JP2015148614A - 構造化照明顕微鏡法での画像シーケンス及び評価方法及びシステム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光ビームが表面に投射され、光軸に直交する正弦波空間パターンを有し、空間パターンは異なる空間パターン位置に移動する。表面は、異なる走査位置において前記光軸に沿って走査される。続く空間パターン位置間の移動距離と、続く走査位置間の走査距離との間に一定の関係が存在する。表面によって反射される光は、走査位置において検出され、空間パターンは対応する空間パターン位置を有する。表面の空間位置毎に検出される光から、走査位置に対応する強度値の包絡曲線が特定される。表面の空間位置の高さを表す、包絡曲線の最大値及びそれに対応する走査位置が選択される。空間パターンは、1/4パターン波長距離及び1/nパターン波長距離のそれぞれにわたり、第1の空間方向及び第2の空間方向において一連の2nステップ(n>2)で移動する。
【選択図】図1
Description
本発明は、顕微鏡システムの分野に関し、より詳細には、構造化照明顕微鏡法の方法及びシステムに関する。特に、本発明は、試料の3D高さマップを提供する改善された方法及びシステムに関する。
欧州特許出願公開第2 327 956 A1号は、三次元構造の個々の特徴の範囲(距離)の特定に使用される光学センサを開示している。センサは、試料を照明する空間変調周期パターン光源を有する。検出素子のアレイを使用して、投射パターンの画像を検出する。試料が合焦位置を通して移動する間、パターンは、周期パターンが周期性を有する方向に平行する、光学センサの光軸に直交する方向において空間周期光パターンを移動させるとき、少なくとも3つの空間変調位相で変化する。検出器の出力信号の分析は、検出器の空間位置毎に、走査中に検出される信号の振幅を特定することと、振幅が最大値を有する走査位置を特定することとを含む。
試料の改善された3D高さマップを作成する方法及び装置を提供することが望ましい。良好なZ解像度を有する、試料の3D高さマップを作成する方法及び装置を提供することも望ましい。表面構造から大方独立して、試料の3D高さマップを作成する方法及び装置を提供することが更に望ましい。
試料の表面上での複数の空間位置の高さを特定する方法であって、
光軸に直交する少なくとも2つの方向において周期性を有する空間パターンを有した光ビームを表面に投射するステップと、
空間パターンを異なる空間パターン位置に移動させるステップと、
異なる走査位置において光軸に沿って表面を走査するステップと、
走査位置において表面によって反射された光を検出するステップと、
表面の空間位置毎に検出される光から、走査位置に対応する強度値の包絡曲線を特定するステップと、
表面の空間位置の高さを表す包絡曲線の最大値及びそれに対応する走査位置を選択するステップと
を含み、
走査するステップは、空間パターン位置間の移動距離と、走査位置間の走査距離との間に一定の関係を有するように表面を走査し、
検出するステップは、走査位置に対応した空間パターン位置に応じた空間パターンを有する光を検出し、
空間パターンは、少なくとも2つの方向においてパターン波長を有する正弦波パターンであり、
移動させるステップは、開始空間パターン位置及び次の空間パターン位置に関して、
(a)1/4パターン波長という第1の移動距離だけ、空間パターンを開始空間パターン位置に対して第1の空間方向に相対的に移動させ、
(b)1/nパターン波長という第2の移動距離だけ、空間パターンを開始空間パターン位置に対して第2の空間方向に相対的に移動させて、次の空間パターン位置に移動させ、
(c)この次の空間パターン位置を開始空間パターン位置とすること
をn回繰り返すことによって、空間パターンを一連の2nステップ(n>2)で移動させる。
i=1,1,2,2,...,n,n
j=0,1,0,1,...
k=2i+j−1
である。
i=1,1,2,2,...,n,n
j=0,1,0,1,...
