JPH06295894A - 洗浄方法および洗浄装置 - Google Patents
洗浄方法および洗浄装置Info
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- JPH06295894A JPH06295894A JP8223493A JP8223493A JPH06295894A JP H06295894 A JPH06295894 A JP H06295894A JP 8223493 A JP8223493 A JP 8223493A JP 8223493 A JP8223493 A JP 8223493A JP H06295894 A JPH06295894 A JP H06295894A
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- cleaning
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 アルゴンを用い、微細な溝や穴などに付着し
た汚染物を除去する。 【構成】 ある方向にほぼ等間隔で配列した複数のノズ
ルから所定の吹き出し方向にアルゴン微粒子を含む流体
を吹き出す工程と、前記ノズルから前記所定の方向とは
異なる吹き出し方向に吹き出す工程と、前記吹き出し方
向に被洗浄物を配置し、前記アルゴン微粒子を含む流体
が前記被洗浄物の表面に当たるように前記複数のノズル
と被洗浄物とを相対的に移動させる工程とを含む。ま
た、複数のノズルをある方向にほぼ等間隔で配列し、ア
ルゴン微粒子を含む流体を複数の異なる方向に吹き出す
ノズル装置と、前記アルゴン微粒子を含む流体の吹き出
し方向に被洗浄物を支持し、前記ノズル装置と被洗浄物
とを相対的に所定方向に移動させることのできる駆動手
段と、前記ノズル装置と前記駆動手段を収容する真空容
器と、前記真空容器内を排気できる排気手段とを有す
る。
た汚染物を除去する。 【構成】 ある方向にほぼ等間隔で配列した複数のノズ
ルから所定の吹き出し方向にアルゴン微粒子を含む流体
を吹き出す工程と、前記ノズルから前記所定の方向とは
異なる吹き出し方向に吹き出す工程と、前記吹き出し方
向に被洗浄物を配置し、前記アルゴン微粒子を含む流体
が前記被洗浄物の表面に当たるように前記複数のノズル
と被洗浄物とを相対的に移動させる工程とを含む。ま
た、複数のノズルをある方向にほぼ等間隔で配列し、ア
ルゴン微粒子を含む流体を複数の異なる方向に吹き出す
ノズル装置と、前記アルゴン微粒子を含む流体の吹き出
し方向に被洗浄物を支持し、前記ノズル装置と被洗浄物
とを相対的に所定方向に移動させることのできる駆動手
段と、前記ノズル装置と前記駆動手段を収容する真空容
器と、前記真空容器内を排気できる排気手段とを有す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、洗浄方法および洗浄装
置に関し、特に半導体ウエハのごとき平板の表面を洗浄
するのに適した洗浄方法および洗浄装置に関する。
置に関し、特に半導体ウエハのごとき平板の表面を洗浄
するのに適した洗浄方法および洗浄装置に関する。
【０００２】ＬＳＩ製造工程における半導体ウエハの表
面上やＬＣＤあるいは太陽電池等の表面上の微粒子や汚
れは、最終製品の歩留りを大きく低下させる。このた
め、ウエハの表面洗浄が極めて重要である。なお、洗浄
に伴って環境破壊を生じさせないことも重要である。
面上やＬＣＤあるいは太陽電池等の表面上の微粒子や汚
れは、最終製品の歩留りを大きく低下させる。このた
め、ウエハの表面洗浄が極めて重要である。なお、洗浄
に伴って環境破壊を生じさせないことも重要である。
【０００３】
【従来の技術】従来より種々の表面洗浄方法が提案され
ている。半導体ウエハやＬＣＤの表面洗浄に用いられる
表面洗浄方法を概略的に以下に説明する。
ている。半導体ウエハやＬＣＤの表面洗浄に用いられる
表面洗浄方法を概略的に以下に説明する。
【０００４】化学洗浄または溶剤洗浄 表面の汚れを化学反応もしくは溶解によって除去する方
法である。水、酸、有機溶媒、フレオン等が用いられる
が、除去すべき汚れに対して有効な薬剤を選択する必要
がある。超音波洗浄と組み合わせることにより、物理的
洗浄力を増大させることもできる。洗浄後の表面に汚れ
を残さないためには、高純度の薬剤を使用する必要があ
る。
法である。水、酸、有機溶媒、フレオン等が用いられる
が、除去すべき汚れに対して有効な薬剤を選択する必要
がある。超音波洗浄と組み合わせることにより、物理的
洗浄力を増大させることもできる。洗浄後の表面に汚れ
を残さないためには、高純度の薬剤を使用する必要があ
る。
【０００５】水は、高純度が得易く、大量に使用するこ
ともできるが、表面に水が残ると、その後の汚染原因と
なる。また、水によって溶解することのできる汚れの種
類は限られている。
ともできるが、表面に水が残ると、その後の汚染原因と
