JPWO2014129547A1 - ディップ成形用ラテックス、ディップ成形用組成物およびディップ成形体 - Google Patents
ディップ成形用ラテックス、ディップ成形用組成物およびディップ成形体 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2014129547A1 JPWO2014129547A1 JP2015501500A JP2015501500A JPWO2014129547A1 JP WO2014129547 A1 JPWO2014129547 A1 JP WO2014129547A1 JP 2015501500 A JP2015501500 A JP 2015501500A JP 2015501500 A JP2015501500 A JP 2015501500A JP WO2014129547 A1 JPWO2014129547 A1 JP WO2014129547A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- synthetic isoprene
- isoprene polymer
- carboxy
- dip
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F279/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of monomers having two or more carbon-to-carbon double bonds as defined in group C08F36/00
- C08F279/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of monomers having two or more carbon-to-carbon double bonds as defined in group C08F36/00 on to polymers of conjugated dienes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
- C08K5/41—Compounds containing sulfur bound to oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
- C08K5/41—Compounds containing sulfur bound to oxygen
- C08K5/42—Sulfonic acids; Derivatives thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
- C08K5/45—Heterocyclic compounds having sulfur in the ring
- C08K5/46—Heterocyclic compounds having sulfur in the ring with oxygen or nitrogen in the ring
- C08K5/47—Thiazoles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L51/00—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L51/04—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers grafted on to rubbers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/09—Carboxylic acids; Metal salts thereof; Anhydrides thereof
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
Abstract
Description
そして、上記カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックスが、アルコールを0.1〜100重量ppm含有することが好ましい。
本発明で用いる合成イソプレン重合体は、イソプレンを重合して得られる合成イソプレン重合体である。
合成イソプレン重合体は、イソプレンと共重合可能な他のエチレン性不飽和単量体を共重合したものであってもよい。合成イソプレン重合体のイソプレン単位の含有量は、柔軟で、引張強度に優れるディップ成形体が得られ易いことから、全単量体単位に対して、好ましくは70重量%以上、より好ましくは90重量%以上、さらに好ましくは95重量%以上、特に好ましくは100重量%(イソプレンの単独重合体)である。
この際、合成した後に重合体溶液中に残った重合触媒の残渣などの不純物を取り除いてもよい。そして、重合中または重合後の溶液に、後述する老化防止剤を添加してもよい。また、市販の固形の合成イソプレン重合体を、合成イソプレン重合体ラテックスの製造に用いることもできる。
そして、ディップ成形体の引張強度向上の観点から、合成イソプレン重合体に含まれるイソプレン単位中のシス結合単位の含有割合は、全イソプレン単位に対して、好ましくは70重量%以上、より好ましくは90重量%以上、特に好ましくは95重量%以上である。
