JPWO2010134343A1 - 形状測定装置、観察装置および画像処理方法 - Google Patents
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- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 239000000284 extract Substances 0.000 claims abstract 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 103
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 86
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 40
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 26
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 20
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 16
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 13
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 43
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 10
- 230000006870 function Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000005315 distribution function Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 230000008685 targeting Effects 0.000 description 1
Images
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/04—Measuring microscopes
-
- G—PHYSICS
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- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/0004—Microscopes specially adapted for specific applications
- G02B21/0016—Technical microscopes, e.g. for inspection or measuring in industrial production processes
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/36—Microscopes arranged for photographic purposes or projection purposes or digital imaging or video purposes including associated control and data processing arrangements
- G02B21/365—Control or image processing arrangements for digital or video microscopes
- G02B21/367—Control or image processing arrangements for digital or video microscopes providing an output produced by processing a plurality of individual source images, e.g. image tiling, montage, composite images, depth sectioning, image comparison
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Optics & Photonics (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
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Abstract
Description
+{−3×(G31+G33+G37+G39)} …(1)
I=Hcos(wt+β) ・・・(2)
ここで振幅Hおよび位相差βは、
H=(A2+2ABcosα+B2)1/2
β=tan−1(Bsinα/(A+Bcosα))
で表すことができ、上記AおよびBは参照光の振幅および反射光の振幅であり、これら参照光および反射光の光波は次式、
IA=Acos(wt)
IB=Bcos(wt+α)
で表すことができる。なお、w=2πC/λ、αは位相差、Cは光速度、λは光の波長、tは時間を示している。このとき、参照光と反射光との位相差α=0のとき、振幅H=A+Bで最大値となる。一方、位相差α=πのとき、振幅H=|A−B|で最小値となる。位相差α=πとなる場合は、試料面の真の表面から波長λの1/4ずれたところである。すなわち、隣接画素の画素値として注目画素と共役な領域から光軸方向に波長λの1/4程度ずらした値を採用することにより、安定して試料5の表面の位置を捉えることができる。
+G33+G14+G16+G37+G18+G39)} …(3)
5 試料(被測定物)
13 微細駆動ステージ(移動機構)
20 撮像部(撮像装置)
21 二光束干渉対物レンズ(光干渉光学系、撮像光学系、結像系)
22 顕微鏡用照明装置(照明部)
23 顕微鏡鏡筒装置(撮像光学系、結像系)
24a 撮像素子
25 ピエゾ駆動装置(相対移動部)
30 制御用プロセッサ(画像処理部)
34 高速画像プロセッサ(第1の演算処理部、画像選択部、変化情報演算部)
35 制御用コンピュータ(第2の演算処理部、高さ情報決定部)
LFS 局所合焦度(特徴量)
OP1 ディジタルオペレータ(微分オペレータ)
Claims (11)
- 照明部によって照明された被測定物の表面からの光を受光して前記被測定物の表面像を撮像する撮像装置と、
前記撮像装置を構成する光学系の光軸に沿って、前記被測定物を前記撮像装置に対して相対移動させる相対移動部と、
前記相対移動部を利用して前記被測定物を前記撮像装置に対して相対移動させながら前記撮像装置により撮像して得られた、前記被測定物の表面の複数の画像に対して画像処理を行う画像処理部とを備え、
前記画像処理部は、前記複数の画像のうちから、1つの対象画像と前記対象画像を除く少なくとも1つの参考画像とを抽出して、前記対象画像と前記参考画像とに微分オペレータを作用させて、抽出された前記対象画像と前記参考画像の組ごとに前記対象画像の画素単位で所定の特徴量を算出する第1の演算処理部と、
画素単位で算出された複数の前記特徴量のうち画素毎に最大となる前記相対移動位置に基づいて、前記被測定物の表面高さを求める第2の演算処理部とを備え、
前記微分オペレータは、前記特徴量を算出する上で、前記対象画像の注目画素の画素値と、前記参考画像において前記注目画素とは異なる画素位置に存する隣接画素の画素値とに対して重み付けがされた係数を持ち、
前記特徴量は、前記微分オペレータによる前記注目画素の画素値と前記隣接画素の画素値との微分値であることを特徴とする形状測定装置。 - 前記照明部からの光を分割して前記被測定物と参照面とにそれぞれ照射し、前記被測定物と前記参照面とからの反射光を干渉させて干渉縞を発生させる光干渉光学系を更に備えたことを特徴とする請求項1に記載の形状測定装置。
