JP2828867B2 - 洗浄方法および洗浄装置 - Google Patents
洗浄方法および洗浄装置Info
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- JP2828867B2 JP2828867B2 JP7177693A JP7177693A JP2828867B2 JP 2828867 B2 JP2828867 B2 JP 2828867B2 JP 7177693 A JP7177693 A JP 7177693A JP 7177693 A JP7177693 A JP 7177693A JP 2828867 B2 JP2828867 B2 JP 2828867B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、洗浄方法および洗浄装
置に関し、特に半導体ウエハのごとき平板の表面を洗浄
するのに適した洗浄方法および洗浄装置に関する。
置に関し、特に半導体ウエハのごとき平板の表面を洗浄
するのに適した洗浄方法および洗浄装置に関する。
【０００２】ＬＳＩ製造工程における半導体ウエハやＬ
ＣＤあるいは太陽電池等の表面上の微粒子や汚れは、最
終製品の歩留りを大きく低下させる。このため、平板状
物体の表面洗浄が極めて重要である。なお、洗浄に伴っ
て環境破壊を生じさせないことも重要である。
ＣＤあるいは太陽電池等の表面上の微粒子や汚れは、最
終製品の歩留りを大きく低下させる。このため、平板状
物体の表面洗浄が極めて重要である。なお、洗浄に伴っ
て環境破壊を生じさせないことも重要である。
【０００３】
【従来の技術】従来より種々の表面洗浄方法が提案され
ている。半導体ウエハやＬＣＤの表面洗浄に用いられる
表面洗浄方法を概略的に以下に説明する。
ている。半導体ウエハやＬＣＤの表面洗浄に用いられる
表面洗浄方法を概略的に以下に説明する。
【０００４】化学洗浄または溶剤洗浄 表面の汚れを化学反応もしくは溶解によって除去する方
法である。水、酸、有機溶媒、フレオン等が用いられる
が、除去すべき汚れに対して有効な薬剤を選択する必要
がある。超音波洗浄と組み合わせることにより、物理的
洗浄力を増大させることもできる。洗浄後の表面に汚れ
を残さないためには、高純度の薬剤を使用する必要があ
る。
法である。水、酸、有機溶媒、フレオン等が用いられる
が、除去すべき汚れに対して有効な薬剤を選択する必要
がある。超音波洗浄と組み合わせることにより、物理的
洗浄力を増大させることもできる。洗浄後の表面に汚れ
を残さないためには、高純度の薬剤を使用する必要があ
る。
【０００５】水は、高純度が得易く、大量に使用するこ
ともできるが、表面に水が残ると、その後の汚染原因と
なる。また、水によって溶解することのできる汚れの種
類は限られている。
ともできるが、表面に水が残ると、その後の汚染原因と
なる。また、水によって溶解することのできる汚れの種
類は限られている。
【０００６】その他の有用な溶剤は、使用後廃棄すると
環境破壊を生じさせるものが多い。環境破壊を防止する
ため循環使用する場合は、循環液の再精製が困難であ
り、高価なものとなる。また、同一薬剤を用いて洗浄を
繰り返し、薬剤中に汚染物が累積すると、洗浄表面にこ
の汚染物が付着することとなり、製品不良を起こしてし
まう。
環境破壊を生じさせるものが多い。環境破壊を防止する
ため循環使用する場合は、循環液の再精製が困難であ
り、高価なものとなる。また、同一薬剤を用いて洗浄を
繰り返し、薬剤中に汚染物が累積すると、洗浄表面にこ
の汚染物が付着することとなり、製品不良を起こしてし
まう。
【０００７】氷微粒子吹き付け 氷の微粒子を表面に吹き付け、表面上の微粒子および汚
れを除去する方法である。しかしながら、現在作成でき
る氷の微粒子の径は、十分小さくすることができず、１
μｍ以下の微粒子の除去が困難である。
れを除去する方法である。しかしながら、現在作成でき