これらアニオン性界面活性剤の中でも、本発明の効果がより一層顕著になることから、脂肪酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、アルキル硫酸エステル塩およびポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩が好ましく、脂肪酸塩およびアルキルベンゼンスルホン酸塩が特に好ましい。
乳化物から有機溶媒を除去する方法としては、得られる合成イソプレン重合体ラテックス中における、有機溶媒(好ましくは脂環族炭化水素溶媒)の含有量を500重量ppm以下とすることが好ましく、減圧蒸留、常圧蒸留、水蒸気蒸留、遠心分離等の方法を採用することができる。
本発明のディップ成形用カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックスを構成するカルボキシ変性合成イソプレン重合体は、上記の合成イソプレン重合体にカルボキシル基を有する単量体を水相中でグラフト重合して得られる。
この際、合成イソプレン重合体ラテックスの固形分濃度は特に限定されないが、好ましくは5〜40重量%、より好ましくは5〜30重量%である。この固形分濃度が低すぎるとグラフト率が低下し、高すぎると凝集物が発生する傾向がある。
また、上記カルボキシル基は、アルカリ金属やアンモニア等との塩になっているものも含まれる。
なお、ラテックスのpHを調整した際に、変性により導入したカルボキシル基は、塩の状態になっていてもよい。
なお、上記電導度滴定による表面酸量(meq/g)の測定は、特開2002−53602号に記載された「表面および水相の酸量測定」と同様の方法で測定すれば良い。
しかしながら、有機過酸化物を使用する場合に、その使用量によっては、有機過酸化物の分解物であるアルコール由来の臭気が発生する場合がある。
そのため、本発明のカルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックスは、アルコールを0.1〜100重量ppm含有することが好ましく、1〜50重量ppm含有することが好ましく、5〜40重量ppm含有することが特に好ましい。
そして、アルコールの含有量を少なくするために、有機過酸化物を全く使用しないか、使用量が少ない場合には、ディップ成形体の機械的強度が低下する傾向がある。
また、脱臭工程(アルコール除去工程)は、固形分濃度30〜70重量%のカルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックスに、該ラテックスの1〜3倍(重量基準)の水を添加して希釈した後、30℃〜100℃の温度条件で、減圧度を−0.027〜−0.101MPa(ゲージ圧)にして、減圧蒸留を行って濃縮することが好ましい。
なお、場合によっては、グラフト重合後のカルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックスに脱臭工程(アルコール除去工程)を行った後、遠心分離機で処理しても良い。
本発明のディップ成形用組成物は、上記カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックスに加えて、硫黄系加硫剤および加硫促進剤を含有してなる。
酸化亜鉛の含有量は、特に限定されないが、カルボキシ変性合成イソプレン重合体100重量部に対して、好ましくは0.1〜5重量部、より好ましくは0.2〜2重量部である。この量が少な過ぎるとディップ成形体の引張強度が低下する傾向があり、逆に多過ぎると、ディップ成形用組成物中のカルボキシ変性合成イソプレン重合体粒子の安定性が低下し、粗大な凝集物が発生する場合がある。
この量が少な過ぎると、カルボキシ変性合成イソプレン重合体が劣化する場合がある。また、この量が多過ぎると、ディップ成形体の引張強度が低下する場合がある。
そして、前加硫した後、ディップ成形に供されるまで、好ましくは10〜30℃の温度で貯蔵することが好ましい。高温のまま貯蔵すると、得られるディップ成形体の引張強度が低下する場合がある。
本発明のディップ成形体は、本発明のディップ成形用組成物をディップ成形して得られる。ディップ成形は、ディップ成形用組成物に型を浸漬し、型の表面に当該組成物を沈着させ、次に型を当該組成物から引き上げ、その後、型の表面に沈着した当該組成物を乾燥させる方法である。なお、ディップ成形用組成物に浸漬される前の型は予熱しておいてもよい。また、型をディップ成形用組成物に浸漬する前、または、型をディップ成形用組成物から引き上げた後、必要に応じて凝固剤を使用できる。
これらの水溶性多価金属塩は、1種単独で、または2種以上を併用することができる。
加硫時の加熱条件は、特に限定されないが、好ましくは60〜150℃、より好ましくは100〜130℃の加熱温度で、好ましくは10〜120分の加熱時間である。
加熱の方法は、特に限定されないが、オーブンの中で温風で加熱する方法、赤外線を照射して加熱する方法などがある。
すなわち、本発明のディップ成形体のASTM D624−00(Die C、500mm/min)で測定した引裂強度は、30N/mm以上であることが好ましく、40N/mm以上であることが特に好ましい。
ラテックスを0.15g精秤して超純水2mlに添加した後、アセトニトリルを添加することで、溶液を10mlに調整した。次いで、上澄み液を0.2μmのディスクフィルターでろ過した後、逆相高速液体クロマトグラフィー(HPLC)を用いて下記の条件で測定した。
カラム:商品名「ZORBOX XDB−C18 1.8μ」(アジレント・テクノロジー社製)
カラム温度:40℃
流速:0.75 ml/min.