なる。また、水によって溶解することのできる汚れの種
類は限られている。
【０００６】その他の有用な溶剤は、使用後廃棄すると
環境破壊を生じさせるものが多い。環境破壊を防止する
ため循環使用する場合は、循環液の再精製が困難であ
り、高価なものとなる。また、同一薬剤を用いて洗浄を
繰り返し、薬剤中に汚染物が累積すると、洗浄表面にこ
の汚染物が付着することとなり、製品不良を起こしてし
まう。
環境破壊を生じさせるものが多い。環境破壊を防止する
ため循環使用する場合は、循環液の再精製が困難であ
り、高価なものとなる。また、同一薬剤を用いて洗浄を
繰り返し、薬剤中に汚染物が累積すると、洗浄表面にこ
の汚染物が付着することとなり、製品不良を起こしてし
まう。
【０００７】氷微粒子吹き付け 氷の微粒子を表面に吹き付け、表面上の微粒子および汚
れを除去する方法である。しかしながら、現在作成でき
る氷の微粒子の径は、十分小さくすることができず、１
μｍ以下の微粒子の除去が困難である。
れを除去する方法である。しかしながら、現在作成でき
る氷の微粒子の径は、十分小さくすることができず、１
μｍ以下の微粒子の除去が困難である。
【０００８】ＣＯ2 微粒子吹き付け ドライアイスの微粒子を表面に吹き付け、表面上の微粒
子および汚れを除去する方法である。しかしながら、炭
酸ガス中から炭化水素化合物を極低濃度まで除去するこ
とは極めて困難であり、ＣＯ2 を冷却して吹き付ける
と、炭化水素化合物が凝縮し、洗浄表面に固着してしま
う。また、ＣＯ2 もＣの汚染源となる。
子および汚れを除去する方法である。しかしながら、炭
酸ガス中から炭化水素化合物を極低濃度まで除去するこ
とは極めて困難であり、ＣＯ2 を冷却して吹き付ける
と、炭化水素化合物が凝縮し、洗浄表面に固着してしま
う。また、ＣＯ2 もＣの汚染源となる。
【０００９】ガス噴射 ガスを固体表面に吹き付け、固体表面を洗浄する方法で
ある。しかしながら、固体表面上にはガス流速が極めて
遅い境界層が形成されてしまい、このような遅いガス流
速によっては微粒子を除去する力が弱い。したがって、
１μｍ以下の微粒子の除去は困難である。なお、粒子の
表面付着力は直径に比例し、ガス流が粒子に与える除去
力は粒子の直径の二乗に比例する。
ある。しかしながら、固体表面上にはガス流速が極めて
遅い境界層が形成されてしまい、このような遅いガス流
速によっては微粒子を除去する力が弱い。したがって、
１μｍ以下の微粒子の除去は困難である。なお、粒子の
表面付着力は直径に比例し、ガス流が粒子に与える除去
力は粒子の直径の二乗に比例する。
【００１０】極低温アルゴンガス吹き付け アルゴンガスまたはアルゴンガスを含む混合ガスを極低
温にし、表面に吹き付ける方法である。ノズルから真空
容器中にガスを開放することにより、ガスは急激に断熱
膨張し、その温度を低下させる。温度低下の結果、固体
アルゴンが形成され、固体アルゴン微粒子が表面上に衝
突する。
温にし、表面に吹き付ける方法である。ノズルから真空
容器中にガスを開放することにより、ガスは急激に断熱
膨張し、その温度を低下させる。温度低下の結果、固体
アルゴンが形成され、固体アルゴン微粒子が表面上に衝
突する。
【００１１】たとえば、加圧状態でのアルゴンを含むガ
スを、その圧力でのアルゴンガスの液化点よりも高い温
度まで冷却し、ノズルから真空容器中に吹き出すことに
より、気体アルゴンを固体アルゴンに変化させる方法が
提案されている（たとえば、ＥＰ−Ａ２−４６１４７６
号公報参照）。
スを、その圧力でのアルゴンガスの液化点よりも高い温
度まで冷却し、ノズルから真空容器中に吹き出すことに
より、気体アルゴンを固体アルゴンに変化させる方法が
提案されている（たとえば、ＥＰ−Ａ２−４６１４７６
号公報参照）。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】アルゴンは不活性元素
であり、固体表面に付着しても悪影響を与えることは極
めて少ない。また、アルゴンの固化温度は比較的高温で
あり、冷却によって固体アルゴンを得ることも比較的容
易である。
であり、固体表面に付着しても悪影響を与えることは極
めて少ない。また、アルゴンの固化温度は比較的高温で
あり、冷却によって固体アルゴンを得ることも比較的容
易である。
【００１３】しかしながら、固体アルゴンの微粒子を用
いた実用的な洗浄技術は未だ開発されておらず、高い洗
浄能力を得ることができない。とくに、半導体ウエハや
液晶表示装置の基板などは、その表面に微小な凹凸のパ
ターンが形成されている。たとえば、図８の（ａ）のよ
うに半導体ウエハ３の表面に形成された微小な溝２１の
中に汚染物２５が付着している場合、ノズル２６からウ
エハ３の表面に向けてアルゴン微粒子２７を吹き出しつ
つ、ウエハ３を図の矢印方向に移動したとする。
いた実用的な洗浄技術は未だ開発されておらず、高い洗
浄能力を得ることができない。とくに、半導体ウエハや
