JP7302848B2 - 研磨シートおよび研磨方法 - Google Patents
研磨シートおよび研磨方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7302848B2 JP7302848B2 JP2019082562A JP2019082562A JP7302848B2 JP 7302848 B2 JP7302848 B2 JP 7302848B2 JP 2019082562 A JP2019082562 A JP 2019082562A JP 2019082562 A JP2019082562 A JP 2019082562A JP 7302848 B2 JP7302848 B2 JP 7302848B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- grooves
- polishing
- sheet
- polishing sheet
- polyurethane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Description
本発明の一態様は、上記研磨シートを使用して、シリコンベアウエハ、ガラス、化合物半導体基板およびハードディスク基板等の被研磨基板を研磨する研磨方法である。
軟質多孔層の厚みは、200~900μmの範囲で被研磨基板および研磨プロセスに応じて設定される。開口部の開口径は、10~150μmの範囲で被研磨基板および研磨プロセスに応じて設定される。
本発明の研磨シートは、シリコンベアウエハ、ガラス、化合物半導体基板およびハードディスク基板等においてより品質の高い鏡面、すなわち鏡面性の面内均一性が高く、欠陥が少ない鏡面を得られる。
岡本工作機械製作所製研磨装置(型式:SPP600)を使用し、二次研磨(SUBA600パッド使用)上がりの8インチシリコンベアウエハを用いて、次の条件で研磨評価を行った。
・プラテン回転:46rpm
・ウエハヘッド回転:49rpm
・ヘッド荷重:100g/cm2
・スラリー量:700ml/min(スラリー:コロイダルシリカスラリー砥粒濃度1%)
・ 研磨時間:15分。
上記研磨条件で研磨したシリコンウェハ表面を、ケーエルエー・テンコール社製、 SURFSCAN SP-1で分析を行い、0.05μm以下0.01μm以上の欠陥数と平均ヘイズレベルおよびヘイズレベルのシリコンウェハ面内バラツキであるヘイズレベル標準偏差を平均ヘイズレベルで除した値を鏡面性の面内均一性とした。
ポリエステルとジフェニルメタンジイソシアネート(以下「MDI」)との重付加体であるポリウレタン樹脂25質量部を、DMF100質量部に溶解した。さらに、これにカーボンブラックを2質量部と疎水性活性剤とを2質量部添加し、ポリウレタン溶液Aを調整した。
金属板に突起を設けたエンボス用型板を用意し、研磨シート1の上に載せて、加圧プレス機に挟み込み、温度120℃、圧力19.6Paで10分間加圧して、多孔質ポリウレタン表面に、正三角形を繰り返し構造とする想像網目に合わせて、図8に示すように独立した直線状の溝を複数形成した。想像網目を構成する正三角形の一辺の長さは50mmであり、その想像網目の上に設けられた一辺の直線状の溝の長さは45mm、溝幅0.8mm、溝深さ0.3mmとした。想像網目を構成する正三角形の一辺に対する直線状の溝の長さの割合は90%であった。また、独立する溝同士の最接近距離は、2.5mmであった。
金属板に突起を設けたエンボス用型板を用意し、研磨シート1の上に載せて、実施例1と同じエンボス条件で溝を形成した。
金属板に突起を設けたエンボス用型板を用意し、研磨シート1の上に載せて、加圧プレス機に挟み込み、温度120℃、圧力19.6Paで10分間加圧して、多孔質ポリウレタン表面に、溝を形成した。
金属板に突起を設けたエンボス用型板を用意し、研磨シート1の上に載せて、加圧プレス機に挟み込み、温度120℃、圧力19.6Paで10分間加圧して、多孔質ポリウレタン表面に、正四角形からなる想像網目に合わせて、独立した直線状の溝を形成した。
金属板に突起を設けたエンボス用型板を用意し、研磨シート1の上に載せて、加圧プレス機に挟み込み、温度120℃、圧力19.6Paで10分間加圧して、多孔質ポリウレタン表面に、溝を形成した。
金属板に突起を設けたエンボス用型板を用意し、研磨シート1の上に載せて、加圧プレス機に挟み込み、温度120℃、圧力19.6Pa10分間加圧して、多孔質ポリウレタン表面に、溝を形成した。
金属板に突起を設けたエンボス用型板を用意し、ン研磨シート1の上に載せて、加圧プレス機に挟み込み、温度120℃、圧力19.6Paで10分間加圧して、多孔質ポリウレタン表面に、溝を形成した。
金属板に突起を設けたエンボス用板を用意し、研磨シート1の上に載せて、加圧プレス機に挟み込み、温度120℃、圧力19.9Paで10分加圧して、多孔質ポリウレタン表面に、溝を形成した。
