JPWO2011135979A1 - 撮像用レンズの製造方法 - Google Patents
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Abstract
基板の少なくとも一方の面に、硬化性樹脂製のレンズ部が形成されたウエハレンズを一層以上有する複数の層を積層させた撮像用レンズの製造方法であって、ウエハレンズを含む複数の層を積層する前に、二酸化炭素を噴射させることにより、ドライアイス粒子とし、このドライアイス粒子を、ウエハレンズのレンズ部もしくはレンズ部周辺に衝突させることによって、レンズ部の二酸化炭素洗浄を行う第１のレンズ部洗浄工程を備える。これにより光学性能の劣化及び吸湿による光学性能の変化や、樹脂の基板からの剥がれを防止する。
Description
本発明は、撮像用レンズの製造方法に関する。
従来、光学レンズの製造分野においては、ガラス基板に対し硬化性樹脂からなるレンズ部を設けることで、耐熱性の高い光学レンズを得る技術が検討されている（例えば、特許文献１参照）。この技術を適用した光学レンズの製造方法の一例として、ガラス基板の表面に硬化性樹脂からなる光学部材を複数設けたいわゆる「ウエハレンズ」を形成し、その後にレンズ部ごとにガラス基板をカットする方法も提案されている。
このようなウエハレンズは撮像装置、特に携帯電話用のカメラのような小型の光学系を大量に一括生産できる点で優れているが、技術的な課題も存在する。
というのも、昨今ではこのような携帯電話用カメラにおいても高解像度化が進み、レンズ枚数も増える傾向にある。従って、そのような撮像装置における撮像用レンズをウエハレンズで構成する場合、単一のガラス基板にレンズ部を形成したウエハレンズではなく、複数枚のウエハレンズやスペーサを積層したウエハレンズ積層体から構成する必要が生じてくる。
このようなウエハレンズは撮像装置、特に携帯電話用のカメラのような小型の光学系を大量に一括生産できる点で優れているが、技術的な課題も存在する。
というのも、昨今ではこのような携帯電話用カメラにおいても高解像度化が進み、レンズ枚数も増える傾向にある。従って、そのような撮像装置における撮像用レンズをウエハレンズで構成する場合、単一のガラス基板にレンズ部を形成したウエハレンズではなく、複数枚のウエハレンズやスペーサを積層したウエハレンズ積層体から構成する必要が生じてくる。
ところで、上述のようなウエハレンズ積層体を製造する場合、ウエハレンズやスペーサにはゴミが付着している場合がある。ゴミが付着したウエハレンズやスペーサをそのまま使用してウエハレンズを複数枚積層したり、積層後、スペーサを貼り付けると、レンズ間隔が変わってしまい、光学性能の劣化が生じてしまうという問題がある。
そこで、ウエハレンズの積層前やスペーサの貼り付け前に、洗浄処理を行う必要があるが、レンズは樹脂製であるため、水による洗浄は吸水・吸湿性の点から光学性能が変化する場合があるという問題点がある。これはウエハレンズの積層体の場合、個々のウエハレンズを洗浄した際の吸水・吸湿が原因で、ウエハレンズの積層後に積層内において水分が発生し、レンズを曇らせることなどである。また、実際には純水だけでは洗浄しきれないため、洗剤等を用いて洗浄をすることになるが、その場合洗剤が積層される箇所に残りレンズ間隔を悪化させる場合もある。更に洗浄処理として超音波を使用する場合もあるが、この場合、基板から樹脂剥がれが生じることもあり、好ましくない。
そこで、ウエハレンズの積層前やスペーサの貼り付け前に、洗浄処理を行う必要があるが、レンズは樹脂製であるため、水による洗浄は吸水・吸湿性の点から光学性能が変化する場合があるという問題点がある。これはウエハレンズの積層体の場合、個々のウエハレンズを洗浄した際の吸水・吸湿が原因で、ウエハレンズの積層後に積層内において水分が発生し、レンズを曇らせることなどである。また、実際には純水だけでは洗浄しきれないため、洗剤等を用いて洗浄をすることになるが、その場合洗剤が積層される箇所に残りレンズ間隔を悪化させる場合もある。更に洗浄処理として超音波を使用する場合もあるが、この場合、基板から樹脂剥がれが生じることもあり、好ましくない。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、ゴミを確実かつ容易に除去して、光学性能の劣化を防止することができ、また、吸湿による光学性能の変化や、樹脂の基板からの剥がれも防止することができる撮像用レンズの製造方法を提要することを目的としている。
本発明の一態様によれば、基板の少なくとも一方の面に硬化性樹脂製のレンズ部が形成されたウエハレンズを一層以上有する複数の層を積層させた撮像用レンズの製造方法であって、ウエハレンズを含む複数の層を積層する前に、二酸化炭素を噴射させることにより、ドライアイス粒子とし、このドライアイス粒子を、前記ウエハレンズの前記レンズ部もしくはレンズ部周辺に衝突させることによって、前記レンズ部の二酸化炭素洗浄を行う第１の洗浄工程を備えることを特徴とする撮像用レンズの製造方法が提供される。
ここでゴミを確実かつ容易に除去して、光学性能の劣化を防止する観点より、ウエハレンズに積層される撮像素子や、レンズ同士もしくはレンズと撮像素子との間を接合するためのスペーサも洗浄を行う必要がある。よって上記複数の層には、上記ウエハレンズ以外にもスペーサや撮像素子も含まれるものとする。
ここでゴミを確実かつ容易に除去して、光学性能の劣化を防止する観点より、ウエハレンズに積層される撮像素子や、レンズ同士もしくはレンズと撮像素子との間を接合するためのスペーサも洗浄を行う必要がある。よって上記複数の層には、上記ウエハレンズ以外にもスペーサや撮像素子も含まれるものとする。
本発明によれば、ゴミを確実かつ容易に除去して、光学性能の劣化を防止することができ、また、吸湿による光学性能の変化や、樹脂の基板からの剥がれも防止することができる。
以下、図面を参照しながら本発明の好ましい実施形態について説明する。
［撮像装置］
図１に示す通り、撮像装置１は撮像用レンズ２、撮像素子のカバーガラス４、撮像素子６などから構成されており、撮像用レンズ２の下方に、撮像素子のカバーガラス４、撮像素子６が配置されている。撮像素子６としては例えばＣＭＯＳ型イメージセンサが用いられる。
［撮像装置］
図１に示す通り、撮像装置１は撮像用レンズ２、撮像素子のカバーガラス４、撮像素子６などから構成されており、撮像用レンズ２の下方に、撮像素子のカバーガラス４、撮像素子６が配置されている。撮像素子６としては例えばＣＭＯＳ型イメージセンサが用いられる。
撮像用レンズ２は２群のレンズ群８，１０、スペーサ７ から構成されている。
レンズ群８はガラス基板１２を有している。
ガラス基板１２の上面には樹脂部１６が形成されている。ガラス基板１２と樹脂部１６との間には絞り１８aが形成されている。樹脂部１６は凸レンズ部１６ａとその周辺部の非レンズ部１６ｂとから構成され、これらが一体成形されている。凸レンズ部１６ａは表面が非球面形状を呈している。絞り１８aは非レンズ部１６ｂで覆われている。
ガラス基板１２の下面には樹脂部２２が形成されている。ガラス基板１２と樹脂部２２との間には絞り１８bが形成されている。樹脂部２２は凹レンズ部２２ａとその周辺部の非レンズ部２２ｂとから構成され、これらが一体成形されている。凹レンズ部２２ａは表面が非球面形状を呈している。絞り１８bは非レンズ部２２bで覆われている。