る氷の微粒子の径は、十分小さくすることができず、１
μｍ以下の微粒子の除去が困難である。
【０００８】ＣＯ2 微粒子吹き付け ドライアイスの微粒子を表面に吹き付け、表面上の微粒
子および汚れを除去する方法である。しかしながら、炭
酸ガス中から炭化水素化合物を極低濃度まで除去するこ
とは極めて困難であり、ＣＯ2 を冷却して吹き付ける
と、炭化水素化合物が凝縮し、洗浄表面に固着してしま
う。また、ＣＯ2 もＣの汚染源となる。
子および汚れを除去する方法である。しかしながら、炭
酸ガス中から炭化水素化合物を極低濃度まで除去するこ
とは極めて困難であり、ＣＯ2 を冷却して吹き付ける
と、炭化水素化合物が凝縮し、洗浄表面に固着してしま
う。また、ＣＯ2 もＣの汚染源となる。
【０００９】ガス噴射 ガスを固体表面に吹き付け、固体表面を洗浄する方法で
ある。しかしながら、固体表面上にはガス流速が極めて
遅い境界層が形成されてしまい、このような遅いガス流
速によっては微粒子を除去する力が弱い。したがって、
１μｍ以下の微粒子の除去は困難である。なお、粒子の
表面付着力は直径に比例し、ガス流が粒子に与える除去
力は粒子の直径の二乗に比例する。
ある。しかしながら、固体表面上にはガス流速が極めて
遅い境界層が形成されてしまい、このような遅いガス流
速によっては微粒子を除去する力が弱い。したがって、
１μｍ以下の微粒子の除去は困難である。なお、粒子の
表面付着力は直径に比例し、ガス流が粒子に与える除去
力は粒子の直径の二乗に比例する。
【００１０】極低温アルゴンガス吹き付け アルゴンガスまたはアルゴンガスを含む混合ガスを極低
温にし、表面に吹き付ける方法である。ノズルから真空
容器中にガスを開放することにより、ガスは急激に断熱
膨張し、その温度を低下させる。温度低下の結果、固体
アルゴンが形成され、固体アルゴン微粒子が表面上に衝
突する。
温にし、表面に吹き付ける方法である。ノズルから真空
容器中にガスを開放することにより、ガスは急激に断熱
膨張し、その温度を低下させる。温度低下の結果、固体
アルゴンが形成され、固体アルゴン微粒子が表面上に衝
突する。
【００１１】たとえば、加圧状態でのアルゴンを含むガ
スを、その圧力でのアルゴンガスの液化点よりも高い温
度まで冷却し、ノズルから真空容器中に吹き出すことに
より、気体アルゴンを固体アルゴンに変化させる方法が
提案されている（たとえば、ＥＰ−Ａ２−４６１４７６
号公報参照）。
スを、その圧力でのアルゴンガスの液化点よりも高い温
度まで冷却し、ノズルから真空容器中に吹き出すことに
より、気体アルゴンを固体アルゴンに変化させる方法が
提案されている（たとえば、ＥＰ−Ａ２−４６１４７６
号公報参照）。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】アルゴンは不活性元素
であり、固体表面に付着しても悪影響を与えることは極
めて少ない。また、アルゴンの固化温度は比較的高温で
あり、冷却によって固体アルゴンを得ることも比較的容
易である。
であり、固体表面に付着しても悪影響を与えることは極
めて少ない。また、アルゴンの固化温度は比較的高温で
あり、冷却によって固体アルゴンを得ることも比較的容
易である。
【００１３】しかしながら、固体アルゴンの微粒子を用
いた実用的な洗浄技術は未だ開発されておらず、高い洗
浄能力を得ることができない。本発明の目的は、アルゴ
ンを用い、実用的な洗浄能力を有する洗浄方法および洗
浄装置を提供することである。
いた実用的な洗浄技術は未だ開発されておらず、高い洗
浄能力を得ることができない。本発明の目的は、アルゴ
ンを用い、実用的な洗浄能力を有する洗浄方法および洗
浄装置を提供することである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明の洗浄方法は、あ
る方向にほぼ等間隔で配列した複数組のノズルから異な
る粒子径のアルゴン微粒子を含む流体を吹き出す工程
