JPWO2013031548A1 - ガラス板 - Google Patents

ガラス板 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2013031548A1
JPWO2013031548A1 JP2013531210A JP2013531210A JPWO2013031548A1 JP WO2013031548 A1 JPWO2013031548 A1 JP WO2013031548A1 JP 2013531210 A JP2013531210 A JP 2013531210A JP 2013531210 A JP2013531210 A JP 2013531210A JP WO2013031548 A1 JPWO2013031548 A1 JP WO2013031548A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chamfered
main plane
glass plate
curvature
radius
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013531210A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5382280B2 (ja
Inventor
出 鹿島
出 鹿島
裕介 小林
裕介 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to JP2013531210A priority Critical patent/JP5382280B2/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5382280B2 publication Critical patent/JP5382280B2/ja
Publication of JPWO2013031548A1 publication Critical patent/JPWO2013031548A1/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C19/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by mechanical means
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B1/00—Processes of grinding or polishing; Use of auxiliary equipment in connection with such processes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B9/00—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B9/00—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor
    • B24B9/02—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground
    • B24B9/06—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
    • B24B9/08—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain of glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133302—Rigid substrates, e.g. inorganic substrates
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133308—Support structures for LCD panels, e.g. frames or bezels
    • G02F1/133331—Cover glasses
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
    • Y10T428/24488—Differential nonuniformity at margin

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

【解決手段】主平面１１と、主平面１１に対して垂直な端面１３と、主平面１１と端面１３との間に形成され、主平面１１および端面１３に隣接する面取り面１５とを有するガラス板において、主平面１１および端面１３に対して垂直な断面において、面取り面１５は、主平面１１に対する傾きが４５?の直線Ｌ２０と接する接点Ｓ２０での曲率半径ｒ２が５０μｍ以上であり、且つ主平面１１に対する傾きが１５?の直線Ｌ１０と接する接点Ｓ１０での曲率半径ｒ１が２０〜５００μｍである。