レンズ群８はガラス基板１２、樹脂部１６，２２、絞り１８a，１８bにより構成されている。
レンズ群８はガラス基板１２を有している。
ガラス基板１２の上面には樹脂部１６が形成されている。ガラス基板１２と樹脂部１６との間には絞り１８aが形成されている。樹脂部１６は凸レンズ部１６ａとその周辺部の非レンズ部１６ｂとから構成され、これらが一体成形されている。凸レンズ部１６ａは表面が非球面形状を呈している。絞り１８aは非レンズ部１６ｂで覆われている。
ガラス基板１２の下面には樹脂部２２が形成されている。ガラス基板１２と樹脂部２２との間には絞り１８bが形成されている。樹脂部２２は凹レンズ部２２ａとその周辺部の非レンズ部２２ｂとから構成され、これらが一体成形されている。凹レンズ部２２ａは表面が非球面形状を呈している。絞り１８bは非レンズ部２２bで覆われている。
レンズ群８はガラス基板１２、樹脂部１６，２２、絞り１８a，１８bにより構成されている。
レンズ群１０はガラス基板３０を有している。
ガラス基板３０の上面には樹脂部３２が形成されている。樹脂部３２は凹レンズ部３２ａとその周辺部の非レンズ部３２ｂとから構成され、これらが一体成形されている。凹レンズ部３２ａは表面が非球面形状を呈している。
ガラス基板３０の下面には樹脂部３４が形成されている。ガラス基板３０と樹脂部３４との間には絞り１８cが形成されている。樹脂部３４は凸レンズ部３４ａとその周辺部の非レンズ部３４ｂとから構成され、これらが一体成形されている。凸レンズ部３４ａは表面が非球面形状を呈している。絞り１８cは非レンズ部３４bで覆われている。
レンズ群１０はガラス基板３０、樹脂部３２，３４、絞り１８cにより構成されている。
ガラス基板３０の上面には樹脂部３２が形成されている。樹脂部３２は凹レンズ部３２ａとその周辺部の非レンズ部３２ｂとから構成され、これらが一体成形されている。凹レンズ部３２ａは表面が非球面形状を呈している。
ガラス基板３０の下面には樹脂部３４が形成されている。ガラス基板３０と樹脂部３４との間には絞り１８cが形成されている。樹脂部３４は凸レンズ部３４ａとその周辺部の非レンズ部３４ｂとから構成され、これらが一体成形されている。凸レンズ部３４ａは表面が非球面形状を呈している。絞り１８cは非レンズ部３４bで覆われている。
レンズ群１０はガラス基板３０、樹脂部３２，３４、絞り１８cにより構成されている。
レンズ群８の樹脂部１６，２２とレンズ群１０の樹脂部３２，３４とは 光硬化性樹脂から構成されている。
当該光硬化性樹脂としては、例えば下記に示すようなアクリル樹脂，アリルエステル樹脂，エポキシ系樹脂などが使用可能である。特に、エポキシ樹脂が本発明では面形状の転写精度が良好な点で効果的である。
アクリル樹脂，アリルエステル樹脂を使用する場合にはラジカル重合により反応硬化させることができ、エポキシ樹脂を使用する場合にはカチオン重合により反応硬化させることができる。
レンズ群８，１０の各部位を構成する樹脂の種類は互いに同じでもよいし、異なってもいてもよい。
樹脂の詳細は下記（１）〜（３）の通りである。
当該光硬化性樹脂としては、例えば下記に示すようなアクリル樹脂，アリルエステル樹脂，エポキシ系樹脂などが使用可能である。特に、エポキシ樹脂が本発明では面形状の転写精度が良好な点で効果的である。
アクリル樹脂，アリルエステル樹脂を使用する場合にはラジカル重合により反応硬化させることができ、エポキシ樹脂を使用する場合にはカチオン重合により反応硬化させることができる。
レンズ群８，１０の各部位を構成する樹脂の種類は互いに同じでもよいし、異なってもいてもよい。
樹脂の詳細は下記（１）〜（３）の通りである。
（１）アクリル樹脂
重合反応に用いられる(メタ)アクリレートは特に制限はなく、一般的な製造方法により製造された下記(メタ)アクリレートを使用することができる。エステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、エーテル(メタ)アクリレート、アルキル(メタ)アクリレート、アルキレン(メタ)アクリレート、芳香環を有する(メタ)アクリレート、脂環式構造を有する(メタ)アクリレートが挙げられる。これらを１種類又は２種類以上を用いることができる。
特に脂環式構造を持つ(メタ)アクリレートが好ましく、酸素原子や窒素原子を含む脂環構造であってもよい。例えば、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘプチル(メタ)アクリレート、ビシクロヘプチル(メタ)アクリレート、トリシクロデシル(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノール(メタ)アクリレートや、イソボロニル(メタ)アクリレート、水添ビスフェノール類のジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。また特にアダマンタン骨格を持つと好ましい。例えば、２−アルキル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート（特開２００２−１９３８８３号公報参照）、アダマンチルジ（メタ）アクリレート（特開昭５７−５００７８５）、アダマンチルジカルボン酸ジアリル（特開昭６０―１００５３７）、パーフルオロアダマンチルアクリル酸エステル（特開２００４−１２３６８７）、新中村化学製 2-メチル-2-アダマンチルメタクリレート、1,3-アダマンタンジオールジアクリレート、1,3,5-アダマンタントリオールトリアクリレート、不飽和カルボン酸アダマンチルエステル（特開２０００−１１９２２０）、３，３’−ジアルコキシカルボニル-1,1’ビアダマンタン（特開２００１−２５３８３５号公報参照）、１，１’−ビアダマンタン化合物（米国特許第３３４２８８０号明細書参照）、テトラアダマンタン（特開２００６−１６９１７７号公報参照）、２−アルキル−２−ヒドロキシアダマンタン、２−アルキレンアダマンタン、１，３−アダマンタンジカルボン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル等の芳香環を有しないアダマンタン骨格を有する硬化性樹脂（特開２００１−３２２９５０号公報参照）、ビス(ヒドロキシフェニル)アダマンタン類やビス（グリシジルオキシフェニル）アダマンタン（特開平１１−３５５２２号公報、特開平１０−１３０３７１号公報参照）等が挙げられる。
また、その他反応性単量体を含有することも可能である。(メタ)アクリレートであれば、例えば、メチルアクリレート、メチルメタアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタアクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタアクリレート、tert−ブチルアクリレート、tert−ブチルメタアクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタアクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、などが挙げられる。