と、前記アルゴン微粒子を含む流体の吹き出し方向に被
洗浄物を配置し、前記複数組のノズルと被洗浄物とを相
対的に所定方向に移動させる工程とを含む。
る方向にほぼ等間隔で配列した複数組のノズルから異な
る粒子径のアルゴン微粒子を含む流体を吹き出す工程
と、前記アルゴン微粒子を含む流体の吹き出し方向に被
洗浄物を配置し、前記複数組のノズルと被洗浄物とを相
対的に所定方向に移動させる工程とを含む。
【００１５】また、本発明の洗浄装置は、少なくとも２
種類の異なるノズル径を含む複数組のノズルをある方向
にほぼ等間隔で配列し、アルゴン微粒子を含む流体をふ
きだすためのノズル列と、前記アルゴン微粒子を含む流
体の吹き出し方向に被洗浄物を支持し、前記複数組のノ
ズルと被洗浄物とを相対的に所定方向に移動させること
のできる駆動手段と、前記複数組のノズルおよび前記駆
動手段を収容する真空容器と、前記真空容器内を排気で
きる排気手段とを有する。
種類の異なるノズル径を含む複数組のノズルをある方向
にほぼ等間隔で配列し、アルゴン微粒子を含む流体をふ
きだすためのノズル列と、前記アルゴン微粒子を含む流
体の吹き出し方向に被洗浄物を支持し、前記複数組のノ
ズルと被洗浄物とを相対的に所定方向に移動させること
のできる駆動手段と、前記複数組のノズルおよび前記駆
動手段を収容する真空容器と、前記真空容器内を排気で
きる排気手段とを有する。
【００１６】
【作用】異なるノズル径の複数のノズルから粒子径の大
きさの異なるアルゴン微粒子を含む流体を吹き出すこと
により、大小異なる不純物で汚染された被洗浄物の洗浄
がより効果的に行える。
きさの異なるアルゴン微粒子を含む流体を吹き出すこと
により、大小異なる不純物で汚染された被洗浄物の洗浄
がより効果的に行える。
【００１７】
【実施例】図１に、本発明の実施例による洗浄装置の基
本構成を示す。気密構造の真空容器１は、排気装置５に
接続されており、内部を排気して真空容器を構成するこ
とができる。真空容器１内には、複数のノズル２ａ〜２
ｇが横に配列されたノズル装置２が設けられ、ノズルに
対向して半導体ウエハ等の被洗浄物３を載置する駆動機
構４が設けられている。駆動機構４は、複数のノズルの
配列方向であるｘ方向およびそれに垂直な方向であるｙ
方向に駆動可能である。
本構成を示す。気密構造の真空容器１は、排気装置５に
接続されており、内部を排気して真空容器を構成するこ
とができる。真空容器１内には、複数のノズル２ａ〜２
ｇが横に配列されたノズル装置２が設けられ、ノズルに
対向して半導体ウエハ等の被洗浄物３を載置する駆動機
構４が設けられている。駆動機構４は、複数のノズルの
配列方向であるｘ方向およびそれに垂直な方向であるｙ
方向に駆動可能である。
【００１８】アルゴンガスまたはアルゴンガスと窒素ガ
ス等の混合ガス（以下、アルゴンガスと称する）の噴出
ノズル装置２は、好ましくはアルゴンの液化温度以下に
冷却されたアルゴンガス源（詳細は図５を参照して後で
説明する）に接続され、複数のノズル２ａ〜２ｇからア
ルゴンガスを真空（減圧雰囲気）中に噴射する。
ス等の混合ガス（以下、アルゴンガスと称する）の噴出
ノズル装置２は、好ましくはアルゴンの液化温度以下に
冷却されたアルゴンガス源（詳細は図５を参照して後で
説明する）に接続され、複数のノズル２ａ〜２ｇからア
ルゴンガスを真空（減圧雰囲気）中に噴射する。
【００１９】ノズル装置２から真空容器１中に液化温度
以下に冷却されたアルゴンガスを吹き出すことにより、
ガスの圧力は急激に低下し、断熱膨張を行なう。このた
め、ガスの温度は急激に低下し、微細液滴は固体アルゴ
ンの微粒子に変化する。
以下に冷却されたアルゴンガスを吹き出すことにより、
ガスの圧力は急激に低下し、断熱膨張を行なう。このた
め、ガスの温度は急激に低下し、微細液滴は固体アルゴ
ンの微粒子に変化する。
【００２０】このようにして、多量の固体アルゴン微粒
子を含む流体が被洗浄物３の表面に噴射される。このた