- 前記相対移動部により前記被測定物を前記撮像装置に対して相対移動させることにより、前記被測定物の表面と、前記参照面と前記被測定物の表面に光を分割する分割位置の距離を変動させて前記干渉縞に変化を生じさせることを特徴とする請求項2に記載の形状測定装置。
- 前記撮像装置が、前記被測定物の表面像を結像する撮像光学系と、前記撮像光学系により結像された前記被測定物の表面像を撮像する撮像素子とを備え、
前記撮像素子の画素が、前記撮像光学系の光学分解能よりも細かいことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の形状測定装置。 - 前記撮像装置を構成する光学系の光軸と垂直な方向へ前記被測定物を前記撮像装置に対して相対移動させる移動機構を備え、
前記移動機構は、前記画素の幅よりも小さな移動ピッチで前記相対移動させることを特徴とする請求項4に記載の形状測定装置。 - 前記照明部は100nm以上の波長帯域幅を有する照明光を射出可能であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の形状測定装置。
- 前記微分オペレータは、前記対象画像の注目画素の画素値と、画像取得間隔をおいて前記対称画像より先に撮像された第1の参考画像において前記注目画素に画素位置が一致する画素の周辺4画素の画素値と、前記画像取得間隔をおいて前記対称画像より後に撮像された第2の参考画像において前記注目画素に画素位置が一致する画素の周辺4画素の画素値とに対して重み付けがされた係数を持ち、
前記第1および第2の参考画像における前記周辺4画素は互いに画素位置が異なる構成であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の形状測定装置。 - 前記画像取得間隔は、前記照明部から射出される照明光の中心波長域よりも小さいことを特徴とする請求項7に記載の形状測定装置。
- 請求項5に記載の形状測定装置を用いて行う画像処理方法であって、
前記移動機構により前記被測定物を前記撮像装置に対して前記移動ピッチずつ相対移動させる毎に、前記複数の画像から前記被測定物の表面における同一箇所に該当する部分を抽出するとともに前記抽出した部分の表面高さを求めて、前記抽出した部分における前記表面高さの度数分布を求める第1のステップと、
前記度数分布に基づいて前記表面高さの確率密度関数を算出し、前記確率密度関数が最大となる前記表面高さを前記抽出した部分における前記表面高さの真値として求める第2のステップと、
前記真値として求めた前記表面高さに基づいて前記被測定物の表面の画像を生成する第3のステップとを有することを特徴とする画像処理方法。 - 照明部によって照明された被測定物のある一点からの光束を結像面で所定の領域に集光することで、前記被測定物の像を前記結像面で結像する結像系と、
前記結像系の光軸上における前記被測定物までの距離が異なる複数の位置で、前記被測定物の像を撮像し、各々の距離ごとに画像データを出力する撮像装置と、
前記撮像装置から出力された画像データのうち、前記被測定物までの距離が異なる第1の画像データと第2の画像データとを選択する画像選択部と、
前記画像選択部により選択された前記第1の画像データを構成する画素の各々と、前記第1の画像データの各々の画素の位置に対応した前記第2の画像データを構成する画素の位置を中心に、前記光束が集束する領域内に位置する前記第2の画像データの画素との出力の変化を求める変化情報演算部と、
前記変化情報演算部からの出力を基に、前記第1の画像データを構成する画素のうち、合焦位置となる画素を特定し、前記第1の画像データを取得したときの前記被測定物までの距離に応じて、前記特定された画素に対応する前記被測定物の表面の高さ情報を決定する高さ情報決定部とを備えて構成されることを特徴とする観察装置。 - 前記変化情報演算部は、前記画像選択部により選択された前記第1の画像データを構成する画素の各々と、前記第2の画像データを構成する画素のうち、前記第1の画像データの各々の画素の位置に対応した画素と隣接した位置にある所定の画素との出力の変化を求めることを特徴とする請求項10に記載の観察装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011514339A JP5500462B2 (ja) | 2009-05-21 | 2010-05-20 | 形状測定装置、観察装置および画像処理方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009122762 | 2009-05-21 | ||
JP2009122762 | 2009-05-21 | ||
PCT/JP2010/003385 WO2010134343A1 (ja) | 2009-05-21 | 2010-05-20 | 形状測定装置、観察装置および画像処理方法 |
JP2011514339A JP5500462B2 (ja) | 2009-05-21 | 2010-05-20 | 形状測定装置、観察装置および画像処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2010134343A1 true JPWO2010134343A1 (ja) | 2012-11-08 |
JP5500462B2 JP5500462B2 (ja) | 2014-05-21 |
Family
ID=43126034
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011514339A Active JP5500462B2 (ja) | 2009-05-21 | 2010-05-20 | 形状測定装置、観察装置および画像処理方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8675062B2 (ja) |
JP (1) | JP5500462B2 (ja) |
KR (1) | KR101283858B1 (ja) |
CN (1) | CN102439395B (ja) |
TW (1) | TWI467127B (ja) |
WO (1) | WO2010134343A1 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103907043B (zh) * | 2011-10-28 | 2016-03-02 | 富士胶片株式会社 | 摄像方法 |
US20140125809A1 (en) * | 2012-11-02 | 2014-05-08 | Syntronics, Llc | Digital ruvis camera |
WO2016131021A1 (en) * | 2015-02-12 | 2016-08-18 | Glowforge Inc. | Safety and reliability guarantees for laser fabrication |
US10509390B2 (en) | 2015-02-12 | 2019-12-17 | Glowforge Inc. | Safety and reliability guarantees for laser fabrication |
TWI575221B (zh) * | 2015-11-20 | 2017-03-21 | 財團法人工業技術研究院 | 表面粗度檢測系統及其方法 |
WO2018098394A1 (en) | 2016-11-25 | 2018-05-31 | Glowforge Inc. | Fabrication with image tracing |