多官能(メタ)アクリレートとして、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールセプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
重合反応に用いられる(メタ)アクリレートは特に制限はなく、一般的な製造方法により製造された下記(メタ)アクリレートを使用することができる。エステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、エーテル(メタ)アクリレート、アルキル(メタ)アクリレート、アルキレン(メタ)アクリレート、芳香環を有する(メタ)アクリレート、脂環式構造を有する(メタ)アクリレートが挙げられる。これらを１種類又は２種類以上を用いることができる。
特に脂環式構造を持つ(メタ)アクリレートが好ましく、酸素原子や窒素原子を含む脂環構造であってもよい。例えば、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘプチル(メタ)アクリレート、ビシクロヘプチル(メタ)アクリレート、トリシクロデシル(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノール(メタ)アクリレートや、イソボロニル(メタ)アクリレート、水添ビスフェノール類のジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。また特にアダマンタン骨格を持つと好ましい。例えば、２−アルキル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート（特開２００２−１９３８８３号公報参照）、アダマンチルジ（メタ）アクリレート（特開昭５７−５００７８５）、アダマンチルジカルボン酸ジアリル（特開昭６０―１００５３７）、パーフルオロアダマンチルアクリル酸エステル（特開２００４−１２３６８７）、新中村化学製 2-メチル-2-アダマンチルメタクリレート、1,3-アダマンタンジオールジアクリレート、1,3,5-アダマンタントリオールトリアクリレート、不飽和カルボン酸アダマンチルエステル（特開２０００−１１９２２０）、３，３’−ジアルコキシカルボニル-1,1’ビアダマンタン（特開２００１−２５３８３５号公報参照）、１，１’−ビアダマンタン化合物（米国特許第３３４２８８０号明細書参照）、テトラアダマンタン（特開２００６−１６９１７７号公報参照）、２−アルキル−２−ヒドロキシアダマンタン、２−アルキレンアダマンタン、１，３−アダマンタンジカルボン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル等の芳香環を有しないアダマンタン骨格を有する硬化性樹脂（特開２００１−３２２９５０号公報参照）、ビス(ヒドロキシフェニル)アダマンタン類やビス（グリシジルオキシフェニル）アダマンタン（特開平１１−３５５２２号公報、特開平１０−１３０３７１号公報参照）等が挙げられる。
また、その他反応性単量体を含有することも可能である。(メタ)アクリレートであれば、例えば、メチルアクリレート、メチルメタアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタアクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタアクリレート、tert−ブチルアクリレート、tert−ブチルメタアクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタアクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、などが挙げられる。
多官能(メタ)アクリレートとして、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールセプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
（２）アリルエステル樹脂
アリル基を持ちラジカル重合による硬化する樹脂で、例えば次のものが挙げられるが、特に以下のものに限定されるわけではない。
芳香環を含まない臭素含有（メタ）アリルエステル（特開２００３−６６２０１号公報参照）、アリル（メタ）アクリレート（特開平５−２８６８９６号公報参照）、アリルエステル樹脂（特開平５−２８６８９６号公報、特開２００３−６６２０１号公報参照）、アクリル酸エステルとエポキシ基含有不飽和化合物の共重合化合物（特開２００３−１２８７２５号公報参照）、アクリレート化合物（特開２００３−１４７０７２号公報参照）、アクリルエステル化合物（特開２００５−２０６４号公報参照）等が挙げられる。
アリル基を持ちラジカル重合による硬化する樹脂で、例えば次のものが挙げられるが、特に以下のものに限定されるわけではない。
芳香環を含まない臭素含有（メタ）アリルエステル（特開２００３−６６２０１号公報参照）、アリル（メタ）アクリレート（特開平５−２８６８９６号公報参照）、アリルエステル樹脂（特開平５−２８６８９６号公報、特開２００３−６６２０１号公報参照）、アクリル酸エステルとエポキシ基含有不飽和化合物の共重合化合物（特開２００３−１２８７２５号公報参照）、アクリレート化合物（特開２００３−１４７０７２号公報参照）、アクリルエステル化合物（特開２００５−２０６４号公報参照）等が挙げられる。
（３）エポキシ樹脂
エポキシ樹脂としては、エポキシ基を持ち光又は熱により重合硬化するものであれば特に限定されず、硬化開始剤としても酸無水物やカチオン発生剤等を用いることができる。エポキシ樹脂は硬化収縮率が低いため、成形精度の優れたレンズとすることができる点で好ましい。
エポキシの種類としては、ノボラックフェノール型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂が挙げられる。その一例として、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、２，２’−ビス（４−グリシジルオキシシクロヘキシル）プロパン、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカーボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）−５，５−スピロ−（３，４−エポキシシクロヘキサン）−１，３−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、１，２−シクロプロパンジカルボン酸ビスグリシジルエステル等を挙げることができる。