k=2i+j−1
である。
光軸に直交する少なくとも2つの方向において周期性を有する空間パターンを有した光ビームを表面に投射するように構成される光ビームプロジェクタと、
異なる走査位置において光軸に沿って表面を走査するように構成されるスキャナと、
走査位置において表面によって反射された光を検出するように構成される光検出器と、
表面の空間位置毎に光検出器によって検出される光から、走査位置に対応する強度値の包絡曲線を特定し、包絡曲線の最大値及びそれに対応する走査位置を選択し、表面の空間位置の高さを計算するように構成される処理ユニットと
を含み、
光ビームプロジェクタは、表面に投射する光ビームの空間パターンを異なる空間パターン位置に移動させ、
スキャナは、空間パターン位置間の移動距離と、走査位置間の走査距離との間に一定の関係を有するように表面を走査し、
光検出器は、走査位置に対応した空間パターン位置に応じた空間パターンを有する光を検出し、
空間パターンは、少なくとも2つの方向においてパターン波長を有する正弦波パターンであり、
光ビームプロジェクタは、開始空間パターン位置及び次の空間パターン位置に関して、
(a)1/4パターン波長という第1の移動距離だけ、空間パターンを開始空間パターン位置に対して第1の空間方向に相対的に移動させ、
(b)1/nパターン波長という第2の移動距離だけ、空間パターンを開始空間パターン位置に対して第2の空間方向に相対的に移動させて、次の空間パターン位置に移動させ、
(c)この次の空間パターン位置を開始空間パターン位置とすること
をn回繰り返すことによって、空間パターンを一連の2nステップ(n>2)で移動させる。
図1は、試料8の三次元3D高さマップを形成する装置1を示す。装置1は、光ビーム3を生成するように構築され構成される光源2を含む。光ビーム3の経路に、空間光変調器4、レンズ5、及びビームスプリッタ6が配置される。装置1は、光ビーム3を受け取り、伝導するように構成される対物レンズ7と、上面9の高さマップを特定すべき試料8を担持する支持体20とを更に含む。装置1には、第2のレンズ10と、受光した光ビーム3の入射光の強度を信号に変換するようにそれぞれ構成される光検出素子のアレイを含む二次元光検出器11(カメラ等)とが更に設けられる。信号は処理ユニット12に送信され、処理ユニット12は、好ましくは、装置1を制御するとともに、信号データを処理して、上記高さマップを提供するようにプログラムされるコンピュータ又はコンピュータシステムによって形成される。対物レンズ7は、図1に示されるように、+又は−Z方向に試料8を走査するように構成し得る。これに追加又は代替として、試料8は、+又は−Z方向に試料8を移動させることによっても走査し得る。後者の移動は、支持体20を移動させることによって実行し得る。また、これに追加又は代替として、光源2、空間変調器4、レンズ5、ビームスプリッタ6、対物レンズ7、第2のレンズ10、及び光検出器11を含む顕微鏡組立体をまとめて、試料8及びその支持体20に対して相対的に移動させることで、異なる走査位置を含む走査機能を得ることができる。
(a)1/4パターン波長という第1の移動距離だけ、第1の空間方向に空間パターンを開始空間パターン位置に対して相対的に移動させるステップと、
(b)1/nパターン波長という第2の移動距離だけ、第2の空間方向に空間パターンを開始空間パターン位置に対して相対的に移動させて、次の空間パターン位置に移動させるステップと、
(c)この次の空間パターン位置を開始空間パターン位置とするステップと、
をn回繰り返すことによって移動する。
i=1,1,2,2,...,n,n
j=0,1,0,1,0,...
である。
i=1,1,2,2,...,n,n
j=0,1,0,1,0,...
である。
別の例は、式(4)に従って引用文献[2]に記載される7ステップインターフェログラムアルゴリズムを使用する。
各空間位置で結果として得られるZの数値を結合して、表面9の高さマップを形成する。
i=1,1,2,2,...,n,n
j=0,1,0,1,...
k=2i+j−1
である。
これから、k=0及びk=1での位相を、偶数及び奇数の測定値のそれぞれから特定することができる。試料の高さの関数としての位相では、式(11)
が、kが偶数及び奇数のそれぞれで当てはまる。
2 光源
3 光ビーム
4 空間光変調器
5 レンズ
6 ビームスプリッタ
7 対物レンズ
8 試料
9 表面
10 第2のレンズ
11 二次元光検出器
12 処理ユニット
20 支持体
Claims (12)
- 試料(8)の表面(9)上での複数の空間位置の高さを特定する方法であって、
光軸に直交する少なくとも2つの方向において周期性を有する空間パターンを有した光ビーム(3)を前記表面(9)に投射するステップと、
前記空間パターンを異なる空間パターン位置に移動させるステップと、
異なる走査位置において前記光軸に沿って前記表面(9)を走査するステップと、
前記走査位置において前記表面によって反射された光を検出するステップと、
前記表面(9)の空間位置毎に検出される光から、走査位置に対応する強度値の包絡曲線を特定するステップと、
前記表面(9)の前記空間位置の高さを表す前記包絡曲線の最大値及びそれに対応する走査位置を選択するステップと
を含み、
前記走査するステップは、空間パターン位置間の移動距離と、走査位置間の走査距離との間に一定の関係を有するように前記表面を走査し、
前記検出するステップは、走査位置に対応した空間パターン位置に応じた空間パターンを有する光を検出し、
前記空間パターンは、前記少なくとも2つの方向においてパターン波長を有する正弦波パターンであり、
前記移動させるステップは、開始空間パターン位置及び次の空間パターン位置に関して、
(a)1/4パターン波長という第1の移動距離だけ、前記空間パターンを前記開始空間パターン位置に対して第1の空間方向に相対的に移動させ、
(b)1/nパターン波長という第2の移動距離だけ、前記空間パターンを前記開始空間パターン位置に対して第2の空間方向に相対的に移動させて、前記次の空間パターン位置に移動させ、
(c)この次の空間パターン位置を前記開始空間パターン位置とすること
をn回繰り返すことによって、前記空間パターンを一連の2nステップ(n>2)で移動させる、方法 - 前記少なくとも2つの方向のそれぞれでの前記パターン波長は等しい、請求項1に記載の方法。
- 前記空間パターンは2つの直交する正弦波パターンを含み、k個の走査位置の場合、前記空間パターンの点(x,y)の強度I(x,y)は、
として定義され、式中、
i=1,1,2,2,...,n,n
j=0,1,0,1,...