検出器:DAD(ダイオードアレイ検出器)
注入量:2μL
下記の装置およびカラムを用いて、ガスクロマトグラフィー分析を行うことにより、先ず未反応のメタクリル酸量を求めた。重合に使用したメタクリル酸量から未反応のメタクリル酸量を差し引いて反応したメタクリル酸量を算出し、これを重合に使用したメタクリル酸量で割って百分率で表示した(単位:%)
装置:商品名「GC−4000」(ジーエルサイエンス社製)
キャピラリーカラム:商品名「InertCap PureWax ProG2m 0.25×30m df=0.25」
(ジーエルサイエンス社製)
検出器:FID
蒸留水で固形分濃度を30%に調整したラテックス40gを枠付きガラス板(16cm×23cm)に流延し、23℃、相対湿度50%で5日間静置して厚み0.2〜0.3mmのフィルムを得た。このフィルムを縦5mm、横5mmの大きさに細分して試料とした。試料約0.2gの重量(A)を精秤した後、80メッシュのステンレス金網製の篭に入れた状態でテトラヒドロフラン(和光純薬社製1級)100ml入りのビーカに浸漬し、23℃で48時間置いてから取り出した。これを23℃の室内に1時間以上置いてから105℃で2時間加熱し、乾燥状態の不溶解分の重量(B)を測定した。テトラヒドロフラン不溶解分量は下記計算式により求めた。
テトラヒドロフラン不溶解分量=(B/A)×100(重量%)
蒸留水で固形分濃度を30%に調整したラテックス40gを枠付きガラス板(16cm×23cm)に流延し、23℃、相対湿度50%で5日間静置して厚み0.2〜0.3mmのフィルムを得た。このフィルムを縦5mm、横5mmの大きさに細分して試料とした。試料約0.2gを精秤した後、80メッシュのステンレス金網製の篭(重量:B1)に入れた状態でテトラヒドロフラン(和光純薬社製1級)100ml入りのビーカに浸漬し、23℃で48時間置いてから篭ごと取り出した。垂れる溶剤を除去した後、すぐに篭ごと重量を測定した(重量:B2)。
これを篭ごとドラフト内で12時間放置後、105℃で2時間加熱した。その後、篭ごと重量を測定し(重量:B3)、テトラヒドロフランに対する膨潤度を下記計算式により求めた。
テトラヒドロフランに対する膨潤度(倍)=(B2−B1)/(B3−B1)
固形分濃度が55%に調整されたラックス75gをマーロン安定性試験機にセットし、荷重10Kg/cm2(ゲージ圧)の圧力で5分間加圧した。加圧後のラテックスを80メッシュ金網(重量:C1(g))で濾過し、105℃の乾燥機内で2時間乾燥させた。乾燥後の金網(凝集物が付着している)の重量(C2(g))を測定し、下記計算式により機械的安定性を求めた。数値が小さいほど、ラテックスの機械的安定性が高い。
機械的安定性(%)=[(C2−C1)/(75×0.55)]×100
ディップ成形体の引張強度は、ASTM D412に基づいて測定した。
フィルム状のディップ成形体を、ダンベル(商品名「スーパーダンベル(型式:SDMK−100C)」、(株)ダンベル社製)で打ち抜き、引張強度測定用試験片を作製した。当該試験片をテンシロン万能試験機(商品名「RTG−1210」、(株)オリエンテック製)で引張速度500mm/minで引っ張り、破断直前の引張強度(単位:MPa)、破断直前の伸び(単位:%)を測定した。
ディップ成形体の引裂強度は、ASTM D624−00に基づいて測定した。
膜厚が約0.2mmのフィルム状のディップ成形体を、23℃、相対湿度50%の恒温恒湿室で24時間以上放置した後、ダンベル(Die C:ダンベル社製)で打ち抜き、引裂強度測定用の試験片を作製した。当該試験片をテンシロン万能試験機(商品名「RTG−1210」、A&D(株)製)で引張速度500mm/minで引っ張り、引裂強度(単位:N/mm)を測定した。
ラテックス中の残留金属量(アルミニウム原子とチタン原子の合計含有量)は、誘導結合プラズマ発光分光分析装置(Inductively Coupled Plasma−Atomic Emission Spectrometry)を用いて、下記のようにして測定を行った。
ラテックス0.15gを白金るつぼに秤量した。これを加熱して水分を飛ばした後、硫酸0.2mlを添加して煙が出なくなるまで加熱した。これを550℃の電気炉に2時間入れて灰化させた後、硫酸0.5mlと超純水5mlを添加して更に加熱して溶解させた。これに硝酸0.2mlを添加した後、超純水で20mlにした。これを測定用サンプルとした。
装置:商品名「SPS−5100」(SIIナノテクノロジー社製)、
検量線:内部標準検量線法
予め重量を測定した200メッシュステンレス製金網(重量:C)を用いてディップ成形用組成物(固形分濃度:D重量%、重量:E)を濾過した。この金網を105℃の乾燥機内で2時間以上乾燥させた後、乾燥後の金網の重量(重量:F)を測定した。次に、ディップ成形用組成物中の凝集物量(重量%)を下記の式で求めた。
凝集物量=[(F−C)/(D×E)]×10000(重量%)
下記の装置およびカラムを用いて、ガスクロマトグラフィー分析を行うことにより、求めた。
(1,1,3,3−テトラメチル−1−ブタノール量)
装置:商品名「GC−2010」(島津製作所社製)
カラム:商品名「ZB−1」(島津製作所社製)
検出器:FID
装置:商品名「GC」(Perkin Elmer社製)
カラム:商品名「NEUTRA BOND−1」(GL Science社製)
検出器:FID
(合成イソプレン重合体ラテックスの製造)
重量平均分子量が1,300,000の合成イソプレン重合体(商品名「NIPOL IR2200L」、日本ゼオン(株)製、イソプレンの単独重合体、シス結合単位量98%)をシクロヘキサンと混合し、攪拌しながら温度を60℃に昇温して溶解し、B形粘度計で測定した粘度が12,000mPa・sのポリイソプレンのシクロヘキサン溶液(a)を調製した(固形分濃度8重量%)。