硬化剤は硬化性樹脂材料を構成する上で使用されるものであり特に限定はない。また、本発明において、硬化性樹脂材料と、添加剤を添加した後の光学材料の透過率を比較する場合、硬化剤は添加剤には含まれないものとする。硬化剤としては、酸無水物硬化剤やフェノール硬化剤等を好ましく使用することができる。酸無水物硬化剤の具体例としては、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、４−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、あるいは３−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸と４−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸との混合物、テトラヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸等を挙げることができる。また、必要に応じて硬化促進剤が含有される。硬化促進剤としては、硬化性が良好で、着色がなく、熱硬化性樹脂の透明性を損なわないものであれば、特に限定されるものではないが、例えば、２−エチル−４−メチルイミダゾール（２Ｅ４ＭＺ）等のイミダゾール類、３級アミン、４級アンモニウム塩、ジアザビシクロウンデセン等の双環式アミジン類とその誘導体、ホスフィン、ホスホニウム塩等を用いることができ、これらを１種、あるいは２種以上を混合して用いてもよい。
エポキシ樹脂としては、エポキシ基を持ち光又は熱により重合硬化するものであれば特に限定されず、硬化開始剤としても酸無水物やカチオン発生剤等を用いることができる。エポキシ樹脂は硬化収縮率が低いため、成形精度の優れたレンズとすることができる点で好ましい。
エポキシの種類としては、ノボラックフェノール型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂が挙げられる。その一例として、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、２，２’−ビス（４−グリシジルオキシシクロヘキシル）プロパン、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカーボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）−５，５−スピロ−（３，４−エポキシシクロヘキサン）−１，３−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、１，２−シクロプロパンジカルボン酸ビスグリシジルエステル等を挙げることができる。
硬化剤は硬化性樹脂材料を構成する上で使用されるものであり特に限定はない。また、本発明において、硬化性樹脂材料と、添加剤を添加した後の光学材料の透過率を比較する場合、硬化剤は添加剤には含まれないものとする。硬化剤としては、酸無水物硬化剤やフェノール硬化剤等を好ましく使用することができる。酸無水物硬化剤の具体例としては、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、４−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、あるいは３−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸と４−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸との混合物、テトラヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸等を挙げることができる。また、必要に応じて硬化促進剤が含有される。硬化促進剤としては、硬化性が良好で、着色がなく、熱硬化性樹脂の透明性を損なわないものであれば、特に限定されるものではないが、例えば、２−エチル−４−メチルイミダゾール（２Ｅ４ＭＺ）等のイミダゾール類、３級アミン、４級アンモニウム塩、ジアザビシクロウンデセン等の双環式アミジン類とその誘導体、ホスフィン、ホスホニウム塩等を用いることができ、これらを１種、あるいは２種以上を混合して用いてもよい。
撮像用レンズ２では、レンズ群８の非レンズ部２２ｂとレンズ群１０の非レンズ部３２ｂとの間に接着剤が塗布され、レンズ群８とレンズ群１０とが接着されている。非レンズ部２２ｂ，３２ｂは凹レンズ部２２ａ，３２ａのフランジ部に相当している。
レンズ群１０には、スペーサ７が接着されている。スペーサ７には開口部７aが形成されている。なお、レンズ群８とレンズ群１０とは接着剤により接着されているが、例えば図７、図８のように、レンズ群８とレンズ群１０との間にスペーサ７を設けて、スペーサ７を介してレンズ群８，１０同士を接着させてもよい。
レンズ群１０には、スペーサ７が接着されている。スペーサ７には開口部７aが形成されている。なお、レンズ群８とレンズ群１０とは接着剤により接着されているが、例えば図７、図８のように、レンズ群８とレンズ群１０との間にスペーサ７を設けて、スペーサ７を介してレンズ群８，１０同士を接着させてもよい。
撮像用レンズ２では、凸レンズ部１６ａ、凹レンズ部２２ａ、凹レンズ部３２ａ、凸レンズ部３４ａは各表面が非球面形状を呈しており、光軸が一致している。
物体側から像側に向けて、凸レンズ部１６ａがレンズ群８の物体側光学面である「Ｓ１面」を、凹レンズ部２２ａがレンズ群８の像側光学面である「Ｓ２面」を、凹レンズ部３２ａがレンズ群１０の物体側光学面である「Ｓ３面」を、凸レンズ部３４ａがレンズ群１０の像側光学面である「Ｓ４面」をそれぞれ構成している。
物体側から像側に向けて、凸レンズ部１６ａがレンズ群８の物体側光学面である「Ｓ１面」を、凹レンズ部２２ａがレンズ群８の像側光学面である「Ｓ２面」を、凹レンズ部３２ａがレンズ群１０の物体側光学面である「Ｓ３面」を、凸レンズ部３４ａがレンズ群１０の像側光学面である「Ｓ４面」をそれぞれ構成している。
［撮像装置（撮像用レンズ）の製造方法］
続いて、撮像装置１の製造方法（撮像用レンズ２の製造方法を含む）について、図１〜図３を参照しながら簡単に説明する。
続いて、撮像装置１の製造方法（撮像用レンズ２の製造方法を含む）について、図１〜図３を参照しながら簡単に説明する。
始めに、ガラス基板１２に対し、ＩＲカットコート１４，２０を形成する（図３のステップＳ１）。ＩＲカットコートは、公知の真空蒸着法やスパッタ、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法などを使用して、ガラス基板１２の表裏両面に対しそれぞれＩＲカットコートを形成する。ＩＲカットコート（赤外線遮蔽膜）は、赤外線を遮光するための膜であり、波長３６５ｎｍの光に対しては５０％以上の透過率を有している。ここで、ＩＲカットコート１４，２０を２層に分けているのはソリを防止するためである。
次に、ガラス基板１２に対し、例えば遮光性フォトレジストを塗布してこれを所定形状にパターニングし、複数の絞り１８aを形成する（ステップＳ２）。遮光性フォトレジストとしては、カーボンブラックを混入させたフォトレジストが使用可能である。
その後、光硬化性樹脂を成形型又はガラス基板に滴下し、当該成形型とウエハ状のガラス基板１２とのうち一方を他方に押圧して成形型とガラス基板１２との間に光硬化性樹脂を充填し、光照射して光硬化性樹脂を硬化させる。その結果、ガラス基板１２に複数の凸レンズ部１６ａが形成される（ステップＳ３）。ここで、光硬化性樹脂が特にエポキシ樹脂の場合には、光照射しても反応が完全に進行しないために、離型した際にガラス基板１２の反りが発生しにくい。ここで図７、図８のように、上記成形型は、凸レンズ部１６ａ、凹レンズ部２２aを個別に滴下して成形する個別の成形型でもよい。