Description

本発明は、ガラス板に関する。
近年、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどの画像表示装置向けにガラス板が量産されている。このガラス板は、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）やカラーフィルター（ＣＦ）などの機能層が形成されるガラス基板、またはディスプレイの美観や保護を高めるカバーガラスとして用いられる。
ところで、ガラス板が撓むとき、凹面となる主平面には圧縮応力が生じ、凸面となる主平面には引張応力が生じる。引張応力は、凸面となる主平面と、該主平面と隣接する端面との境界部に集中するので、この境界部に欠陥があると、ガラス板が破損しやすい。
そこで、境界部に面取り面が形成され、面取り面の表面粗さが端面の表面粗さよりも小さいガラス基板が提案されている（例えば、特許文献１参照）。このガラス基板によれば、破損が抑制されるとしている。
国際公開第１０／１０４０３９号パンフレット
特許文献１ではガラス板の品質が曲げ強度で評価されているが、衝撃破壊強度で評価することが適切な場合がある。例えば画像表示装置に組み込まれた後、ガラス板はほとんど曲がらないので、曲げ強度よりも衝撃破壊強度が重要となる。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、衝撃破壊強度に優れたガラス板の提供を目的とする。
上記目的を解決するため、本発明の一実施形態によるガラス板は、
主平面と、該主平面に対して垂直な端面と、前記主平面と前記端面との間に形成され、前記主平面および前記端面に隣接する面取り面とを有するガラス板において、
前記主平面および前記端面に対して垂直な断面において、前記面取り面は、前記主平面に対する傾きが４５°の直線と接する接点での曲率半径が５０μｍ以上であり、且つ前記主平面に対する傾きが１５°の直線と接する接点での曲率半径が２０〜５００μｍである。
本発明によれば、衝撃破壊強度に優れたガラス板が提供される。
本発明の一実施形態によるガラス板の側面図 面取り部の形成方法の一例の説明図 面取り部の形成方法の別の例の説明図 曲面部および湾曲部の形成方法の一例の説明図（１） 曲面部および湾曲部の形成方法の一例の説明図（２） 面取り面の寸法形状の一例の説明図（１） 面取り面の寸法形状の一例の説明図（２） 面取り面の寸法形状の一例の説明図（３） 面取り面の寸法形状の一例の説明図（４） 本発明の一実施形態の変形例によるガラス板の側面図 衝撃試験機の説明図
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。以下の図面において、同一のまたは対応する構成には、同一のまたは対応する符号を付して、説明を省略する。
図１は、本発明の一実施形態によるガラス板の側面図である。図１において、ガラス板の素板（もといた）などを２点鎖線で示す。
ガラス板１０は、例えば画像表示装置用のガラス基板またはカバーガラスである。画像表示装置は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）やプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、有機ＥＬディスプレイなどを含み、タッチパネルを含む。
なお、本実施形態のガラス板１０は画像表示装置用であるが、例えば太陽電池用、薄膜２次電池用などであってよく、用途は特に限定されない。
ガラス板１０の板厚は、用途に応じて設定される。例えば、画像表示装置用のガラス基板の場合、ガラス板１０の板厚は０．３〜３ｍｍである。また、画像表示装置用のカバーガラスの場合、ガラス板１０の板厚は０．５〜３ｍｍである。
ガラス板１０は、フロート法、フュージョンダウンドロー法、リドロー法、プレス法などで成形され、その成形方法は特に限定されない。
ガラス板１０は、互いに平行な２つの主平面１１、１２と、各主平面１１、１２に対して垂直な端面１３と、各主平面１１、１２と端面１３との間に形成される面取り面１５、１６とを有する。面取り面１５は主平面１１および端面１３に隣接し、面取り面１６は主平面１２および端面１３に隣接する。
ガラス板１０は主平面１１、１２の中心面に対して左右対称に形成されており、面取り面１５、１６は略同じ寸法形状を有する。以下、一方の面取り面１６の説明を省略する。なお、本実施形態の面取り面１５、１６は、略同じ寸法形状を有するが、異なる寸法形状を有してもよい。また、いずれか一方の面取り面１５、１６がなくてもよい。
主平面１１、１２は、例えば矩形状に形成されている。ここで、「矩形状」とは、正方形状や長方形状をいい、コーナ部分が丸みを帯びた形状を含む。なお、主平面１１、１２の形状に制限はなく、例えば三角形状などの多角形状であってもよいし、円形状や楕円形状などであってもよい。
端面１３は、主平面１１、１２に対して垂直な面であって、平面視（板厚方向視）において主平面１１、１２よりも外方に位置する。端面１３と垂直な方向からの衝撃に対し良好な耐衝撃性が得られる。
端面１３は、平坦面である。なお、端面１３は、主平面１１、１２に対して垂直な面である限り、曲面であってもよいし、平坦面と曲面の組合せで構成されてもよい。
面取り面１５は、例えば矩形状の主平面１１の４辺に対応して４つ設けられてもよいし、１つのみ設けられてもよく、その設置数は特に限定されない。
面取り面１５の形成方法としては、ガラス板１０の素板１０Ａの主平面１１Ａと端面１３Ａとの角部を除去して面取り部１７Ｂを形成後、面取り部１７Ｂなどを加工して形成する方法が例示される。先ず、面取り部１７Ｂについて説明する。
面取り部１７Ｂは、面取り部１７Ｂに隣接する主平面１１Ｂに対して斜めの平坦面である。なお、本実施形態の面取り部１７Ｂは平坦面であるが、曲面であってもよい。曲面は、例えば円弧面、異なる曲率半径を有する複数の円弧面からなる弧面、または楕円弧面などであってよい。
面取り部１７Ｂは、平面視（板厚方向視）において、主平面１１Ｂから端面１３Ｂにかけて外方に徐々に突出する。端面１３Ｂは主平面１１Ｂに対して垂直な面であって、面取り部１７Ｂに隣接する面である。
面取り部１７Ｂと主平面１１Ｂとの境界部１９Ｂは、面取り加工の性質上、先細り状となる。同様に、面取り部１７Ｂと端面１３Ｂとの境界部２１Ｂは、面取り加工の性質上、先細り状となる。
図２は、面取り部の形成方法の一例の説明図である。図２は、素板１０Ａと、素板１０Ａを研磨するシート２００とを示す。図２において、面取り部１７Ｂを２点鎖線で示す。