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム5部をドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム15部に変更し、ロジン酸ナトリウムを使用しなかった以外は、製造例1と同様にして合成イソプレン重合体ラテックス(f)を得た。
ロジン酸ナトリウムとドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを水と混合した濃度1.5重量%のアニオン性界面活性剤水溶液(b)に代えて、ポリオキシエチレンアルキルエーテル(商品名「エマルゲン1150S−60」、花王株式会社製)の濃度1.5重量%のノニオン性界面活性剤水溶液(o)を用いた以外は、製造例1と同様にして合成イソプレン重合体ラテックスを得ようとしたが、ラテックス中に凝集物が多量に発生したため、メタクリル酸をグラフト重合するのに適した合成イソプレン重合体ラテックスを得ることができなかった。
製造例1で得られた合成イソプレン重合体ラテックス(e)の合成イソプレン重合体100部に対して、蒸留水850部を添加して希釈した。この希釈したラテックスを窒素置換された攪拌機付き重合反応容器に仕込み、撹拌しながら温度を30℃にまで加温した。また、別の容器を用い、メタクリル酸5部と蒸留水16部を混合してメタクリル酸希釈液を調製した。このメタクリル酸希釈液を、30℃にまで加温した重合反応容器内に、30分間かけて添加した。
先ず、スチレン−マレイン酸モノ−sec−ブチルエステル−マレイン酸モノメチルエステル重合体(商品名「Scripset550」、Hercules社製)を、水酸化ナトリウムを用い、重合体中のカルボキシル基を100%中和して、分散剤(i)としてのナトリウム塩水溶液(濃度10重量%)を調製した。そして、この分散剤(i)を、上記のカルボキシ変性合成イソプレン重合体100部に対して、固形分換算で0.8部になるようにして、カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(h)に添加した。
表面がすり加工されたガラス型(直径約5cm、すり部長さ約15cm)を洗浄し、70℃のオーブン内で予備加熱した後、18重量%の硝酸カルシウムおよび0.05重量%のポリオキシエチレンラウリルエーテル(商品名「エマルゲン109P」、花王(株)製)からなる凝固剤水溶液に5秒間浸漬し、取り出した。
製造例1で得られた合成イソプレン重合体ラテックス(e)に代えて、製造例2で得られた合成イソプレン重合体ラテックス(f)を用いた以外は実施例1と同様にして、カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(k)を得た。
カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(h)に代えて、カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(k)を用いた以外は実施例1と同様にして、ディップ成形用組成物およびフィルム(ディップ成形体)を得た。得られたフィルム(ディップ成形体)の引張強度および伸びの測定結果を表2に示す。
蒸留水7部、ナトリウムホルムアルデヒドスルホキシレート(商品名「SFS」、三菱ガス化学社製)0.32部、硫酸第一鉄(商品名「フロストFe」、中部キレスト社製)0.01部からなる溶液(g)に代えて、蒸留水1.4部、ナトリウムホルムアルデヒドスルホキシレート(商品名「SFS」、三菱ガス化学社製)0.06部、硫酸第一鉄(商品名「フロストFe」、中部キレスト社製)0.002部からなる溶液(l)を用い、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド(商品名「パーオクタH」、日本油脂社製)0.5部に代えて、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド(商品名「パーオクタH」、日本油脂社製)0.1部を用いた以外は実施例1と同様にして、カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(m)を得た。
カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(h)に代えて、カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(m)を用いた以外は実施例1と同様にして、ディップ成形用組成物およびフィルム(ディップ成形体)を得た。得られたフィルム(ディップ成形体)の引張強度および伸びの測定結果を表2に示す。
実施例1で得られたカルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(h)に、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを1.9重量部添加して、アニオン性界面活性剤の合計含有量が3.8部(カルボキシ変性合成イソプレン重合体100重量部に対して)のカルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(n)を得た。
実施例1と同様にして、カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(h)(固形分濃度56重量%)を得た。
ディップ成形用組成物を調製する際に、カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(h)に代えて、製造例1で得られた合成イソプレン重合体ラテックス(e)を用いた以外は、実施例1と同様にして、ディップ成形用組成物およびフィルム(ディップ成形体)を得た。結果を表2に示す。