液晶表示装置の基板などは、その表面に微小な凹凸のパ
ターンが形成されている。たとえば、図８の（ａ）のよ
うに半導体ウエハ３の表面に形成された微小な溝２１の
中に汚染物２５が付着している場合、ノズル２６からウ
エハ３の表面に向けてアルゴン微粒子２７を吹き出しつ
つ、ウエハ３を図の矢印方向に移動したとする。
【００１４】すると、溝２１のＡで示す部分の汚染物は
アルゴン微粒子により吹き飛ばされるが、Ｂで示す部分
は溝２１の壁の影になってアルゴン微粒子２７が当たら
ない。
アルゴン微粒子により吹き飛ばされるが、Ｂで示す部分
は溝２１の壁の影になってアルゴン微粒子２７が当たら
ない。
【００１５】また、図８の（ｂ）で示すような突起２２
がウエハ３の表面に形成されている場合でも同様にノズ
ル２６の吹き出し方向に対して突起２２が影を作る部分
Ｃに付着した汚染物２９は取り除くことが難しい。
がウエハ３の表面に形成されている場合でも同様にノズ
ル２６の吹き出し方向に対して突起２２が影を作る部分
Ｃに付着した汚染物２９は取り除くことが難しい。
【００１６】このように、従来は微小なパターンの溝や
穴、あるいは突起部の影の部分に付着している汚染物を
アルゴン微粒子で確実に取り除くことは困難であった。
本発明の目的は、アルゴンを用い、微細な溝や穴などに
付着した汚染物を除去することのできる実用的な洗浄能
力を有する洗浄方法および洗浄装置を提供することであ
る。
穴、あるいは突起部の影の部分に付着している汚染物を
アルゴン微粒子で確実に取り除くことは困難であった。
本発明の目的は、アルゴンを用い、微細な溝や穴などに
付着した汚染物を除去することのできる実用的な洗浄能
力を有する洗浄方法および洗浄装置を提供することであ
る。
【００１７】
【課題を解決するための手段】本発明の洗浄方法は、あ
る方向にほぼ等間隔で配列した複数のノズルから所定の
吹き出し方向にアルゴン微粒子を含む流体を吹き出す工
程と、前記ある方向にほぼ等間隔で配列した複数のノズ
ルから前記所定の方向とは異なる吹き出し方向にアルゴ
ン微粒子を含む流体を吹き出す工程と、前記吹き出し方
向に被洗浄物を配置し、前記アルゴン微粒子を含む流体
が前記被洗浄物の表面に当たるように前記複数のノズル
と被洗浄物とを相対的に移動させる工程とを含む。
る方向にほぼ等間隔で配列した複数のノズルから所定の
吹き出し方向にアルゴン微粒子を含む流体を吹き出す工
程と、前記ある方向にほぼ等間隔で配列した複数のノズ
ルから前記所定の方向とは異なる吹き出し方向にアルゴ
ン微粒子を含む流体を吹き出す工程と、前記吹き出し方
向に被洗浄物を配置し、前記アルゴン微粒子を含む流体
が前記被洗浄物の表面に当たるように前記複数のノズル
と被洗浄物とを相対的に移動させる工程とを含む。
【００１８】また、本発明の洗浄装置は、複数のノズル
をある方向にほぼ等間隔で配列し、アルゴン微粒子を含
む流体を複数の異なる方向に吹き出すノズル装置と、前
記アルゴン微粒子を含む流体の吹き出し方向に被洗浄物
を支持し、前記ノズル装置と被洗浄物とを相対的に所定
方向に移動させることのできる駆動手段と、前記ノズル
装置と前記駆動手段を収容する真空容器と、前記真空容
器内を排気できる排気手段とを有する。
をある方向にほぼ等間隔で配列し、アルゴン微粒子を含
む流体を複数の異なる方向に吹き出すノズル装置と、前
記アルゴン微粒子を含む流体の吹き出し方向に被洗浄物
を支持し、前記ノズル装置と被洗浄物とを相対的に所定
方向に移動させることのできる駆動手段と、前記ノズル
装置と前記駆動手段を収容する真空容器と、前記真空容
器内を排気できる排気手段とを有する。
【００１９】
【作用】被洗浄物とノズル装置とを相対移動させながら
被洗浄物の表面にノズル装置によってアルゴン微粒子を
所定の方向から吹きつける。さらに、ノズル装置によっ
て別の方向からアルゴン微粒子を被洗浄物の表面に吹き
つける。アルゴン微粒子が異なる方向から被洗浄物の表
面に吹きつけられるので、被洗浄物の表面の凹凸の影に
なる部分も洗浄することができる。
被洗浄物の表面にノズル装置によってアルゴン微粒子を
所定の方向から吹きつける。さらに、ノズル装置によっ
て別の方向からアルゴン微粒子を被洗浄物の表面に吹き
つける。アルゴン微粒子が異なる方向から被洗浄物の表
面に吹きつけられるので、被洗浄物の表面の凹凸の影に
なる部分も洗浄することができる。
【００２０】
【実施例】図１に、本発明の実施例による洗浄装置の基
本構成を示す。気密構造の真空容器１は、真空ポンプの
ような排気装置５に接続されており、内部を排気して真
空容器を構成することができる。真空容器１内には、複
数のノズルが配列されたノズル装置２と、ノズル装置２
に対向して半導体ウエハ等の被洗浄物３を載置する駆動
機構４が設けられている。駆動機構４は、図のｙ方向お
よびｙ方向と直交し複数のノズルの配列方向であるｘ方
向（紙面に垂直な方向）に駆動可能である。
本構成を示す。気密構造の真空容器１は、真空ポンプの