面取り部１７Ｂは、素板１０Ａを砥粒付きのシート２００で研磨して形成される。シート２００は、基台２１０の固定面２１１に固定され、固定面２１１に沿った形状となる。固定面２１１は、例えば平坦面である。シート２００は固定面２１１と反対側の面に砥粒を含む。砥粒の種類は、例えばアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）や炭化ケイ素（ＳｉＣ）、ダイヤモンドである。砥粒の粒度は、研磨時の損傷を抑えるため、例えば＃１０００以上である。粒度が大きくなるほど、粒径が小さくなる。
シート２００の砥粒を含む面に素板１０Ａを押し付けて摺動させることで、素板１０Ａが面取りされ、面取り部１７Ｂが形成される。研磨時に水などの冷却液が用いられてよい。
なお、本実施形態のシート２００は基台２１０上に固定され、シート２００の砥粒を含む面に素板１０Ａを押し付けて摺動させるが、テンションをかけた状態のシート２００の砥粒を含む面を素板１０Ａに押し付けて摺動させてもよい。
図３は、面取り部の形成方法の別の例の説明図である。図３は、素板１０Ａと、素板１０Ａを研削する回転砥石３００とを示す。図３において、面取り部１７Ｂおよび端面１３Ｂを２点鎖線で示す。
面取り部１７Ｂおよび端面１３Ｂは、素板１０Ａの外周部を回転砥石３００で研削して形成される。回転砥石３００は、円盤状であって、外縁に沿って環状の研削溝３０１を有する。研削溝３０１の壁面は砥粒を含む。砥粒の種類は、例えばアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）や炭化ケイ素（ＳｉＣ）、ダイヤモンドである。砥粒の粒度（ＪＩＳ Ｒ６００１：Abrasive Micro Grain Size）は、研削効率を高めるため、例えば＃３００〜２０００である。
回転砥石３００は、回転砥石３００の中心線を中心に回転されながら、素板１０Ａの外縁に沿って相対的に移動され、素板１０Ａの外縁部を研削溝３０１の壁面で研削する。研削時に水などの冷却液が用いられてよい。
なお、面取り部の形成方法は、図２や図３に示す方法に限定されない。例えば、図２に示す方法と図３に示す方法とを組み合わせてもよく、図３に示す方法の後に図２に示す方法を実施してもよい。
図１に示すように、面取り面１５は、面取り部１７Ｂと主平面１１Ｂとの境界部１９Ｂ、および面取り部１７Ｂと端面１３Ｂとの境界部２１Ｂをさらに曲面に面取りしてなる。曲面は、例えば円弧面、異なる曲率半径を有する複数の円弧面からなる弧面、または楕円弧面などであってよい。先細り状の境界部１９Ｂ、２１Ｂが丸みを帯びた曲面に加工されるので、ヘルツの接触応力（Hertzian contact stress）の理論に示されるように衝撃時に発生する応力が分散し、ガラス板１０の耐衝撃性が向上する。面取り面１５に衝撃が加わった際の割れの態様として、「衝撃を受けた面取り面１５を起点とする割れＡ」と、「衝撃を受けていない面取り面１６を起点とする割れＢ」の２種類があるが、本発明のガラス板１０は、前者の割れＡに対する耐衝撃性が向上する。
面取り面１５は、境界部１９Ｂを曲面に面取りして形成される曲面部２３と、境界部２１Ｂを曲面に面取りして形成される湾曲部２５とを含む。
曲面部２３は、平面視（板厚方向視）において、主平面１１から湾曲部２５側に向けて外方に徐々に突出する。同様に、湾曲部２５は、平面視において、曲面部２３側から端面１３に向けて外方に徐々に突出する。
図４〜図５は、曲面部および湾曲部の形成方法の一例の説明図である。図４は、面取り部１７Ｂが形成された板ガラス１０Ｂと、板ガラス１０Ｂを研磨するブラシ４００とを示す。図５は、板ガラス１０Ｂをブラシ４００で研磨している状態を拡大して示す。図５において、曲面部２３、湾曲部２５、および端面１３などを２点鎖線で示す。
曲面部２３、湾曲部２５、および端面１３は、面取り部１７Ｂが形成された板ガラス１０Ｂをブラシ４００で研磨して形成される。ブラシ４００は、研磨効率を高めるため、板ガラス１０Ｂとスペーサ４１０とを交互に重ねて作製される積層体４２０を研磨してよい。
各板ガラス１０Ｂは、図４に示すように、略同じ寸法形状を有し、積層方向視（図中、矢印Ｘ方向）において互いに外縁が重なるように積層されている。よって、各板ガラス１０Ｂの外縁部が均等に研磨される。
各スペーサ４１０は、板ガラス１０Ｂよりも軟質の材料が用いられ、例えば、ポリプロピレン樹脂や発泡ウレタン樹脂などで構成される。
各スペーサ４１０は、略同じ寸法形状を有する。各スペーサ４１０は、積層方向視（図中、矢印Ｘ方向視）において板ガラス１０Ｂの外縁よりも内側に配置され、板ガラス１０Ｂ同士の間に溝状の隙間４３０を形成する。
ブラシ４００は、図４に示すようにロールブラシであって、積層体４２０の積層方向と平行な回転軸４０１、回転軸４０１に対して略垂直に保持されるブラシ毛４０２などで構成される。ブラシ４００は、回転軸４０１を中心に回転されながら、積層体４２０の外縁に沿って相対的に移動され、積層体４２０の外縁に向かって研磨材を含有するスラリーを吐出し、積層体４２０の外縁部をブラシ研磨する。研磨材としては、酸化セリウム、ジルコニアなどが用いられる。研磨材の平均粒径（Ｄ５０）は、例えば５μｍ以下であり、好ましくは２μｍ以下である。
ブラシ４００は、チャンネルブラシであって、複数のブラシ毛４０２が植毛された長尺の部材（チャンネル）を回転軸４０１に螺旋状に巻き付けてなる。
ブラシ毛４０２は、ポリアミドなどの樹脂で主に構成され、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）や炭化ケイ素（ＳｉＣ）、ダイヤモンドなどの研磨材を含んでもよい。ブラシ毛４０２は、線状に形成され、先細り状の先端部を有してもよい。
隙間４３０の幅Ｗは、ブラシ毛４０２の最大直径Ａの１．２５倍以上（Ｗ≧１．２５×Ａ）である。そのため、図５に示すように、ブラシ毛４０２が隙間４３０内に滑らかに挿入され、板ガラス１０Ｂの主平面１１Ｂと面取り部１７Ｂとの境界部１９Ｂが曲面に面取りされる。このとき、面取り部１７Ｂと端面１３Ｂとの境界部２１Ｂも曲面に面取りされる。
隙間４３０の幅Ｗは、好ましくは１．３３×Ａ以上、さらに好ましくは１．５×Ａ以上である。隙間４３０の幅Ｗは、ブラシ研磨の効率を向上するため、板ガラス１０Ｂの板厚よりも小さくてよい。
ブラシ４００は、面取り部１７Ｂと主平面１１Ｂとの境界部１９Ｂをブラシ毛４０２の外周面で研磨し、曲面部２３を形成する。また、ブラシ４００は、面取り部１７Ｂと端面１３Ｂとの境界部２１Ｂをブラシ毛４０２の外周面で研磨し、湾曲部２５を形成する。曲面部２３および湾曲部２５の形成時に、面取り部１７Ｂの全体が丸みを帯びた曲面に研磨される。また、端面１３Ｂが研磨され図１に示す端面１３となる。