め、被洗浄物３の表面は固体アルゴンの微粒子により効
率的に洗浄される。
子を含む流体が被洗浄物３の表面に噴射される。このた
め、被洗浄物３の表面は固体アルゴンの微粒子により効
率的に洗浄される。
【００２１】複数のノズルの内、ノズル２ａ，２ｃ，２
ｅ，２ｇの組は、それらのノズル間に交互に配置された
ノズル２ｂ，２ｄ，２ｆの組よりもノズル径が小さくな
っている。ノズルから真空中に吹き出したアルゴン微粒
子を含む流体は急激に拡がる。
ｅ，２ｇの組は、それらのノズル間に交互に配置された
ノズル２ｂ，２ｄ，２ｆの組よりもノズル径が小さくな
っている。ノズルから真空中に吹き出したアルゴン微粒
子を含む流体は急激に拡がる。
【００２２】この時、細径のノズルは太径のノズルより
ガス供給量が少ないため、微粒子間距離がより急速に拡
がり、微粒子間の衝突が少ない。このため、細径のノズ
ル２ａ，２ｃ，２ｅ，２ｇから噴射されるアルゴン微粒
子の平均粒子径は、ノズル２ｂ，２ｄ，２ｆからのアル
ゴン微粒子の平均粒子径よりも小さい。
ガス供給量が少ないため、微粒子間距離がより急速に拡
がり、微粒子間の衝突が少ない。このため、細径のノズ
ル２ａ，２ｃ，２ｅ，２ｇから噴射されるアルゴン微粒
子の平均粒子径は、ノズル２ｂ，２ｄ，２ｆからのアル
ゴン微粒子の平均粒子径よりも小さい。
【００２３】図２に図１の洗浄装置を横から見た場合を
示す。ノズル列２のノズル径の太い（例えば２００〜３
００μｍ）ノズル２ｂ，２ｄ，２ｆの組は、ノズル径の
細い（例えば１００μｍ）ノズル２ａ，２ｃ，２ｅ，２
ｇの組よりも上方に配置される。太いノズルの組から噴
射されるアルゴン微粒子を含む流体７は、細いノズルか
ら噴射されるアルゴン微粒子を含む流体８よりも被洗浄
物３表面のより右側を噴射する。
示す。ノズル列２のノズル径の太い（例えば２００〜３
００μｍ）ノズル２ｂ，２ｄ，２ｆの組は、ノズル径の
細い（例えば１００μｍ）ノズル２ａ，２ｃ，２ｅ，２
ｇの組よりも上方に配置される。太いノズルの組から噴
射されるアルゴン微粒子を含む流体７は、細いノズルか
ら噴射されるアルゴン微粒子を含む流体８よりも被洗浄
物３表面のより右側を噴射する。
【００２４】複数のノズル２ａ〜２ｇからアルゴンガス
を真空中に噴射しつつ、駆動機構４によって被洗浄物３
を図２の矢印で示す右から左への方向（図１のｙ方向の
ノズルに近づく向き）にゆっくりと移動すると、ノズル
２ａ〜２ｇからのアルゴン微粒子が被洗浄物３の表面を
−ｙ方向に走査しつつ、噴射することになる。
を真空中に噴射しつつ、駆動機構４によって被洗浄物３
を図２の矢印で示す右から左への方向（図１のｙ方向の
ノズルに近づく向き）にゆっくりと移動すると、ノズル
２ａ〜２ｇからのアルゴン微粒子が被洗浄物３の表面を
−ｙ方向に走査しつつ、噴射することになる。
【００２５】ノズル間距離が噴射ガス量の実効幅より広
い時は、図１の破線で示す矢印６のように、ｘ方向の速
い走査を行ないつつ、ｙ方向のゆっくりした走査を行な
えば、被洗浄物の全表面をくまなく噴射できる。
い時は、図１の破線で示す矢印６のように、ｘ方向の速
い走査を行ないつつ、ｙ方向のゆっくりした走査を行な
えば、被洗浄物の全表面をくまなく噴射できる。
【００２６】その際、始めにノズル径の太いノズル２
ｂ，２ｄ，２ｆからのアルゴン微粒子を含む流体７が被
洗浄物４の表面を洗浄し、その跡をおなじようにノズル
径の細いノズル２ａ，２ｃ，２ｅ，２ｇからのアルゴン
微粒子を含む流体８で洗浄することになる。被洗浄物３
の移動につれ、微粒子径の大きいアルゴン微粒子による
洗浄の後に、同じ場所を粒子径の小さいアルゴン粒子に
よる洗浄が行われる。
ｂ，２ｄ，２ｆからのアルゴン微粒子を含む流体７が被
洗浄物４の表面を洗浄し、その跡をおなじようにノズル
径の細いノズル２ａ，２ｃ，２ｅ，２ｇからのアルゴン
微粒子を含む流体８で洗浄することになる。被洗浄物３
の移動につれ、微粒子径の大きいアルゴン微粒子による
洗浄の後に、同じ場所を粒子径の小さいアルゴン粒子に
よる洗浄が行われる。
【００２７】図３に異なる粒子径のアルゴン粒子による
被洗浄物３の汚染物質の除去の様子を模式的に図示し
て、その作用を説明する。図３（ａ）は、被洗浄物３の
表面に形成された例えば１μｍ以下の微細な溝１０内に
汚染物１１が存在している場合の断面図である。この場
合、溝１０よりも大きな径のアルゴン微粒子では、溝１
０内の汚染物１１を除去することは不可能である。
被洗浄物３の汚染物質の除去の様子を模式的に図示し
て、その作用を説明する。図３（ａ）は、被洗浄物３の
表面に形成された例えば１μｍ以下の微細な溝１０内に
汚染物１１が存在している場合の断面図である。この場
合、溝１０よりも大きな径のアルゴン微粒子では、溝１
０内の汚染物１１を除去することは不可能である。
【００２８】従って、図３（ａ）に示すように、溝１０
の幅よりも小さな１μｍ以下の粒子径のアルゴン微粒子
２０をノズル径の細いノズル２ａ，２ｃ，２ｅ，２ｇか
ら噴射してやれば、汚染物１１を弾き飛ばして溝１０内
を洗浄できる。
の幅よりも小さな１μｍ以下の粒子径のアルゴン微粒子
２０をノズル径の細いノズル２ａ，２ｃ，２ｅ，２ｇか
ら噴射してやれば、汚染物１１を弾き飛ばして溝１０内
を洗浄できる。
【００２９】図３（ｂ）は、被洗浄物４の表面に比較的
大きな、例えば数十μｍ程度の汚染物１２が存在してい
る場合の断面図である。この場合では、図３（ａ）とは
逆に、汚染物１２に比較してあまり小さな径のアルゴン
微粒子では大きな汚染物１２や固着力の強い汚染物を弾
き飛ばすことはできない。
大きな、例えば数十μｍ程度の汚染物１２が存在してい
る場合の断面図である。この場合では、図３（ａ）とは
逆に、汚染物１２に比較してあまり小さな径のアルゴン
微粒子では大きな汚染物１２や固着力の強い汚染物を弾
き飛ばすことはできない。
【００３０】ある程度の大きさの粒子径をもったアルゴ
ン微粒子２１をノズル径の太いノズル２ｂ，２ｄ，２ｆ
から噴射してやれば、大きな汚染物１２や固着力の強い
汚染物を効果的に弾き飛ばして表面を洗浄できる。
ン微粒子２１をノズル径の太いノズル２ｂ，２ｄ，２ｆ
から噴射してやれば、大きな汚染物１２や固着力の強い
汚染物を効果的に弾き飛ばして表面を洗浄できる。
【００３１】このように、大小異なる粒子径のアルゴン
微粒子２０，２１をノズル径の細いノズル２ａ，２ｃ，
２ｅ，２ｇと太いノズル２ｂ，２ｄ，２ｆとから噴射し
て被洗浄物３の表面を洗浄すると、溝１０内の汚染物１
１と表面の汚染物１２とが両方とも効果的に除去でき
る。単に１種類の粒子径のアルゴン微粒子では、このよ
うに効果的には洗浄できない。
微粒子２０，２１をノズル径の細いノズル２ａ，２ｃ，
２ｅ，２ｇと太いノズル２ｂ，２ｄ，２ｆとから噴射し
て被洗浄物３の表面を洗浄すると、溝１０内の汚染物１
１と表面の汚染物１２とが両方とも効果的に除去でき
る。単に１種類の粒子径のアルゴン微粒子では、このよ
うに効果的には洗浄できない。
【００３２】なお、小さな径の粒子の大きさは径の粒子
より洗浄力は小さいので、平均粒子径の小さな微粒子の
数を平均粒子径の大きな微粒子の数より多くすることが
好ましい。
より洗浄力は小さいので、平均粒子径の小さな微粒子の
数を平均粒子径の大きな微粒子の数より多くすることが
好ましい。
【００３３】図２で示したように、太いノズルと細いノ
ズルとを前後に配置することによって、先にノズル径の
太いノズル２ｂ，２ｄ，２ｆからの大きなアルゴン微粒
子が被洗浄物３の表面を洗浄し、その跡を同じようにノ
ズル径の細いノズル２ａ，２ｃ，２ｅ，２ｇからの小さ
なアルゴン微粒子で洗浄することができる。
ズルとを前後に配置することによって、先にノズル径の
太いノズル２ｂ，２ｄ，２ｆからの大きなアルゴン微粒
子が被洗浄物３の表面を洗浄し、その跡を同じようにノ
ズル径の細いノズル２ａ，２ｃ，２ｅ，２ｇからの小さ
なアルゴン微粒子で洗浄することができる。
【００３４】すると、大きな汚染物や固着力の強い汚染