実施例1と同様にして、カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(h)を得た。このカルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(h)について、テトラヒドロフラン不溶解分、テトラヒドロフランに対する膨潤度、および、機械的安定性の評価を行った。結果を表3に示す。
また、実施例1と同様にして、フィルム(ディップ成形体)を得て、引張強度、伸び、および引裂強度の測定を行った。結果を表3に示す。
メタクリル酸5部に代えて、メタクリル酸10部を用いた以外は、実施例1と同様にして、カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(r)を得た。このカルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(r)について、テトラヒドロフラン不溶解分、テトラヒドロフランに対する膨潤度、および、機械的安定性の評価を行った。結果を表3に示す。
また、カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(h)に代えて、カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(r)を用いた以外は、実施例1と同様にして、フィルム(ディップ成形体)を得て、引張強度、伸び、および引裂強度の測定を行った。結果を表3に示す。
メタクリル酸5部に代えて、メタクリル酸30部を用いた以外は、実施例1と同様にして、カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(s)を得た。このカルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(s)について、テトラヒドロフラン不溶解分、テトラヒドロフランに対する膨潤度、および、機械的安定性の評価を行った。結果を表3に示す。
また、カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(h)に代えて、カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(s)を用いた以外は、実施例1と同様にして、フィルム(ディップ成形体)を得て、引張強度、伸び、および引裂強度の測定を行った。結果を表3に示す。
カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(h)に代えて、製造例1で得られた合成イソプレン重合体ラテックス(e)を用い、機械的安定性の評価を行った。結果を表3に示す。
また、ディップ成形用組成物を調製する際に、カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス(h)に代えて、製造例1で得られた合成イソプレン重合体ラテックス(e)を用いた以外は、実施例1と同様にして、フィルム(ディップ成形体)を得て、引張強度、伸び、および引裂強度の測定を行った。結果を表3に示す。
Claims (11)
- 合成イソプレン重合体にカルボキシル基を有する単量体を水相中でグラフト重合して得られるカルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックスであって、少なくとも1種のアニオン性界面活性剤を含有し、前記カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックスを構成するカルボキシ変性合成イソプレン重合体のテトラヒドロフラン不溶解分が30重量%以上である、ディップ成形用カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス。
- 前記アニオン性界面活性剤が、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、アルキル硫酸エステル塩およびポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩の中から選ばれた少なくとも1種と、脂肪酸塩とを含有する請求項1に記載のディップ成形用カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス。
- 前記アニオン性界面活性剤が、アルキルベンゼンスルホン酸塩と、脂肪酸塩とを含有する請求項1に記載のディップ成形用カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス。
- 前記アニオン性界面活性剤の合計含有量が、前記カルボキシ変性合成イソプレン重合体100重量部に対して、5重量部以下である請求項1〜3のいずれか1項に記載のディップ成形用カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス。
- 前記カルボキシ変性合成イソプレン重合体のテトラヒドロフラン不溶解分が60重量%以上である請求項1〜4のいずれか1項に記載のディップ成形用カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス。
- 前記カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックスが、アルコールを0.1〜100量ppm含有する、請求項1〜5のいずれか1項に記載のディップ成形用カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス。
