点から、内部に気泡を有しない樹脂無発泡体でもよいし、枠材としての機能を損なわない範囲で発泡を含んでいてもよい。例えば、枠材表面の開孔径を測定したときの平均開孔径が10μm以下であれば耐久性、耐薬品性が向上する傾向にあり、平均開孔径が5μm以下であればより好ましく、平均開孔径が2μm以下であればさらに好ましい。開孔径の測定方法は公知の方法でよいが、例えば、下記のようにして測定される。レーザー顕微鏡(例えばKEYENCE社製商品名「VK−X105」)で200倍に拡大して観察し、その画像を得る。次いで、得られた画像を画像解析ソフト(例えば、三谷商事株式会社製商品名「WinRoof」)により二値化処理することで、開孔とそれ以外の部分とを区別する。そして、区別した各々の開孔の面積から円相当径、すなわち開孔が真円であると仮定して開孔径を算出する。そして、各々の開孔の開孔径を相加平均して平均開孔径(μm)とする。
本実施形態におけるコーティング層は、枠材上に配されていることで、研磨パッドやワークとの接触による枠材の摩耗を防止でき、結果として強化繊維が枠材から脱落することを防止することができる。かかる観点から、コーティング層は、研磨パッドと接する枠材の表面の少なくとも一部を被覆するものであればよい。例えば、図1に示すように、少なくとも研磨パッドと接触する枠材の表面を被覆するものであってもよく、さらに研磨パッドと接触する面以外の枠材表面から強化繊維が脱落することを防止する観点から、ワークと接触する枠材の表面も被覆するものであってもよく、枠材の全体を被覆するものであってもよい。さらに、本実施形態におけるコーティング層は、接触角が85°以下である。ここでいう接触角とは、コーティング層の研磨パッドに接する側の表面を対象とし、JIS3257(1999)に準拠して、水を滴下して30秒後の水の接触角を測定して得られるものを意味する。より詳細には、後述する実施例に記載の方法により測定することができる。本実施形態におけるコーティング層は上記のような接触角を有するため、研磨スラリーとの馴染みが良く、研磨時の研磨スラリーの供給性ないし循環性が向上する。このように、本実施形態におけるコーティング層により、強化繊維の脱落が防止されると共に研磨時の研磨スラリーの供給性ないし循環性が向上するため研磨屑の滞留も防止でき、研磨傷の発生を好ましく抑制することができ、さらに研磨レートを向上させることができる。上記同様の観点から、上記接触角は85°以下であることが好ましく、75°以下であることがより好ましい。上記接触角は、コーティング層の形成材料として親水性のものを選択すること、バフ処理を行うこと等により上述した範囲に調整することができる。
本実施形態の研磨用保持具の製造方法(以下、単に「製造方法」ともいう。)としては、上述した構成を有する研磨用保持具が得られる限り特に限定されないが、例えば、保持パッドを得る工程と、当該保持パッド上に前記枠材を形成する形成工程と、当該枠材上にコーティング層を形成する工程と、を有するものとすることができる。例えば、保持パッドは次のようにして得ることができる。すなわち、本実施形態の製造方法においては、樹脂と溶媒とを含む樹脂溶液を調製する工程(樹脂溶液調製工程)と、樹脂溶液を成膜用基材の表面に塗布する工程(塗布工程)と、樹脂溶液中の樹脂を凝固再生して、前駆体シートを形成する工程(凝固再生工程)と、前駆体シートから溶媒を除去して樹脂シートを得る工程(溶媒除去工程)と、樹脂シートをバフ処理又はスライス処理により研削する工程(研削工程)とを有する、いわゆる湿式成膜法によって保持パッドを得ることができる。
上述のポリウレタン樹脂などのマトリックス樹脂と、そのマトリックス樹脂を溶解可能であって、後述の凝固液に混和する溶媒と、必要に応じて樹脂シートに含ませるその他の材料(例えば、顔料、親水性添加剤及び疎水性添加剤)とを混合し、更に必要に応じて減圧下で脱泡して樹脂溶液を調製する。溶媒としては、特に限定されないが、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド(以下、「DMF」という。)及びN,N−ジメチルアセトアミドが挙げられる。樹脂溶液について、B型回転粘度計を用いて25℃で測定した粘度が3〜50Pa・sの範囲であると好ましく、5〜20Pa・sの範囲であるとより好ましい。そのような粘度の数値範囲にある樹脂溶液を得る観点、並びに後述の凝固スピードを調整する観点から、例えば、マトリックス樹脂を、樹脂溶液の全体量に対して10〜30質量%の範囲、より好ましくは15〜25質量%の範囲で溶媒に溶解させてもよい。樹脂溶液の粘性は、用いるマトリックス樹脂の種類及び分子量にも依存するため、これらを総合的に考慮し、マトリックス樹脂の選定、濃度設定等を行うことが重要である。また、発泡を促進させる親水性添加剤及び凝固再生を安定化させる疎水性添加剤の種類及び添加量も、適宜選択及び調整することが重要である。