ような排気装置５に接続されており、内部を排気して真
空容器を構成することができる。真空容器１内には、複
数のノズルが配列されたノズル装置２と、ノズル装置２
に対向して半導体ウエハ等の被洗浄物３を載置する駆動
機構４が設けられている。駆動機構４は、図のｙ方向お
よびｙ方向と直交し複数のノズルの配列方向であるｘ方
向（紙面に垂直な方向）に駆動可能である。
【００２１】アルゴンガスの噴出ノズル装置２は、好ま
しくはアルゴンの液化温度以下に冷却されたアルゴンガ
ス（アルゴンガスまたはアルゴンガスと窒素ガスのよう
なより低沸点ガスの混合ガス）源（詳細は図７を参照し
て後で説明する）と開閉バルブ６Ａ、６Ｂと二股配管７
とを介して接続され、複数のノズルからアルゴンガスを
真空中に噴射する。液化温度以下に冷却されたアルゴン
ガス中には多数のアルゴン液滴が形成されている。ノズ
ル装置２は図のように吹き出し方向が紙面内で互いに交
差するように配置された２方向のノズル列２Ａと２Ｂと
を有する。
しくはアルゴンの液化温度以下に冷却されたアルゴンガ
ス（アルゴンガスまたはアルゴンガスと窒素ガスのよう
なより低沸点ガスの混合ガス）源（詳細は図７を参照し
て後で説明する）と開閉バルブ６Ａ、６Ｂと二股配管７
とを介して接続され、複数のノズルからアルゴンガスを
真空中に噴射する。液化温度以下に冷却されたアルゴン
ガス中には多数のアルゴン液滴が形成されている。ノズ
ル装置２は図のように吹き出し方向が紙面内で互いに交
差するように配置された２方向のノズル列２Ａと２Ｂと
を有する。
【００２２】ノズル装置２から真空容器１中に液化温度
以下に冷却されたアルゴンガスを吹き出すことにより、
ガスの圧力は急激に低下し、断熱膨張を行なう。このた
め、ガスの温度は急激に低下し、微細液滴は固体アルゴ
ンの微粒子に変化する。
以下に冷却されたアルゴンガスを吹き出すことにより、
ガスの圧力は急激に低下し、断熱膨張を行なう。このた
め、ガスの温度は急激に低下し、微細液滴は固体アルゴ
ンの微粒子に変化する。
【００２３】多量の固体アルゴン微粒子を含む流体が被
洗浄物３の表面に噴射されると、被洗浄物３の表面は固
体アルゴンの微粒子により効率的に洗浄される。図２に
図１のノズル列２Ａ（２Ｂも同じ）をｙ方向から見た構
成を示す。ノズル列２Ａ（２Ｂ）はｘ方向に複数のノズ
ル２０が配列されている。図２のノズル装置の場合、ノ
ズル２０からのアルゴン微粒子の噴射方向はｙ方向から
見た場合被洗浄物３に対してほぼ垂直である。
洗浄物３の表面に噴射されると、被洗浄物３の表面は固
体アルゴンの微粒子により効率的に洗浄される。図２に
図１のノズル列２Ａ（２Ｂも同じ）をｙ方向から見た構
成を示す。ノズル列２Ａ（２Ｂ）はｘ方向に複数のノズ
ル２０が配列されている。図２のノズル装置の場合、ノ
ズル２０からのアルゴン微粒子の噴射方向はｙ方向から
見た場合被洗浄物３に対してほぼ垂直である。
【００２４】図１の（ａ）において、開閉バルブ６Ｂを
閉じ、開閉バルブ６Ａを開けてノズル列２Ａの複数のノ
ズル２０からアルゴンガスを真空中に噴射しつつ、駆動
機構４によって被洗浄物３を図１（ａ）のｙ1 方向にゆ
っくりと移動すると、ノズル列２Ａからのアルゴン微粒
子が被洗浄物３の全体にくまなく噴射されることにな
る。
閉じ、開閉バルブ６Ａを開けてノズル列２Ａの複数のノ
ズル２０からアルゴンガスを真空中に噴射しつつ、駆動
機構４によって被洗浄物３を図１（ａ）のｙ1 方向にゆ
っくりと移動すると、ノズル列２Ａからのアルゴン微粒
子が被洗浄物３の全体にくまなく噴射されることにな
る。
【００２５】なお、アルゴンガス噴射流間に間隙が生じ
る時は、駆動機構４をｘ方向に速く振動させ、ｙ方向に
ゆっくり駆動してアルゴンガス噴射流が全面にゆき亘る
ようにすればよい。
る時は、駆動機構４をｘ方向に速く振動させ、ｙ方向に
ゆっくり駆動してアルゴンガス噴射流が全面にゆき亘る
ようにすればよい。
【００２６】被洗浄物３をｙ1 方向に移動して全表面を
ノズル列２Ａで洗浄した後、開閉バルブ６Ａを閉じ、代
わりに開閉バルブ６Ｂを開けて、ノズル列２Ｂからアル
ゴン微粒子を図１の（ｂ）で示すような方向に噴射しつ
つ、駆動機構４によって被洗浄物３をｙ2 方向にゆっく
りと移動すると、ノズル列２Ｂからのアルゴン微粒子が
被洗浄物３の表面に噴射される。噴射方向が断面図で交
差する図１（ａ）の行程と、図１（ｂ）の行程を合わせ
ると、溝等の凹凸部を含め、被洗浄物３の全表面がくま
なく洗浄されることになる。
ノズル列２Ａで洗浄した後、開閉バルブ６Ａを閉じ、代
わりに開閉バルブ６Ｂを開けて、ノズル列２Ｂからアル
ゴン微粒子を図１の（ｂ）で示すような方向に噴射しつ
つ、駆動機構４によって被洗浄物３をｙ2 方向にゆっく
りと移動すると、ノズル列２Ｂからのアルゴン微粒子が
被洗浄物３の表面に噴射される。噴射方向が断面図で交
差する図１（ａ）の行程と、図１（ｂ）の行程を合わせ
ると、溝等の凹凸部を含め、被洗浄物３の全表面がくま
なく洗浄されることになる。
【００２７】図３（ａ）は、被洗浄物３の表面に形成さ
れた微細な溝２１内を図１の洗浄装置で洗浄する場合の
断面図である。この場合、相異なる方向からアルゴン微
粒子を吹き付けることにより、溝２１内をアルゴン微粒
子で洗浄して汚染物を残さず除去できる。
れた微細な溝２１内を図１の洗浄装置で洗浄する場合の
断面図である。この場合、相異なる方向からアルゴン微
粒子を吹き付けることにより、溝２１内をアルゴン微粒
子で洗浄して汚染物を残さず除去できる。
【００２８】図３（ｂ）は、被洗浄物３の表面に形成さ
れた突起２２を図１の洗浄装置で洗浄する場合の断面図
である。この場合も、相異なる方向からアルゴン微粒子
を吹き付けることにより、突起２２の周囲をアルゴン微
粒子で洗浄して汚染物を残さず除去できる。
れた突起２２を図１の洗浄装置で洗浄する場合の断面図
である。この場合も、相異なる方向からアルゴン微粒子
を吹き付けることにより、突起２２の周囲をアルゴン微
粒子で洗浄して汚染物を残さず除去できる。
【００２９】汚染の程度が強い場合等には、被洗浄物３
をｙ方向に往復運動させながらノズル２Ａ、２Ｂを切替
える工程を複数回繰り返せば洗浄効果を増すであろう。
図４はノズル装置２の別の実施例である。この実施例で
はノズル装置２は一つのノズル列２Ｃとノズル列の回転
装置８で構成される。回転装置８はステッピングモータ
のような駆動手段で配管とノズル列２Ｃとを気密シール
しつつ、ノズル列２Ｃを矢印方向に回転可能な構成を有
する。
をｙ方向に往復運動させながらノズル２Ａ、２Ｂを切替
える工程を複数回繰り返せば洗浄効果を増すであろう。
図４はノズル装置２の別の実施例である。この実施例で
はノズル装置２は一つのノズル列２Ｃとノズル列の回転
装置８で構成される。回転装置８はステッピングモータ
のような駆動手段で配管とノズル列２Ｃとを気密シール
しつつ、ノズル列２Ｃを矢印方向に回転可能な構成を有
する。
【００３０】図４のノズル列２Ｃを用い、アルゴン微粒
子の噴射方向を可変にすることにより、図１と図２で説
明した実施例と同様な作用と効果が得られるであろう。
この実施例ではノズル列２Ｃの角度を連続的に可変でき
るようにすれば、被洗浄物３の表面のパターン形状に応
じてより適切な吹き出し角度を得ることができる。さら
に、アルゴン微粒子を吹き出しつつノズル列２Ｃの方向
を矢印方向にあおる動作を可能とすれば、さらに効果的
な洗浄が期待できる。
子の噴射方向を可変にすることにより、図１と図２で説
明した実施例と同様な作用と効果が得られるであろう。
この実施例ではノズル列２Ｃの角度を連続的に可変でき
るようにすれば、被洗浄物３の表面のパターン形状に応
じてより適切な吹き出し角度を得ることができる。さら
に、アルゴン微粒子を吹き出しつつノズル列２Ｃの方向
を矢印方向にあおる動作を可能とすれば、さらに効果的
な洗浄が期待できる。
【００３１】図５に別のノズル配置を有するノズル装置
２の例を示す。図２のノズル列ではノズル２０の吹き出
し方向がｙ方向からみて被洗浄物３に対して垂直方向で
あったが、図５のノズル列２Ｄでは隣合うノズル２３と
２４が一対となりそれぞれある角度をもって向かい合っ
て被洗浄物３に吹き出すように構成される。他のノズル
も同様な対で構成される。この実施例ではｙ方向に沿っ
て垂直な面に対してもより効果的に洗浄できる。
２の例を示す。図２のノズル列ではノズル２０の吹き出
し方向がｙ方向からみて被洗浄物３に対して垂直方向で
あったが、図５のノズル列２Ｄでは隣合うノズル２３と
２４が一対となりそれぞれある角度をもって向かい合っ
て被洗浄物３に吹き出すように構成される。他のノズル
も同様な対で構成される。この実施例ではｙ方向に沿っ
て垂直な面に対してもより効果的に洗浄できる。
【００３２】図６（ａ）、（ｂ）は、駆動機構４に被洗
浄物３（例えば半導体ウエハ）が乗せられた状態を真空
容器１の上部より見た図である。被洗浄物３をｙ方向に
移動中にさらに駆動機構４を図６（ａ）で示すように被
洗浄物３の面内のある点Ｏを中心として約１０°程度の
回転角の範囲で回転させる。図５の実施例同様、ｙ方向
に沿った垂直面等に対してより洗浄効果が増す。なお、
回転中心を被洗浄物面内に設ける代わりに面外として搖
動運動をさせても同様の効果が得られる。
浄物３（例えば半導体ウエハ）が乗せられた状態を真空
容器１の上部より見た図である。被洗浄物３をｙ方向に
移動中にさらに駆動機構４を図６（ａ）で示すように被
洗浄物３の面内のある点Ｏを中心として約１０°程度の
回転角の範囲で回転させる。図５の実施例同様、ｙ方向
に沿った垂直面等に対してより洗浄効果が増す。なお、
回転中心を被洗浄物面内に設ける代わりに面外として搖
動運動をさせても同様の効果が得られる。
【００３３】また、被洗浄物３をｙ方向に移動中に駆動
機構４を図６（ｂ）で示すようにｘ方向に小刻みに往復
運動させるとアルゴンガス流によって洗浄される面積が
増大し、洗浄効果が増し、被洗浄物の表面が均一に洗浄
できる。
機構４を図６（ｂ）で示すようにｘ方向に小刻みに往復
運動させるとアルゴンガス流によって洗浄される面積が
増大し、洗浄効果が増し、被洗浄物の表面が均一に洗浄
できる。
【００３４】以上の実施例の説明あるいは図示したノズ
ルの配置、ノズル径および数は、単なる主な例示であっ
て、限定的なものではなく、被洗浄物３の形状や大き
さ、あるいは被洗浄物３の表面の溝の寸法などによっ
て、適宜選定されるものであることを断っておく。
ルの配置、ノズル径および数は、単なる主な例示であっ
て、限定的なものではなく、被洗浄物３の形状や大き
さ、あるいは被洗浄物３の表面の溝の寸法などによっ
て、適宜選定されるものであることを断っておく。
【００３５】次に、液化温度以下に冷却したアルゴンガ
スの発生装置について図７を参照して説明する。アルゴ
ンガスのボンベ３１および窒素ガスのボンベ３２は、そ
れぞれ圧力調整弁３３、３４を介して合流点３５に配管
で接続される。合流点３５で混合されたＡｒ＋Ｎ2 混合
ガスは、配管３６を介してフィルタ３７に供給され、ガ
ス中の粒子が除去される。
スの発生装置について図７を参照して説明する。アルゴ
ンガスのボンベ３１および窒素ガスのボンベ３２は、そ
れぞれ圧力調整弁３３、３４を介して合流点３５に配管
で接続される。合流点３５で混合されたＡｒ＋Ｎ2 混合
ガスは、配管３６を介してフィルタ３７に供給され、ガ
ス中の粒子が除去される。
【００３６】粒子の除去された混合ガスは、配管３８を
介して冷却器（または熱交換器）３９で冷却され、ノズ
ル装置２から真空容器１内に吹き出される。冷却器３９
の出力の混合ガスの圧力および温度は、圧力計および温
度計（いずれも図示せず）で測定され、冷却器３９の最
低冷却温度がその圧力でのアルゴンガスの液化点以下に
なるように冷却器３９が制御される。
介して冷却器（または熱交換器）３９で冷却され、ノズ
ル装置２から真空容器１内に吹き出される。冷却器３９
の出力の混合ガスの圧力および温度は、圧力計および温
度計（いずれも図示せず）で測定され、冷却器３９の最
低冷却温度がその圧力でのアルゴンガスの液化点以下に
なるように冷却器３９が制御される。
【００３７】このように冷却されたアルゴン混合ガスま
たはアルゴンガスは、アルゴンが液化することによって
多数のアルゴン微細液滴を含むようになる。ガス圧、流
速等の選択により微細液滴の径を制御し、アルゴンガス
中に多数の液滴が浮遊する状態を実現することができ
る。真空容器内でアルゴンガスが断熱膨張を行なうと、
これら液滴が効率的にアルゴン微粒子に変化する他、ア
ルゴンガスからのアルゴン微粒子生成も生じる。
たはアルゴンガスは、アルゴンが液化することによって
多数のアルゴン微細液滴を含むようになる。ガス圧、流
速等の選択により微細液滴の径を制御し、アルゴンガス
中に多数の液滴が浮遊する状態を実現することができ
る。真空容器内でアルゴンガスが断熱膨張を行なうと、
これら液滴が効率的にアルゴン微粒子に変化する他、ア
ルゴンガスからのアルゴン微粒子生成も生じる。
【００３８】以上実施例に沿って本発明を説明したが、
本発明はこれらに制限されるものではない。たとえば、
混合ガスとしてアルゴンガスとアルゴンよりも液化温度
の低い他の不活性ガスとの混合ガスを用いてもよく、そ
の混合比を適当に選択してもよい。
本発明はこれらに制限されるものではない。たとえば、
混合ガスとしてアルゴンガスとアルゴンよりも液化温度
の低い他の不活性ガスとの混合ガスを用いてもよく、そ
の混合比を適当に選択してもよい。
【００３９】被洗浄物３は半導体ウエハに限らない。た
とえば、プリント基板、光ディスク、磁気ディスク、液
晶表示装置のフラットパネル、太陽電池等を被洗浄物と
し、これらの製造工程における表面洗浄に用いることも
できる。
とえば、プリント基板、光ディスク、磁気ディスク、液
晶表示装置のフラットパネル、太陽電池等を被洗浄物と
し、これらの製造工程における表面洗浄に用いることも
できる。
【００４０】本発明は上記の開示に基づき、種々の変
更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明で
あろう。
更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明で
あろう。
【００４１】
【発明の効果】以上説明したように、被洗浄物とノズル
装置とを相対移動させながら被洗浄物の表面にノズル装
置によってアルゴン微粒子を複数方向から吹きつけるこ
とにより、アルゴン微粒子が異なる方向から被洗浄物の
表面に吹きつけられるので、被洗浄物の表面に凹凸のパ
ターンがあっても被洗浄物表面は効果的に洗浄される。
装置とを相対移動させながら被洗浄物の表面にノズル装
置によってアルゴン微粒子を複数方向から吹きつけるこ
とにより、アルゴン微粒子が異なる方向から被洗浄物の
表面に吹きつけられるので、被洗浄物の表面に凹凸のパ
ターンがあっても被洗浄物表面は効果的に洗浄される。
【図１】本発明の実施例による洗浄装置の基本構成を示
す概略図である。
す概略図である。
【図２】図１の洗浄装置のノズル装置を横からみた図で
ある。
ある。
【図３】本発明の実施例による洗浄方法を説明するため
の被洗浄物の拡大断面図である。
の被洗浄物の拡大断面図である。
【図４】ノズル装置の実施例を示す概略斜視図である。
【図５】ノズル装置のさらに別の実施例を示す側面図で
ある。
ある。
【図６】駆動機構の他の駆動型式を説明する概略平面図
である。
である。
【図７】極低温のアルゴンガスの発生装置のブロック図
である。
である。
【図８】ノズルの吹き出し方向が一方向に固定してある
場合の洗浄を説明する被洗浄物の拡大断面図である。
場合の洗浄を説明する被洗浄物の拡大断面図である。
１ 真空容器 ２ ノズル装置 ２Ａ，２Ｂ，２Ｃ，２Ｄ ノズル列 ３ 被洗浄物 ４ 駆動機構 ５ 排気装置
Claims (11)
- 【請求項１】 ある方向にほぼ等間隔で配列した複数の
ノズルから所定の吹き出し方向にアルゴン微粒子を含む
流体を吹き出す工程と、 前記ある方向にほぼ等間隔で配列した複数のノズルから
前記所定の方向とは異なる吹き出し方向にアルゴン微粒
子を含む流体を吹き出す工程と、 前記吹き出し方向に被洗浄物を配置し、前記アルゴン微
粒子を含む流体が前記被洗浄物の表面に当たるように前
記複数のノズルと被洗浄物とを相対的に移動させる工程
とを含む洗浄方法。 - 【請求項２】 前記所定の吹き出し方向とは異なる吹き
出し方向は、前記所定の方向に対し、前記被洗浄物面上
への射影が逆方向である請求項１記載の洗浄方法。 - 【請求項３】 前記移動させる工程中、前記被洗浄物を
前記相対移動方向に対して交わる方向により高速で往復
移動させる請求項２記載の洗浄方法。 - 【請求項４】 前記移動させる工程中、前記被洗浄物を
その中心軸回りに所定回転角の範囲で回転させる請求項
２記載の洗浄方法。 - 【請求項５】 被洗浄物を所定の方向に往復移動する工
程と、 前記被洗浄物の往復移動方向と直交する方向にほぼ等間
隔で配列した複数のノズルからアルゴン微粒子を含む流
体を前記被洗浄物の往路の移動方向の斜め上から吹き出
す工程と、 複数のノズルからアルゴン微粒子を含む流体を前記被洗
浄物の復路の移動方向の斜め上から前記被洗浄物面上へ
の射影が互いに逆方向となるように吹き出す工程、とを
有する洗浄方法。 - 【請求項６】 複数のノズルをある方向にほぼ等間隔で
配列し、アルゴン微粒子を含む流体を複数の異なる方向
に吹き出すノズル装置と、 前記アルゴン微粒子を含む流体の吹き出し方向に被洗浄
物を支持し、前記ノズル装置と被洗浄物とを相対的に所
定方向に移動させることのできる駆動手段と、 前記ノズル装置と前記駆動手段を収容する真空容器と、 前記真空容器内を排気できる排気手段とを有する洗浄装
置。 - 【請求項７】 前記ノズル装置は、前記被洗浄物面上へ
の射影が逆方向である二つの吹き出し方向を持つ複数の
ノズルを備える請求項６記載の洗浄装置。 - 【請求項８】 前記ノズル装置は、前記被洗浄物面上へ
の射影が互いに逆方向である吹き出し方向に向きが可変
できる複数のノズルを有する請求項６記載の洗浄装置。 - 【請求項９】 前記複数のノズルは、前記ノズル装置と
前記被洗浄物との相対移動方向に平行な鉛直面に対して
所定角度を持つ前記吹き出し方向を有する請求項７ある
いは８に記載の洗浄装置。 - 【請求項１０】 前記駆動手段は、前記ノズル装置と前
記被洗浄物との相対移動方向に対して交わる方向に搖動
可能である請求項６記載の洗浄装置。 - 【請求項１１】 前記駆動手段は、前記被洗浄物をある
点の回りに所定回転角の範囲で回転可能である請求項６
記載の洗浄装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08223493A JP3201549B2 (ja) | 1993-04-08 | 1993-04-08 | 洗浄方法および洗浄装置 |
| US08/185,184 US5512106A (en) | 1993-01-27 | 1994-01-21 | Surface cleaning with argon |
| KR1019940001248A KR100332707B1 (ko) | 1993-01-27 | 1994-01-25 | 아르곤에의한표면세정 |
| DE4402247A DE4402247B4 (de) | 1993-01-27 | 1994-01-26 | Oberflächenreinigung mit Argon |
| GB9401588A GB2274742B (en) | 1993-01-27 | 1994-01-27 | Surface cleaning with argon |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08223493A JP3201549B2 (ja) | 1993-04-08 | 1993-04-08 | 洗浄方法および洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06295894A true JPH06295894A (ja) | 1994-10-21 |
| JP3201549B2 JP3201549B2 (ja) | 2001-08-20 |
Family
ID=13768723
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08223493A Expired - Fee Related JP3201549B2 (ja) | 1993-01-27 | 1993-04-08 | 洗浄方法および洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3201549B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6272284B1 (en) | 1997-03-10 | 2001-08-07 | Nec Corporation | Image/audio reproducing apparatus |
| JP2010104971A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Sunx Ltd | 除塵装置、及び除電除塵装置 |
| JPWO2011135979A1 (ja) * | 2010-04-28 | 2013-07-18 | コニカミノルタ株式会社 | 撮像用レンズの製造方法 |
| JP2014240046A (ja) * | 2013-06-11 | 2014-12-25 | 株式会社デンソー | 異物除去装置 |
| JP2016187049A (ja) * | 2016-06-29 | 2016-10-27 | 小林 光 | ウェハの洗浄装置および洗浄方法 |
| JP2016224427A (ja) * | 2015-05-28 | 2016-12-28 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 表示装置の作製方法、および電子機器の作製方法 |
| JP2017515573A (ja) * | 2014-05-13 | 2017-06-15 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェＫｏｎｉｎｋｌｉｊｋｅ Ｐｈｉｌｉｐｓ Ｎ．Ｖ． | ノズルスペーサアセンブリを含む口腔洗浄器のためのノズル |
-
1993
- 1993-04-08 JP JP08223493A patent/JP3201549B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6272284B1 (en) | 1997-03-10 | 2001-08-07 | Nec Corporation | Image/audio reproducing apparatus |
| JP2010104971A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Sunx Ltd | 除塵装置、及び除電除塵装置 |
| JPWO2011135979A1 (ja) * | 2010-04-28 | 2013-07-18 | コニカミノルタ株式会社 | 撮像用レンズの製造方法 |
| JP2014240046A (ja) * | 2013-06-11 | 2014-12-25 | 株式会社デンソー | 異物除去装置 |
| JP2017515573A (ja) * | 2014-05-13 | 2017-06-15 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェＫｏｎｉｎｋｌｉｊｋｅ Ｐｈｉｌｉｐｓ Ｎ．Ｖ． | ノズルスペーサアセンブリを含む口腔洗浄器のためのノズル |
| JP2016224427A (ja) * | 2015-05-28 | 2016-12-28 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 表示装置の作製方法、および電子機器の作製方法 |
| JP2016187049A (ja) * | 2016-06-29 | 2016-10-27 | 小林 光 | ウェハの洗浄装置および洗浄方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3201549B2 (ja) | 2001-08-20 |
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