- ディップ成形用カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックスであって、少なくとも1種のアニオン性界面活性剤を含有し、
該カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックスを構成するカルボキシ変性合成イソプレン重合体のテトラヒドロフラン不溶解分が30重量%以上、かつ、テトラヒドロフランに対する膨潤度が30倍以下である、
ディップ成形用カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス。 - 請求項1〜7のいずれか1項に記載のディップ成形用カルボキシ変性合成イソプレン重合体ラテックス、硫黄系加硫剤および加硫促進剤を含有してなるディップ成形用組成物。
- 請求項8に記載のディップ成形用組成物をディップ成形してなるディップ成形体。
- ASTM D624−00(Die C、500mm/min)で測定した引裂強度が30N/mm以上である請求項9に記載のディップ成形体。
- 手袋である請求項9または10に記載のディップ成形体。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013033233 | 2013-02-22 | ||
JP2013033233 | 2013-02-22 | ||
JP2013201829 | 2013-09-27 | ||
JP2013201829 | 2013-09-27 | ||
PCT/JP2014/054041 WO2014129547A1 (ja) | 2013-02-22 | 2014-02-20 | ディップ成形用ラテックス、ディップ成形用組成物およびディップ成形体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2014129547A1 true JPWO2014129547A1 (ja) | 2017-02-02 |
JP6206482B2 JP6206482B2 (ja) | 2017-10-04 |
Family
ID=51391329
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015501500A Active JP6206482B2 (ja) | 2013-02-22 | 2014-02-20 | ディップ成形用ラテックス、ディップ成形用組成物およびディップ成形体 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9546239B2 (ja) |
EP (1) | EP2960293B1 (ja) |
JP (1) | JP6206482B2 (ja) |
SG (1) | SG11201506649YA (ja) |
TW (1) | TWI595041B (ja) |
WO (1) | WO2014129547A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2018155243A1 (ja) * | 2017-02-22 | 2019-12-19 | 日本ゼオン株式会社 | ラテックス組成物 |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI624478B (zh) * | 2013-03-28 | 2018-05-21 | Zeon Corp | Method for producing synthetic isoprene polymer latex |
EP3022030B1 (en) | 2013-07-16 | 2020-03-18 | Skinprotect Corporation SDN BHD | Elastomeric film-forming compositions and articles made from the elastomeric film |
JP6614159B2 (ja) * | 2014-12-04 | 2019-12-04 | 日本ゼオン株式会社 | ディップ成形用合成ポリイソプレンラテックス、ディップ成形用組成物およびディップ成形体 |
JP6696433B2 (ja) | 2014-12-25 | 2020-05-20 | 日本ゼオン株式会社 | ディップ成形用ラテックス組成物及びディップ成形品 |
US10519258B2 (en) | 2015-03-03 | 2019-12-31 | Zeon Corporation | Dip-forming synthetic isoprene polymer latex, dip-forming composition, and dip-formed article |
EP3284781B1 (en) * | 2015-04-16 | 2020-10-28 | Showa Denko K.K. | Composition for rubber and use thereof |
BR112018015004A2 (ja) * | 2016-01-27 | 2018-12-18 | Zeon Corporation | Latex constituent |
US10934399B2 (en) * | 2016-02-03 | 2021-03-02 | Zeon Corporation | Polymer latex production method |
CN109689764B (zh) | 2016-09-29 | 2021-09-14 | 日本瑞翁株式会社 | 胶乳组合物 |
US11098136B2 (en) | 2017-02-24 | 2021-08-24 | Zeon Corporation | Modified polymer latex production method |
WO2019039523A1 (ja) | 2017-08-25 | 2019-02-28 | 日本ゼオン株式会社 | ラテックス組成物 |
JP7163924B2 (ja) * | 2017-09-22 | 2022-11-01 | 日本ゼオン株式会社 | ラテックス組成物の製造方法 |
CN111742006B (zh) * | 2018-03-08 | 2023-05-23 | 日本瑞翁株式会社 | 酸改性共轭二烯系聚合物的胶乳及其制造方法 |
WO2020013076A1 (ja) | 2018-07-13 | 2020-01-16 | 日本ゼオン株式会社 | 開環共重合体組成物 |
EP3845265A4 (en) | 2018-08-29 | 2022-05-18 | Zeon Corporation | MEDICAL BALLOON PRODUCTION METHOD |
JP7435457B2 (ja) * | 2018-09-14 | 2024-02-21 | 日本ゼオン株式会社 | ラテックス組成物および膜成形体 |
US11976180B2 (en) | 2018-09-14 | 2024-05-07 | Zeon Corporation | Xanthogen compound dispersion, conjugated-diene-based polymer latex composition, and film molded body |
JP2020100738A (ja) * | 2018-12-21 | 2020-07-02 | 日本ゼオン株式会社 | 変性ポリイソプレンのラテックスの製造方法 |
EP4108404A4 (en) | 2020-02-20 | 2024-03-20 | Zeon Corp | METHOD FOR PRODUCING A LATEX COMPOSITION |
CN115003733A (zh) | 2020-02-20 | 2022-09-02 | 日本瑞翁株式会社 | 胶乳组合物的制造方法 |
US20230101503A1 (en) | 2020-02-26 | 2023-03-30 | Zeon Corporation | Latex composition |
WO2021171994A1 (ja) | 2020-02-27 | 2021-09-02 | 日本ゼオン株式会社 | ディップ成形体の製造方法 |
CN114426611B (zh) * | 2020-10-29 | 2024-05-24 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种顺丁橡胶硫化性能的调节工艺 |
JPWO2022172696A1 (ja) | 2021-02-09 | 2022-08-18 | ||
JPWO2023026782A1 (ja) | 2021-08-26 | 2023-03-02 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001261751A (ja) * | 2000-03-23 | 2001-09-26 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | グラフト共重合体ラテックスの製造方法 |
JP2002241412A (ja) * | 2000-12-12 | 2002-08-28 | Takeda Chem Ind Ltd | ディップ成形用ラテックス及びディップ成形物 |
JP2009209229A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Nippon Zeon Co Ltd | ディップ成形用組成物及び成形体 |
WO2010098008A1 (ja) * | 2009-02-28 | 2010-09-02 | 日本ゼオン株式会社 | ディップ成形用組成物及びディップ成形体 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6021524A (en) | 1997-12-31 | 2000-02-08 | The University Of Akron | Cut resistant polymeric films |
JP2002053602A (ja) | 2000-08-04 | 2002-02-19 | Nippon Zeon Co Ltd | 共重合体ラテックスおよび紙塗工用組成物 |
US6870019B2 (en) * | 2000-12-12 | 2005-03-22 | Nippon A & L Inc. | Latex for dip molding and a dip molded product |
JP2012062487A (ja) * | 2011-12-27 | 2012-03-29 | Nippon Zeon Co Ltd | ディップ成形用組成物およびディップ成形体 |
US9637621B2 (en) * | 2013-09-30 | 2017-05-02 | Zeon Corporation | Dip-forming composition and dip-formed article |
-
2014
- 2014-02-20 JP JP2015501500A patent/JP6206482B2/ja active Active
- 2014-02-20 WO PCT/JP2014/054041 patent/WO2014129547A1/ja active Application Filing
- 2014-02-20 SG SG11201506649YA patent/SG11201506649YA/en unknown
- 2014-02-20 US US14/768,675 patent/US9546239B2/en active Active
- 2014-02-20 EP EP14753738.5A patent/EP2960293B1/en active Active
- 2014-02-21 TW TW103105788A patent/TWI595041B/zh active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001261751A (ja) * | 2000-03-23 | 2001-09-26 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | グラフト共重合体ラテックスの製造方法 |
JP2002241412A (ja) * | 2000-12-12 | 2002-08-28 | Takeda Chem Ind Ltd | ディップ成形用ラテックス及びディップ成形物 |
JP2009209229A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Nippon Zeon Co Ltd | ディップ成形用組成物及び成形体 |
WO2010098008A1 (ja) * | 2009-02-28 | 2010-09-02 | 日本ゼオン株式会社 | ディップ成形用組成物及びディップ成形体 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2018155243A1 (ja) * | 2017-02-22 | 2019-12-19 | 日本ゼオン株式会社 | ラテックス組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2960293B1 (en) | 2018-12-05 |
TWI595041B (zh) | 2017-08-11 |
JP6206482B2 (ja) | 2017-10-04 |
US20150376322A1 (en) | 2015-12-31 |
WO2014129547A1 (ja) | 2014-08-28 |
US9546239B2 (en) | 2017-01-17 |
EP2960293A4 (en) | 2016-09-28 |
SG11201506649YA (en) | 2015-09-29 |
TW201443137A (zh) | 2014-11-16 |
EP2960293A1 (en) | 2015-12-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6206482B2 (ja) | ディップ成形用ラテックス、ディップ成形用組成物およびディップ成形体 | |
JP6769445B2 (ja) | ラテックス組成物 | |
JP5999103B2 (ja) | ラテックス、ディップ成形用組成物およびディップ成形体 | |
JP6229853B2 (ja) | 合成イソプレン重合体ラテックスの製造方法 | |
JP6358262B2 (ja) | ディップ成形用組成物およびディップ成形体 | |
JP5472286B2 (ja) | ディップ成形用組成物及びディップ成形体 | |
JP6879218B2 (ja) | 重合体ラテックスの製造方法 | |
JP2011219543A (ja) | ディップ成形用組成物及びディップ成形体 | |
WO2018061867A1 (ja) | ラテックス組成物 | |
JP6614159B2 (ja) | ディップ成形用合成ポリイソプレンラテックス、ディップ成形用組成物およびディップ成形体 | |
JP6459564B2 (ja) | ディップ成形用合成イソプレン重合体ラテックス、ディップ成形用組成物およびディップ成形体 | |
JP6729549B2 (ja) | ディップ成形用合成イソプレン重合体ラテックスの製造方法、ディップ成形用組成物の製造方法およびディップ成形体の製造方法 | |
JP2016150946A (ja) | ディップ成形用合成イソプレン重合体ラテックス、ディップ成形用組成物およびディップ成形体 | |
JP2016160365A (ja) | 合成イソプレン重合体ラテックスの製造方法、合成イソプレン重合体ラテックス、ディップ成形用組成物、およびディップ成形体 | |
WO2022024672A1 (ja) | 膜成形体 | |
WO2021171994A1 (ja) | ディップ成形体の製造方法 | |
JP2018053173A (ja) | ラテックス組成物 | |
CN117813346A (zh) | 胶乳组合物和浸渍成型体 | |
WO2021166725A1 (ja) | ラテックス組成物の製造方法 | |
WO2021166724A1 (ja) | ラテックス組成物の製造方法 | |
JP2022131081A (ja) | ラテックス組成物およびディップ成形体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170425 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170623 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170808 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170821 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6206482 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |