JPWO2013094456A1 - 有機光電変換素子 - Google Patents

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Abstract

本発明は、優れた耐久性を有する有機光電変換素子を提供することを目的とする。本発明は、下記化学式1で表される部分構造を有する共役系高分子化合物を含有する有機光電変換素子を提供する。式中、Xは、O、S、NR2、またはCR3=CR4を表し;Wは、CHまたはNを表し;Lは、炭素原子数1〜10の直鎖状または分枝状アルキレン基を表し;Y1およびY2は、OまたはNR5を表し;Zは、C、S、またはPを表し;前記R1〜R5は、H、炭素原子数1〜24の直鎖状もしくは分枝状アルキル基、炭素原子数3〜20のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20のアルケニル基、炭素原子数6〜30のアリール基、または炭素原子数1〜20のヘテロアリール基を表し;a、b、cは、3≰a+b+c≰4かつ0≰a、b、c≰2の関係式を満たす整数を表す。

Description

本発明は、有機光電変換素子に関する。より詳しくは、本発明は、有機光電変換素子の耐久性を向上させるための技術に関する。
近年、地球温暖化に対処するため、二酸化炭素排出量の削減が切に望まれている。また、近い将来、石油、石炭、および天然ガスなどの化石燃料が枯渇することが予想されており、これらに替わる地球に優しいエネルギー資源の確保が急務となっている。そこで、太陽光、風力、地熱、原子力など利用した発電技術の開発が盛んに行われているが、なかでも太陽光発電は、安全性の高さから特に注目されている。
太陽光発電では、光起電力効果を利用した光電変換素子を用いて、光エネルギーを直接電力に変換する。光電変換素子は、一般的に、一対の電極の間に光電変換層(光吸収層)が挟持されてなる構造を有し、当該光電変換層において光エネルギーが電気エネルギーに変換される。光電変換素子は、光電変換層に用いられる材料や、素子の形態により、単結晶・多結晶・アモルファスのSiを用いたシリコン系光電変換素子、GaAsやCIGS(銅(Cu)、インジウム(In)、ガリウム(Ga)、セレン(Se)からなる半導体)等の化合物半導体を用いた化合物系光電変換素子、色素増感型光電変換素子(グレッツェルセル)などが提案・実用化されている。
しかしながら、これらの太陽電池を用いた場合の発電コストは、依然として化石燃料を用いて発電・送電する場合のコストと比較して高く、これが太陽光発電の普及の妨げとなっていた。また、基板に重いガラスを用いなければならないため、屋根などに設置する場合に補強工事が必要であり、これらも発電コストを高騰させる一因であった。
太陽光発電における発電コストを低減させるための技術として、透明電極と対電極との間に、電子供与性有機化合物(p型有機半導体)と電子受容性有機化合物(n型有機半導体)との混合物を光電変換層として含むバルクへテロジャンクション(BHJ)型の光電変換素子が提案されている。2007年には5%を超える光電変換効率が報告され(非特許文献1)、さらに、理論的には光電変換効率10%の達成も可能であるとの見通しがなされている(非特許文献2)。
バルクへテロジャンクション型有機光電変換素子は、軽量で柔軟性に富むことから、様々な製品への応用が期待されている。また、構造が比較的単純であり、p型有機半導体およびn型有機半導体を塗布することによって光電変換層を形成できることから、ロール・トゥ・ロールでの大量生産によってコストダウンが期待でき、太陽電池の早期普及にも寄与するものと考えられる。より具体的には、バルクへテロジャンクション型有機光電変換素子において、電極(陽極および陰極)や、正孔輸送層等を構成する金属酸化物層は、塗布プロセス以外の手法(例えば、真空蒸着法など)により形成されうる。その一方で、これら以外の層は塗布プロセスを用いて形成することができる。したがって、バルクへテロジャンクション型光電変換素子の製造は高速でかつ安価に行うことが可能であると期待され、上述した発電コストの課題を解決できる可能性があると考えられるのである。さらに、従来のシリコン系光電変換素子、化合物系光電変換素子、色素増感型光電変換素子などの製造とは異なり、160℃よりも高温の製造プロセスを必須に伴うものではないため、安価でかつ軽量なプラスチック基板上への形成も可能であると期待される。
しかしながら、有機光電変換素子は、他のタイプの光電変換素子と比較して、熱や光に対する耐久性が十分とはいえない。そこで、耐久性を向上させるために、各種改良が進められている。一例を挙げると、通常の有機光電変換素子とは逆順に各層を積層し、透明電極側から電子を取り出して仕事関数の深い安定な金属電極側から正孔を取り出す、いわゆる逆層型の有機光電変換素子(特許文献1)が提案されている。このような逆層型は、一般に、光透過性に劣る導電性ポリマーから構成される正孔輸送層が、対電極(陽極)と光電変換層との間に存在し、対電極で反射される光を効率的に光電変換層に再利用することができないため、光の利用効率の観点からいえば不利な構成である(非特許文献3)。一方で、金や銀などの、酸素や水によって腐食され難い金属を電極として用いることができるため、順層型よりも耐久性が高い素子とすることが可能となる。
また、耐久性を向上させるために、光電変換層におけるバルクへテロジャンクション(BHJ)構造の改善も試みられている。BHJ型の光電変換層は、p型有機半導体およびn型有機半導体の2種類の材料が、それぞれ特定の大きさのドメインを形成してランダムに充填されており、それらの界面で電荷分離が起こる。よって、光や熱に長時間曝された場合であっても、p型有機半導体とn型有機半導体との良好なモルフォロジーを維持させることが、耐久性の向上には重要であると考えられている。
最近、p型有機半導体材料であるポリチオフェンの側鎖アルキル基に、エステル基、アミド基などを導入することで、n型有機半導体材料との分子間相互作用が改良されて、良好なモルフォロジーが形成され、耐久性が向上した、との報告がなされた(特許文献2)。また、非特許文献4では、700nmまで吸収可能なドナー性ユニット−アクセプター性ユニットの共重合ポリマーの側鎖を、熱により反応させてカルボン酸に変換することで、耐久性を向上できるとの報告がなされた。
特開2009−146981号公報 国際公開第2011/069554号パンフレット
A.Heeger et al.,Nature Mat.,vol.6(2007),p497 Christoph J.Brabec et al.,Adv.Mater.,2006,18,p789 Appl.Phys.Lett.,98,043301(2011) Polym.Chem.,2011,2,p2536
しかしながら、上記特許文献2に記載されたp型有機半導体材料は、吸収波長が短く、素子の光電変換効率も2.5%に満たないものであった。また、非特許文献4に記載された光電変換材料を用いた素子も、光電変換効率1.5%と低く、実用化には程遠いものであった。加えて、素子の耐久性についても未だ十分であるとはいえず、さらなる向上が望まれていた。このように、耐久性の向上と、十分な光電変換効率とを両立させることは非常に困難であり、さらなる改良が求められていた。
そこで、本発明は、優れた耐久性を有する有機光電変換素子を提供することを目的とする。
また、本発明の他の目的は、十分な光電変換効率を達成することのできる有機光電変換素子を提供することである。
本発明者らは、上記課題を解決するために、鋭意研究を行った。そして、有機光電変換素子に用いられる共役系高分子化合物の側鎖アルキル基に、スルホンアミド基、カルバメート基などの強い極性基を導入することで、高い耐久性を備えた有機光電変換素子が得られることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明の有機光電変換素子は、下記化学式1で表される部分構造を有する共役系高分子化合物を含有する点に特徴を有する。
式中、Xは、それぞれ独立して、酸素原子(O)、硫黄原子(S)、NR、またはCR=CRを表し;Wは、それぞれ独立して、CHまたは窒素原子(N)を表し;Lは、それぞれ独立して、炭素原子数1〜10の直鎖状または分枝状アルキレン基を表し;YおよびYは、それぞれ独立して、酸素原子(O)またはNRを表し;Zは、それぞれ独立して、炭素原子(C)、硫黄原子(S)、またはリン原子(P)を表し;前記R〜Rは、それぞれ独立して、水素原子(H)、炭素原子数1〜24の直鎖状もしくは分枝状アルキル基、炭素原子数3〜20のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20のアルケニル基、炭素原子数6〜30のアリール基、または炭素原子数1〜20のヘテロアリール基を表し;a、b、cは、それぞれ独立して、3≦a+b+c≦4かつ0≦a、b、c≦2の関係式を満たす整数を表す。
本発明の一実施形態に係る、順層型の有機光電変換素子を模式的に表した断面概略図である。図1中、10は有機光電変換素子を;11は陽極を;12は陰極を;14は光電変換層を;25は基板を;26は正孔輸送層を;および27は電子輸送層を、それぞれ、表す。 本発明の他の一実施形態に係る、逆層型の有機光電変換素子を模式的に表した断面概略図である。図2中、20は有機光電変換素子を;11は陽極を;12は陰極を;14aは第1の光電変換層を;14bは第2の光電変換層を;25は基板を;26は正孔輸送層を;および27は電子輸送層を、それぞれ、表す。 本発明の他の一実施形態に係る、タンデム型の光電変換層を備えた有機光電変換素子を模式的に表した断面概略図である。図3中、30は有機光電変換素子を;11は陽極を;12は陰極を;14は光電変換層を;25は基板を;26は正孔輸送層を;27は電子輸送層を;および38は電荷再結合層を、それぞれ、表す。
以下、本発明の好ましい形態を説明する。
<有機光電変換素子>
本発明の一形態に係る有機光電変換素子は、側鎖アルキル基に、特定の極性基が導入されてなる共役系高分子化合物を含有する点に特徴を有する。すなわち、本形態に係る共役系高分子化合物は、下記化学式1で表される部分構造を有する。上記構成をとることにより、本発明の有機光電変換素子は、優れた耐久性を発揮できる。なお、本発明の共役系高分子化合物は化学式1で表される部分構造を1または2以上含むが、当該部分構造が2以上存在する場合には、各部分構造における、X、W、L、Y及びY、Z、R〜R、ならびにa、b及びc、互いに同一であってもよいし、異なってもよい。
化学式1中、Xは、それぞれ独立して、酸素原子(O)、硫黄原子(S)、NR、またはCR=CRを表す。Wは、それぞれ独立して、CHまたは窒素原子(N)を表す。すなわち、化学式1中のXおよびWを含む環は、それぞれ独立して、フラン環(XがO、WがCH)、チオフェン環(XがS、WがCH)、ピロール環(XがNR、WがCH)、ベンゼン環(XがCR=CR、WがCH)、オキサゾール環(XがO、WがN)、チアゾール環(XがS、WがN)、イミダゾール環(XがNR、WがN)、またはピリジン環(XがCR=CR、WがN)のいずれかの構造を有する。なお、XおよびWを含む環は、いずれも芳香族環であり、本形態に係る共役系高分子化合物の主鎖を構成する。よって、以降、当該XおよびWを含む環を「主鎖の芳香族環」とも称する。これらの主鎖の芳香族環のうち、高い光電変換効率を達成する観点から、Xが硫黄原子(S)である、あるいは、WがCHであるものが好ましい。特に、Xが硫黄原子(S)であり、かつWがCHであるチオフェン環とすることにより、高い電気伝導性および高い移動度を有する共役系高分子化合物とすることができる。
化学式1中、Lは、それぞれ独立して、炭素原子数1〜10の直鎖状または分枝状アルキレン基を表す。具体的には、メチレン基(−CH−)、エチレン基(−CHCH−)、トリメチレン基(−CHCHCH−)、プロピレン基(−CH(CH)CH−)、2−エチルヘキサメチレン基(−CHCH(CHCH)CHCHCHCH−)などが挙げられる。このうち、側鎖アルキル基中の水素原子と、主鎖の芳香族環との立体障害を考慮すると、側鎖アルキル基が結合している芳香族環の3位または4位の炭素原子と、YまたはZ(a=0のとき)とが距離的に十分離れている(具体的には、芳香族環の3位または4位の炭素原子と、YまたはZ(a=0のとき)とが、エチレン基(−CHCH−)以上の距離を介している)ことが好ましい。したがって、Lの主鎖の炭素原子数は2以上であることが好ましい。また、合成上の容易性という観点から、またはエチレン基であることが好ましい。
化学式1中、下記化学式5で表される基が連結基Lを介して主鎖の芳香族環に結合しており、極性基を表す。
化学式1(化学式5)中、YおよびYは、それぞれ独立して、酸素原子(O)またはNRを表す。Zは、それぞれ独立して、炭素原子(C)、硫黄原子(S)、またはリン原子(P)を表す。a、b、cは、それぞれ独立して、3≦a+b+c≦4かつ0≦a、b、c≦2の関係式を満たす整数を表す。すなわち、化学式5で表される極性基としては、具体的には、スルホンアミド基(−SONR)、カルバメート基(−OCONRまたは−NRC(O)OR)、カルボネート基(−OCOOR)、リン酸エステル基(−PO(OR)、ウレア基(−NRCONR)、リン酸アミド基(−PO(NR)、スルホンエステル基(−SOOR)などが挙げられる。なかでも、極性が強く、安定性に優れるという観点から、化学式1(化学式5)中のYおよびYの少なくとも一方はNRであることが好ましく、特に、YがNRであることが好ましい。また、チオフェン環は高い電気伝導性を付与できるという観点から、化学式1(化学式5)中のZは硫黄原子(S)であることが好ましい。より具体的には、上記で例示した極性基のうち、極性基自体の安定性または合成の容易性を考慮すると、スルホンアミド基、カルバメート基、カルボネート基、リン酸エステル基が好ましく;スルホンアミド基、カルバメート基、カルボネート基がより好ましく;スルホンアミド基、カルバメート基がさらに好ましく;スルホンアミド基が最も好ましい。
本形態の共役系高分子化合物では、上記化学式1で表される部分構造における側鎖アルキル基中に、上記化学式5で表される極性基を含む点に特徴を有する。当該共役系高分子化合物を用いた場合に有機光電変換素子の耐久性が向上するメカニズムについては、定かではないが、本発明者らは以下のように推測している。すなわち、上記化学式5で表される極性基は式中のZ(炭素原子、硫黄原子、またはリン原子)が3つ以上のヘテロ原子(酸素原子またはNR)と結合していることから、強い極性を有すると考えられる。このように、アルキル鎖中に強い極性基を導入することにより、分子がより分極し、強い分子間相互作用が発現されるものと考えられる。その結果、例えば、当該共役系高分子化合物をBHJ型の光電変換層に用いた場合には、n型有機半導体との間に良好なモルフォロジーが形成・維持され、熱や光に対しても安定となるため、結果的に素子の耐久性が向上すると考えられる。実際に赤外分光法を用いて測定したところ、例えばカルバメート基はエステル基よりも吸収波数が高く、より分極して分子間相互作用が強いと予想された。なお、上記のメカニズムはあくまでも推測に基づくものである。したがって、上記のメカニズム以外のメカニズムにより上述のような効果が得られていたとしても、本発明の技術的範囲は何ら影響を受けることはない。
また、化学式1で表される部分構造に存在しうる上記R〜Rは、それぞれ独立して、水素原子(H)、炭素原子数1〜24の直鎖状もしくは分枝状アルキル基、炭素原子数3〜20のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20のアルケニル基、炭素原子数6〜30のアリール基、または炭素原子数1〜20のヘテロアリール基を表す。特に、上記Rは炭素原子数1〜24の直鎖状もしくは分枝状アルキル基、炭素原子数3〜20のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20のアルケニル基、炭素原子数6〜30のアリール基、または炭素原子数1〜20のヘテロアリール基であることが好ましい。一方、上記R〜Rは水素原子であることが好ましい。
上記炭素原子数1〜24のアルキル基としては、特に制限はないが、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル、ネオペンチル、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、2−エチルヘキシル基、2−ヘキシルデシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、2−テトラオクチル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、2−ヘキシルデシル基、n−ヘプタデシル基、1−オクチルノニル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−イコシル基、2−デシルテトラデシル基などが挙げられる。このうち共役系高分子化合物の結晶性を高め、キャリアの移動度を向上させる観点;または、共役系高分子化合物を製造する際のモノマーの溶解性を向上させる観点から、炭素原子数1〜20のアルキル基が好ましく、炭素原子数が比較的大きな(炭素原子数が4〜16、特に6〜14の)直鎖アルキル基であることがより好ましく、具体的には、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基などが好ましい。
上記炭素原子数3〜20のシクロアルキル基としては、特に制限はないが、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、アダマンチル基などが挙げられる。このうち、溶解性を向上させるという観点から、炭素原子数4〜8のシクロアルキル基であることが好ましい。
上記炭素原子数2〜20のアルケニル基としては、特に制限はないが、例えば、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、オクチニル基、ノニニル基、デシニル基などが挙げられる。このうち、溶解性を向上させるという観点から、炭素原子数6以上、特に炭素原子数6〜10のアルケニル基であることが好ましい。
上記炭素原子数6〜30のアリール基としては、特に制限はないが、例えば、フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基などの非縮合炭化水素基;ペンタレニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、フルオレニル基、アセナフチレニル基、プレイアデニル基、アセナフテニル基、フェナレニル基、フェナントリル基、アントリル基、フルオランテニル基、アセフェナントリレニル基、アセアントリレニル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基などの縮合多環炭化水素基が挙げられる。
上記炭素原子数1〜20のヘテロアリール基としては、特に制限はないが、例えば、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジニル基、トリアジニル基、フラニル基、ピロリル基、チオフェニル基(チエニル基)、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、クマリニル基、シラフルオレニル基、ベンゾフラニル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズオキサゾリル基、ベンズチアゾリル基、ジベンゾフラニル基、ベンゾチオフェニル基、ジベンゾチオフェニル基、インドリル基、カルバゾリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、インダゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ピリダジニル基、シンノリル基、キナゾリル基、キノキサリル基、フタラジニル基、フタラジンジオニル基、フタルアミジル基、クロモニル基、ナフトラクタミル基、キノロニル基、ナフタリジニル基、ベンズイミダゾロニル基、ベンズオキサゾロニル基、ベンゾチアゾロニル基、ベンゾチアゾチオニル基、キナゾロニル基、キノキサロニル基、フタラゾニル基、ジオキソピリミジニル基、ピリドニル基、イソキノロニル基、イソキノリニル基、イソチアゾリル基、ベンズイソキサゾリル基、ベンズイソチアゾリル基、インダジロニル基、アクリジニル基、アクリドニル基、キナゾリンジオニル基、キノキサリンジオニル基、ベンゾオキサジンジオニル基、ベンゾキサジノニル基、ナフタルイミジル基、ジチエノシクロペンタジエニル基、ジチエノシラシクロペンタジエニル基、ジチエノピロリル基、ベンゾジチオフェニル基などが挙げられる。
以下、上記化学式1で表される部分構造の好ましい形態を例示する。
以上のような、化学式1で表される部分構造は、側鎖アルキル基中に強い極性基を有するため、当該部分構造を含む共役系高分子化合物において、強い分子間相互作用を示しうる。よって、当該共役系高分子化合物を用いて有機光電変換素子を形成することにより、熱や光に対しても安定な、耐久性に優れた素子とすることができる。
本形態の共役系高分子化合物は、上記化学式1で表される部分構造を少なくとも1種含む限りにおいて、(1)当該化学式1で表される部分構造のみからなる共役系高分子化合物であってもよいし、(2)アクセプター性ユニットを1以上含むコポリマーであってもよいし、(3)アクセプター性ユニットを1以上と、ドナー性ユニット1以上とを含むコポリマー(以下、「D−Aポリマー」とも称する)であってもよい。このうち、太陽光スペクトルの広い範囲にわたる放射エネルギーを効率よく吸収させるためには、(3)のD−Aポリマーであることが好ましい。これは、アクセプター性ユニットとドナー性ユニット群とを交互に配列させることにより、吸収域を長波長域に拡大することができるからである。したがって、このような共役系高分子化合物は、従来のp型有機半導体の吸収域(例えば、400〜700nm)に加え、長波長域(例えば、700〜1000nm)の光も吸収することが可能となる。
より詳細には、上記(2)のアクセプター性ユニットを1以上含むコポリマーとしては、下記化学式2で表される部分構造を有する共役系高分子化合物であることが好ましい。
化学式2中、Aは、それぞれ独立して、アクセプター性ユニットを表す。アクセプター性ユニットとは、一般に、同じπ電子数を有する炭化水素芳香環(ベンゼン、ナフタレン、アントラセンなど)よりもLUMO準位またはHOMO準位が深くなるような部分構造(ユニット)をいう。以下に、アクセプター性ユニットの好ましい具体例を示す。
また、化学式2中、X、W、L、Y、Y、Z、R、a、b、およびcは、前記化学式1の規定と同様である。pは、それぞれ独立して、1〜5の整数を表す。このうち、移動度および溶解性の観点から、p=1であることが好ましい。なお、化学式2中、隣り合うユニット同士の結合位置は特に制限されない。
上記に加えてまたは上記に代えて、アクセプター性ユニットの好ましい具体例を以下に示す。
上記A’−1〜A’−49のアクセプター性ユニットにおいて、Rは、それぞれ独立して、水素原子(H)、または、置換もしくは非置換の、炭素原子数1〜24のアルキル基、炭素原子数1〜24のフッ化アルキル基、炭素原子数3〜24のシクロアルキル基、炭素原子数3〜20のフッ化シクロアルキル基、炭素原子数1〜24のアルコキシ基、炭素原子数1〜24のフッ化アルコキシ基、炭素原子数1〜24のアルキルチオ基、炭素原子数1〜24のフッ化アルキルチオ基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数6〜30のフッ化アリール基、炭素原子数1〜20のヘテロアリール基、または炭素原子数1〜20のフッ化ヘテロアリール基を表す。ユニット中に複数のRが含まれる場合、複数のRは互いに結合して置換基を有してもよい環を形成してもよく、または、複数のRが縮環していてもよい。
中でも好ましくは、Rは、溶解性と結晶性を両立しやすい点で、水素原子、炭素原子数1〜24のアルキル基、フッ化アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基である。炭素原子数1〜24のアルキル基、上記炭素原子数3〜20のシクロアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数1〜20のヘテロアリール基は、上記化学式1での低語と同様である。
上記炭素原子数1〜24のフッ化アルキル基としては、特に制限はないが、例えば、上記で例示したアルキル基に含まれる水素原子の少なくとも1つがフッ素原子で置換された基が挙げられる。具体的には、フルオロメチル基、1−フルオロエチル基、1−フルオロプロピル基、1−フルオロブチル基、1−フルオロオクチル基、1−フルオロデシル基、1−フルオロヘキサデシル基、1−フルオロ−2−エチルヘキシル基、1−フルオロ−2−ヘキシルデシル基などのモノフルオロアルキル基;ジフルオロメチル基、1,1−ジフルオロエチル基、1,1−ジフルオロプロピル基、1,1−ジフルオロブチル基、1,1−ジフルオロオクチル基、1,1−ジフルオロデシル基、1,1−ジフルオロヘキサデシル基、1,1−ジフルオロ−2−エチルヘキシル基、1,1−ジフルオロ−2−ヘキシルデシル基などのジフルオロアルキル基;トリフルオロメチル基等のトリフルオロアルキル基などが挙げられる。また、上層の塗布性を維持するという観点から、炭素原子数1〜3のフッ化アルキル基であることが好ましい。このような炭素原子数であれば、他の溶解性基に比して十分短く(溶解性を付与するための置換基は、一般にC6以上を用いる)、上層塗布性に対する影響が少ないためである。中でも、炭素原子数が1であるトリフルオロメチル基であることがより好ましい。
上記炭素原子数3〜20のフッ化シクロアルキル基としては、特に制限はないが、例えば、上記で例示したシクロアルキル基に含まれる水素原子の少なくとも1つがフッ素原子で置換された基が挙げられる。このうち、より高いVoc(深いHOMO準位)を達成する観点から、上記で例示したシクロアルキル基に含まれる全ての水素原子がフッ素原子で置換された基であることが好ましいが、塗布性との兼ね合いからフッ素原子の個数・位置は適切に調節されることが好ましい。また、溶解性を向上させるという観点から、炭素原子数4〜8のフッ化シクロアルキル基であることが好ましい。
上記炭素原子数1〜24のアルコキシ基としては、特に制限はないが、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、tert−ブトキシ基、n−オクチルオキシ基、n−デシルオキシ基、n−ドデシルオキシ基、n−ヘキサデシルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、2−ヘキシルデシルオキシ基、2−デシルテトラデシルオキシ基などが挙げられる。このうち、溶解性と結晶性の両立の観点から、炭素原子数1〜16のアルコキシ基が好ましく、炭素原子数6〜12のアルコキシ基がより好ましい。
上記炭素数1〜24のフッ化アルコキシ基(フッ化アルキルオキシ基)としては、特に制限はないが、例えば、上記で例示したフッ化アルキル基の根元に酸素原子が結合されてなる基が挙げられる。このうち、より高いVoc(深いHOMO準位)達成の観点から、上記で例示したアルキル鎖中に含まれる全ての水素原子がフッ素原子で置換された基であることが好ましいが、塗布性との兼ね合いから適切な個数・位置に調節されることもまた好ましい。溶解性と深いHOMO準位の両立をしやすいのは、置換部位の炭素原子近傍のみがフッ素原子であるフッ化アルキル鎖を有するフッ化アルコキシ基である。また、上層の塗布性を維持するという観点から、炭素原子数1〜3のフッ化アルキル基の根元に酸素原子が結合されてなる基が好ましく、特に好ましくは、炭素原子数が1であるトリフルオロメトキシ基である。
上記炭素原子数1〜24のアルキルチオ基としては、特に制限はないが、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基及びiso−プロピルチオ基、n−ドデシルチオ基等が挙げられる。このうち、溶解性と結晶性の両立の観点から、炭素原子数1〜16のアルキルチオ基が好ましく、炭素原子数1〜12のアルキルチオ基がより好ましく、炭素原子数6〜12のアルキルチオ基がさらに好ましい。
上記炭素原子数1〜24のフッ化アルキルチオ基としては特に制限はないが、例えば、上記で例示したフッ化アルキル基の根元に硫黄原子が結合されてなる基が挙げられる。このうち、より高いVoc(深いHOMO準位)達成の観点の観点から、上記で例示したアルキル鎖中に含まれる全ての水素原子がフッ素原子で置換された基であることが好ましいが、塗布性との兼ね合いから適切な個数・位置に調節されることもまた好ましい。また、上層の塗布性を維持するという観点からは、炭素原子数1〜12のフッ化アルキル基の根元に硫黄原子が結合されてなる基が好ましく、特に好ましくは、炭素原子数が1であるトリフルオロメチルチオ基である。
上記炭素原子数6〜30のフッ化アリール基としては、特に制限はないが、例えば、上記で例示したアリール基に含まれる水素原子の少なくとも1つがフッ素原子で置換された基が挙げられる。このうち、より高いVoc(深いHOMO準位)を達成する観点から、上記で例示したアリール基に含まれる全ての水素原子がフッ素原子で置換された基であることが好ましいが、塗布性との兼ね合いからフッ素原子の個数・位置は適切調節されることが好ましい。
上記炭素原子数1〜20のフッ化ヘテロアリール基としては、特に制限はないが、例えば、上記で例示したヘテロアリール基に含まれる水素原子の少なくとも1つがフッ素原子で置換された基が挙げられる。このうち、より高いVoc(深いHOMO準位)を達成する観点から、上記で例示したヘテロアリール基に含まれる全ての水素原子がフッ素原子で置換された基であることが好ましいが、塗布性との兼ね合いからフッ素原子の個数・位置は適切に調節されることが好ましい。
上記Rに場合によって存在する置換基は、特に制限はないが、例えば、置換または非置換の、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、シリル基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、メルカプト基、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基などを挙げることができる。なお、上記において、同一の置換基で置換されることはない。すなわち、置換のアルキル基は、アルキル基で置換されることはない。
本形態の共役系高分子化合物に含まれるアクセプター性ユニットは、上記で例示した部分構造以外にも、他の部分構造(電子求引性を有する構造)を含んでもよい。ただし、より高い光電変換効率を達成するためには、共役系高分子化合物に含まれるアクセプター性ユニットのうち、上記部分構造の割合が多いほど好ましい。具体的には、共役系高分子化合物に含まれる全アクセプター性ユニットの数に対して、上記部分構造の数が50%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましく、90%以上であることがさらに好ましく、95%以上であることが特に好ましく、100%であることが最も好ましい。
好ましい実施形態において、前記Aで表わされるアクセプターユニットは、2環以上が縮環した複素芳香族縮合多環(複素芳香族縮合多環)由来の2価の基である。このような化合物とすることで、p型有機半導体材料のπ平面面積の向上による移動度の向上が期待されるためである。さらに好ましくは長波長化による短絡電流の向上が期待されるA’−2〜A’−23のような構造、すなわち化学式Aまたは化学式Bで表わされる構造であることが好ましい。
上記化学式AまたはB中、YおよびYは、−O−、−NR−、−S−、−C(R)=C(R)−、−N=C(R)−、または−CR−を表す。化学式Bにおいて、各Yは同一であってもよいし、異なっていてもよいが、結晶性を高め、高い移動度の材料を得やすい点で同一であることが好ましい。
中でも、より好ましくは、YおよびYは−S−である。これらの化合物では、深いHOMO準位と高い移動度の両立が期待される。
上記式中、R〜Rは、それぞれ独立して、水素原子(H)、ハロゲン原子(F、Cl、Br、もしくはI)、置換もしくは非置換の、炭素原子数1〜24のアルキル基、炭素原子数1〜24のフッ化アルキル基、炭素原子数3〜20のシクロアルキル基、炭素原子数3〜20のフッ化シクロアルキル基、炭素原子数1〜24のアルコキシ基、炭素原子数1〜24のフッ化アルコキシ基、炭素原子数1〜24のアルキルチオ基、炭素原子数1〜24のフッ化アルキルチオ基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数6〜30のフッ化アリール基、炭素原子数1〜20のヘテロアリール基、または炭素原子数1〜20のフッ化ヘテロアリール基を表す。化学式AまたはBにおいて、各R、各Rは同一であってもよいし、異なっていてもよいが、結晶性を高め、高い移動度の材料を得やすい点で同一であることが好ましい。化学式Aにおける各Rまたは化学式BにおけるRおよびRもしくはRおよびRはそれぞれ、互いに結合して置換基を有してもよい環を形成してもよく、または、縮環していてもよい。
またはRは、好ましくは、共役高分子主鎖の平面性(移動度向上)の点から、水素原子(H)、ハロゲン原子(F、Cl、Br、もしくはI)、炭素原子数1〜24のアルキル基、フッ化アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基であり、より好ましくは、より深いHOMOの共役ポリマーを得る(開放電圧向上)の点から、水素原子(H)、ハロゲン原子(F、Cl、Br、もしくはI)であることが好ましい。
〜Rは、好ましくは、共役高分子の溶解性の点から、水素原子(H)、ハロゲン原子(F、Cl、Br、もしくはI)、溶解性と結晶性を両立しやすい点で、水素原子、炭素原子数1〜24のアルキル基、フッ化アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基であり、より好ましくは、合成の容易性の点から、水素原子(H)、炭素原子数1〜24のアルキル基である。
上記R〜Rの具体的な基、および、R〜Rに場合によって存在する置換基は、上記A’−1〜A’−49のアクセプター性ユニットにおけるRで説明したのと同様である。
さらに、上記(2)のアクセプター性ユニットを1以上含むコポリマーは、下記化学式3で表される部分構造を有することがより好ましい。
化学式3中、Aは、それぞれ独立して、アクセプター性ユニットを表す。アクセプター性ユニットは、上述の化学式2の規定と同様である。X、W、L、Y、Y、Z、R、a、b、およびcは、前記化学式1の規定と同様である。
pおよびqは、それぞれ独立して、1〜5の整数を表す。このうち、移動度および溶解性の観点から、p=q=1である(すなわち、アクセプター性ユニットの両端に、化学式1で表される部分構造を1つずつ有する)ことが好ましい。
なお、化学式3中、隣り合うユニット同士の結合位置は特に制限されない。また、上記化学式3中、Aの右側または左側の部分構造において上記化学式1で表されるユニットが複数存在するとき(pまたはqが2以上のとき)、各部分構造中の各ユニットは同一であってもよいし異なるものであってもよい。さらに、アクセプター性ユニットに対して、左右の部分構造は互いに同一であってもよいし、異なるものであってもよい。
また、上記(3)アクセプター性ユニットを1以上と、ドナー性ユニット1以上とを含むコポリマー(D−Aポリマー)としては、軌道の準位と吸収波長の長波化の観点から、下記化学式4で表される部分構造を有する共役系高分子化合物であることが好ましい。
化学式4中、Aは、それぞれ独立して、アクセプター性ユニットを表す。アクセプター性ユニットは、上述の化学式2の規定と同様である。X、W、L、Y、Y、Z、R、a、b、およびcは、前記化学式1の規定と同様である。
Dは、それぞれ独立して、ドナー性ユニットを表す。ドナー性ユニットとは、一般に、同じπ電子数を有する炭化水素芳香環(ベンゼン、ナフタレン、アントラセンなど)よりもLUMO準位またはHOMO準位が浅くなるような部分構造(ユニット)をいう。ドナー性ユニットの構造は特に制限はないが、例えば、チオフェン環、フラン環、ピロール環、シクロペンタジエン、シラシクロペンタジエンなどの複素5員環、およびこれらの縮合環を含むユニットなどが挙げられる。
具体的には、チオフェン、チエノチオフェン、ビチオフェン、フルオレン、シラフルオレン、カルバゾール、ジチエノシクロペンタジエン、ジチエノシラシクロペンタジエン、ジチエノピロール、ベンゾジチオフェンなどを挙げることができる。これらのユニットのうち、高い移動度を付与できるチオフェン構造を有していることが好ましく、これにより光電変換効率を一層向上させることが可能である。また、環構造を構成する原子に結合している水素原子を、炭素原子数1〜20の直鎖または分枝鎖のアルキル基やアルコキシ基などに置換することにより、溶解性や結晶性を向上させることも可能である。
p、q、およびrは、それぞれ独立して、1〜5の整数を表す。このうちpおよびqは、移動度および溶解性の観点から、1である(すなわち、アクセプター性ユニットの両端に、化学式1で表される部分構造を1つずつ有する)ことが好ましい。また、rは合成上の容易性と結晶性の低下を抑制するという観点から、1であることが好ましい。
なお、化学式4中、隣り合うユニット同士の結合位置は特に制限されない。また、上記化学式4中、Aの右側または左側の部分構造において上記化学式1で表されるユニットが複数存在するとき(pまたはqが2以上のとき)、各部分構造中の各ユニットは同一であってもよいし異なるものであってもよい。さらに、アクセプター性ユニットに対して、左右の部分構造は互いに同一であってもよいし、異なるものであってもよい。
以下に、ドナー性ユニットの好ましい具体例を示す。なお、下記D−32およびD−33は、3つのドナー性ユニットからなる部分構造を表す。
なお、上記の例では、各ドナー性ユニットの側鎖として具体的なアルキル基が記載されているが、側鎖はこれらに限定されるものではなく、炭素原子数1〜24(好ましくは炭素原子数1〜20)の直鎖状もしくは分枝状アルキル基、あるいは化学式1で示した特定の極性基を有するアルキル基が側鎖として置換されていてもよい。
また、化学式4中、X、W、L、Y、Y、Z、R、a、b、およびcは、前記化学式1の規定と同様である。
p、q、およびrは、それぞれ独立して、1〜5の整数を表す。このうち、吸収域を長波長域に拡大することができるという観点から、p=q=r=1である(すなわち、アクセプター性ユニットの両端に、化学式1で表される部分構造を1つずつ有するユニット群と、ドナー性ユニットとが結合されてなる)ことが好ましい。なお、化学式4中、隣り合うユニット同士の結合位置は特に制限されない。
なお、本形態において、化学式1で表される部分構造、アクセプター性ユニット、ドナー性ユニットの組み合わせは、特に制限されず、任意に組み合わせて共役系高分子化合物を合成し、使用することが可能である。後述の実施例では、下記に示す組み合わせの共役系高分子化合物を合成し、その性能を評価しているが、本発明の技術的範囲は、これらの例にのみに制限されない
以下、D−Aポリマーの好ましい具体例を示す。
本形態の共役系高分子化合物の分子量は特に制限はないが、共役系高分子化合物に良好なモルフォロジーを与えるためには、適度な分子量を有することが好ましい。具体的には、共役系高分子化合物の数平均分子量が13000〜50000であることがより好ましく、15000〜35000であることがさらにより好ましく、15000〜30000特に好ましい。特に、本形態の共役系高分子化合物をp型有機半導体として用いてバルクヘテロジャンクション型の光電変換層を構成する場合、n型有機半導体として低分子化合物(例えば、フラーレン誘導体)が広く用いられているが、p型有機半導体として用いられる共役系高分子化合物の分子量が上記範囲内であると、ミクロ相分離構造が良好に形成されるため、pn接合界面で発生した正孔と電子とを運ぶキャリアパスが形成されやすくなる。本明細書における数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC;標準物質ポリスチレン)で測定することができる。
上述の本形態の共役系高分子化合物を有機光電変換素子の少なくとも一部に用いることにより、優れた耐久性を有するとともに、十分な光電変換効率を発揮する素子とすることができる。特に、当該共役系高分子化合物を光電変換層に用いられるp型有機半導体として用いることが好ましい。すなわち、本発明の好ましい一形態に係る有機光電変換素子は、第一の電極と、第二の電極と、第一の電極および第二の電極の間に存在する、n型有機半導体および上述のp型有機半導体を含む光電変換層と、を含み、当該p型有機半導体は、上述の共役系高分子化合物を含む。当該有機光電変換素子は、p型有機半導体として上述の共役系高分子化合物を用いるため、光電変換層中でn型有機半導体と良好なモルフォロジーを形成・維持することができ、優れた耐久性と、十分な光電変換効率を発揮することが可能となる。
以下、添付した図面を参照しながら本形態を説明するが、本発明の技術的範囲は、特許請求の範囲の記載により定められるべきものであり、以下の形態のみに制限されない。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。また、図面の寸法比率は、説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。
図1は、本発明の一実施形態に係る、順層型の有機光電変換素子を模式的に表した断面概略図である。具体的には、図1の有機光電変換素子10は、基板25上に、陽極(透明電極)11、正孔輸送層26、光電変換層14、電子輸送層27、および陰極(対電極)12がこの順に積層されてなる構成を有する。なお、基板25は、主に、その上の陽極(透明電極)11を塗布方式で形成するのを容易にするために任意に設けられる部材である。
図1に示す有機光電変換素子10の作動時において、光は基板25側から照射される。本実施形態において、陽極(透明電極)11は、照射された光が光電変換層14へと届くようにするため、透明な電極材料(例えば、ITO)で構成される。基板25側から照射された光は、透明な陽極(透明電極)11および正孔輸送層26を経て光電変換層14へと届く。
なお、正孔輸送層26は、正孔の移動度が高い材料で形成されており、光電変換層14のpn接合界面で生成した正孔を効率よく陽極(透明電極)11へと輸送する機能を担っている。一方、電子輸送層27は、電子の移動度が高い材料で形成されており、光電変換層14のpn接合界面で生成した電子を効率よく陰極(対電極)12へと輸送する機能を担っている。
図2は、本発明の他の一実施形態に係る、逆層型の有機光電変換素子を模式的に表した断面概略図である。図2の有機光電変換素子20は、図1の有機光電変換素子10と比較して、陽極11と陰極12とが逆の位置に配置され、また、正孔輸送層26と電子輸送層27とが逆の位置に配置されている点が異なる。すなわち、逆層型の有機光電変換素子は、第一の電極が陰極(透明電極)12であり、第二の電極が陽極(対電極)11であり、第二の電極および光電変換層14の間に正孔輸送層26が含まれる点に特徴を有する。図2の有機光電変換素子20は、基板25上に、陰極(透明電極)12、電子輸送層27、光電変換層14、正孔輸送層26、および陽極(対電極)11がこの順に積層されてなる構成を有している。このような構成を有することにより、光電変換層14のpn接合界面で生成される電子は電子輸送層27を経て陰極(透明電極)12へと輸送され、正孔は正孔輸送層26を経て陽極(対電極)11へと輸送される。
図3は、本発明の他の一実施形態に係る、タンデム型(多接合型)の光電変換層を備えた有機光電変換素子を模式的に表した断面概略図である。図3の有機光電変換素子30は、図1の有機光電変換素子10と比較して、光電変換層14に代えて、第1の光電変換層14aと、第2の光電変換層14bと、これら2つの光電変換層の間に介在する電荷再結合層38との積層体が配置されている点が異なる。図3に示すタンデム型の有機光電変換素子30では、第1の光電変換層14aおよび第2の光電変換層14bに、それぞれ吸収波長の異なる光電変換材料(p型有機半導体およびn型有機半導体)を用いることにより、より広い波長域の光を効率よく電気に変換することが可能となる。
以下、本発明に係る有機光電変換素子の各構成について詳細に説明する。
[電極]
本形態の有機光電変換素子は、第一の電極および第二の電極を必須に含む。第一の電極および第二の電極は、各々、陽極または陰極として機能する。本明細書において、「第一の」および「第二の」とは、陽極または陰極としての機能を区別するための用語である。したがって、第一の電極が陽極として機能し、第二の電極が陰極として機能する場合もあるし、逆に、第一の電極が陰極として機能し、第二の電極が陽極として機能する場合もある。上述したように、光電変換層14で生成されるキャリア(正孔・電子)は、電極間を移動し、正孔は陽極12へ、電子は陰極16へと到達する。なお、本発明においては主に正孔が流れる電極を陽極と呼び、主に電子が流れる電極を陰極と呼ぶ。また、タンデム構成をとる場合には電荷再結合層(中間電極)を用いることでタンデム構成を達成することができる。さらに、電極が透光性を有するものであるか否かという機能面から、透光性を有する電極を透明電極と呼び、透光性のない電極を対電極と呼び分ける場合もある。順層構成の場合、通常、陽極は透光性のある透明電極であり、陰極は透光性のない対電極である。
本形態の電極に使用される材料は、光電変換素子として駆動する限りにおいては特に制限はなく、本技術分野で使用されうる電極材料を適宜採用することができる。なかでも、陽極は陰極と比較して相対的に仕事関数が大きい材料から構成されることが好ましく、逆に陰極は陽極と比較して相対的に仕事関数が小さい材料から構成から構成されることが好ましい。
上述の図1に示す順層型の有機光電変換素子10における陽極11は、相対的に仕事関数が大きく、透明な(380〜800nmの光を透過可能な)電極材料から構成されることが好ましい。一方、陰極12は、相対的に仕事関数が小さく(例えば、4eV以下)、通常、透光性の低い電極材料から構成されうる。
このような、順層型の有機光電変換素子10において、陽極(透明電極)に使用される電極材料としては、例えば、金、銀、白金などの金属;インジウム・スズ酸化物(ITO)、SnO、ZnOなどの透明な導電性金属酸化物;金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブなどの炭素材料などが挙げられる。また、陽極の電極材料として導電性高分子を用いることも可能である。陽極に使用されうる導電性高分子としては、例えば、PEDOT:PSS、ポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリチエニレンビニレン、ポリアズレン、ポリイソチアナフテン、ポリカルバゾール、ポリアセチレン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリアセン、ポリフェニルアセチレン、ポリジアセチレン、ポリナフタレンおよびこれらの誘導体などが挙げられる。これらの電極材料は、1種のみを単独で使用してもよいし、2種以上の材料を混合して使用してもよい。また、各材料からなる層を2種以上積層させて電極を構成することも可能である。なお、陽極(透明電極)の厚さは特に制限はないが、通常10nm〜10μm、好ましくは100nm〜1000nmである。
一方、順層型の有機光電変換素子において、陰極(対電極)に使用される電極材料としては、金属、合金、電子電導性化合物、およびこれらの混合物が使用されうる。具体的には、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al)混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、希土類金属、金、銀、白金などの金属などが挙げられる。このうち、電子の取り出し性能や、酸化などに対する耐久性の観点から、仕事関数が低い第一の金属と、第一の金属よりも仕事関数が大きく安定な金属である第二の金属との混合物、例えば、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al)混合物、リチウム/アルミニウム混合物や、安定な金属であるアルミニウムなどを用いることが好ましい。また、これらの材料のうち金属を用いることも好ましく、これにより、第一の電極側から入射し光電変換層で吸収されずに透過した光を、第二の電極で反射させて光電変換に再利用することができ、光電変換効率を向上させることが可能である。これらの電極材料は、1種のみを単独で使用してもよいし、2種以上の材料を混合して使用してもよい。また、各材料からなる層を2種以上積層させて電極を構成することも可能である。なお、陰極(対電極)の厚さは特に制限はないが、通常10nm〜5μm、好ましくは50〜200nmである。
また、図2に示す逆層型の有機光電変換素子では、光が入射する基板25側に陰極12が位置し、反対側に陽極11が位置する。したがって、図2に示す逆層型の形態における陽極11は、相対的に仕事関数が大きく、通常、透光性の低い電極材料から構成されることが好ましい。一方、陰極12は、相対的に仕事関数が小さく、透明な電極材料から構成される。
逆層型の有機光電変換素子において、陰極(透明電極)に使用される電極材料としては、例えば、金、銀、銅、白金、ロジウム、ルテニウム、アルミニウム、マグネシウム、インジウムなどの金属、金属化合物、および合金;カーボンナノ粒子、カーボンナノワイヤー、カーボンナノ構造体などの炭素材料;が挙げられる。このうち、インジウム・スズ酸化物(ITO)などの透明な導電性金属酸化物を用いることが好ましい。これらの電極材料は、1種のみを単独で使用してもよいし、2種以上の材料を混合して使用してもよい。また、各材料からなる層を2種以上積層させて電極を構成することも可能である。このうち、カーボンナノワイヤーを用いることにより、透明で導電性の高い陰極を塗布法により形成できるため好ましい。また、金属系の材料を使用する場合、陽極(対電極)と対向する側に、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、銀、銀化合物などを用いて、1〜20nm程度の厚さの補助電極を作製した後、上述の順層型の有機光電変換素子の陽極(透明電極)材料として例示した導電性高分子の膜を設けることで、陰極(透明電極)とすることができる。なお、陰極(透明電極)の厚さは特に制限はないが、通常10nm〜10μm、好ましくは100nm〜1μmである。
一方、逆層型の有機光電変換素子において、陽極(対電極)に使用される電極材料は、上記陰極(透明電極)よりも相対的に仕事関数が大きい電極材料であることが好ましい。一例を挙げると、銀、ニッケル、モリブデン、金、白金、タングステン、および銅などの金属材料を用いて陽極(対電極)が形成されうる。なお、陽極(対電極)の厚さは特に制限はないが、通常10nm〜5μm、好ましくは100〜1000nmである。
前述のとおり、本発明においては、酸素や水分等で劣化しにくい材料を陽極・陰極の双方に用いることができる、図2の逆層型の有機光電変換素子であることが好ましい。このように逆層型の有機光電変換素子とすることで、対極の酸化に起因する素子の劣化を大幅に抑制することができ、順層型の素子よりも更に高い安定性を提供できる。すなわち、本発明の有機光電変換素子は、前記第一の電極は透明電極であり、前記第二の電極は対電極であり、および前記光電変換層と前記第二の電極との間に、さらに正孔輸送層を有する、逆層型の有機光電変換素子であることが好ましい。逆層構成において好ましい陽極・陰極の組合せの例としては、例えば、
1) 第1電極(陰極)ITO, 第2電極(陽極)銀
2) 第1電極(陰極)PEDOT:PSS, 第2電極(陽極)銀
3) 第1電極(陰極)ITO, 第2電極(陽極)銅
4) 第1電極(陰極)PEDOT:PSS, 第2電極(陽極)金
5) 第1電極(陰極)ITO, 第2電極(陽極)PEDOT:PSS
等を挙げることができる。
[光電変換層]
光電変換層は、光起電力効果を利用して光エネルギーを電気エネルギーに変換する機能を有する。本形態の有機光電変換素子は、光電変換層に、n型有機半導体および上述の共役系高分子化合物をp型有機半導体として必須に含む点に特徴を有する。これらの光電変換材料に光が吸収されると、励起子が発生し、これがpn接合界面において、正孔と電子とに電荷分離される。
本形態の光電変換層は、上述の共役系高分子化合物を必須に含み、必要に応じて、他のp型有機半導体材料を含みうる。他のp型有機半導体材料の一例を以下に示す。
縮合多環芳香族低分子化合物としては、例えば、アントラセン、テトラセン、ペンタセン、ヘキサセン、へプタセン、クリセン、ピセン、フルミネン、ピレン、ペロピレン、ペリレン、テリレン、クオテリレン、コロネン、オバレン、サーカムアントラセン、ビスアンテン、ゼスレン、ヘプタゼスレン、ピランスレン、ビオランテン、イソビオランテン、サーコビフェニル、アントラジチオフェン等の化合物、ポルフィリンや銅フタロシアニン、テトラチアフルバレン(TTF)−テトラシアノキノジメタン(TCNQ)錯体、ビスエチレンジチオテトラチアフルバレン(BEDTTTF)−過塩素酸錯体、およびこれらの誘導体や前駆体が挙げられる。
また上記の縮合多環を有する誘導体の例としては、国際公開第03/16599号パンフレット、国際公開第03/28125号パンフレット、米国特許第6,690,029号明細書、特開2004−107216号公報等に記載の置換基をもったペンタセン誘導体、米国特許出願公開第2003/136964号明細書等に記載のペンタセンプレカーサ、J.Amer.Chem.Soc.,vol127.No14.4986、J.Amer.Chem.Soc.,vol.123、p9482、J.Amer.Chem.Soc.,vol.130(2008)、No.9、2706等に記載のトリアルキルシリルエチニル基で置換されたアセン系化合物等が挙げられる。
共役系ポリマーとしては、例えば、ポリ3−ヘキシルチオフェン(P3HT)等のポリチオフェンおよびそのオリゴマー、またはTechnical Digest of the International PVSEC−17,Fukuoka,Japan,2007,P1225に記載の重合性基を有するようなポリチオフェン、Nature Material,(2006)vol.5,p328に記載のポリチオフェン−チエノチオフェン共重合体、WO2008000664に記載のポリチオフェン−ジケトピロロピロール共重合体、Adv Mater,2007p4160に記載のポリチオフェン−チアゾロチアゾール共重合体,Nature Mat.vol.6(2007),p497に記載のPCPDTBT等のようなポリチオフェン共重合体、ポリピロールおよびそのオリゴマー、ポリアニリン、ポリフェニレンおよびそのオリゴマー、ポリフェニレンビニレンおよびそのオリゴマー、ポリチエニレンビニレンおよびそのオリゴマー、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリシラン、ポリゲルマン等のσ共役系ポリマー、等のポリマー材料が挙げられる。
また、ポリマー材料ではなくオリゴマー材料としては、チオフェン6量体であるα−セクシチオフェンα,ω−ジヘキシル−α−セクシチオフェン、α,ω−ジヘキシル−α−キンケチオフェン、α,ω−ビス(3−ブトキシプロピル)−α−セクシチオフェン等のオリゴマーが好適に用いることができる。
これらの化合物の中でも、溶液プロセスが可能な程度に有機溶剤への溶解性が高く、かつ乾燥後は結晶性薄膜を形成し、高い移動度を達成することが可能な化合物が好ましい。より好ましくは、本発明で好ましく使用されうるn型有機半導体材料であるフラーレン誘導体と適度な相溶性を有するような化合物(適度な相分離構造形成し得る化合物)であることが好ましい。
また、バルクへテロジャンクション層上にさらに溶液プロセスで電子輸送層や正孔ブロック層を形成する際には、一度塗布した層の上にさらに塗布することができれば、容易に積層することができるが、通常溶解性のよい材料からなる層の上にさらに層を溶液プロセスによって積層使用とすると、下地の層を溶かしてしまうために積層することができないという課題を有していた。したがって、溶液プロセスで塗布した後に不溶化できるような材料が好ましい。
このような材料としては、Technical Digest of the International PVSEC−17,Fukuoka,Japan,2007,P1225に記載の重合性基を有するようなポリチオフェンのような、塗布後に塗布膜を重合架橋して不溶化できる材料、または米国特許出願公開第2003/136964号、および特開2008−16834等に記載されているような、熱等のエネルギーを加えることによって可溶性置換基が反応して不溶化する(顔料化する)材料などを挙げることができる。
なお、本形態の光電変換層に含まれるp型有機半導体は、上述の共役系高分子化合物を含む限りにおいては、上記他のp型有機半導体材料の含有量は特に制限はない。ただし、より高い光電変換効率を達成するためには、光電変換層に含まれるp型有機半導体の総量(光電変換層が2層以上含まれる場合には、全ての層における総量)に対して、上述の共役系高分子化合物の割合が多いほど好ましい。具体的には、p型有機半導体の総量に対する当該共役系高分子化合物の割合が、50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましく、90質量%以上であることがさらに好ましく、95質量%以上であることが特に好ましく、100質量%であることが最も好ましい。
一方、本形態の光電変換層に使用されるn型有機半導体も、前記p型有機半導体に対してアクセプター性(電子受容性)の有機化合物であれば特に制限はなく、本技術分野で使用されうる材料を適宜採用することができる。このような化合物としては、例えば、フラーレン、カーボンナノチューブ、オクタアザポルフィリンなど、上記p型有機半導体の水素原子をフッ素原子に置換したパーフルオロ体(例えば、パーフルオロペンタセンやパーフルオロフタロシアニンなど)、ナフタレンテトラカルボン酸無水物、ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド、ペリレンテトラカルボン酸無水物、ペリレンテトラカルボン酸ジイミドなどの芳香族カルボン酸無水物やそのイミド化物を骨格として含む高分子化合物などが挙げられる。
このうち、p型有機半導体と高速(〜50fs)かつ効率的に電荷分離を行うことができるという観点から、フラーレンもしくはカーボンナノチューブまたはこれらの誘導体を用いることが好ましい。より具体的には、フラーレンC60、フラーレンC70、フラーレンC76、フラーレンC78、フラーレンC84、フラーレンC240、フラーレンC540、ミックスドフラーレン、フラーレンナノチューブ、多層カーボンナノチューブ、単層カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン(円錐型)など、およびこれらの一部が水素原子、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、置換されたまたは非置換の、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、シリル基、エーテル基、チオエーテル基、アミノ基などによって置換されたフラーレン誘導体が挙げられる。
特に、[6,6]−フェニルC61−ブチリックアシッドメチルエステル(略称PCBM,PC61BM)、[6,6]−フェニルC61−ブチリックアシッド−nブチルエステル(PCBnB)、[6,6]−フェニルC61−ブチリックアシッド−イソブチルエステル(PCBiB)、[6,6]−フェニルC61−ブチリックアシッド−nヘキシルエステル(PCBH)、[6,6]−フェニルC71−ブチリックアシッドメチルエステル(略称PC71BM)、Adv.Mater.,vol.20(2008),p2116に記載のbis−PCBM、特開2006−199674号公報に記載のアミノ化フラーレン、特開2008−130889号公報に記載のメタロセン化フラーレン、米国特許第7,329,709号明細書に記載の環状エーテル基を有するフラーレンなどのような、置換基により溶解性が向上されてなるフラーレン誘導体を用いることが好ましい。なお、本形態において、n型有機半導体は、1種のみを単独で使用してもよいし、2種以上を併用しても構わない。
本形態の光電変換層における、p型有機半導体およびn型有機半導体の接合形態は、特に制限はなく、平面へテロ接合であってもよいし、バルクへテロ接合(バルクヘテロジャンクション)であってもよい。平面ヘテロ接合とは、p型有機半導体を含むp型有機半導体層と、n型有機半導体を含むn型有機半導体層とが積層され、これら2つの層が接触する面がpn接合界面となる接合形態である。一方、バルクヘテロジャンクションとは、p型有機半導体とn型有機半導体との混合物を塗布することにより形成され、この単一の層中において、p型有機半導体のドメインとn型有機半導体のドメインとがミクロ相分離構造をとっている。したがって、バルクヘテロジャンクションでは、平面へテロ接合と比較して、pn接合界面が層全体にわたって数多く存在することになる。よって、光吸収により生成した励起子の多くがpn接合界面に到達できることになり、電荷分離に至る効率を高めることができる。このような理由から、本形態の光電変換層における、p型有機半導体とn型有機半導体との接合は、バルクヘテロジャンクションであることが好ましい。
また、バルクヘテロジャンクション層は、通常の、p型有機半導体材料とn型有機半導体層が混合されてなる単一の層(i層)からなる場合の他に、当該i層がp型有機半導体からなるp層およびn型有機半導体からなるn層により挟持されてなる3層構造(p−i−n構造)を有する場合がある。このようなp−i−n構造は、正孔および電子の整流性がより高くなり、電荷分離した正孔・電子の再結合等によるロスが低減され、一層高い光電変換効率を得ることができる。
本発明において、光電変換層に含まれるp型有機半導体とn型有機半導体との混合比は、質量比で20:80〜80:20の範囲が好ましく、より好ましくは30:70〜50:50の範囲であり、最も好ましい比率は33:67〜40:60である。また、光電変換層1層の膜厚は、好ましくは50〜400nmであり、より好ましくは80〜300nmであり、特に好ましくは100〜250nmであり、最も好ましくは150〜200nmである。一般に、より多くの光を吸収させる観点から、光電変換層の膜厚は大きい方が好ましいが、膜厚が大きくなるとキャリア(正孔・電子)の取り出し効率が低下するために光電変換効率が低下する傾向がある。しかしながら、上述の本形態の共役系高分子をp型有機半導体材料として用いて光電変換層を形成すると、従来のp型有機半導体材料を用いた光電変換層と比較して、100nm以上の膜厚とした場合であってもキャリア(正孔・電子)の取り出し効率が低下しにくいため、高い光電変換効率を維持することができる。
(基板)
本発明の有機光電変換素子は、必要に応じて基板を含みうる。基板は、電極を塗布方式で形成する場合における、塗布液の被塗布部材としての役割を有する。
基板側から光電変換される光が入射する場合、基板はこの光電変換される光を透過させることが可能な、即ちこの光電変換すべき光の波長に対して透明な部材であることが好ましい。基板は、例えば、ガラス基板や樹脂基板等が好適に挙げられるが、軽量性と柔軟性の観点から透明樹脂フィルムを用いることが望ましい。
本発明で透明基板として好ましく用いることができる透明樹脂フィルムには特に制限がなく、その材料、形状、構造、厚み等については公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、変性ポリエステル等のポリエステル系樹脂フィルム、ポリエチレン(PE)樹脂フィルム、ポリプロピレン(PP)樹脂フィルム、ポリスチレン樹脂フィルム、環状オレフィン系樹脂等のポリオレフィン類樹脂フィルム、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂フィルム、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)樹脂フィルム、ポリサルホン(PSF)樹脂フィルム、ポリエーテルサルホン(PES)樹脂フィルム、ポリカーボネート(PC)樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、アクリル樹脂フィルム、トリアセチルセルロース(TAC)樹脂フィルム等を挙げることができるが、可視域の波長(380〜800nm)における透過率が80%以上である樹脂フィルムであれば、本発明に係る透明樹脂フィルムに好ましく適用することができる。なかでも透明性、耐熱性、取り扱いやすさ、強度およびコストの点から、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリカーボネートフィルムであることが好ましく、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルムであることがより好ましい。
本発明に用いられる透明基板には、塗布液の濡れ性や接着性を確保するために、表面処理を施すことや易接着層を設けることができる。表面処理や易接着層については従来公知の技術を使用できる。例えば、表面処理としては、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理等の表面活性化処理を挙げることができる。また、易接着層としては、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ビニル系共重合体、ブタジエン系共重合体、アクリル系共重合体、ビニリデン系共重合体、エポキシ系共重合体等を挙げることができる。
また、酸素および水蒸気の透過を抑制する目的で、透明基板にはバリアコート層が予め形成されていてもよいし、透明導電層を転写する反対側にはハードコート層が予め形成されていてもよい。
[正孔輸送層]
本形態の有機光電変換素子は、必要に応じて正孔輸送層を含みうる。正孔輸送層は、正孔を輸送する機能を有し、かつ電子を輸送する能力が著しく小さい(例えば、正孔の移動度の10分の1以下)という性質を有する。正孔輸送層は、光電変換層と陽極との間に設けられ、正孔を陽極へと輸送しつつ、電子の移動を阻止することで、電子と正孔とが再結合するのを防ぐことができる。
正孔輸送層に用いられる正孔輸送材料は、特に制限はなく、本技術分野で使用されうる材料を適宜採用することができる。一例を挙げると、例えば、スタルクヴイテック社製、商品名BaytronP等のPEDOT:PSS、欧州特許第1647566号等に記載のポリチエノチオフェン類、特開2010−206146号に記載のスルホン化ポリチオフェン類、ポリアニリンおよびそのドープ材料、国際公開第2006/019270号パンフレット等に記載のシアン化合物などが挙げられる。
また、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、およびピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、また導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマーなどもまた、用いられうる。
また、これら以外にも、ポルフィリン化合物、芳香族第3級アミン化合物、およびスチリルアミン化合物などが使用可能であり、これらのうちでは、芳香族第3級アミン化合物を用いることが好ましい。なお、場合によっては、モリブデン、バナジウム、タングステンなどの金属酸化物やその混合物などの無機化合物を用いて正孔輸送層を形成してもよい。
さらに上記化合物に含まれる構造単位を高分子鎖に導入した、あるいは、上記化合物を高分子の主鎖とした高分子材料を正孔輸送材料として用いることもできる。また、特開平11−251067号公報、J.Huang et.al.,Applied Physics Letters,80(2002),p.139に記載されているような、p型正孔輸送材料を用いることもできる。さらに、不純物をドープしたp性の高い正孔輸送材料を用いることもできる。一例を挙げると、特開平4−297076号公報、特開2000−196140号公報、特開2001−102175号公報、J.Appl.Phys.,95,5773(2004)などに記載された材料が挙げられる。なお、これらの正孔輸送材料は、1種のみを単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。また、各材料からなる層を2種以上積層させて正孔輸送層を構成することも可能である。
正孔輸送層の厚さは、特に制限はないが、通常1〜2000nmである。リーク防止効果をより高める観点からは、厚さは5nm以上であることが好ましい。また、高い透過率と低い抵抗を維持する観点からは、厚さは1000nm以下であることが好ましく、200nm以下であることがより好ましい。
正孔輸送層の導電率は、一般的に高い方が好ましいが、高くなりすぎると電子が移動するのを阻止する能力が低下し、整流性が低くなりうる。したがって、正孔輸送層の導電率は、10−5〜1S/cmであることが好ましく、10−4〜10−2S/cmであることがより好ましい。
[電子輸送層]
本形態の有機光電変換素子は、必要に応じて電子輸送層を含みうる。電子輸送層は、電子を輸送する機能を有し、かつ正孔を輸送する能力が著しく小さいという性質を有する。電子輸送層は、光電変換層と陰極との間に設けられ、電子を陰極へと輸送しつつ、正孔の移動を阻止することで、電子と正孔とが再結合するのを防ぐことができる。
電子輸送層に用いられる電子輸送材料は、特に制限はなく、本技術分野で使用されうる材料を適宜採用することができる。例えば、オクタアザポルフィリン、p型有機半導体のパーフルオロ体(パーフルオロペンタセンやパーフルオロフタロシアニン等)を用いることができるが、同様に、光電変換層に用いられるp型有機半導体のHOMO準位よりも深いHOMO準位を有する電子輸送層には、光電変換層で生成した正孔を陰極側には流さないような整流効果を有する、正孔ブロック機能が付与される。よって、より好ましくは、n型有機半導体のHOMO準位よりも深い材料が電子輸送材料として用いられる。このような電子輸送材料としては、バソキュプロイン等のフェナントレン系化合物、ナフタレンテトラカルボン酸無水物、ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド、ペリレンテトラカルボン酸無水物、ペリレンテトラカルボン酸ジイミド等のn型有機半導体、および酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ガリウム等のn型無機酸化物およびフッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化セシウム等のアルカリ金属化合物等が用いられうる。また、光電変換層に用いたn型有機半導体単体からなる層を用いることもできる。なお、これらの電子輸送材料は、1種のみを単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。また、各材料からなる層を2種以上積層させて電子輸送層を構成することも可能である。
なお、前述のように耐久性の観点で有利な逆層型の素子とする場合には、第一の電極上に電子輸送層を形成した後に光電変換層が形成されるため、光電変換材料を含む塗布液に対して不溶である化合物が電子輸送材料として好ましい。そのような観点から、電子輸送材料は、酸化チタンや酸化亜鉛といった無機物、および国際公開2008−134492号パンフレットに記載のポリエチレンイミンやアミノシランカップリング剤のような架橋可能な有機物であることが好ましい。中でもアミノシランカップリング剤(一例を挙げると、3−(2−アミノエチル)−アミノプロピルトリメトキシシラン)を用いることが好ましい。
また、光電変換層を塗布する際に使用する溶剤に対して不溶な材料としては、アルコール類に可溶なπ共役高分子等を挙げることができ、APPLIED PHYSICS LETTERS 95(2009),p043301、Adv.Funct.Mat.,2010,p.1977、Adv.Mater.,2011,23,3086、J.Am.Chem.Soc.,2011,p.8416、Advanced Materials,2011(Vol 23,no.40),p4636−4643等に記載のポリフルオレン類、ポリチオフェン類等、および下記のポリフルオレン類を用いてもよい。これらのポリマーの場合、上記のシランカップリング剤等と異なり、順層構成、すなわち光電変換層上にも形成することができるために好ましい。また、ITO等の金属酸化物だけでなく、金、銀、銅などの金属電極に対しても電子輸送層・正孔ブロック層として機能させることができるため、順層構成においても酸化に安定な金属を陰極に用いることが可能となり、好ましい。
電子輸送層の厚さは、特に制限はないが、通常1〜2000nmである。リーク防止効果をより高める観点からは、厚さは3nm以上であることが好ましい。また、高い透過率と低い抵抗を維持する観点からは、厚さは100nm以下であることが好ましく、20nm以下であることがより好ましく、最も好ましくは5〜10nmである。
[電荷再結合層;中間電極]
図3で示すような、2以上の光電変換層を有するタンデム型(多接合型)の有機光電変換素子において、光電変換層間には、電荷再結合層(中間電極)が配置される。
電荷再結合層(中間電極)に用いられる材料は、導電性および透光性を併せ持つ材料であれば、特に制限はなく、上述の電極材料として例示した、ITO、AZO、FTO、酸化チタンなどの透明金属酸化物、Ag、Al、Auなどの金属、およびカーボンナノ粒子、カーボンナノワイヤーなどの炭素材料、PEDOT:PSS、ポリアニリンなどの導電性高分子化合物などが用いられうる。これらの材料は、1種のみを単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。また、各材料からなる層を2種以上積層させて電荷再結合層を構成することも可能である。
電荷再結合層の導電率は、高い変換効率を得る観点から、高いことが好ましく、具体的には、5〜50000S/cmであることが好ましく、100〜10,000S/cmであることがより好ましい。また、電荷再結合層の厚さは、特に制限はないが、1〜1000nmであることが好ましく、5〜50nmであることが好ましい。厚さが1nm以上とすることにより、膜面を平滑化することができる。一方、厚さが1000nm以下とすることにより、短絡電流密度Jsc(mA/cm)の低下を軽減することができる。
[その他の層]
本形態の有機光電変換素子は、上記の各部材(各層)の他に、光電変換効率の向上や、素子の寿命の向上のために、他の部材(他の層)をさらに設けてもよい。その他の部材としては、例えば、正孔注入層、電子注入層、励起子ブロック層、UV吸収層、光反射層、波長変換層などが挙げられる。また、上層に偏在した金属酸化物微粒子をより安定にするため等にシランカップリング剤等の層を設けてもよい。さらに本発明の光電変換層に隣接して金属酸化物の層を積層してもよい。
また、本発明の有機光電変換素子は、太陽光のより効率的な受光を目的として、各種の光学機能層を有していてもよい。光学機能層としては、例えば、反射防止膜、マイクロレンズアレイ等の集光層、陰極で反射した光を散乱させて再度発電層に入射させることができるような光拡散層等が挙げられる。
反射防止層としては、各種公知の反射防止層を設けることができるが、例えば、透明樹脂フィルムが二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムである場合は、フィルムに隣接する易接着層の屈折率を1.57〜1.63とすることで、フィルム基板と易接着層との界面反射を低減して透過率を向上させることができるのでより好ましい。屈折率を調整する方法としては、酸化スズゾルや酸化セリウムゾル等の比較的屈折率の高い酸化物ゾルとバインダー樹脂との比率を適宜調整して塗設することで実施できる。易接着層は単層でもよいが、接着性を向上させるためには2層以上の構成にしてもよい。
集光層としては、例えば、支持基板の太陽光受光側にマイクロレンズアレイ上の構造を設けるように加工したり、あるいは所謂集光シートと組み合わせたりすることにより特定方向からの受光量を高めたり、逆に太陽光の入射角度依存性を低減することができる。
マイクロレンズアレイの例としては、基板の光取り出し側に一辺が30μmでその頂角が90度となるような四角錐を2次元に配列する。一辺は10〜100μmが好ましい。これより小さくなると回折の効果が発生して色付き、大きすぎると厚みが厚くなり好ましくない。
また光散乱層としては、各種のアンチグレア層、金属または各種無機酸化物等のナノ粒子・ナノワイヤー等を無色透明なポリマーに分散した層等を挙げることができる。
<有機光電変換素子の製造方法>
上述の本形態の有機光電変換素子の製造方法は特に制限はなく、従来公知の手法を適宜参照することにより製造することができる。以下、図2に示すような逆層型の有機光電変換素子の製造方法を例に挙げて、本形態の有機光電変換素子の好ましい製造方法を説明する。ただし、当該製造方法における各工程は、逆層型の有機光電変換素子のみならず、図1に示すような順層型の有機光電変換素子や、図3に示すようなタンデム型の製造に適用可能である。
本形態の有機光電変換素子の製造方法は、陰極を形成する工程と、前記陰極の上に、p型有機半導体材料およびn型有機半導体材料を含む光電変換層を形成する工程と、前記光電変換層の上に、陽極を形成する工程とを含む。以下、本形態の有機光電変換素子の製造方法の各工程について、詳細に説明する。
本形態の製造方法では、まず、陰極を形成する。陰極を形成する方法は、特に制限はないが、操作の容易性や、ダイコータなどの装置を用いてロール・ツー・ロールで生産可能なことから、基板の上に、陰極の構成材料を含む液体を塗布し、乾燥させる方法であることが好ましい。またこれ以外にも、市販の薄膜状の電極材料をそのまま使用しても構わない。
上記で陰極を形成した後、必要に応じて、この陰極上に、電子輸送層を形成してもよい。電子輸送層を形成する手段としては、蒸着法、溶液塗布法のいずれであってもよいが、好ましくは溶液塗布法である。溶液塗布法を用いて電子輸送層を形成する場合には、上述した電子輸送材料を適当な溶剤に溶解・分散させた溶液を、適当な塗布法を用いて陰極上に塗布し、乾燥させればよい。
溶液塗布法に用いられる塗布法としては、キャスト法、スピンコート法、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、グラビアコート法、スプレーコーティング法、ディッピング(浸漬)コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法、インクジェット法、スクリーン印刷法、凸版印刷法、凹版印刷法、オフセット印刷法、フレキソ印刷法等の印刷法、Langmuir−Blodgett(LB)法等の通常の方法を用いることができる。なかでも、ブレードコーティング法を用いることが特に好ましい。なお、塗布法に使用する溶液の固形分濃度は、塗布方法や膜厚によっても変動しうるが、1〜15質量%が好ましく、より好ましくは1.5〜10質量%である。なお、塗布法で使用する溶液の溶液濃度は、塗布方法や膜厚によっても変動しうるが、0.01〜5質量%が好ましく、より好ましくは0.03〜0.3質量%である。また、なお、塗布の際の塗布液および/または塗布面の温度は、特に制限はないが、塗布・乾燥時の温度変動による析出、ムラを防ぐといった観点から、好ましくは30〜120℃であり、より好ましくは50〜110℃である。さらに、乾燥の具体的な形態についても特に制限はなく、従来公知の知見が適宜参照されうる。乾燥条件の一例を挙げると90〜140℃程度の温度で、数分間〜数十分間程度といった条件が例示され、より好ましくは120℃の温度で1分間乾燥という条件である。乾燥に使用する装置としては、ホットプレート、温風乾燥、赤外線ヒーター、マイクロウエーブ、真空乾燥機などが挙げられるが、これ以外の乾燥装置を用いることも勿論可能である。
続いて、上記で形成した陰極または電子輸送層上に、p型有機半導体およびn型有機半導体を含む光電変換層を形成する。ここで、本形態の製造方法は、p型有機半導体として、上述の本発明の共役系高分子化合物を必須に含む。光電変換層を形成するための具体的な手法について特に制限はないが、好ましくは、p型有機半導体およびn型有機半導体をそれぞれ、または一括して、適当な溶剤に溶解・分散させた溶液を、適当な塗布法(具体的な形態については、上述した通りである)を用いて陰極または電子輸送層上に塗布し、乾燥させればよい。なお、好ましくはp型有機半導体およびn型有機半導体を一括して溶剤に溶解・分散させた溶液を、塗布法により塗布する。その後、残留溶媒および水分、ガスの除去、および半導体材料の結晶化による移動度向上・吸収長波化のために加熱を行うことが好ましい。製造工程中において所定の温度でアニール処理されると、微視的に一部が凝集または結晶化が促進され、光電変換層を適切な相分離構造とすることができる。その結果、光電変換層の正孔と電子(キャリア)の移動度が向上し、高い効率を得ることができるようになる。このようにして、p型有機半導体およびn型有機半導体が一様に混合され、バルクヘテロジャンクション型の有機光電変換素子とすることができる。
一方、p型有機半導体とn型有機半導体の混合比の異なる複数層からなる光電変換層(例えば、p−i−n構造)を形成する場合には、一の層を塗布後に、当該層を不溶化(顔料化)し、その後、他の層を塗布することにより形成することが可能である。
なお、当該光電変換層を形成する工程以降は、酸素や水分に曝さないようにするために窒素雰囲気下のグローブボックス内で行うことが好ましい。このように、窒素雰囲気下で行うことにより、大気中の酸素または水分によりp型有機半導体が劣化するのを防ぎ、素子の耐久性を高めることができる。具体的には、前記グローブボックスの酸素および水分の濃度が1000ppm以下であることが好ましく、より好ましくは100ppm以下であることが好ましい。最も好ましくは10ppm以下である。
次に、上記で形成した光電変換層上に、陽極を形成する。陽極を形成するための手段についても特に制限はなく、蒸着法、溶液塗布法のいずれであってもよいが、好ましくは蒸着法(例えば、真空蒸着法)が用いられる。
なお、光電変換層と陽極との間に正孔輸送層を設ける場合には、蒸着法または溶液塗布法、好ましくは溶液塗布法を用いて、正孔輸送層が形成される。なお、当該正孔輸送層を形成する工程は、上記光電変換層を形成する工程と同様、窒素雰囲気下のグローブボックス内で行うことが好ましい。このように、窒素雰囲気下で行うことにより、大気中の酸素または水分により光電変換層が劣化するのを防ぎ、素子の耐久性を高めることができる。また、本発明に係る共役系高分子化合物は、極性基を有するため、高い溶媒親和性を有する。よって、溶液塗布法を用いて正孔輸送層を形成する場合、光電変換層の表面において正孔輸送材料を含む塗布溶液がはじかれるのを効果的に防ぐことができ、正孔輸送層の製膜性が向上しうる。
さらに、上述した各種の層以外の層が含まれる場合には、これらの層を形成するための工程を、溶液塗布法や蒸着法などを用いることで適宜追加して行うことができる。
上記電極(陰極・陽極)、光電変換層、正孔輸送層、電子輸送層等は、必要に応じてパターニングされうる。パターニングの方法は特に制限はなく、公知の手法を適宜適用することができる。例えば、バルクへテロジャンクション型の光電変換層や正孔輸送層・電子輸送層などで使用される可溶性の材料をパターニングする場合には、ダイコート、ディップコート等の全面塗布後に不要部だけ拭き取ってもよいし、インクジェット法やスクリーン印刷等の方法を使用して塗布時に直接パターニングしてもよい。一方、電極などで使用される不溶性の材料の場合は、真空蒸着法による堆積時にマスク蒸着を行ったり、エッチングまたはリフトオフなどの公知の方法によってパターニングすることができる。また、別の基板上に形成したパターンを転写することによってパターンを形成してもよい。
また、本形態の有機光電変換素子は、環境中の酸素、水分などによる劣化を防止するために、必要に応じて封止されうる。封止の方法は特に制限はなく、有機光電変換素子や有機エレクトロルミネッセンス素子などで用いられる公知の手法によって行われうる。例えば、(1)アルミニウムまたはガラスなどでできたキャップを接着剤によって接着することによって封止する手法;(2)アルミニウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウムなどのガスバリア層が形成されたプラスチックフィルムと有機光電変換素子上を接着剤で貼合する手法;(3)ガスバリア性の高い有機高分子材料(ポリビニルアルコールなど)をスピンコートする方法;(4)ガスバリア性の高い無機薄膜(酸化ケイ素、酸化アルミニウムなど)または有機膜(パリレン等)を真空下で堆積する方法;ならびに(5)これらを複合的に用いて積層する方法などが挙げられる。
<有機光電変換素子の用途>
本発明の他の形態によれば、上述の有機光電変換素子を有する太陽電池が提供される。本形態の有機光電変換素子は、優れた耐久性を有し、十分な光電変換効率を達成することができるため、これを発電素子とする太陽電池に好適に使用されうる。
また、本発明のさらに他の形態によれば、上述した有機光電変換素子がアレイ状に配列されてなる光センサアレイが提供される。すなわち、本形態の有機光電変換素子は、その光電変換機能を利用して、光センサアレイ上に投影された画像を電気的な信号に変換する光センサアレイとして利用することもできる。
本発明の作用効果を、以下の実施例および比較例を用いて説明する。ただし、本発明の技術的範囲が以下の実施例のみに制限されるわけではない。
(化合物1の合成)
化合物1は、米国特許出願公開第2010/137611号明細書を参考に合成した。
3−ブロモチオフェン−2−カルボキシアルデヒドを5.1g(27mmol)、ルベアン酸を0.73g(6.8mmol)取り、100mlのN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)に溶解して150℃で5時間撹拌した。反応を停止して室温(25℃、以下同様)まで戻した後、純水を加えて30分間撹拌した。析出した固体をろ過して回収し、メタノールで洗浄した後60℃で10時間真空乾燥した。テトラヒドロフラン(THF)に溶解させてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物1を1.2g(収率38%)得た。
(化合物2の合成)
化合物2は、J.Org.Chem.,1997,62,1376−1387を参考に合成した。
化合物1を1.0g(2.2mmol)脱水THF(テトラヒドロフラン)300mlに溶解し、−78℃に冷却した後にt−ブチルリチウム(t−BuLi)1.6Mヘキサン溶液を6.1ml(9.7mmol)滴下し、1時間撹拌した後にエチレンオキシド5.0Mエーテル溶液を1.5ml(2.4mmol)滴下し、徐々に室温まで戻しながら12時間撹拌した。反応終了後、食塩水と酢酸エチルを加えて分液操作を行い、有機層を抽出して硫酸マグネシウムで乾燥後に溶媒を留去した。その後シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物2を0.72g(収率83%)得た。
(化合物3の合成)
化合物3は、J.Am.Chem.Soc.,1987,109,1858−1859を参考に合成した。
化合物2を2.5g(6.4mmol)、メタンスルホニルクロライドを2.6ml(32mmol)、ヨウ化ナトリウム2.5g(16mmol)、亜硫酸ナトリウム2.0g(16mmol)を、300mlのアセトンに溶解して室温で3時間撹拌した。反応を停止した後、イオン交換クロマトグラフィーで精製して化合物3を2.9g(収率80%)得た。
(化合物4の合成)
化合物4は、Tetrahedron Letters,2009,50,7028−7031を参考に合した。
化合物3を2.5g(4.4mmol)、塩化チオニル5.5ml(75mmol)を、100mlのDMFに溶解して60℃で5時間撹拌した。反応を停止した後、水を加えて析出した固体をろ過することで化合物4を2.0g(収率83%)得た。
(化合物5の合成)
化合物5は、Org.Lett.2004,6,4285−4288を参考に合成した。
化合物4を2.5g(4.5mmol)取り、THF200mlに溶解して氷冷した。その反応容器にn−デカニルアミン1.7g(11mmol)、N,N−ジメチル−4−アミノピリジン(DMAP)0.054mg(0.45mmol)、トリエチルアミン1.5ml(11mmol)のTHF溶液50mlを加えて、徐々に室温に戻しながら24時間撹拌した。反応を停止した後、酢酸エチル、塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水を加えて分液操作を行い、有機相を抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物5を2.5g(収率70%)得た。
(化合物6の合成)
化合物5を2.0g(2.5mmol)と、N−ブロモスクシンイミド(NBS)1.3g(7.5mmol)とをTHF150mlに溶解し、窒素下70℃で6時間還流を行った。反応終了後、食塩水と酢酸エチルを加えて分液操作を行い、有機層を抽出して硫酸マグネシウムで乾燥後に溶媒を留去した。得られたオイル成分をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、化合物6を2.0g(収率84%)得た。
(例示化合物1(P−1)の合成)
ビス−(5,5’−トリメチルスタンニル)−3,3’−ジ−(2−エチルヘキシル)−シリレン−2,2’−ジチオフェンを、特表2010−507233号公報及びAdv.Mater.,2010,p−E63を参考として合成した。
化合物6を479mg(0.5mmol)と、ビス−(5,5’−トリメチルスタンニル)−3,3’−ジ−(2−エチルヘキシル)−シリレン−2,2’−ジチオフェン372mg(0.5mmol)を20mlの無水トルエンに溶解させた。この溶液を窒素でパージした後、12.55mg(0.014mmol)のトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)と、28.80mg(0.11mmol)のトリフェニルホスフィンとを加えた。この溶液をさらに15分間、窒素でパージした。その後、110〜120℃まで溶液を加熱し、40時間反応させた。さらにエンドキャップを行うため、2−トリブチルスズチオフェン(11mg、0.03mmol)を添加し、10時間還流した。さらに2−ブロモチオフェン(10mg、0.06mmol)を添加し、10時間還流した。反応完了後、溶媒を留去して生じた残渣を、メタノール(50ml、3回)で洗浄し、その後、アセトン(50ml、3回)で洗浄した。回収したポリマー生成物を、ヘプタン、クロロホルム、次いでオルトジクロロベンゼンを用いてソックスレー抽出により可溶成分を抽出し、メタノールに再沈殿を行うことで145mgの純粋なポリマー(Mn=20100)(例示化合物1)を得て、本発明の実施例1に使用した。
(例示化合物2(P−2)の合成)
例示化合物1の合成において、原料を化合物6およびビス−(5,5’−トリメチルスタンニル)−3,3’−ジ−(2−エチルヘキシル)−シリレン−2,2’−ジチオフェンを、1,5−ビス(トリメチルスズ)−4,8−ビス(2−エチルヘキシルオキシ)−ベンゾ[1,2−b:4,5−b’]ジチオフェン(J.Am.Chem.Soc.,2009,22,7792を参考として合成、0.5mmol、387mg)に変更した以外は同様にして行った。
オルトジクロロベンゼンのソックスレー抽出成分から200mgの例示化合物2(Mn=15400)を得て、本発明の実施例2に使用した。
(化合物7の合成)
化合物7は、国際公開第2011/069554号を参考に合成した。
3−チオフェンエタノール8.0g(38mmol)、無水酢酸(AcO)5.0g(49mmol)をピリジン100mlに溶解し、5時間撹拌した。反応終了後、食塩水と酢酸エチルを加えて分液操作を行い、有機層を抽出して硫酸マグネシウムで乾燥後に溶媒を留去して、化合物7を6.3g(収率97%)得た。
(化合物8の合成)
化合物7を6.0g(35mmol)を脱水THF100mlに溶解し、−78℃に冷却した後に、リチウムジイソプロピルアミド(LDA)2.0Mヘプタン溶液19.3ml(38.5mmol)を滴下し、1時間撹拌した後に塩化トリメチルスズの1.0Mヘキサン溶液を38.5ml(38.5mmol)滴下し、さらに1時間撹拌後、温度を室温に上げて3時間撹拌した。反応終了後、食塩水と酢酸エチルを加えて分液操作を行い、有機層を抽出して硫酸マグネシウムで乾燥後に溶媒を留去した。得られたオイル成分をヘキサン:トリエチルアミン=9:1に溶解し、事前にトリエチルアミンに浸漬処理したシリカゲルを通して精製を行い、化合物8を11.1g(収率95%)得た。
(化合物9の合成)
化合物aは、Angewandte Chemie International EditionVolume 50,Issue 13,2995−2998を参考に合成した。
化合物8を10.0g(29.9mmol)と、化合物aを4.1g(9.7mmol)と、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム1.1g(0.97mmol)とをトルエン100mlに溶解し、窒素下120℃で3時間還流を行った。反応終了後、反応溶液を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物9を3.89g(収率79%)得た。
(化合物10の合成)
化合物9を3.89g(7.7mmol)、THF50mlに溶解し、2M塩酸3mlを加えて5時間撹拌した。反応終了後、食塩水と酢酸エチルを加えて分液操作を行い、有機層を抽出して硫酸マグネシウムで乾燥後に溶媒を留去して、化合物10を2.6g(収率80%)得た。
(化合物11の合成)
化合物3,4,5,6の一連の合成において原料を化合物10に変更した以外は同様にして行い、化合物11を得た。
(例示化合物3(P−3)の合成)
例示化合物1の合成において原料を化合物6から化合物11(0.5mmol、495mg)に変更した以外は同様にして行った。オルトジクロロベンゼンのソックスレー抽出成分から220mgの例示化合物3(Mn=21000)を得て、本発明の実施例3に使用した。
(化合物12の合成)
化合物12は、J.Am.Chem.Soc.,1945,67,400−403を参考に合成した。
4−ヒドロキシ−2−ブタノンを9.5g(108mmol)、チオホルムアミドを6.6g(108mmol)取り、350mlのエタノールに溶解して0℃で24時間撹拌して、室温まで戻した後さらに48時間撹拌した。反応を停止して溶媒を留去した後、化合物12を3.5g(収率25%)得た。
(化合物13の合成)
化合物7の合成において原料を化合物12に変更した以外は同様にして行い、化合物13を得た。
(化合物14の合成)
化合物8の合成において原料を化合物13に変更した以外は同様にして行い、化合物14を得た。
(化合物15の合成)
化合物9の合成において原料を化合物14に変更した以外は同様にして行い、化合物15を得た。
(化合物16の合成)
化合物10の合成において原料を化合物15に変更した以外は同様にして行い、化合物16を得た。
(化合物17の合成)
化合物3,4,5,6の一連の合成において原料を化合物16に変更した以外は同様にして行い、化合物17を得た。
(例示化合物4(P−4)の合成)
例示化合物1の合成において原料を化合物6から化合物17(0.5mmol、495mg)に変更した以外は同様にして行った。オルトジクロロベンゼンのソックスレー抽出成分から190mgの例示化合物4(Mn=19000)を得て、本発明の実施例4に使用した。
(化合物18の合成)
化合物18は、J.Med.Chem.,1984,27,1559−1565を参考に合成した。
化合物2を1.5g(3.8mmol)と、ノニルイソシアナートを2.0g(12mmol)と、トリエチルアミン1mlとをジクロロメタン100mlに溶解し、室温で12時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物18を3.0g(収率80%)得た。
(化合物19の合成)
化合物6の合成において原料を化合物18に変更した以外は同様にして行い、化合物19を得た。
(例示化合物5(P−5)の合成)
例示化合物1の合成において原料を化合物6から化合物19(0.5mmol、445mg)に変更した以外は同様にして行った。オルトジクロロベンゼンのソックスレー抽出成分から200mgの例示化合物5(Mn=16500)を得て、本発明の実施例5に使用した。
(化合物20の合成)
化合物18の合成において原料を化合物10に変更した以外は同様にして行い、化合物20を得た。
(化合物21の合成)
化合物6の合成において原料を化合物20に変更した以外は同様にして行い、化合物21を得た。
(例示化合物6(P−6)の合成)
例示化合物2の合成において原料を化合物6から化合物21(0.5mmol、460mg)に変更した以外は同様にして行った。オルトジクロロベンゼンのソックスレー抽出成分から240mgの例示化合物6(Mn=15000)を得て、本発明の実施例6に使用した。
(化合物22の合成)
化合物22は、Org.Lett.2005,5,p945−947を参考に合成した。
3−チオフェンエタノールを1.5g(11mmol)と、クロロギ酸ノニルを2.3g(11mmol)と、トリエチルアミン1.5ml(11mmol)をジクロロメタン150mlに溶解し、室温で12時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物22を2.1g(収率63%)得た。
(化合物23の合成)
化合物8の合成において原料を化合物22に変更した以外は同様にして行い、化合物23を得た。
(化合物24の合成)
化合物bは、J.Am.Chem.Soc.,1997,119,5065−5066を参考に合成した。
化合物24は、化合物9の合成において原料を化合物23と化合物bに変更した以外は同様にして行い、化合物24を得た。
(化合物25の合成)
化合物6の合成において原料を化合物24に変更した以外は同様にして行い、化合物25を得た。
(例示化合物7(P−7)の合成)
例示化合物1の合成において原料を化合物6から化合物25(0.5mmol、508mg)に変更した以外は同様にして行った。オルトジクロロベンゼンのソックスレー抽出成分から160mgの例示化合物7(Mn=23000)を得て、本発明の実施例7に使用した。
(化合物26の合成)
化合物26は、Macromolecules.,2005,38,3679−3687を参考に合成した。
3−チオフェンエタノールを1.5g(11mmol)と、トリフェニルホスフィン2.9g(11mmol)をTHF100mlに溶解し、氷冷した。この溶液にテトラブロモメタン3.0g(9mmol)のTHF溶液を滴下して、0℃で6時間撹拌した。反応終了後、溶媒を留去した後、塩化メチレンに溶解させて、水酸化ナトリウム水溶液を加えて分液操作を行い、有機層を抽出して硫酸ナトリウムで乾燥後に溶媒を留去した。その後シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して化合物26を1.8g(収率85%)得た。