[参考例8]
金属板に突起を設けたエンボス用型板を用意し、多孔質ポリウレタン研磨シート1の上に載せて、加圧プレス機に挟み込み、温度120℃、圧力19.9Paで10分間加圧して、多孔質ポリウレタン表面に、溝を形成した。
金属板に突起を設けたエンボス用型板を作製し、研磨シート1の上に載せて、加圧プレ
ス機に挟み込み、温度120℃、圧力19.6Paで10分間加圧して、多孔質ポリウレ
タン表面に、溝を形成した。
金属板に突起を設けたエンボス用型板を作製し、研磨シート1の上に載せて、加圧プレス機に挟み込み、温度120℃、圧力2kg/cm2で10分間加圧して、多孔質ポリウレタン表面に、溝を形成した。
金属板に突起を設けたエンボス用型板を作製し、研磨シート1の上に載せて、加圧プレス機に挟み込み、温度120℃、圧力2kg/cm2で10分間加圧して、多孔質ポリウレタン表面に、溝を形成した。正三角形の想像網目の一辺の長さは50mmであり、一辺の直線状の溝の長さは49mm、溝幅0.8mm、溝深さ0.3mmであった。想像網目の一辺に対する略直線状の溝の長さの割合は98%であった。また、独立する溝同士の最接近距離は、0.5mmであった。該研磨シートに両面テープを貼り、610mmΦにカットして、岡本研磨機に取り付けて研磨評価をおこなった。8インチシリコンウェハーが研磨中に接触する研磨シートの範囲内に、他の溝に交わらないで独立した溝の総長さと、溝の総長さの割合は、100%であった。
エーテル系ポリウレタン樹脂溶液であるDIC株式会社の“クリスボン”MP-990PS(30%DMF溶液 弾性率=11.5MPa)を100重量部、DMFを50重量部、発泡助剤である“クリスボンアシスター” SD-7(DIC株式会社製)2重量部、“クリスボンアシスター” SD-11(DIC株式会社製)2重量部を添加した塗液Aを調整した。次いで、“クリスボン”MP-990PSを85重量部、DMFを19重量部、MEKを39重量部、DIC株式会社のポリオール・芳香族アミン混合物の“パンデックス”E-50を4.23重量部、東ソー株式会社のポリイソシアネートの“コロネート”Lの7.88重量部を添加混合した塗液Bを調整した。基材として東洋紡(株)製、表面易接着ポリエステルフィルムA4300-100(100μm厚み)上に、塗液Bをナイフコーターを使用して、ウェット厚で150μm塗布して乾燥し、ポリウレタンコートフィルムを作製した。
エーテル系ポリウレタン樹脂溶液であるDIC株式会社の“クリスボン”MP-996PS(30%DMF溶液 弾性率=18.5MPa)を25重量部、“クリスボン”MP-990PS(30%DMF溶液 弾性率=11.5MPa)を75重量部、DMFを50重量部、発泡助剤である“クリスボンアシスター” SD-7(DIC株式会社製)2重量部、“クリスボンアシスター” SD-17B(DIC株式会社製)10重量部を添加した塗液Cを調整した。次いで、“クリスボン”MP-996PSを21.3重量部、“クリスボン”MP-990PSを63.7重量部、DMFを19重量部、MEKを39重量部、DIC株式会社のポリオール・芳香族アミン混合物の“パンデックス”E-50を4.23重量部、東ソー株式会社のポリイソシアネートの“コロネート”Lの7.88重量部を添加混合した塗液Dを調整した。基材として東洋紡(株)製、表面易接着ポリエステルフィルムA4300-125(125μm厚み)上に、塗液Dを、ナイフコーターを使用して、ウェット厚で150μm塗布して乾燥し、ポリウレタンコートフィルムを作製した。
エーテル系ポリウレタン樹脂溶液であるDIC株式会社の“クリスボン”MP-996PS(30%DMF溶液 弾性率=18.5MPa)を50重量部、“クリスボン”MP-990PS(30%DMF溶液 弾性率=11.5MPa)を50重量部、DMFを50重量部、発泡助剤である“クリスボンアシスター” SD-7(DIC株式会社製)2重量部、“クリスボンアシスター” SD-11(DIC株式会社製)2重量部を添加した塗液Eを調整した。次いで、“クリスボン”MP-996PSを42.5重量部、“クリスボン”MP-990PSを42.5重量部、DMFを19重量部、MEKを39重量部、DIC株式会社のポリオール・芳香族アミン混合物の“パンデックス”E-50を4.23重量部、東ソー株式会社のポリイソシアネートの“コロネート”Lの7.88重量部を添加混合した塗液Fを調整した。基材として東洋紡(株)製、表面易接着ポリエステルフィルムA4300-188(188μm厚み)上に、塗液Fを、ナイフコーターを使用して、ウェット厚で150μm塗布して乾燥し、ポリウレタンコートフィルムを作製した。