図６〜図９は、面取り面の形状寸法の説明図である。
図６に示すように、端面１３および主平面１１に対して垂直な断面において、面取り面１５は、端面１３に対して垂直な方向における面取り幅Ｗが例えば２０μｍ以上となるように形成されている。
面取り幅Ｗは、主平面１１に対する傾きが４５°の直線であって面取り面１５に１点で接する直線Ｌ２０と主平面１１の延長線Ｅ１１との交点Ｐ１と、主平面１１の延長線Ｅ１１と端面１３の延長線Ｅ１３との交点Ｐ２との間の距離として算出される。主平面１１に対する傾きは、主平面１１と平行な場合を０°とする。
面取り幅Ｗが２０μｍ以上であると、直線Ｌ２０と垂直な方向からの衝撃に対し良好な耐衝撃性が得られ、４５°衝撃破壊強度（実施例参照）が高くなる。また、面取り幅Ｗの上限値は、特に限定されないが、例えばガラス板１０が板厚方向中心面に対して左右対称な形状の場合、ガラス板１０の板厚の１／２未満であればよい。面取り幅Ｗは、好ましくは４０μｍ以上である。
図７に示すように、端面１３および主平面１１に対して垂直な断面において、面取り面１５は、主平面１１に対する傾きが１５°の直線Ｌ１０と接する接点Ｓ１０での曲率半径ｒ１が例えば２０〜５００μｍとなるように形成される。
接点Ｓ１０での曲率半径ｒ１は、接点Ｓ１０から直線Ｌ１０と平行な方向両側に１０μｍ離れた面取り面１５上の２点Ｓ１１、Ｓ１２と、接点Ｓ１０との３点を通る真円Ｃ１０の半径として算出される。
接点Ｓ１０での曲率半径ｒ１が２０μｍ以上であると、面取り部１７Ｂと主平面１１Ｂとの境界部１９Ｂを曲面に面取りした効果が十分に得られる。また、曲率半径ｒ１が５００μｍ以下であると、曲面部２３と主平面１１との交わる部分が鋭くなるのを防止でき、この部分の耐衝撃性の低下が抑えられる。曲率半径ｒ１は、好ましくは４０〜５００μｍである。
図８に示すように、端面１３および主平面１１に対して垂直な断面において、面取り面１５は、主平面１１に対する傾きが４５°の直線Ｌ２０と接する接点Ｓ２０での曲率半径ｒ２が例えば曲率半径ｒ１よりも大きくなるよう形成される。
接点Ｓ２０での曲率半径ｒ２は、接点Ｓ２０から直線Ｌ２０と平行な方向両側に１０μｍ離れた面取り面１５上の２点Ｓ２１、Ｓ２２と、接点Ｓ２０との３点を通る真円Ｃ２０の半径として算出される。
接点Ｓ２０での曲率半径ｒ２が接点Ｓ１０での曲率半径ｒ１よりも大きいと、直線Ｌ２０と垂直な方向からの衝撃を受け止める面が広くなるので、４５°衝撃破壊強度（実施例参照）が高くなる。
接点Ｓ２０での曲率半径ｒ２は、例えば５０μｍ以上であり、好ましくは７０μｍ以上である。
図９に示すように、端面１３および主平面１１に対して垂直な断面において、面取り面１５は、主平面１１に対する傾きが７５°の直線Ｌ３０と接する接点Ｓ３０での曲率半径ｒ３が例えば２０〜５００μｍとなるよう形成される。
接点Ｓ３０での曲率半径ｒ３は、接点Ｓ３０から直線Ｌ３０と平行な方向両側に１０μｍ離れた面取り面１５上の２点Ｓ３１、Ｓ３２と、接点Ｓ３０との３点を通る真円Ｃ３０の半径として算出される。
接点Ｓ３０での曲率半径ｒ３が２０μｍ以上であると、面取り部１７Ｂと端面１３Ｂとの境界部２１Ｂを曲面に面取りした効果が十分に得られる。また、曲率半径ｒ３が５００μｍ以下であると、湾曲部２５と端面１３との交わる部分が鋭くなるのを防止でき、この部分の耐衝撃性の低下が抑えられる。曲率半径ｒ３は、好ましくは４０〜５００μｍである。
図１０は、本発明の一実施形態の変形例によるガラス板の側面図である。図１０に示すガラス板１１０は、図１に示すガラス板１０と同様に、主平面１１１、１１２と、各主平面１１１、１１２に対して垂直な端面１１３と、各主平面１１１、１１２と端面１１３との間に形成される面取り面１１５、１１６とを有する。ガラス板１１０は、板厚方向中心面を基準に左右対称に形成されており、面取り面１１５、１１６同士が同じ寸法形状を有する。以下、一方の面取り面１１６の説明を一部省略する。
なお、本実施形態の面取り面１１５、１１６同士は、同じ寸法形状を有するが、異なる寸法形状を有してもよい。また、いずれか一方の面取り面１１５、１１６がなくてもよい。
面取り面１１５は、図１に示す面取り面１５と同様に、ガラス板１１０の素板１１０Ａの主平面１１１Ａと端面１１３Ａとの角部を除去して面取り部１１７Ｂを形成した後、面取り部１１７Ｂを加工してなる。
面取り面１１５は、面取り部１１７Ｂに隣接する主平面１１１Ｂと面取り部１１７Ｂとの境界部１１９Ｂ、および面取り部１１７Ｂに隣接する端面１１３Ｂと面取り部１１７Ｂの境界部１２１Ｂをさらに曲面に面取りしてなる。先細り状の境界部１１９Ｂ、１２１Ｂが丸みを帯びた曲面に加工されるので、ヘルツの接触応力の理論に示されるように衝撃時に発生する応力が分散し、ガラス板１１０の耐衝撃性が向上する。
面取り面１１５は、境界部１１９Ｂを曲面に面取りして形成される曲面部１２３と、境界部１２１Ｂを曲面に面取りして形成される湾曲部１２５とを含む。面取り面１１５は、曲面部１２３と湾曲部１２５との間に、主平面１１１に対して斜めの平坦部１２７をさらに有する。平坦部１２７と垂直な方向からの衝撃に対し良好な耐衝撃性が得られる。
面取り面１１５の形成方法としては、例えば図２または図３に示す方法で面取り部１１７Ｂを形成した後、境界部１１９Ｂ、１２１Ｂのみをブラシで研磨する方法などがある。平坦部１２７は、曲面部１２３および湾曲部１２５の形成時に加工されずに残った面取り部１１７Ｂの一部で構成される。なお、平坦部１２７は、面取り部１１７Ｂを加工して形成されてもよい。
以下の各例では、ガラス板として、モル％表示で、ＳｉＯ２：６４．２％、Ａｌ２Ｏ３：８．０％、ＭｇＯ：１０．５％、Ｎａ２Ｏ：１２．５％、Ｋ２Ｏ：４．０％、ＺｒＯ２：０．５％、ＣａＯ：０．１％、ＳｒＯ：０．１％、ＢａＯ：０．１％を含有し、化学強化層を有しないものを用いた。
［例１］
例１では、板厚０．８ｍｍの矩形状のガラス素板を図２に示す方法で研磨して面取り部を形成後、図４に示す方法で曲面部および湾曲部を形成して、衝撃破壊強度の試験片を作製した。試験片は、化学強化層を有さない。
面取り部の形成に用いられるシートとしては、住友スリーエム社製３Ｍラッピングフィルムシート１μｍ（＃８０００）を用いた。また、曲面部及び湾曲部の形成に用いられるブラシとしては、ブラシ毛がポリアミド製のものを用いた。ブラシ毛の直径は０．２ｍｍであった。また、ブラシ研磨に用いる研磨材としては、平均粒径（Ｄ５０）２μｍの酸化セリウムを用いた。