k=2i+j−1
である、請求項1又は2に記載の方法。 - 前記空間パターンは、互いに120°に向けられた3つの正弦波パターンを含み、k個の走査位置の場合、前記空間パターンの点(x,y)の強度I(x,y)は、
として定義され、式中、
i=1,1,2,2,...,n,n
j=0,1,0,1,...
k=2i+j−1
である、請求項1又は2に記載の方法。 - 連続する2つの空間パターン位置間を移動する時間期間及び連続する2つの走査位置間を移動する時間期間は等しい、請求項1〜4の何れか一項に記載の方法。
- 前記走査移動は連続移動、特に均等な移動である、請求項1〜5の何れか一項に記載の方法。
- 前記包絡曲線の最大値を選択するステップは、前記包絡線の重心を計算することを含む、請求項1〜6の何れか一項に記載の方法。
- 前記光ビームは、光パルスが前記移動する空間パターンの位相と同期されるストローブ光ビームである、請求項1〜7の何れか一項に記載の方法。
- 前記表面(9)の各空間位置で検出される光から特定される各強度値は、前記光強度が検出されたときに発せられた、前記空間パターン上の前記対応する空間位置の前記光強度に基づいて、加重係数が乗算される、請求項1〜8の何れか一項に記載の方法。
- 前記特定するステップは、前記波長の半分だけ、又は前記波長の半分に波長の倍数を足したものだけ隔てられた空間位置での強度値の差に基づいて、局所コントラストを計算することと、
前記局所コントラスト値から、空間位置及び走査位置毎に、包絡曲線を特定することと、
を含む、請求項1〜9の何れか一項に記載の方法。 - 試料の表面(9)上での複数の空間位置の高さを特定する装置であって、
光軸に直交する少なくとも2つの方向において周期性を有する空間パターンを有した光ビーム(3)を前記表面(9)に投射するように構成される光ビームプロジェクタと、
異なる走査位置において前記光軸に沿って前記表面(9)を走査するように構成されるスキャナと、
前記走査位置において前記表面によって反射された光を検出するように構成される光検出器と、
前記表面(9)の空間位置毎に前記光検出器(11)によって検出される光から、走査位置に対応する強度値の包絡曲線を特定し、前記包絡曲線の最大値及びそれに対応する走査位置を選択し、前記表面(9)の前記空間位置の高さを計算するように構成される処理ユニットと
を含み、
前記光ビームプロジェクタは、前記表面(9)に投射する光ビームの空間パターンを異なる空間パターン位置に移動させ、
前記スキャナは、空間パターン位置間の移動距離と、走査位置間の走査距離との間に一定の関係を有するように前記表面を走査し、
前記光検出器は、走査位置に対応した空間パターン位置に応じた空間パターンを有する光を検出し、
前記空間パターンは、前記少なくとも2つの方向においてパターン波長を有する正弦波パターンであり、
前記光ビームプロジェクタは、開始空間パターン位置及び次の空間パターン位置に関して、
(a)1/4パターン波長という第1の移動距離だけ、前記空間パターンを前記開始空間パターン位置に対して第1の空間方向に相対的に移動させ、
(b)1/nパターン波長という第2の移動距離だけ、前記空間パターンを前記開始空間パターン位置に対して第2の空間方向に相対的に移動させて、前記次の空間パターン位置に移動させ、
(c)この次の空間パターン位置を前記開始空間パターン位置とすること
をn回繰り返すことによって、前記空間パターンを一連の2nステップ(n>2)で移動させる、装置。 - プロセッサにロードされると、前記プロセッサに、請求項11に記載の装置を制御させて、請求項1〜10の何れか一項に記載の方法を実行させるコンピュータ命令を含むコンピュータプログラム。
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