樹脂溶液を、好ましくは常温下で、ナイフコータ等の塗布装置を用いて帯状の成膜用基材に塗布して塗膜を形成する。このときに塗布する樹脂溶液の厚さは、最終的に得られる樹脂シートの厚さが所望の厚さになるように、適宜調整すればよい。成膜用基材の材質としては、例えば、PETフィルムなどの樹脂フィルム、布帛及び不織布が挙げられる。これらの中では、液を浸透し難いPETフィルムなどの樹脂フィルムが好ましい。
成膜用基材に塗布された樹脂溶液の塗膜を、マトリックス樹脂に対する貧溶媒(例えばポリウレタン樹脂の場合は水)を主成分とする凝固液中に連続的に案内する。凝固液には、マトリックス樹脂の再生速度を調整するために、樹脂溶液中の極性溶媒等の有機溶媒を添加してもよい。また、凝固液の温度は、マトリックス樹脂を凝固できる温度であれば特に限定されないが、マトリックス樹脂がポリウレタン樹脂である場合、15〜65℃が好ましい。凝固液中では、まず、樹脂溶液の塗膜と凝固液との界面に皮膜(スキン層)が形成され、皮膜の直近のマトリックス樹脂中に無数の緻密な微多孔が形成される。その後、樹脂溶液に含まれる溶媒の凝固液中への拡散と、マトリックス樹脂中への貧溶媒の浸入との協調現象により、好ましくは連続気泡構造を有するマトリックス樹脂の再生が進行する。このとき、成膜用基材が液を浸透し難いもの(例えばPETフィルム)であると、凝固液がその基材に浸透しないため、樹脂溶液中の溶媒と貧溶媒との置換がスキン層付近より優先的に生じ、スキン層付近よりもその内側にある領域の方に、より大きな空孔が形成される傾向にある。こうして成膜用基材上に前駆体シートが形成される。
形成された前駆体シート中に残存する溶媒を除去して樹脂シートを得る。溶媒の除去には、従来知られている洗浄液を用いることができる。また、溶媒を除去した後の樹脂シートを、必要に応じて乾燥してもよい。樹脂シートの乾燥には、例えば、内部に熱源を有するシリンダを備えたシリンダ乾燥機を用いることができるが、乾燥方法はこれに限定されない。シリンダ乾燥機を用いる場合、前駆体シートがシリンダの周面に沿って通過することで乾燥する。さらに、得られた樹脂シートをロール状に巻き取ってもよい。
樹脂シートの好ましくはスキン層側の主面と、その反対側である裏面とのうちの少なくとも一方を、バフ処理で研削又はスライス処理で除去する。バフ処理やスライス処理により樹脂シートの厚さの均一化を図ることができるため、被研磨物に対する押圧力を一層均等化し、被研磨物の損傷を更に抑制すると共に被研磨物の平坦性を向上させることができる。また、スキン層側の主面は樹脂シートにおいて保持面となる面であり、バフ処理又はスライス処理により開気孔が形成されると、被研磨物の研磨均一性が向上するので好ましい。
本実施形態における保持パッドに枠材を形成する工程は、保持パッドと枠材とが接合されるものであれば特に限定されない。また、枠材上にコーティング層を形成する工程としても、枠材とコーティング層が接合されるものであれば特に限定されない。これらの接合方法としては、例えば、所定厚さの感熱接着フィルムを介して接合することが挙げられ、かかる接合も種々公知の条件にて実施することができる。
本実施形態の研磨用保持具の製造方法は、保持パッドの、枠材が形成された面とは反対の面に対して、基材を貼り合せる積層工程をさらに有していてもよい。このようにして得られる研磨用保持具と基材の複合体を保持具用シートともいう。積層方法としては、特に限定されないが、例えば、接着層を介して積層する方法が挙げられる。また、基材の、保持パッドが積層された面とは反対の面に対して、粘着層を介して離型層を積層する工程をさらに有していてもよい。基材としては、以下に限定されないが、例えば、湿式凝固法により得られるウレタンシート、モールド成型法により得られるウレタンシート、ポリエチレン等のスポンジフォーム、ポリエチレンテレフタラート(PET)等のフィルム、不織布、織布等を使用することができる。また、基材を用いず、直接、保持パッドの枠材が形成された面と反対の面に粘着層を介して離型層を積層してもよい。