図１１は、衝撃試験機の説明図であって、衝撃試験機５００と、試験片６００とを示す。図１１において、衝撃子５０３が中立位置にある状態を実線で示し、衝撃子５０３が中立位置から持ち上げられた状態を１点鎖線で示す。
試験片６００は、互いに平行な２つの主平面６０１、６０２と、各主平面６０１、６０２に対して垂直で平坦な端面６０３と、各主平面６０１、６０２と端面６０３との間に形成される面取り面６０５、６０６とを有する。この試験片６００は、両主平面６０１、６０２の中心面に対して左右対称に形成されており、面取り面６０５、６０６は略同一の寸法形状を有する。面取り面６０５、６０６は、図１に示す面取り面１５、１６と同様に構成されている。
衝撃試験機５００は、水平に配置される回動軸５０１と、回動軸５０１から垂直に延びるロッド５０２と、ロッド５０２に同軸的に固定される円柱状の衝撃子５０３とを有する。衝撃子５０３は、試験片６００と接触する部分の曲率半径が２．５ｍｍで、質量９６ｇであり、ＳＳ材で構成される。衝撃子５０３は、回転軸５０１を中心に回動自在であり、ロッド５０２が鉛直になる中立位置から左右に回動自在である。
衝撃試験機５００は、試験片６００の主平面６０１、６０２を鉛直面に対して所定の角度（θ＝４５°、またはθ＝３０°）で傾斜して支持する治具５０４を有する。治具５０４によって、試験片６００の面取り面６０６は、その長手方向が回転軸５０１と平行に配置される。
衝撃試験は、図１１に２点鎖線で示すように、衝撃子５０３を中立位置から持ち上げ、重力で落として行う。衝撃子５０３は、重力によって回転軸５０１を中心に回転し、図１１に実線で示すように、中立位置で試験片６００（詳細には、下側の面取り面６０６）に衝突する。
衝突時に試験片６００に印加される衝撃エネルギーは、ロッド５０２の質量（１６ｇ）および衝撃子５０３の質量（８０ｇ）、衝撃子５０３の重心５０５の持ち上げられる高さＨに基づいて算出される。
その後、試験片６００にクラックが生じたか否かを目視で調べる。クラックが生じなかった場合、衝撃子５０３を持ち上げる高さＨを上げて、試験を繰り返し行う。試験の度に、衝撃子５０３の衝突位置を変える。クラックが発生したときの最大の衝撃エネルギーが、衝撃破壊強度（Ｊ）として記録される。
衝撃子５０３が衝突する面取り面６０６の寸法形状（図６に示す面取り幅Ｗ、図７に示す曲率半径ｒ１、図８に示す曲率半径ｒ２、および図９に示す曲率変形ｒ３）は、衝撃試験後に試験片６００を切断し、切断面を顕微鏡で観察して測定した。
評価の結果を表１に示す。表１において、「４５°衝撃破壊強度」とは、角度θが４５°の場合の衝撃破壊強度を意味する。また、「３０°衝撃破壊強度」とは、角度θが３０°の場合の衝撃破壊強度を意味する。
［例２］
例２では、面取り部を形成するための研磨時間を変えた以外は例１と同様にして試験片を作製し、試験片の衝撃破壊強度、および試験片の面取り面の寸法形状を測定した。評価の結果を表１に示す。
［例３］
例３では、面取り部を形成する方法として、図２に示す方法の代わりに、図３に示す方法を用いた以外は例１と同様にして試験片を作製し、試験片の衝撃破壊強度、および試験片の面取り面の寸法形状を測定した。評価の結果を表１に示す。
［例４〜例５］
例４〜例５では、面取り部を形成した後、曲面部および湾曲部を形成しなかった以外は例１と同様にして、試験片を作製した。従って、例４〜例５の試験片の面取り面は、面取り部のみで構成され、主平面に対して斜めの平坦面であった。例４〜例５では、面取り部を形成するための研磨時間を変えた。
評価の結果を表１に示す。例４〜例５では面取り面が平坦面であるため、曲率半径ｒ２が無限大である。また、主平面と面取り面との間ならびに面取り面と端面との間は、曲面部および湾曲部を持たない屈曲形状であるため、曲率半径ｒ１およびｒ３は０μｍとみなす。
［例６］
例６では、例１と同じガラス素板をそのまま試験片として用いた。この試験片は、互いに平行な２つの主平面と、各主平面に対して垂直な端面とを有し、面取り面を有さない。
評価の結果を表１に示す。例６では面取り面がないため、面取り幅Ｗが０であり、曲率半径ｒ１〜ｒ３に相当する値は存在しない。また、例６では面取り面がないため、衝撃子５０３は、下側の主平面と端面との角部に衝突し、衝撃破壊強度が著しく低かった。
Figure 2013031548
 以上、ガラス板の実施形態等を説明したが、本発明は上記の実施形態等に限定されず、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形や改良が可能である。
例えば、上記実施形態のガラス板１０は、化学強化層を有さないが、化学強化層を有してもよい。化学強化層（圧縮応力層）は、ガラス板をイオン交換用の処理液に浸漬して形成される。ガラス表面に含まれる小さなイオン半径のイオン（例えば、Ｌｉイオン、Ｎａイオン）が大きなイオン半径のイオン（例えば、Ｋイオン）に置換され、ガラス表面に表面から所定の深さで圧縮応力層が形成される。応力の釣り合いのため、引張応力層がガラス板の内部に形成される。化学強化したガラス、すなわち主表面に化学強化層（圧縮応力層）を有するガラスは高い強度や耐擦傷性（scratch resistance）を備える。そのため、本発明の形状のガラス板を化学強化することにより、割れにくく且つ傷つきにくくすることができる。したがって、スマートフォン、タブレットＰＣ、ＰＣモニタ、テレビなどのディスプレイを保護するカバーガラスとして好適に用いることができる。
本出願は、２０１１年８月２９日に日本国特許庁に出願された特願２０１１−１８６４６１号に基づく優先権を主張するものであり、特願２０１１−１８６４６１号の全内容を本国際出願に援用する。
１０ ガラス板
１１、１２ 主平面
１３ 端面
１５、１６ 面取り面
２３ 曲面部
２５ 湾曲部
１０Ａ 原板
１１Ａ、１２Ａ 主平面
１３Ａ 端面
１０Ｂ 板ガラス
１１Ｂ 主平面
１３Ｂ 端面
１７Ｂ 面取り部
１９Ｂ、２１Ｂ 境界部
１１０ ガラス板
１２７ 平坦部
上記目的を解決するため、本発明の一実施形態によるガラス板は、
主平面と、該主平面に対して垂直な端面と、前記主平面と前記端面との間に形成され、前記主平面および前記端面に隣接する面取り面とを有するガラス板において、
前記主平面および前記端面に対して垂直な断面において、前記面取り面は、前記主平面に対する傾きが４５°の直線と接する接点での曲率半径が５０μｍ以上、且つ前記主平面に対する傾きが１５°の直線と接する接点での曲率半径が２０〜５００μｍであり、前記主平面に対して斜めの平坦部を有する。

Claims (6)

  1. 主平面と、該主平面に対して垂直な端面と、前記主平面と前記端面との間に形成され、前記主平面および前記端面に隣接する面取り面とを有するガラス板において、
    前記主平面および前記端面に対して垂直な断面において、前記面取り面は、前記主平面に対する傾きが４５°の直線と接する接点での曲率半径が５０μｍ以上であり、且つ前記主平面に対する傾きが１５°の直線と接する接点での曲率半径が２０〜５００μｍであるガラス板。
  2. 前記面取り面は、前記端面に対して垂直な方向における面取り幅が２０〜５００μｍとなるように形成される請求項１に記載のガラス板。
  3. 前記主平面および前記端面に対して垂直な断面において、前記面取り面は、前記主平面に対する傾きが１５°の直線と接する接点での曲率半径をｒ１とし、前記主平面に対する傾きが４５°の直線と接する接点での曲率半径をｒ２とすると、ｒ２がｒ１以上となるように形成される請求項１または２に記載のガラス板。
  4. 前記面取り面は、前記主平面に対して斜めの平坦部を有する請求項１〜３のいずれか一項に記載のガラス板。
  5. 前記主平面に化学強化層を有する請求項１〜４のいずれか一項に記載のガラス板。
  6. ディスプレイのカバーガラスとして用いられることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載のガラス板。
JP2013531210A 2011-08-29 2012-08-16 ガラス板 Active JP5382280B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013531210A JP5382280B2 (ja) 2011-08-29 2012-08-16 ガラス板

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011186461 2011-08-29
JP2011186461 2011-08-29
JP2013531210A JP5382280B2 (ja) 2011-08-29 2012-08-16 ガラス板
PCT/JP2012/070860 WO2013031548A1 (ja) 2011-08-29 2012-08-16 ガラス板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP5382280B2 JP5382280B2 (ja) 2014-01-08
JPWO2013031548A1 true JPWO2013031548A1 (ja) 2015-03-23

Family

ID=47756042

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013531210A Active JP5382280B2 (ja) 2011-08-29 2012-08-16 ガラス板

Country Status (6)

Country Link
US (2) US20140170387A1 (ja)
JP (1) JP5382280B2 (ja)
KR (2) KR102132175B1 (ja)
CN (2) CN107032638B (ja)
TW (1) TWI576204B (ja)
WO (1) WO2013031548A1 (ja)

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5860173B2 (ja) 2012-12-29 2016-02-16 Hoya株式会社 磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク
JP5763852B2 (ja) 2013-03-01 2015-08-12 Hoya株式会社 磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク
US9261915B2 (en) * 2013-12-21 2016-02-16 Kyocera Corporation Electronic apparatus, light-transmissive cover plate, and portable device
JP6695663B2 (ja) * 2015-07-09 2020-05-20 株式会社リケン 内燃機関用のピストンリング
JP6583623B2 (ja) * 2015-07-24 2019-10-02 日本電気硝子株式会社 導光板用ガラス板
WO2017030112A1 (ja) * 2015-08-19 2017-02-23 旭硝子株式会社 ガラス板
JP6593116B2 (ja) 2015-11-13 2019-10-23 Ａｇｃ株式会社 印刷層付き板およびこれを用いた表示装置
TWI680347B (zh) * 2015-12-29 2019-12-21 日商Ｈｏｙａ股份有限公司 光罩基板、光罩基底、光罩、光罩基板之製造方法、光罩之製造方法、及顯示裝置之製造方法
EP3290153B1 (en) 2016-08-25 2022-01-05 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Rectangular glass substrate and method for preparing the same
KR102607582B1 (ko) * 2016-08-30 2023-11-30 삼성디스플레이 주식회사 커버 윈도우, 커버 윈도우를 포함하는 표시 장치 및 커버 윈도우의 제조 방법
JP6634417B2 (ja) * 2017-07-20 2020-01-22 住友化学株式会社 偏光板の製造方法
US11065960B2 (en) 2017-09-13 2021-07-20 Corning Incorporated Curved vehicle displays
CN111758063B (zh) * 2017-11-21 2022-08-09 康宁公司 用于抬头显示器系统的非球面镜及其形成方法
CN108108062A (zh) * 2018-01-16 2018-06-01 北京小米移动软件有限公司 电子设备
CN109304619B (zh) * 2018-09-21 2021-01-22 华东理工大学 可变径旋转冷挤压强化工艺装置
JP2022511740A (ja) * 2018-11-27 2022-02-01 コーニング インコーポレイテッド 改善された表面及び縁部品質を有するヘッドアップディスプレイミラー、及びその成形方法
US11056630B2 (en) * 2019-02-13 2021-07-06 Samsung Electronics Co., Ltd. Display module having glass substrate on which side wirings are formed and manufacturing method of the same
JP7151551B2 (ja) * 2019-02-28 2022-10-12 Ａｇｃ株式会社 カバーガラスの製造方法、カバーガラスおよび表示装置
CN114080371B (zh) * 2019-07-10 2024-01-02 Ａｇｃ株式会社 玻璃基体以及其制造方法
KR20210018724A (ko) * 2019-08-09 2021-02-18 삼성디스플레이 주식회사 표시 패널 및 이를 포함하는 표시 장치
JP7003980B2 (ja) * 2019-09-26 2022-01-21 Ａｇｃ株式会社 印刷層付き板およびこれを用いた表示装置
JP7302649B2 (ja) * 2019-09-26 2023-07-04 Ａｇｃ株式会社 車載用表示装置用カバーガラス及び車載用表示装置
CN110948326B (zh) * 2019-11-29 2021-09-17 武汉天马微电子有限公司 研磨刀具及用于显示面板的研磨方法、显示面板及装置
WO2021118268A1 (en) * 2019-12-13 2021-06-17 Samsung Electronics Co., Ltd. Display apparatus having display module and method of manufacturing the same
CN113791504B (zh) * 2021-07-14 2024-04-30 信利光电股份有限公司 一种减低色差的玻璃盖板及显示设备
US11664050B2 (en) 2021-10-05 2023-05-30 Western Digital Technologies, Inc. Tuned edge profile of a disk substrate for use in magnetic recording media
WO2024034361A1 (ja) * 2022-08-09 2024-02-15 Ａｇｃ株式会社 ガラス基板
WO2024034360A1 (ja) * 2022-08-09 2024-02-15 Ａｇｃ株式会社 ガラス基板