エーテル系ポリウレタン樹脂溶液であるDIC株式会社の“クリスボン”MP-996PS(30%DMF溶液 弾性率=18.5MPa)を75重量部、“クリスボン”MP-990PS(30%DMF溶液 弾性率=11.5MPa)を25重量部、DMFを50重量部、発泡助剤である“クリスボンアシスター” SD-7(DIC株式会社製)2重量部、“クリスボンアシスター” SD-17B(DIC株式会社製)10重量部を添加した塗液Gを調整した。次いで、“クリスボン”MP-996PSを63.8重量部、“クリスボン”MP-990PSを21.2重量部、DMFを19重量部、MEKを39重量部、DIC株式会社のポリオール・芳香族アミン混合物の“パンデックス”E-50を4.23重量部、東ソー株式会社のポリイソシアネートの“コロネート”Lの7.88重量部を添加混合した塗液Hを調整した。基材として東洋紡(株)製、表面易接着ポリエステルフィルムA4300-75(75μm厚み)上に、塗液Hを、ナイフコーターを使用して、ウェット厚で150μm塗布して乾燥し、ポリウレタンコートフィルムを作製した。
エーテル系ポリウレタン樹脂溶液であるDIC株式会社の“クリスボン”MP-996PS(30%DMF溶液 弾性率=18.5MPa)を100重量部、DMFを50重量部、発泡助剤である“クリスボンアシスター” SD-7(DIC株式会社製)2重量部、“クリスボンアシスター” SD-17B(DIC株式会社製)10重量部を添加した塗液Jを調整した。次いで、“クリスボン”MP-996PSを63.8重量部、“クリスボン”MP-996PSを85重量部、DMFを19重量部、MEKを39重量部、DIC株式会社のポリオール・芳香族アミン混合物の“パンデックス”E-50を4.23重量部、東ソー株式会社のポリイソシアネートの“コロネート”Lの7.88重量部を添加混合した塗液Kを調整した。基材として東洋紡(株)製、表面易接着ポリエステルフィルムA4300-50(50μm厚み)上に、塗液Kを、ナイフコーターを使用して、ウェット厚で150μm塗布して乾燥し、ポリウレタンコートフィルムを作製した。
Claims (3)
- 軟質多孔層を表側に有する研磨シートであって、前記軟質多孔層は表面に複数の開口部を有し、前記開口部から内部に涙滴状の孔を有し、前記研磨シートが研磨する被研磨基板が研磨中に接触する研磨シートの該軟質多孔層表面の範囲内には少なくとも略直線状の溝が複数あり、前記略直線状の溝は、被研磨基板が研磨中に接触する研磨シートの該軟質多孔層表面の範囲内で、他の溝とは交わらないで独立して存在している溝の総長さが、当該範囲内にある全ての溝の総長さに対して80%以上であり、前記溝の少なくとも一部は、他の溝とは交わらずに独立して存在し、前記独立して存在する略直線状の溝は、正三角形、正四角形または正六角形から形成される想像網目の想像線上に存在し、前記想像網目を形成する正三角形、正四角形または正六角形の一辺の長さが10~50mmであり、前記独立して存在する略直線状の溝の長さが、前記正三角形、正四角形または正六角形の一辺の長さの70%以上98%以下であることを特徴とする研磨シート。
- 前記独立して存在する略直線状の溝の端部と他の溝との距離が1mm以上であることを特徴とする請求項1に記載の研磨シート。
- 請求項1または2に記載の研磨シートで被研磨基板を研磨することを特徴とする研磨方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018093547 | 2018-05-15 | ||
JP2018093547 | 2018-05-15 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019198957A JP2019198957A (ja) | 2019-11-21 |
JP7302848B2 true JP7302848B2 (ja) | 2023-07-04 |
Family
ID=68612789
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019082562A Active JP7302848B2 (ja) | 2018-05-15 | 2019-04-24 | 研磨シートおよび研磨方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7302848B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008187117A (ja) | 2007-01-31 | 2008-08-14 | Jsr Corp | 化学機械研磨パッド |
JP2011036979A (ja) | 2009-08-18 | 2011-02-24 | Fujibo Holdings Inc | 研磨パッド |
US20160001422A1 (en) | 2013-02-26 | 2016-01-07 | Kwh Mirka Ltd | Method to provide an abrasive product and abrasive products thereof |