物を大きなアルゴン微粒子で取り除いた後、大きい汚染
物の除去に伴って発生した細かい汚染物を含めて、細か
い汚染物や溝内の汚染物を小さなアルゴン微粒子で除去
するので、洗浄効果が上がる。
物を大きなアルゴン微粒子で取り除いた後、大きい汚染
物の除去に伴って発生した細かい汚染物を含めて、細か
い汚染物や溝内の汚染物を小さなアルゴン微粒子で除去
するので、洗浄効果が上がる。
【００３５】なお、小さなアルゴン微粒子による洗浄力
は大きなアルゴン微粒子よりも小さく、また、アルゴン
微粒子の噴射面積は細いノズル２ａ，２ｃ，２ｅ，２ｇ
の場合が太いノズル２ｂ，２ｄ，２ｆによるものよりも
小さい。従って、細いノズルの数を太いノズルの数より
も多く、例えば２倍程度、配置することによってさらに
効果的な洗浄が可能となる。
は大きなアルゴン微粒子よりも小さく、また、アルゴン
微粒子の噴射面積は細いノズル２ａ，２ｃ，２ｅ，２ｇ
の場合が太いノズル２ｂ，２ｄ，２ｆによるものよりも
小さい。従って、細いノズルの数を太いノズルの数より
も多く、例えば２倍程度、配置することによってさらに
効果的な洗浄が可能となる。
【００３６】図４にノズル装置２のノズル配置の一例を
示す。図４の例では、上側に複数の太いノズル２２が一
列に配置され、その下側に太いノズル２２の数のほぼ２
倍の細いノズル２３が一列に配置される。上から見る
と、太いノズル２２と細いノズル２３とは交互に配列す
る。なお、図では簡略化して示しているが、ノズルの数
は必要に応じて増加させる。
示す。図４の例では、上側に複数の太いノズル２２が一
列に配置され、その下側に太いノズル２２の数のほぼ２
倍の細いノズル２３が一列に配置される。上から見る
と、太いノズル２２と細いノズル２３とは交互に配列す
る。なお、図では簡略化して示しているが、ノズルの数
は必要に応じて増加させる。
【００３７】なお、以上の説明あるいは図示したノズル
の配置、ノズル径および数は単なる例示であって、制限
的なものではなく、被洗浄物３の形状や大きさ、あるい
は被洗浄物３の表面の溝の寸法などによって、適宜選定
されるものである。
の配置、ノズル径および数は単なる例示であって、制限
的なものではなく、被洗浄物３の形状や大きさ、あるい
は被洗浄物３の表面の溝の寸法などによって、適宜選定
されるものである。
【００３８】また、上記実施例のように２種類のノズル
径だけでなく、３種類あるいはそれ以上の異なる径のノ
ズルを用意することにより、異なる幾つかの径のアルゴ
ン微粒子を噴射すれば、被洗浄物の様々な汚染状態に効
果的に対処できるであろう。
径だけでなく、３種類あるいはそれ以上の異なる径のノ
ズルを用意することにより、異なる幾つかの径のアルゴ
ン微粒子を噴射すれば、被洗浄物の様々な汚染状態に効
果的に対処できるであろう。
【００３９】また、駆動機構４によって被洗浄物３をｘ
方向に高速に往復駆動し、ｙ方向のノズルに近づく向き
にゆっくりと駆動すると、図中ジグザグの矢印６で概略
的に示すように、アルゴン微粒子による軌跡が形成さ
れ、被洗浄物全表面がより均一に洗浄できる。
方向に高速に往復駆動し、ｙ方向のノズルに近づく向き
にゆっくりと駆動すると、図中ジグザグの矢印６で概略
的に示すように、アルゴン微粒子による軌跡が形成さ
れ、被洗浄物全表面がより均一に洗浄できる。
【００４０】次に、液化温度以下に冷却したアルゴンガ
スの発生装置について図５を参照して説明する。アルゴ
ンガスのボンベ３１および窒素ガスのボンベ３２は、そ
れぞれ圧力調整弁３３、３４を介して合流点３５に配管
で接続される。合流点３５で混合されたＡｒ＋Ｎ2 混合
ガスは、配管３６を介してフィルタ３７に供給され、ガ
ス中の不純物粒子が除去される。
スの発生装置について図５を参照して説明する。アルゴ
ンガスのボンベ３１および窒素ガスのボンベ３２は、そ
れぞれ圧力調整弁３３、３４を介して合流点３５に配管
で接続される。合流点３５で混合されたＡｒ＋Ｎ2 混合