(化合物27の合成)
化合物27は、Macromolecules,2003,36,7114−7118を参考に合成した。
化合物26を1.6g(8.3mmol)と、トリブトキシホスフィンを9.0g(36mmol)を、150℃で24時間撹拌した。反応終了後、過剰のトリブトキシホスフィンを留去して、化合物27を2.0g(収率80%)得た。
(化合物28の合成)
化合物8の合成において原料を化合物27に変更した以外は同様にして行い、化合物28を得た。
(化合物29の合成)
化合物9の合成において原料を化合物28と化合物bに変更した以外は同様にして行い、化合物29を得た。
(化合物30の合成)
化合物6の合成において原料を化合物29に変更した以外は同様にして行い、化合物30を得た。
(例示化合物8(P−8)の合成)
例示化合物2の合成において原料を化合物6から化合物30(0.5mmol、514mg)変更した以外は同様にして行った。オルトジクロロベンゼンのソックスレー抽出成分から230mgの例示化合物8(Mn=21600)を得て、本発明の実施例8に使用した。
(化合物31の合成)
化合物cは、Bull.Chem.Soc.Jpn.,1991,64,68−73を参考に合成した。
化合物31は、化合物9の合成において原料を化合物8と化合物cに変更した以外は同様にして行い、化合物31を得た。
(化合物32の合成)
化合物10、17の一連の合成において原料を化合物31に変更した以外は同様にして行い、化合物32を得た。
(例示化合物9(P−9)の合成)
例示化合物1の合成において原料を化合物6から化合物32(0.5mmol、530mg)に変更した以外は同様にして行った。オルトジクロロベンゼンのソックスレー抽出成分から240mgの例示化合物9(Mn=20000)を得て、本発明の実施例9に使用した。
(例示化合物10(P−10)の合成)
例示化合物2の合成において原料を化合物6から化合物32(0.5mmol、530mg)に変更した以外は同様にして行った。オルトジクロロベンゼンのソックスレー抽出成分から210mgの例示化合物10(Mn=19800)を得て、本発明の実施例10に使用した。
(例示化合物21(P−21)の合成)
例示化合物P−2の合成において、ビス−(5,5’−トリメチルスタンニル)−3,3’−ジ−(2−エチルヘキシル)−シリレン−2,2’−ジチオフェンに代えて国際公開第2011/85004号に記載に従って合成した化合物33(0.5mmol、512mg)に変更した以外は同様にして、濃青色の例示化合物21を350mg(Mn=31000)を得て、本発明の実施例11に使用した。
(例示化合物22(P−22)の合成)
例示化合物P−9の合成において、ビス−(5,5’−トリメチルスタンニル)−3,3’−ジ−(2−エチルヘキシル)−シリレン−2,2’−ジチオフェンに代えて国際公開第2011/85004号に記載に従って合成した化合物33(0.5mmol、512mg)に変更した以外は同様にして、濃青色の例示化合物21を490mg(Mn=340000)を得て、本発明の実施例12に使用した。
(比較化合物1〜4の合成)
比較化合物1、2(特許文献2に基づいて合成)、比較化合物3(非特許文献4に基づいて合成)、比較化合物4(J.Phys.C.,2010,114,p17989−17994に基づいて合成)をそれぞれ合成した。各比較化合物の構造を下記化学式7に示す。
<逆層型の有機光電変換素子の作製>
国際公開2008−134492号パンフットの記載を参考に、以下のようにして逆層型の有機光電変換素子を作製した。
[実施例1]
PET基板上に、第一の電極(陰極)としてインジウム・スズ酸化物(ITO)透明導電膜150nm堆積したもの(シート抵抗12Ω/square cm)を、通常のフォトリソグラフィ技術と湿式エッチングとを用いて10mm幅にパターニングし、第一の電極を形成した。パターン形成した第一の電極を、界面活性剤と超純水による超音波洗浄、超純水による超音波洗浄の順で洗浄後、窒素ブローで乾燥させ、最後に紫外線オゾン洗浄を行った。これ以降は基板をグローブボックス中に持ち込み、窒素雰囲気下で作業した。
この第一の電極上に、Aldrich社製3−(2−アミノエチル)−アミノプロピルトリメトキシシランの0.05質量%メトキシエタノール溶液を、乾燥膜厚が約5nmになるようにブレードコーターを用いて塗布乾燥した。その後、ホットプレート上で120℃1分間の加熱処理をして、電子輸送層を製膜した。
次いで、o−ジクロロベンゼンに、p型有機半導体材料である例示化合物1を0.8質量%、n型有機半導体材料であるPC61BM(フロンティアカーボン製nanom spectra E100H)を1.6質量%で混合した溶液を調製し(p型有機半導体材料:n型有機半導体材料=33:67(質量比))、オーブンで110℃に加熱しながら一昼夜撹拌して溶解した後、乾燥膜厚が約200nmになるようにブレードコーターを用いて塗布し、80℃で2分間乾燥して、光電変換層を製膜した。
光電変換層の乾燥完了後、再び大気(Air)下に取り出し、次いで正孔輸送層として、導電性高分子及びポリアニオンからなるPEDOT−PSS(CLEVIOS(登録商標)P VP AI 4083、ヘレオス株式会社製、導電率1×10−3S/cm)を等量のイソプロパノールで希釈した液を調製し、乾燥膜厚が約30nmになるようにブレードコーターを用いて塗布乾燥した。その後、90℃の温風で20秒間加熱処理して、有機物からなる正孔輸送層(有機材料層)を形成した。なお塗布時の大気の温度・湿度は23℃65%であった。
次に、10mm幅のシャドウマスクが透明電極と直交するように素子をセットし、1×10−3Pa以下にまで真空蒸着装置内を減圧した後、蒸着速度0.5nm/秒でAgメタルを200nm積層して、第二の電極(陽極)を形成した。得られた積層体を窒素チャンバーに移動し、住友3M社製のUBF−9L(水蒸気透過率5.0xE−4g/m/d)の間に挟みこみ、UV硬化樹脂(ナガセケムテックス株式会社製、UV RESIN XNR5570−B1)を用いて封止を行った後に大気下に取り出し、受光部が約10×10mmサイズの有機光電変換素子を得た。
また、光電変換層を作製後、窒素雰囲気下のグローブボックス(GB)(酸素濃度10ppm、露点温度−80℃)から取り出すことなく、そのままグローブボックス内で正孔輸送層の形成を形成したことを除いては、同様の方法で逆層型の有機光電変換素子の作製を行った。
[実施例2〜12、比較例1〜4]
p型有機半導体材料として、例示化合物1に代えて、例示化合物2〜12、比較化合物1〜4それぞれを用いたことを除いて、上記実施例1と同様の方法で、有機光電変換素子を作製した。
<逆層型の有機光電変換素子の評価>
(開放電圧、曲線因子、および光電変換効率の評価)
上記有機光電変換素子を、それぞれエポキシ樹脂とガラスキャップとで封止した。これにソーラーシミュレーター(AM1.5Gフィルタ)を用いて100mW/cmの強度の光を照射し、有効面積を1cmにしたマスクを受光部に重ね、IV特性を評価することで、短絡電流密度Jsc(mA/cm)、開放電圧Voc(V)、および曲線因子FF測定した。得られたJsc、Voc、およびFFの値から、下記式1に従って光電変換効率η[%]を算出した。結果を表1に示す。
(光電変換層上への正孔輸送層の製膜性評価)
上記実施例1〜10および比較例1〜4について、逆層型の有機光電変換素子の作製をそれぞれ5回ずつ試みた。そして、光電変換層上に大気(Air)下または窒素雰囲気下のグローブボックス(GB)内で正孔輸送層を塗布する際に、光電変換層上で有機溶剤系PEDOT:PSSの分散液に含まれる親水系溶媒が光電変換層上で弾かれることなく、良好に正孔輸送層が形成された回数により製膜性を評価した。結果を表1に示す。
(耐久性評価)
上記実施例1〜12および比較例1〜4で得た有機光電変換素子を、温度80℃、湿度80%に保持した容器内に保存し、定期的に取りだしてIV特性を測定し、初期の光電変換効率を100として、初期の効率の80%の効率まで低下した時間をLT80[時間]として評価した。LT80の値が大きいほど、耐久性が良好であることを意味する。結果を表2に示す。
表2の結果より、本発明に係る特定の部分構造を有する共役系高分子化合物を用いた実施例1〜12は、比較例1〜4と比べて耐久性に優れ、かつ十分な光電変換効率を発揮することが示された。
素子の耐久性評価については、正孔輸送層を大気下で形成した場合およびグローブボックス内で形成した場合のいずれの実施例も、比較例よりも著しく耐久性が向上した。特に、極性基としてスルホンアミド基を導入した共役系高分子化合物を用いた実施例1〜4、9、10〜12は他の例よりも特に高い耐久性を示した。
さらに、酸素および水分が少ないグローブボックス内で正孔輸送層を形成した例は、大気下で正孔輸送層を形成した例と比較して、素子の耐久性がより一層向上することが示された。一方、極性基を導入していない比較例4は、グローブボックス内で正孔輸送層を塗布する際に、親水性溶媒が弾かれて製膜が著しく困難であったが、強い極性基を導入した実施例1〜12は、正孔輸送層の塗布性が良好で、かつ高い光電変換効率が得られることが示される。
さらに、本出願は、2011年12月22日に出願された日本特許出願番号2011−282048号に基づいており、その開示内容は、参照され、全体として、組み入れられている。

Claims (13)

  1. 下記化学式1で表される部分構造を有する共役系高分子化合物を含有する有機光電変換素子;
    式中、Xは、それぞれ独立して、酸素原子(O)、硫黄原子(S)、NR、またはCR=CRを表し、
    Wは、それぞれ独立して、CHまたは窒素原子(N)を表し、
    Lは、それぞれ独立して、炭素原子数1〜10の直鎖状または分枝状アルキレン基を表し、
    およびYは、それぞれ独立して、酸素原子(O)またはNRを表し、
    Zは、それぞれ独立して、炭素原子(C)、硫黄原子(S)、またはリン原子(P)を表し、
    前記R〜Rは、それぞれ独立して、水素原子(H)、炭素原子数1〜24の直鎖状もしくは分枝状アルキル基、炭素原子数3〜20のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20のアルケニル基、炭素原子数6〜30のアリール基、または炭素原子数1〜20のヘテロアリール基を表し、
    a、b、cは、それぞれ独立して、3≦a+b+c≦4かつ0≦a、b、c≦2の関係式を満たす整数を表す。
  2. 第一の電極と、
    第二の電極と、
    前記第一の電極および前記第二の電極の間に存在する、n型有機半導体およびp型有機半導体を含む光電変換層を含み、
    前記p型有機半導体は、前記化学式1で表される部分構造を有する共役系高分子化合物を含有する、請求項1に記載の有機光電変換素子。
  3. 前記Wは、CHを表す、請求項1または2に記載の有機光電変換素子。
  4. 前記YおよびYの少なくとも一方は、NRを表す、請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機光電変換素子。
  5. 前記Yは、NRを表す、請求項4に記載の有機光電変換素子。
  6. 前記Zは、硫黄原子(S)を表す、請求項1〜5のいずれか1項に記載の有機光電変換素子。
  7. 前記Xは、硫黄原子(S)を表す、請求項1〜6のいずれか1項に記載の有機光電変換素子。
  8. 前記共役系高分子化合物が、下記化学式2で表される部分構造を有する、請求項1〜7のいずれか1項に記載の有機光電変換素子;
    式中、Aは、それぞれ独立して、アクセプター性ユニットを表し、
    X、W、L、Y、Y、Z、R、a、b、およびcは、前記化学式1の規定と同様であり、
    pは、それぞれ独立して、1〜5の整数を表す。
  9. 前記共役系高分子化合物が、下記化学式3で表される部分構造を有する、請求項1〜8のいずれか1項に記載の有機光電変換素子;
    式中、Aは、それぞれ独立して、アクセプター性ユニットを表し、
    X、W、L、Y、Y、Z、R、a、b、およびcは、前記化学式1の規定と同様であり、
    pおよびqは、それぞれ独立して、1〜5の整数を表す。
  10. 前記共役系高分子化合物が、下記化学式4で表される部分構造を少なくとも1種含む、請求項1〜9のいずれか1項に記載の有機光電変換素子;
    式中、Aは、それぞれ独立して、アクセプター性ユニットを表し、
    Dは、それぞれ独立して、ドナー性ユニットを表し、
    X、W、L、Y、Y、Z、R、a、b、およびcは、前記化学式1の規定と同様であり、
    p、q、およびrは、それぞれ独立して、1〜5の整数を表す。
  11. 前記Aは下記化学式Aまたは化学式Bで表される、請求項8〜10のいずれか1項に記載の有機光電変換素子。
    式中、YおよびYは、それぞれ独立して、−O−、−NR−、−S−、−C(R)=C(R)−、−N=C(R)−、または−CR−を表し;
    〜Rは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の、炭素原子数1〜24のアルキル基、炭素原子数1〜24のフッ化アルキル基、炭素原子数3〜20のシクロアルキル基、炭素原子数3〜20のフッ化シクロアルキル基、炭素原子数1〜24のアルコキシ基、炭素原子数1〜24のフッ化アルコキシ基、炭素原子数1〜24のアルキルチオ基、炭素原子数1〜24のフッ化アルキルチオ基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数6〜30のフッ化アリール基、炭素原子数1〜20のヘテロアリール基、または炭素原子数1〜20のフッ化ヘテロアリール基を表し、この際、各RまたはRおよびRまたはRおよびRはそれぞれ、互いに結合して置換基を有してもよい環を形成してもよく、または、縮環していてもよい。
  12. 前記第一の電極は透明電極であり、前記第二の電極は対電極であり、前記第二の電極および前記光電変換層の間に正孔輸送層を含む、請求項1〜11のいずれか1項に記載の有機光電変換素子。
  13. 請求項1〜12のいずれか1項に記載の有機光電変換素子を有する、太陽電池。
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