-
2019
- 2019-04-24 JP JP2019082562A patent/JP7302848B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008187117A (ja) | 2007-01-31 | 2008-08-14 | Jsr Corp | 化学機械研磨パッド |
JP2011036979A (ja) | 2009-08-18 | 2011-02-24 | Fujibo Holdings Inc | 研磨パッド |
US20160001422A1 (en) | 2013-02-26 | 2016-01-07 | Kwh Mirka Ltd | Method to provide an abrasive product and abrasive products thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019198957A (ja) | 2019-11-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4261586B2 (ja) | 研磨パッドの製造方法 | |
JP5393434B2 (ja) | 研磨パッド及びその製造方法 | |
KR101181885B1 (ko) | 연마 패드 | |
JP5091417B2 (ja) | 研磨布 | |
KR101177781B1 (ko) | 연마 패드의 제조 방법 | |
US20080047205A1 (en) | Method of producing polishing pad | |
JP2012223875A (ja) | 研磨パッド | |
JP7134005B2 (ja) | 研磨パッド | |
JP4986129B2 (ja) | 研磨パッド | |
JP2008101039A (ja) | 研磨布の製造方法 | |
JP2012101339A (ja) | 研磨パッド | |
JP5049504B2 (ja) | 仕上げ用研磨布 | |
JP5324998B2 (ja) | 保持パッド | |
JP5393040B2 (ja) | 研磨パッド | |
JP7302848B2 (ja) | 研磨シートおよび研磨方法 | |
JP4465376B2 (ja) | 研磨パッドの製造方法 | |
JP4237800B2 (ja) | 研磨パッド | |
JP4364291B1 (ja) | 研磨パッド | |
JP7093521B2 (ja) | 研磨シート | |
JP2019072801A (ja) | 研磨用保持具 | |
JP7139126B2 (ja) | 保持具及びその製造方法 | |
JP2012101338A (ja) | 研磨パッド | |
JP2011036979A (ja) | 研磨パッド | |
JP5421839B2 (ja) | 研磨パッドおよび研磨パッドの製造方法 | |
JP2005349502A (ja) | 被研磨加工物保持材 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211206 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20211206 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20211206 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220922 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220927 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221122 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230322 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230519 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230613 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230615 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7302848 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |