JPWO2014126034A1 - インクジェット塗布用感光性樹脂組成物、熱処理物及びその製造方法、樹脂パターン製造方法、液晶表示装置、有機el表示装置、タッチパネル及びその製造方法、並びに、タッチパネル表示装置 - Google Patents

インクジェット塗布用感光性樹脂組成物、熱処理物及びその製造方法、樹脂パターン製造方法、液晶表示装置、有機el表示装置、タッチパネル及びその製造方法、並びに、タッチパネル表示装置 Download PDF

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Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI693470B (zh) * 2015-06-30 2020-05-11 日商富士軟片股份有限公司 感光性樹脂組成物、硬化膜的製造方法、硬化膜及液晶顯示裝置
JP6913435B2 (ja) * 2015-09-30 2021-08-04 日東電工株式会社 インセル液晶パネルおよび液晶表示装置
WO2018047688A1 (fr) * 2016-09-09 2018-03-15 東レ株式会社 Composition de résine
CN116782448A (zh) * 2016-10-19 2023-09-19 积水化学工业株式会社 有机el显示元件用密封剂
CN108886849B (zh) * 2016-10-19 2022-10-21 积水化学工业株式会社 有机el显示元件用密封剂以及有机el显示元件用密封剂的制造方法
WO2018155193A1 (fr) * 2017-02-22 2018-08-30 富士フイルム株式会社 Matériau de transfert photosensible, procédé de fabrication de câblage de circuit, et procédé de fabrication de panneau tactile
CN110731127B (zh) * 2017-06-15 2022-08-19 积水化学工业株式会社 有机el显示元件用密封剂
JP7175273B2 (ja) 2017-07-31 2022-11-18 クラレノリタケデンタル株式会社 ジルコニア粒子を含む粉末の製造方法
EP3663271A4 (fr) 2017-07-31 2021-04-14 Kuraray Noritake Dental Inc. Procédé de fabrication de poudre contenant des particules de zircone et un agent fluorescent
KR102657206B1 (ko) 2017-07-31 2024-04-12 쿠라레 노리타케 덴탈 가부시키가이샤 형광제를 포함하는 지르코니아 소결체
JP6986476B2 (ja) * 2018-03-29 2021-12-22 株式会社タムラ製作所 感光性樹脂組成物
WO2020067011A1 (fr) * 2018-09-25 2020-04-02 日産化学株式会社 Composition d'encre
WO2020179877A1 (fr) 2019-03-06 2020-09-10 クラレノリタケデンタル株式会社 Corps moulé en zircone permettant une cuisson de courte durée, et corps calciné
CN113490653A (zh) 2019-03-06 2021-10-08 可乐丽则武齿科株式会社 具有高直线光透射率的氧化锆烧结体
US20240199494A1 (en) 2021-04-16 2024-06-20 Kuraray Noritake Dental lnc. Zirconia molded body, zirconia pre-sintered body, and zirconia sintered body, and methods of production thereof
CN118451051A (zh) 2021-12-22 2024-08-06 可乐丽则武齿科株式会社 氧化锆组合物、氧化锆预烧体和氧化锆烧结体以及它们的制造方法
EP4431255A1 (fr) 2022-12-16 2024-09-18 Kuraray Noritake Dental Inc. Procédé de fabrication de corps moulé en oxyde-céramique

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003057413A (ja) * 2001-08-10 2003-02-26 Nippon Sheet Glass Co Ltd 光散乱基板用感光性樹脂組成物、及びそれを用いて製造された光散乱基板とその製造方法
JP2004110019A (ja) * 2002-08-30 2004-04-08 Toray Ind Inc ポジ型感光性ペースト、それを用いたパターンの形成方法およびプラズマディスプレイの製造方法
JP2006108072A (ja) * 2004-10-06 2006-04-20 Samsung Sdi Co Ltd プラズマディスプレイパネル電極形成用ポジ型感光性ペースト組成物,およびこれを用いて製造されたフィルム,プラズマディスプレイパネル電極,プラズマディスプレイパネル
JP2008208253A (ja) * 2007-02-27 2008-09-11 Fujifilm Corp 樹脂組成物、感光性転写材料、離画壁及びその形成方法、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置
WO2010001615A1 (fr) * 2008-07-04 2010-01-07 パナソニック株式会社 Ecran plasma et procédé de fabrication associé
JP2012137769A (ja) * 2012-02-06 2012-07-19 Taiyo Holdings Co Ltd ソルダーレジスト組成物およびプリント配線板

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4641169B2 (ja) * 2004-09-30 2011-03-02 大日本印刷株式会社 固体撮像素子レンズの形成方法
JP4403174B2 (ja) * 2006-12-25 2010-01-20 Azエレクトロニックマテリアルズ株式会社 パターン形成方法およびそれに用いる感光性樹脂組成物
CN102792227B (zh) * 2010-03-11 2014-11-12 富士胶片株式会社 正型感光性树脂组合物、固化膜的形成方法、固化膜、液晶显示装置、以及有机el显示装置
CN102193316B (zh) * 2010-03-15 2015-11-18 富士胶片株式会社 正型感光性树脂组合物、固化膜的形成方法、固化膜、有机el显示装置以及液晶显示装置
JP4844695B2 (ja) * 2010-04-28 2011-12-28 Jsr株式会社 吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物、表示素子用層間絶縁膜及びその形成方法
WO2011142391A1 (fr) * 2010-05-13 2011-11-17 日産化学工業株式会社 Composition de résine photosensible et dispositif d'affichage
JP2012042837A (ja) * 2010-08-20 2012-03-01 Fujifilm Corp ポジ型感光性組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜、液晶表示装置、及び、有機el表示装置
KR101890633B1 (ko) * 2011-04-27 2018-08-22 후지필름 가부시키가이샤 수지 조성물, 경화물의 제조 방법, 수지 패턴 제조 방법, 경화물 및 광학 부재

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003057413A (ja) * 2001-08-10 2003-02-26 Nippon Sheet Glass Co Ltd 光散乱基板用感光性樹脂組成物、及びそれを用いて製造された光散乱基板とその製造方法
JP2004110019A (ja) * 2002-08-30 2004-04-08 Toray Ind Inc ポジ型感光性ペースト、それを用いたパターンの形成方法およびプラズマディスプレイの製造方法
JP2006108072A (ja) * 2004-10-06 2006-04-20 Samsung Sdi Co Ltd プラズマディスプレイパネル電極形成用ポジ型感光性ペースト組成物,およびこれを用いて製造されたフィルム,プラズマディスプレイパネル電極,プラズマディスプレイパネル
JP2008208253A (ja) * 2007-02-27 2008-09-11 Fujifilm Corp 樹脂組成物、感光性転写材料、離画壁及びその形成方法、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置
WO2010001615A1 (fr) * 2008-07-04 2010-01-07 パナソニック株式会社 Ecran plasma et procédé de fabrication associé
JP2012137769A (ja) * 2012-02-06 2012-07-19 Taiyo Holdings Co Ltd ソルダーレジスト組成物およびプリント配線板

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