ガスは、配管３６を介してフィルタ３７に供給され、ガ
ス中の不純物粒子が除去される。
【００４１】不純物粒子の除去された混合ガスは、配管
３８を介して冷却器（または熱交換器）３９で冷却さ
れ、ノズル２から真空容器１内に吹き出される。冷却器
３９の出力の混合ガスの圧力および温度は、圧力計およ
び温度計（いずれも図示せず）で測定され、冷却器３９
の最低冷却温度がその圧力でのアルゴンガスの液化点以
下になるように冷却器３９が制御される。
３８を介して冷却器（または熱交換器）３９で冷却さ
れ、ノズル２から真空容器１内に吹き出される。冷却器
３９の出力の混合ガスの圧力および温度は、圧力計およ
び温度計（いずれも図示せず）で測定され、冷却器３９
の最低冷却温度がその圧力でのアルゴンガスの液化点以
下になるように冷却器３９が制御される。
【００４２】以上実施例に沿って本発明を説明したが、
本発明はこれらに制限されるものではない。たとえば、
混合ガスとしてアルゴンガスとアルゴンよりも液化温度
の低い他の不活性ガスとの混合ガスを用いてもよい。液
化温度以上の温度に予冷したアルゴンガスないし混合ア
ルゴンガスを噴射してもよい。
本発明はこれらに制限されるものではない。たとえば、
混合ガスとしてアルゴンガスとアルゴンよりも液化温度
の低い他の不活性ガスとの混合ガスを用いてもよい。液
化温度以上の温度に予冷したアルゴンガスないし混合ア
ルゴンガスを噴射してもよい。
【００４３】被洗浄物は半導体ウエハに限らない。たと
えば、プリント基板、光ディスク、磁気ディスク、液晶
表示装置のフラットパネル、太陽電池等の製造工程にお
ける表面洗浄に用いることもできる。
えば、プリント基板、光ディスク、磁気ディスク、液晶
表示装置のフラットパネル、太陽電池等の製造工程にお
ける表面洗浄に用いることもできる。
【００４４】その他、種々の変更、改良、組み合わせ等
が可能なことは当業者に自明であろう。
が可能なことは当業者に自明であろう。
【００４５】
【発明の効果】以上説明したように、異なるノズル径の
複数のノズルから粒子径の大きさの異なるアルゴン微粒
子を含む流体を吹き出すことにより、被洗浄物上の大小
異なる不純物や微細な溝中に侵入した汚染物の洗浄がよ
り効果的に行える。
複数のノズルから粒子径の大きさの異なるアルゴン微粒
子を含む流体を吹き出すことにより、被洗浄物上の大小
異なる不純物や微細な溝中に侵入した汚染物の洗浄がよ
り効果的に行える。
【図１】本発明の実施例による洗浄装置の基本構成を示
す概略図である。
す概略図である。
【図２】本発明の実施例による洗浄装置を横からみた図
である。
である。
【図３】本発明による洗浄方法を説明するための被洗浄
物の拡大断面図である。
物の拡大断面図である。
【図４】噴射ノズルの構成例を示す図である。
【図５】アルゴンガスの発生装置のブロック図である。
１ 真空容器 ２ ノズル装置 ２ａ〜２ｇ ノズル ３ 被洗浄物 ４ 駆動機構 ５ 排気装置 ７，８ アルゴン微粒子を含む流体
Claims (5)
- 【請求項１】 ある方向にほぼ等間隔で配列した複数組
のノズル（２ａ〜２ｇ）から異なる粒子径のアルゴン微
粒子を含む流体（７，８）を吹き出す工程と、 前記アルゴン微粒子を含む流体の吹き出し方向に被洗浄
物（３）を配置し、前記複数のノズルと被洗浄物とを相
対的に所定方向に移動させる工程とを含む洗浄方法。 - 【請求項２】 前記複数組のノズルから吹き出すアルゴ
ン微粒子は大きい平均粒子径とそれよりも小さい平均粒
子径の少なくとも２種類の平均粒子径の微粒子を含み、
前記複数組のノズルから一回に吹き出す前記アルゴン微
粒子は前記小さい平均粒子径の微粒子の数が前記大きい
平均粒子径の微粒子の数よりも多い請求項１記載の洗浄
方法。 - 【請求項３】 前記移動させる工程中、先に前記大きい
平均粒子径の微粒子により洗浄した被洗浄物の面を後か
ら前記小さい平均粒子径の微粒子がさらに洗浄する請求
項１または２記載の洗浄方法。 - 【請求項４】 少なくとも２種類の異なるノズル径を含
む複数組のノズル（２ａ〜２ｇ）をある方向にほぼ等間
隔で配列し、アルゴン微粒子を含む流体（７，８）を吹
き出すためのノズル列（２）と、 前記アルゴン微粒子を含む流体の吹き出し方向に被洗浄
物（３）を支持し、前記複数組のノズルと被洗浄物とを
相対的に所定方向に移動させることのできる駆動手段
（４）と、 前記複数組のノズルおよび前記駆動手段を収容する真空
容器（１）と、 前記真空容器内を排気できる排気手段（５）とを有する
洗浄装置。 - 【請求項５】 前記ノズル列は、小さいノズル径のノズ
ルの数が、該小さいノズル径よりも大きいノズル径のノ
ズルの数よりも多い請求項４記載の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7177693A JP2828867B2 (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | 洗浄方法および洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7177693A JP2828867B2 (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | 洗浄方法および洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06283488A JPH06283488A (ja) | 1994-10-07 |
| JP2828867B2 true JP2828867B2 (ja) | 1998-11-25 |
Family
ID=13470310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7177693A Expired - Fee Related JP2828867B2 (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | 洗浄方法および洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2828867B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3183214B2 (ja) * | 1997-05-26 | 2001-07-09 | 日本電気株式会社 | 洗浄方法および洗浄装置 |
| KR100563102B1 (ko) | 2002-09-12 | 2006-03-27 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 표면들로부터 입자들을 제거함으로써 세정하는 방법,세정장치 및 리소그래피투영장치 |
| US7522263B2 (en) | 2005-12-27 | 2009-04-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method |
| JP2008171923A (ja) * | 2007-01-10 | 2008-07-24 | Sharp Corp | ウェハ洗浄装置、ウェハ洗浄方法 |
| JP5162395B2 (ja) * | 2008-09-30 | 2013-03-13 | 富士フイルム株式会社 | 付着物除去ノズル及び方法並びに溶液製膜方法 |
-
1993
- 1993-03-30 JP JP7177693A patent/JP2828867B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06283488A (ja) | 1994-10-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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