本実施形態の研磨物の製造方法は、上記研磨用保持具により保持した被研磨物を、研磨パッドを用いて研磨し、研磨物を得る研磨工程を有する。研磨工程は、一次研磨(粗研磨)であってもよく、仕上げ研磨であってもよく、それら両方の研磨を兼ねるものであってもよい。
保持パッドを次のようにして調製した。まず、マトリックス樹脂となる原料樹脂であるポリエステル系ポリウレタン樹脂の35%DMF溶液100質量部に対して、粘度調整用のDMF50質量部、水8質量部、顔料であるカーボンブラックを6.7質量%含むDMF分散液を44質量部、疎水性添加剤(ポリプロピレングリコール)2.5質量部、親水性添加剤(ラウリル硫酸ナトリウム)1.0質量部を添加して、混合撹拌し、樹脂溶液を調製した。次に、成膜用基材として、PETフィルムを用意し、そこに、上記樹脂溶液を、ナイフコータを用いて塗布し塗膜を得た。次いで、得られた塗膜を成膜用基材と共に、凝固液である水からなる18℃の凝固浴に浸漬し、樹脂を凝固再生して前駆体シートを得た。前駆体シートを凝固浴から取り出し、PETフィルムを前駆体シートから剥離した後、前駆体シートを水からなる室温の洗浄液(脱溶剤浴)に浸漬し、溶媒であるDMFを除去して樹脂シートを得た。その後、樹脂シートを乾燥し保持パッドを得た。
次いで、ガラス繊維含有エポキシ樹脂板を用意し、その上面にコーティング層としてエポキシ系樹脂(ソマール社製ソマフォーム(商標登録)EP-0202EF)を接合させ、円環状に加工したものを保持パッドに貼り付け、実施例1に係る研磨用保持具をとした。
コーティング層の形成材料として、エポキシ系樹脂の代わりにウレタン系樹脂(TOYO CHEM社製 TSU)を用いたこと以外は実施例1と同様にして実施例2に係る研磨用保持具を得た。
実施例1の研磨用保持具において、コーティング層の表面をシートバフ機で表面をバフ処理し、実施例3に係る研磨用保持具を得た。
コーティング層を形成しなかったこと以外は実施例1と同様にして比較例1に係る研磨用保持具を得た。比較例1に係る研磨用保持具の断面模式図を図3に示す。図3からわかるように、比較例1に係る研磨用保持具は、保持パッド12上に枠材14が形成されているのみであり、コーティング層は有していなかった。
比較例1の研磨用保持具において、枠材の表面をシートバフ機で実施例3と同じバフ処理量となるようにバフ処理し、比較例2に係る研磨用保持具を得た。
実施例及び比較例に係る研磨用保持具におけるコーティング層の研磨パッドに接する側の表面を対象とし、接触角を測定した。すなわち、測定装置として固液界面解析装置(協和界面科学社製、商品名「DropMaster500」)を用い、温度20℃、湿度60%の条件の下、注射針から水滴1滴(2μL)を滴下し、30秒後の接触角を測定した。
実施例及び比較例に係る研磨用保持具におけるコーティング層の研磨パッドに接する側の表面を対象とし、表面粗さを評価した。すなわち、測定装置として表面粗さ測定機(株式会社東京精密製、サーフコム480B)を用い、日本工業規格(JIS B 0601−1994)に基づき測定した。具体的には、測定速度0.6mm/secにて測定距離を4mmとし、保持パッド用のシートの表面5区間測定を行った。カットオフ値は0.8mmとした。
実施例及び比較例に係る研磨用保持具を適用した研磨装置(図2参照)を用い、以下の条件にて研磨試験を行い、研磨レートを評価した。
(研磨条件)
研磨パッド:フジボウ愛媛(株)社製不織布パッドFPK550
回転数:(定盤)40rpm/(トップリング)41rpm
研磨圧:100g/cm2
揺動:20mm
研磨剤:フジミインコーポレーテッド社製 GLANZOX 1306
(原液:水=1:20)
被研磨物:12インチシリコンウエーハ(厚み780μm)
(研磨レート)
ダミー用の被研磨物6枚を1バッチ研磨加工後、続けて測定用の被研磨物6枚を1バッチ研磨加工し、研磨レートを測定した。研磨レートは、1時間あたりの研磨量を厚さ(nm)で表したものであり、研磨加工前後の被研磨物の研磨面について被研磨物6枚の各々17箇所の厚さ測定の結果から平均値を求め、比較例を1.0として、実施例ではその比を表した。なお、厚さ測定は、光学式膜厚膜質測定器(KLAテンコール社製、商品名「ASET−F5x」)のDBSモードにて測定した。
上記研磨試験後の被研磨物6枚の表面を対象とし、ウェハ表面検査装置(KLAテンコール社製、商品名「Surfscan SP1DLS」)の高感度測定モードにて測定し、被研磨物表面におけるスクラッチの有無をカウントし、下記評価基準により評価した。
(評価基準)
○:スクラッチが入った研磨物が無い場合
×:スクラッチが入った研磨物が1枚以上ある場合
Claims (4)
- 被研磨物を保持するための保持パッドと、
前記保持パッド上に配され、かつ、前記被研磨物を囲むための枠材と、
前記枠材上に配されるコーティング層と、
を備え、
前記枠材が、樹脂と強化繊維とを含み、
前記コーティング層の接触角が、85°以下である、研磨用保持具。 - 前記コーティング層の厚さが、20〜100μmである、請求項1に記載の研磨用保持具。
- 前記コーティング層が、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂及びウレタン系樹脂からなる群より選択される1種以上の樹脂を含む、請求項1又は2に記載の研磨用保持具。
- 前記コーティング層における前記樹脂の含有量が、50質量%以上である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の研磨用保持具。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023119951A1 (ja) * | 2021-12-21 | 2023-06-29 | 信越半導体株式会社 | 両面研磨装置、半導体シリコンウェーハの両面研磨方法、両面研磨シリコンウェーハ及びその製造方法 |
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000296461A (ja) * | 1999-04-13 | 2000-10-24 | Speedfam-Ipec Co Ltd | バッキングパッド構造体 |
JP2010036288A (ja) * | 2008-08-01 | 2010-02-18 | Sumco Techxiv株式会社 | 研磨用治具 |
JP2010182813A (ja) * | 2009-02-04 | 2010-08-19 | Noritake Super Abrasive Co Ltd | Cmpパッドコンディショナー |
JP2013507764A (ja) * | 2009-10-07 | 2013-03-04 | エルジー・シルトロン・インコーポレーテッド | ウェーハ支持部材、その製造方法及びこれを備えるウェーハ研磨ユニット |
-
2017
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000296461A (ja) * | 1999-04-13 | 2000-10-24 | Speedfam-Ipec Co Ltd | バッキングパッド構造体 |
JP2010036288A (ja) * | 2008-08-01 | 2010-02-18 | Sumco Techxiv株式会社 | 研磨用治具 |
JP2010182813A (ja) * | 2009-02-04 | 2010-08-19 | Noritake Super Abrasive Co Ltd | Cmpパッドコンディショナー |
JP2013507764A (ja) * | 2009-10-07 | 2013-03-04 | エルジー・シルトロン・インコーポレーテッド | ウェーハ支持部材、その製造方法及びこれを備えるウェーハ研磨ユニット |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023119951A1 (ja) * | 2021-12-21 | 2023-06-29 | 信越半導体株式会社 | 両面研磨装置、半導体シリコンウェーハの両面研磨方法、両面研磨シリコンウェーハ及びその製造方法 |
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