WO2018098397A1 (en) | 2016-11-25 | 2018-05-31 | Glowforge Inc. | Calibration of computer-numerically-controlled machine |
WO2018098393A1 (en) | 2016-11-25 | 2018-05-31 | Glowforge Inc. | Housing for computer-numerically-controlled machine |
WO2018098398A1 (en) | 2016-11-25 | 2018-05-31 | Glowforge Inc. | Preset optical components in a computer numerically controlled machine |
WO2018098399A1 (en) | 2016-11-25 | 2018-05-31 | Glowforge Inc. | Controlled deceleration of moveable components in a computer numerically controlled machine |
KR20190056613A (ko) | 2017-11-17 | 2019-05-27 | 김성호 | 사용자 행동 정보에 기반하여 전자기기를 제어하는 리모컨 및 방법 |
JP7227604B2 (ja) * | 2019-03-20 | 2023-02-22 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 三次元形状測定方法および三次元形状測定装置 |
JP7300871B2 (ja) * | 2019-04-05 | 2023-06-30 | キヤノンマシナリー株式会社 | 測定装置および測定方法 |
US11698622B2 (en) | 2021-03-09 | 2023-07-11 | Glowforge Inc. | Previews for computer numerically controlled fabrication |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2928548B2 (ja) * | 1989-08-02 | 1999-08-03 | 株式会社日立製作所 | 立体形状検出方法及びその装置 |
JPH1068616A (ja) * | 1996-08-28 | 1998-03-10 | Fuji Xerox Co Ltd | 形状計測装置 |
JPH10253346A (ja) * | 1997-01-07 | 1998-09-25 | Nikon Corp | 非球面形状測定器および非球面光学部材の製造方法 |
JPH11183147A (ja) * | 1997-12-19 | 1999-07-09 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 光学測定装置および光学測定方法 |
JP4115624B2 (ja) * | 1999-04-27 | 2008-07-09 | オリンパス株式会社 | 3次元形状測定装置 |
US6490541B1 (en) | 1999-06-25 | 2002-12-03 | Mitutoyo Corporation | Method and apparatus for visual measurement |
JP2001066112A (ja) * | 1999-06-25 | 2001-03-16 | Mitsutoyo Corp | 画像計測方法及び装置 |
JP4246326B2 (ja) * | 1999-08-27 | 2009-04-02 | 東レエンジニアリング株式会社 | 表面形状測定方法及びその装置 |
EP1381229B1 (en) | 2001-03-30 | 2008-12-10 | National Institute of Advanced Industrial Science and Technology | Real-time omnifocus microscope camera |
JP2003185420A (ja) | 2001-10-10 | 2003-07-03 | Murata Mfg Co Ltd | 三次元形状測定方法、三次元形状測定装置 |
JP3861666B2 (ja) | 2001-11-15 | 2006-12-20 | セイコーエプソン株式会社 | 形状測定方法及び装置 |
CN1293362C (zh) * | 2001-12-31 | 2007-01-03 | 沈阳同联集团高新技术有限公司 | 投影莫尔条纹三维表面形状测量的方法和装置 |
JP3907518B2 (ja) | 2002-05-13 | 2007-04-18 | 株式会社神戸製鋼所 | 形状測定装置 |
JP2006284193A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Alps Electric Co Ltd | 三次元形状測定装置及び三次元形状測定方法 |
JP2007114071A (ja) * | 2005-10-20 | 2007-05-10 | Omron Corp | 三次元形状計測装置、プログラム、コンピュータ読み取り可能な記録媒体、及び三次元形状計測方法 |
-
2010
- 2010-05-20 TW TW99116028A patent/TWI467127B/zh active
- 2010-05-20 WO PCT/JP2010/003385 patent/WO2010134343A1/ja active Application Filing
- 2010-05-20 JP JP2011514339A patent/JP5500462B2/ja active Active
- 2010-05-20 CN CN201080022193.0A patent/CN102439395B/zh active Active
- 2010-05-20 KR KR1020117030520A patent/KR101283858B1/ko active IP Right Grant
-
2011
- 2011-11-18 US US13/299,609 patent/US8675062B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102439395A (zh) | 2012-05-02 |
KR101283858B1 (ko) | 2013-07-08 |
TWI467127B (zh) | 2015-01-01 |
JP5500462B2 (ja) | 2014-05-21 |
US8675062B2 (en) | 2014-03-18 |
TW201122414A (en) | 2011-07-01 |
CN102439395B (zh) | 2014-05-07 |
WO2010134343A1 (ja) | 2010-11-25 |
KR20120025542A (ko) | 2012-03-15 |
US20120120232A1 (en) | 2012-05-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130402 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131129 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140121 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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