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0678954U (ja) * 1993-04-26 1994-11-04 凸版印刷株式会社 フォトマスク用のガラス基板
CN2302993Y (zh) * 1997-07-05 1999-01-06 邵新龙 一种局部压花的艺术玻璃
US6718612B2 (en) * 1999-08-04 2004-04-13 Asahi Glass Company, Ltd. Method for manufacturing a magnetic disk comprising a glass substrate using a protective layer over a glass workpiece
JP2001191238A (ja) * 1999-12-28 2001-07-17 Koyo Mach Ind Co Ltd 円盤状工作物の面取り加工方法、面取り用研削砥石車および面取り加工装置
JP4066700B2 (ja) * 2002-04-12 2008-03-26 藤倉化成株式会社 導電性組成物、導電性被膜およびその形成方法
JP4370611B2 (ja) * 2002-04-17 2009-11-25 日本電気硝子株式会社 平面表示装置用板ガラス
US20110019354A1 (en) * 2009-03-02 2011-01-27 Christopher Prest Techniques for Strengthening Glass Covers for Portable Electronic Devices
WO2010104039A1 (ja) 2009-03-10 2010-09-16 日本電気硝子株式会社 ガラス基板およびその製造方法
JP5541623B2 (ja) * 2009-12-28 2014-07-09 京セラディスプレイ株式会社 ガラス基板の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20190068636A (ko) 2019-06-18
CN107032638B (zh) 2020-07-03
TW201315572A (zh) 2013-04-16
KR20140063611A (ko) 2014-05-27
JP5382280B2 (ja) 2014-01-08
KR102132175B1 (ko) 2020-07-09
WO2013031548A1 (ja) 2013-03-07
CN107032638A (zh) 2017-08-11
KR101988681B1 (ko) 2019-06-12
CN103764586A (zh) 2014-04-30
CN103764586B (zh) 2016-12-14
US20160280590A1 (en) 2016-09-29
US20140170387A1 (en) 2014-06-19
TWI576204B (zh) 2017-04-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5382280B2 (ja) ガラス板
WO2013031547A1 (ja) ガラス板、およびガラス板の製造方法
WO2013176150A1 (ja) 化学強化ガラス板、カバーガラス、タッチセンサ付化学強化ガラスおよびディスプレイ装置
KR20150011818A (ko) 화학 강화 유리판, 커버 유리, 터치 센서 부착 화학 강화 유리 및 디스플레이 장치
WO2013154034A1 (ja) 強化ガラス物品及びタッチセンサ一体型カバーガラス
JP2014001123A (ja) 化学強化ガラス板、カバーガラスおよびディスプレイ装置
WO2015076268A1 (ja) 化学強化ガラス板
JP2010257562A (ja) 磁気ディスク用基板及びその製造方法
JP2015171956A (ja) 強化カバーガラスの製造方法及び強化カバーガラス並びにタッチセンサ一体型強化カバーガラスの製造方法及びタッチセンサ一体型強化カバーガラス
JP2013116508A (ja) 両面研磨装置用キャリア及びこれを用いた両面研磨装置並びに両面研磨方法
JP2006324006A (ja) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体用ガラス基板
WO2014034445A1 (ja) 化学強化ガラス板及びその衝撃試験方法
JP6011627B2 (ja) ガラス基板の研磨方法
WO2014167910A1 (ja) 化学強化ガラス板
TW201350319A (zh) 電子機器用玻璃
JP2011225436A (ja) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
JP2015157733A (ja) 化学強化ガラス板の製造方法
JP2010228079A (ja) ガラスディスク収容冶具およびガラスディスクの研磨方法
JP6525395B2 (ja) ガラス板及びその製造方法
JP5738654B2 (ja) 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法
WO2021193970A1 (ja) キャリア及び基板の製造方法
JP2012216254A (ja) 磁気記録媒体用ガラス基板の回収方法
TW201328818A (zh) 玻璃板之研磨裝置

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130903

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130916

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5382280

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250