レンズ部１６a，２２aを形成した後、成形型をガラス基板１２から離型する（ステップＳ４）。離型は、凸レンズ部１６aの形成後と、凹レンズ部２２aの形成後、にそれぞれ離型するようにしても良いし、両面のレンズ部１６a，２２aの形成後に一括して離型しても良い。
そして、離型後、ガラス基板１２の両面のレンズ部１６a，２２aに対してポストキュアとして加熱加工する。ポストキュアは、両面のレンズ部１６a，２２aに対して一括して行っても良いし、レンズ部１６a，２２aをそれぞれ離型した後、一方のレンズ部毎に行っても良い。
このように離型することによって、複数のレンズ部１６a，２２aを有するウエハレンズ５１が製造される。
そして、離型後、ガラス基板１２の両面のレンズ部１６a，２２aに対してポストキュアとして加熱加工する。ポストキュアは、両面のレンズ部１６a，２２aに対して一括して行っても良いし、レンズ部１６a，２２aをそれぞれ離型した後、一方のレンズ部毎に行っても良い。
このように離型することによって、複数のレンズ部１６a，２２aを有するウエハレンズ５１が製造される。
その後、レンズ部１６a，２２aに対して二酸化炭素洗浄を行う（第１のレンズ部洗浄工程：ステップＳ５）。二酸化炭素洗浄は、後述の二酸化炭素洗浄装置９（図４参照）を用いて行い、液体の二酸化炭素を噴射させることにより、ドライアイス粒子Ａとし、このドライアイス粒子をレンズ部１６a，２２aに衝突させることによって、レンズ部１６a，２２aに付着したゴミを除去する。具体的な方法については後述する。
上記ウエハレンズ５１を製造したのと同様にして、ガラス基板３０にも複数の絞り１８c、複数の凹レンズ部３２ａ、凸レンズ部３４ａを形成し、離型する（ステップＳ６〜Ｓ８）。なお、図７、図８のように、凹レンズ部３２a、凸レンズ部３４aを成形する成形型は、樹脂を個別に滴下して成形する個別の成形型でもよい。
離型後は、ポストキュアを行う。なお、このガラス基板３０にはＩＲカットコートを施さなくて良い。
離型後は、ポストキュアを行う。なお、このガラス基板３０にはＩＲカットコートを施さなくて良い。
その後、樹脂部３４上に反射防止膜（図示しない）を形成する。反射防止膜は２層構造を有している。樹脂部３４に対し直に第１層が形成されており、その上に第２層が形成されている。
第１層は屈折率１．７以上の高屈折率材料から構成された層であり、好ましくはＴａ２Ｏ５，Ｔａ２Ｏ５とＴｉＯ２との混合物，ＺｒＯ２，ＺｒＯ２とＴｉＯ２との混合物のいずれかで構成されている。第１層はＴｉＯ２，Ｎｂ２Ｏ３，ＨｆＯ２で構成されてもよい。
第２層は屈折率１．７未満の低屈折率材料から構成された層であり、好ましくはＳｉＯ２から構成されている。これら反射防止膜を形成する前に二酸化炭素洗浄を行っても良い。
第１層は屈折率１．７以上の高屈折率材料から構成された層であり、好ましくはＴａ２Ｏ５，Ｔａ２Ｏ５とＴｉＯ２との混合物，ＺｒＯ２，ＺｒＯ２とＴｉＯ２との混合物のいずれかで構成されている。第１層はＴｉＯ２，Ｎｂ２Ｏ３，ＨｆＯ２で構成されてもよい。
第２層は屈折率１．７未満の低屈折率材料から構成された層であり、好ましくはＳｉＯ２から構成されている。これら反射防止膜を形成する前に二酸化炭素洗浄を行っても良い。
反射防止膜は第１層、第２層がともに蒸着等の手法により形成されており、好ましくは、第１層、第２層は、その成膜温度がリフロー処理に供される半田等の導電性ペーストの溶融温度に対し−４０〜＋４０℃（好ましくは−２０〜＋２０℃）の範囲に保持されながら、形成されている。
本実施形態では、第１層、第２層の上にさらに第１層、第２層を交互に積層し、反射防止膜を全体で２〜７層構造としてもよい。この場合、樹脂部に直に接触する層は樹脂の種類に応じて、高屈折率材料の層（第１層）としてもよいし、低屈折率材料の層（第２層）としてもよい。ここでは樹脂部に直に接触する層が高屈折率材料の層となっている。
また、樹脂部３４の表面にのみ反射防止膜を形成するとしたが、樹脂部１６，２２，３２，３４の全ての面に形成しても良い。
撮像素子６におけるゴーストの発生を抑制する意味では、反射防止膜は樹脂部３４の表面に設けられることが効果的であり、反射防止膜と樹脂部３４との界面でのクラックの発生等の問題を抑制するために、樹脂部３４のみに反射防止膜を設けることが好ましい。この場合撮像素子６に一番近い面に反射防止膜を設ける事になる。
撮像素子６におけるゴーストの発生を抑制する意味では、反射防止膜は樹脂部３４の表面に設けられることが効果的であり、反射防止膜と樹脂部３４との界面でのクラックの発生等の問題を抑制するために、樹脂部３４のみに反射防止膜を設けることが好ましい。この場合撮像素子６に一番近い面に反射防止膜を設ける事になる。
このように反射防止膜を形成することによって、複数のレンズ部３２ａ，３４ａを有するウエハレンズ５２が製造される。
反射防止膜形成後、上記ステップＳ５と同様の二酸化炭素洗浄を行う（第１のレンズ部洗浄工程：ステップＳ９）。
その後、非レンズ部２２ｂ，３２ｂのうち少なくとも一方に接着剤を塗布して、ウエハレンズ５１，５２を互いに接着する（ステップＳ１０）（図２参照）。
一方、スペーサ７についても上記ステップＳ５と同様の二酸化炭素洗浄を行う（スペーサ洗浄工程：ステップＳ１１）。
洗浄後のスペーサ７と、レンズ群１０の非レンズ群３４bのうち少なくとも一方に接着剤を塗布して、洗浄後のスペーサ７とレンズ群１０を互いに接着する（ステップＳ１２）。なおウエハレンズ同士の積層工程（Ｓ１０）を経ずに直接ウエハレンズ単層にスペーサ７を貼りつけても良い。
その結果、ウエハレンズ積層体５０が製造される（図２参照）。
洗浄後のスペーサ７と、レンズ群１０の非レンズ群３４bのうち少なくとも一方に接着剤を塗布して、洗浄後のスペーサ７とレンズ群１０を互いに接着する（ステップＳ１２）。なおウエハレンズ同士の積層工程（Ｓ１０）を経ずに直接ウエハレンズ単層にスペーサ７を貼りつけても良い。
その結果、ウエハレンズ積層体５０が製造される（図２参照）。
その後、ウエハレンズ積層体５０の状態で出荷する場合には、図３には図示しないが、出荷前に、ウエハレンズ積層体５０に対して、再度、上述の二酸化炭素洗浄を行った後、光学性能検査を行う。その後ウェハレンズ積層体状態の製品については出荷を行う。
一方、断片化して撮像用レンズ２として出荷する場合には、スペーサ７を貼り付けて、ウエハレンズ積層体５０とした後、ダイサーなどを使用して、図２に示す通り、１組の凸レンズ部１６ａ，凹レンズ部２２ａ，凹レンズ部３２ａ，凸レンズ部３４ａを一単位として、その組ごとにウエハレンズ積層体５０をダイシングライン６０で切断（ダイシング）して断片化する。
その結果、複数の撮像用レンズ２が製造される。
樹脂部１６，２２，３２，３４をダイシングする場合、例えば、砥粒による切断でエンドレス刃（回転刃）を用いるダイサーを使用し、エンドレス刃の回転数を１〜２万ｒｐｍとすることが好ましい。
樹脂部１６，２２，３２，３４をダイシングする場合、物体側の樹脂部１６から像側の樹脂部３４に向けて切断することが好ましい。ダイシング中は、樹脂部１６，２２，３２，３４のダイシング部分で粉塵が舞うため、好ましくはダイシング部分に対し防塵用の純水を流しながら（噴出しながら）切断する。
その結果、複数の撮像用レンズ２が製造される。
樹脂部１６，２２，３２，３４をダイシングする場合、例えば、砥粒による切断でエンドレス刃（回転刃）を用いるダイサーを使用し、エンドレス刃の回転数を１〜２万ｒｐｍとすることが好ましい。
樹脂部１６，２２，３２，３４をダイシングする場合、物体側の樹脂部１６から像側の樹脂部３４に向けて切断することが好ましい。ダイシング中は、樹脂部１６，２２，３２，３４のダイシング部分で粉塵が舞うため、好ましくはダイシング部分に対し防塵用の純水を流しながら（噴出しながら）切断する。
本実施の形態においては、ダイシングにより撮像用レンズ２を作製した後に、撮像素子のカバーガラス４や撮像素子６を設置する形態としたが、ウエハレンズ積層体５０と複数の撮像素子６が設けられた基板を積層した後にダイシングすることで、撮像装置１を得ることも可能である。
電子機器の製造方法の一例として、撮像装置１と他の電子部品とをプリント配線基板に実装する場合には、プリント配線基板上にあらかじめ半田を配置し、そこへ撮像装置１と電子部品とを配置してからリフロー炉に投入・加熱して半田を溶融させ、その後冷却することにより、撮像装置１と電子部品とをプリント配線基板に同時に実装することができる。
［二酸化炭素洗浄］
次に、上述のステップＳ５におけるウエハレンズ５１に対する二酸化炭素洗浄について、図４及び図５を参照して具体的に説明する。
図４は、二酸化炭素洗浄装置の概略図である。
二酸化炭素洗浄装置９は、洗浄室９１と、洗浄室９１内に設けられてウエハレンズ５１が載置されるステージ９２と、液体の二酸化炭素を噴射させてステージ９２に載置されたウエハレンズ５１に対して、ドライアイス粒子Ａを衝突させるノズル９３と、ノズル９３に液体の二酸化炭素を供給する二酸化炭素供給源９４と、ノズル９３と二酸化炭素供給源９４とを接続するダクト９５と、ダクト９５に設けられて液体の二酸化炭素を加圧してノズル９３から噴射させる加圧装置９６と、を備える。また、洗浄室９１には、露点を制御するためのN2を供給するための口（図示しない）が設けられている。
さらに、洗浄室９１は、ウエハレンズ５１を出し入れするための密閉可能な開閉口（図示しない）や、洗浄室９１内の気体（炭酸ガス等）を排気するための排気口９７、ゴミを捕捉するフィルタ（図示しない）、除電器（図示しない）等が設けられている。
次に、上述のステップＳ５におけるウエハレンズ５１に対する二酸化炭素洗浄について、図４及び図５を参照して具体的に説明する。
図４は、二酸化炭素洗浄装置の概略図である。
二酸化炭素洗浄装置９は、洗浄室９１と、洗浄室９１内に設けられてウエハレンズ５１が載置されるステージ９２と、液体の二酸化炭素を噴射させてステージ９２に載置されたウエハレンズ５１に対して、ドライアイス粒子Ａを衝突させるノズル９３と、ノズル９３に液体の二酸化炭素を供給する二酸化炭素供給源９４と、ノズル９３と二酸化炭素供給源９４とを接続するダクト９５と、ダクト９５に設けられて液体の二酸化炭素を加圧してノズル９３から噴射させる加圧装置９６と、を備える。また、洗浄室９１には、露点を制御するためのN2を供給するための口（図示しない）が設けられている。
さらに、洗浄室９１は、ウエハレンズ５１を出し入れするための密閉可能な開閉口（図示しない）や、洗浄室９１内の気体（炭酸ガス等）を排気するための排気口９７、ゴミを捕捉するフィルタ（図示しない）、除電器（図示しない）等が設けられている。
ノズル９３は、ウエハレンズ５１のレンズ部１６aに沿って移動可能に構成されている。図５Ａ，図５Ｂは、複数のレンズ部及びノズルの平面図である。
図５に示すように、ノズル９３は、互いに隣接するレンズ部１６a間を移動し、かつ、縦方向に並ぶレンズ部１６aや横方向に並ぶレンズ部１６aにそれぞれ沿って移動するようになっている。
具体的には、図５Ａに示すように、左上のレンズ部１６aから右下のレンズ部１６aまで蛇行して移動し、その後、図５Ｂに示すように、右下のレンズ部１６aから左上のレンズ部１６bまで蛇行して戻るようになっている。なおこのとき図５Ａの場合は左上から右上などの左右の行方向、図５Ｂの場合は右下から右上までの上下の列方向のノズルの動き方向を主走査方向とする。またそれらに対してほぼ垂直の方向を副走査方向とする。
つまり、図５Ａに示すように、ノズル９３は、横方向に並ぶ１行目のレンズ部１６aと２行目のレンズ部１６aとの間を狙うよう に配置され、右方向に沿って直線状に移動した後、２行目のレンズ部１６aと３行目のレンズ部１６aとの間に移動して、左方向に沿って直線状に移動した後、さらに、３行目のレンズ部１６aの外側に回りこんで、右方向に沿って直線状に移動する。その後、図５Ｂに示すように、図５Ａの最終洗浄を行ったレンズ部１６aから移動を開始して、縦方向に並ぶ１列目のレンズ部１６aと２列目のレンズ部１６aとの間に配置され、上方向に沿って直線状に移動した後、２列目のレンズ部１６aと３列目のレンズ部１６aとの間に配置され、下方向に沿って直線状に移動した後、さらに、３列目のレンズ部１６aの外側に回りこんで、上方向に沿って直線状に移動する。このような移動によって、図５Ａの洗浄開始時のレンズ部１６aの位置に戻る。
以上のように、ウエハレンズ５１の横方向及び縦方向に複数回移動させて、洗浄することによって、各レンズ部もしくはレンズ部周辺すべてについて一定時間たった後複数回洗浄を行うため、一度の洗浄で取り切れないゴミを含め、確実にゴミの除去を行うことができるようになっている。前記一度の洗浄で取り切れないゴミとは、上記レンズ部は格子状など規則的に配置されている場合が多いが、ノズル９３の噴射方向は一方方向のためレンズの影になる部分などゴミが除去されない箇所に残るゴミや、一度除去されたゴミでも他のレンズ部に付着するゴミなどである。これらひとつのレンズの洗浄工程間に一定期間を有することをで、上記他箇所からの空中に舞って落ちてくるゴミなどや、影になる部分のゴミを除去するための移動時間などを確保することができる。
図５に示すように、ノズル９３は、互いに隣接するレンズ部１６a間を移動し、かつ、縦方向に並ぶレンズ部１６aや横方向に並ぶレンズ部１６aにそれぞれ沿って移動するようになっている。
具体的には、図５Ａに示すように、左上のレンズ部１６aから右下のレンズ部１６aまで蛇行して移動し、その後、図５Ｂに示すように、右下のレンズ部１６aから左上のレンズ部１６bまで蛇行して戻るようになっている。なおこのとき図５Ａの場合は左上から右上などの左右の行方向、図５Ｂの場合は右下から右上までの上下の列方向のノズルの動き方向を主走査方向とする。またそれらに対してほぼ垂直の方向を副走査方向とする。
つまり、図５Ａに示すように、ノズル９３は、横方向に並ぶ１行目のレンズ部１６aと２行目のレンズ部１６aとの間を狙うよう に配置され、右方向に沿って直線状に移動した後、２行目のレンズ部１６aと３行目のレンズ部１６aとの間に移動して、左方向に沿って直線状に移動した後、さらに、３行目のレンズ部１６aの外側に回りこんで、右方向に沿って直線状に移動する。その後、図５Ｂに示すように、図５Ａの最終洗浄を行ったレンズ部１６aから移動を開始して、縦方向に並ぶ１列目のレンズ部１６aと２列目のレンズ部１６aとの間に配置され、上方向に沿って直線状に移動した後、２列目のレンズ部１６aと３列目のレンズ部１６aとの間に配置され、下方向に沿って直線状に移動した後、さらに、３列目のレンズ部１６aの外側に回りこんで、上方向に沿って直線状に移動する。このような移動によって、図５Ａの洗浄開始時のレンズ部１６aの位置に戻る。
以上のように、ウエハレンズ５１の横方向及び縦方向に複数回移動させて、洗浄することによって、各レンズ部もしくはレンズ部周辺すべてについて一定時間たった後複数回洗浄を行うため、一度の洗浄で取り切れないゴミを含め、確実にゴミの除去を行うことができるようになっている。前記一度の洗浄で取り切れないゴミとは、上記レンズ部は格子状など規則的に配置されている場合が多いが、ノズル９３の噴射方向は一方方向のためレンズの影になる部分などゴミが除去されない箇所に残るゴミや、一度除去されたゴミでも他のレンズ部に付着するゴミなどである。これらひとつのレンズの洗浄工程間に一定期間を有することをで、上記他箇所からの空中に舞って落ちてくるゴミなどや、影になる部分のゴミを除去するための移動時間などを確保することができる。
また、ノズル９３の噴射口９３aは、図５Ａの１行目のレンズ部１６aに噴射する場合には、移動方向下流側の２行目や３行目に位置するレンズ部１６a側を向かないように背を向けるようにして配置する。
図５Ｂの１列目のレンズ部１６aに噴射する場合には、下流側の２列目や３列目に位置するレンズ部１６a側を向かないように背を向けるようにして配置する。
このように、ノズル９３の噴射口９３aを、下流側の行や列のレンズ部１６aに対して背を向けるようにして配置し、ドライアイス粒子Ａを噴射させるので、ドライアイス粒子Ａの衝突によって冷却したレンズ部１６aは、その後、ドライアイス粒子Ａが吹き付けられない場合、昇温することになるが、下流側のレンズ部１６aに対してドライアイス粒子Ａを衝突させている際にもドライアイス粒子Ａが若干吹き付けられることになるので、これによって昇温が緩やかとなる。その結果、温度差によるレンズ部１６aのソリを抑制することができる。ガラスと樹脂による積層されたウエハレンズの場合、ガラスと樹脂で線膨張係数が異なることとなる。よって温度差によるソリは発生しやすく、温度差をなるべくつけない事が重要となる。
図５Ｂの１列目のレンズ部１６aに噴射する場合には、下流側の２列目や３列目に位置するレンズ部１６a側を向かないように背を向けるようにして配置する。
このように、ノズル９３の噴射口９３aを、下流側の行や列のレンズ部１６aに対して背を向けるようにして配置し、ドライアイス粒子Ａを噴射させるので、ドライアイス粒子Ａの衝突によって冷却したレンズ部１６aは、その後、ドライアイス粒子Ａが吹き付けられない場合、昇温することになるが、下流側のレンズ部１６aに対してドライアイス粒子Ａを衝突させている際にもドライアイス粒子Ａが若干吹き付けられることになるので、これによって昇温が緩やかとなる。その結果、温度差によるレンズ部１６aのソリを抑制することができる。ガラスと樹脂による積層されたウエハレンズの場合、ガラスと樹脂で線膨張係数が異なることとなる。よって温度差によるソリは発生しやすく、温度差をなるべくつけない事が重要となる。
なお、図６Ａ，図６Ｂに示すように、ノズル９３の噴射口９３aを図５Ａ，図５Ｂとは反対となるように配置しても構わない。具体的には、ノズル９３の噴射口９３aを、下流側の行や列のレンズ部１６a側を向くように配置する。
このように、ノズル９３の噴射口９３aを配置することによって、レンズ部１６aの洗浄とともに、洗浄したゴミも下流側へと同時に移動させることができるので、ゴミが上流側や下流側へと散乱するのを防止することができる。
このように、ノズル９３の噴射口９３aを配置することによって、レンズ部１６aの洗浄とともに、洗浄したゴミも下流側へと同時に移動させることができるので、ゴミが上流側や下流側へと散乱するのを防止することができる。
次に、上記二酸化炭素洗浄装置９の動作について説明する。
まず、ステージ９２上にウエハレンズ５１を載置する。このとき、ガラス基板１２の両面にレンズ部１６a，２２aが設けられているので、ステージ９２側を向くレンズ部２２aがステージ９１に接触しないように、ステージ９２に対してガラス基板１２を浮かせて載置することが好ましい。具体的には、ステージ９２上にガラス基板１２を支持するピン（図示しない）を複数立設させておき、これらピン上にガラス基板１２を支持させるようにする。
まず、ステージ９２上にウエハレンズ５１を載置する。このとき、ガラス基板１２の両面にレンズ部１６a，２２aが設けられているので、ステージ９２側を向くレンズ部２２aがステージ９１に接触しないように、ステージ９２に対してガラス基板１２を浮かせて載置することが好ましい。具体的には、ステージ９２上にガラス基板１２を支持するピン（図示しない）を複数立設させておき、これらピン上にガラス基板１２を支持させるようにする。
そして、洗浄室９１内を密閉して窒素ガスを充填する。このようにして洗浄室９１内を、露点−４０℃以下となるように設定する。
その後、加圧装置９６を駆動させることにより、二酸化炭素供給源９４からノズル９３へと液体の二酸化炭素を送り込む。
そして、ノズル９３を上述のように隣接するレンズ部１６a間に配置させて、所定の方向に移動させる。なお、ノズル９３のレンズ部１６aに対する傾斜角度は、光軸と直交する面に対して２０〜５０°とすることが望ましいが特には３０〜４５°が好ましい。ここで２０°以下では二酸化炭素の密度が下がって適切に清掃できない。また５０°以上とすると角度がきつすぎてゴミが散乱してしまい適切に清掃できない。
送り込まれた液体の二酸化炭素は、ノズル９３の噴射口９３aから、ドライアイス粒子Ａとなって噴射される。噴射されたドライアイス粒子Ａは、ウエハレンズ５１のレンズ部１６aに所定の角度と速度で衝突する。ドライアイス粒子Ａの衝突によってレンズ部１６aに付着しているゴミがレンズ部１６aから剥離し、除去される。衝突したドライアイス粒子Ａは、その後、洗浄室９１内で昇華して炭酸ガスとなり、洗浄後、排気口９７から排気される。
その後、加圧装置９６を駆動させることにより、二酸化炭素供給源９４からノズル９３へと液体の二酸化炭素を送り込む。
そして、ノズル９３を上述のように隣接するレンズ部１６a間に配置させて、所定の方向に移動させる。なお、ノズル９３のレンズ部１６aに対する傾斜角度は、光軸と直交する面に対して２０〜５０°とすることが望ましいが特には３０〜４５°が好ましい。ここで２０°以下では二酸化炭素の密度が下がって適切に清掃できない。また５０°以上とすると角度がきつすぎてゴミが散乱してしまい適切に清掃できない。
送り込まれた液体の二酸化炭素は、ノズル９３の噴射口９３aから、ドライアイス粒子Ａとなって噴射される。噴射されたドライアイス粒子Ａは、ウエハレンズ５１のレンズ部１６aに所定の角度と速度で衝突する。ドライアイス粒子Ａの衝突によってレンズ部１６aに付着しているゴミがレンズ部１６aから剥離し、除去される。衝突したドライアイス粒子Ａは、その後、洗浄室９１内で昇華して炭酸ガスとなり、洗浄後、排気口９７から排気される。
ウエハレンズ５１の洗浄終了後、洗浄室９１から取り出す前にウエハレンズ５１をヒータ（図示しない）等により加熱することが好ましい（加熱工程）。洗浄により冷却したウエハレンズ５１を加熱することにより、洗浄室９１外へ取り出した際のソリを防止することができる。
以上の二酸化炭素洗浄は、レンズ部２２aに対しても同様に適用でき、また、ステップＳ９，Ｓ１０，Ｓ１１，Ｓ１３の二酸化炭素洗浄においても同様に適用することができる。
なお、上述の二酸化炭素洗浄装置９では、ノズル９３を、ウエハレンズ５１のレンズ部１６aに対して移動させるとしたが、反対に、ウエハレンズ５１側をノズル９３に対して移動させてレンズ部１６aの洗浄を行うように構成しても良い。この場合、ステージ９２を移動可能に構成すれば良い。
また、上記ノズル９３の移動方向は、上述した図４や図５に限定されるものではなく、適宜変更可能である。
また、上記ノズル９３の移動方向は、上述した図４や図５に限定されるものではなく、適宜変更可能である。
以上のように、本実施形態では、ウエハレンズ５１，５２を積層する前に、液体の二酸化炭素を噴射させることにより、ドライアイス粒子Ａとし、ウエハレンズ５１のレンズ部１６aにドライアイス粒子Ａを衝突させることによって、レンズ部１６aを洗浄するので、レンズ部１６aに付着していたゴミを確実かつ容易に剥離して除去することができる。したがって、ゴミによってレンズ間隔が変わってしまうといった問題も生じることなく、光学性能の劣化を防止することができる。
さらに、ウエハレンズ５１，５２を積層した後で、二酸化炭素洗浄を行ったスペーサ７を積層し、再度、二酸化炭素洗浄を行うので、ゴミの除去をより確実に行うことができ、光学性能の劣化防止に有効となる。
また、二酸化炭素洗浄は完全なドライ洗浄であるので、従来の水洗浄によるレンズ部の吸湿により光学性能が変化したり、超音波洗浄により樹脂の基板からの剥がれが生じることも防止することができる。
また、ノズル９３から各レンズ部１６aにドライアイス粒子Ａを衝突させる構成であるので、ノズル９３のレンズ部１６aに対する角度やガス流速、ドライアイス粒子Ａの粒径及び密度を容易に調整することができ、洗浄に効果的である。
さらに、ウエハレンズ５１，５２を積層した後で、二酸化炭素洗浄を行ったスペーサ７を積層し、再度、二酸化炭素洗浄を行うので、ゴミの除去をより確実に行うことができ、光学性能の劣化防止に有効となる。
また、二酸化炭素洗浄は完全なドライ洗浄であるので、従来の水洗浄によるレンズ部の吸湿により光学性能が変化したり、超音波洗浄により樹脂の基板からの剥がれが生じることも防止することができる。
また、ノズル９３から各レンズ部１６aにドライアイス粒子Ａを衝突させる構成であるので、ノズル９３のレンズ部１６aに対する角度やガス流速、ドライアイス粒子Ａの粒径及び密度を容易に調整することができ、洗浄に効果的である。
１ 撮像装置
２ 撮像用レンズ
４ 撮像素子のカバーガラス
６ 撮像素子
７ スペーサ
８，１０ レンズ群
９ 二酸化炭素洗浄装置
１２ ガラス基板
１４ ＩＲカットコート
１６ 樹脂部
１６ａ 凸レンズ部
１６ｂ 非レンズ部
１８a，１８b，１８c 絞り
２０ ＩＲカットコート
２２ 樹脂部
２２ａ 凹レンズ部
２２ｂ 非レンズ部
３０ ガラス基板
３２ 樹脂部
３２ａ 凹レンズ部
３２ｂ 非レンズ部
３４ 樹脂部
３４ａ 凸レンズ部
３４ｂ 非レンズ部
５０ ウエハレンズ積層体
５１，５２ ウエハレンズ
６０ ダイシングライン
９１ 洗浄室
９２ ステージ
９３ ノズル
９３a 噴射口
９４ 二酸化炭素供給源
９５ ダクト
９６ 加圧装置
９７ 排気口
Ａ ドライアイス粒子
２ 撮像用レンズ
４ 撮像素子のカバーガラス
６ 撮像素子
７ スペーサ
８，１０ レンズ群
９ 二酸化炭素洗浄装置
１２ ガラス基板
１４ ＩＲカットコート
１６ 樹脂部
１６ａ 凸レンズ部
１６ｂ 非レンズ部
１８a，１８b，１８c 絞り
２０ ＩＲカットコート
２２ 樹脂部
２２ａ 凹レンズ部
２２ｂ 非レンズ部
３０ ガラス基板
３２ 樹脂部
３２ａ 凹レンズ部
３２ｂ 非レンズ部
３４ 樹脂部
３４ａ 凸レンズ部
３４ｂ 非レンズ部
５０ ウエハレンズ積層体
５１，５２ ウエハレンズ
６０ ダイシングライン
９１ 洗浄室
９２ ステージ
９３ ノズル
９３a 噴射口
９４ 二酸化炭素供給源
９５ ダクト
９６ 加圧装置
９７ 排気口
Ａ ドライアイス粒子
Claims (10)
- 基板の少なくとも一方の面に硬化性樹脂製のレンズ部が形成されたウエハレンズを一層以上有する複数の層を積層させた撮像用レンズの製造方法であって、
ウエハレンズを含む複数の層を積層する前に、二酸化炭素を噴射させることにより、ドライアイス粒子とし、このドライアイス粒子を、前記ウエハレンズの前記レンズ部もしくはレンズ部周辺に衝突させることによって、前記レンズ部の二酸化炭素洗浄を行う第１の洗浄工程を備えることを特徴とする撮像用レンズの製造方法。 - 前記複数の層のうち少なくとも一層は前記二酸化炭素洗浄を行ったスペーサであることを特徴とする請求項１に記載の撮像用レンズの製造方法。
- 前記複数の層を積層した後に、前記ウエハレンズの前記レンズ部もしくはレンズ部周辺及び前記スペーサに対して前記二酸化炭素洗浄を行う第２のレンズ部洗浄工程を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の撮像用レンズの製造方法。
- 前記ウエハレンズは、複数の前記レンズ部を有しており、
複数の前記レンズ部のうち、横方向に並ぶレンズ部の行及び縦方向に並ぶレンズ部の列に沿って、二酸化炭素を噴射するノズルを相対移動する最中に 、各レンズ部に対して前記ドライアイス粒子を衝突させて前記二酸化炭素洗浄を行う工程を少なくとも２回以上行い、前記工程と工程の間は一定期間を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の撮像用レンズの製造方法。 - 前記複数回繰り返すうち少なくとも１回は異なるノズル噴射方向から前記ドライアイス粒子を衝突させて前記二酸化炭素洗浄を行うことを特徴とする請求項４に記載の撮像用レンズの製造方法。
- 前記ノズルを、互いに隣接するレンズ部の間を狙うような位置に配置して相対移動させることを特徴とする請求項４又は５に記載の撮像用レンズの製造方法。
- 前記ノズルの噴射口は、前記ノズルの移動方向のうち主走査方向に対して垂直となるように配置することを特徴とする請求項４〜６のいずれか一項に記載の撮像用レンズの製造方法。
- 前記ノズルの噴射口は、前記ノズルの移動方向のうち副走査方向における下流側の列及び行のレンズ部に対して背を向ける方向に噴射するようにして配置することを特徴とする請求項４〜７のいずれか一項に記載の撮像用レンズの製造方法。
- 前記ノズルの噴射口は、前記ノズルの移動方向のうち副走査方向における下流側の前記列及び前記行のレンズ部側を向く方向に噴射するように配置することを特徴とする請求項４〜７のいずれか一項に記載の撮像用レンズの製造方法。
- 前記二酸化炭素洗浄を行った前記ウエハレンズに対して、加熱する加熱工程を備えることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の撮像用レンズの製造方法。
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