JP2009525504A - パターンのパラメータの変化を評価する方法及びシステム - Google Patents
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Abstract
【選択図】 図1
Description
但し、sm,n,u,vは、真の強度積分値であり、lm,n,u,vは、フレームm、nのサブフレームu、vにおける強度積分尺度であり、gm,nは、フレームm、nの逆レーザー強度利得(又はレーザー強度修正値)であり、fu,vは、サブフレームu、vの逆FOV値(又はFOV修正値)である。
Claims (74)
- パターンのパラメータの変化を評価するための方法において、パターン化された物品の少なくとも一部分の空間強度像を表すデータを処理するステップと、上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分内の所定の領域に対して空間像強度のある関数の値を決定するステップであって、空間像強度の関数の前記値が、上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分内のパターンの少なくとも1つのパラメータの変化を表すか、又は上記パターン化された物品を使用することにより製造されるパターンの少なくとも1つのパラメータの変化を表すものであるステップと、を備えた方法。
- 空間像強度の前記ある関数は、空間像強度の積分である、請求項1に記載の方法。
- パターンの前記少なくとも1つのパラメータは、パターン特徴部の微小寸法(CD)を含む、請求項1に記載の方法。
- 空間強度像を表すデータの前記処理は、空間強度像のデータにパターン認識アルゴリズムを適用して、前記空間強度像において所定の基準パターンを識別し、それに対応するパターン識別データを生成することを含む、請求項1に記載の方法。
- 空間強度像を表すデータの前記処理は、空間強度像を規定の構成の基本的エレメントへ分割し、それに対応するパターン識別データを使用して、空間強度像において所定の基準パターンに対応する基本的エレメントを選択し、更に、その選択された基本的エレメントの各々に対する前記強度関数の値を決定することを含む、請求項4に記載の方法。
- 空間強度像を表すデータの前記処理は、強度関数値と、それに対応する基本的エレメントを表すデータとを分析し、更に、上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分内の前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化マップを表している、上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分に対する強度関数マップを表すデータを発生することを含む、請求項5に記載の方法。
- 前記基本的エレメントの各々は、パターンの整数個のサイクルを含むように構成される、請求項5に記載の方法。
- 強度関数の前記値は、関連パターンに対応する基本的エレメント内の全ての位置の強度値を総計することにより得られる、請求項5に記載の方法。
- 強度関数マップを表すデータの前記発生は、対応する基本的エレメントを表すデータに基づいて強度関数値のアウトライアーを除去することを含む、請求項6に記載の方法。
- 上記処理するステップは、複数の異なるフレーム像から空間強度像を生成することを含み、更に、上記方法は、異なるフレーム像の生成における差を補償するステップを備えた、請求項1に記載の方法。
- 上記生成することは、重畳エリアを画成する一対の部分的に重畳するフレーム像を取得し、更に、その2つの部分的に重畳するフレーム像の各々における重畳エリアの視覚表現間の差に応答してその一対の部分的に重畳するフレーム像の各々の取得の差を決定することを含む、請求項10に記載の方法。
- 上記処理するステップは、規定の領域を含む部分的に重畳するフレーム像の連続シーケンスから空間強度像を生成することを含む、請求項10に記載の方法。
- 上記差を決定することは、重畳する領域に対する測定された強度関数値に、一対の隣接する連続的にスキャンされるフレームにおいてサンプルされた各重畳する領域に対するある係数を乗算することを含み、前記係数は、各関数値間の差を最小にするのに最適なものとされる、請求項10に記載の方法。
- 上記パターン化された物品の少なくとも一部分に対する強度関数の値の前記決定は、前記物品の検査と同時に実行される、請求項1に記載の方法。
- 上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分の前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化を表すデータを分析して、物品生産プロセスの1つ以上のパラメータを制御するステップを備えた、請求項1に記載の方法。
- 上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分の前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化を表すデータを分析して、前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化を減少するように動作できる補償メカニズムのための入力を与えるステップを備えた、請求項1に記載の方法。
- 上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分の前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化を表すデータを分析して、それに適用されるパターン化プロセスの照明を調整し、前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化を減少するステップを備えた、請求項1に記載の方法。
- 前記パターン化された物品は、リソグラフィーマスクである、請求項1に記載の方法。
- パターンのパラメータの変化を評価するための方法において、パターン化された物品の少なくとも一部分の像を表すデータを処理するステップと、上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分内の所定の領域に対して像のある関数の値を決定するステップであって、像関数の前記値が、上記パターン化された物品を使用することで製造されるパターンの少なくとも1つのパラメータの変化を表すものであるステップと、を備えた方法。
- 上記処理するステップは、空間強度像を表すデータを処理することを含み、更に、上記決定するステップは、空間像強度のある関数の値を決定することを含む、請求項19に記載の方法。
- 像の前記ある関数は、像強度の積分である、請求項19に記載の方法。
- パターンの前記少なくとも1つのパラメータは、パターン特徴部の微小寸法(CD)を含む、請求項19に記載の方法。
- 像を表すデータの前記処理は、その像データにパターン認識アルゴリズムを適用して、像において所定の基準パターンを識別し、それに対応するパターン識別データを生成することを含む、請求項19に記載の方法。
- 像を表すデータの前記処理は、像を規定の構成の基本的エレメントへ分割し、それに対応するパターン識別データを使用して、像において所定の基準パターンに対応する基本的エレメントを選択し、更に、その選択された基本的エレメントの各々に対する関数の値を決定することを含む、請求項23に記載の方法。
- 像を表すデータの前記処理は、強度関数値と、それに対応する基本的エレメントを表すデータとを分析し、更に、上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分内の前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化マップを表している、上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分に対する強度関数マップを表すデータを発生することを含む、請求項24に記載の方法。
- 前記基本的エレメントの各々は、パターンの整数個のサイクルを含むように構成される、請求項24に記載の方法。
- 強度関数の前記値は、関連パターンに対応する基本的エレメント内の全ての位置の強度値を総計することにより得られる、請求項24に記載の方法。
- 強度関数マップを表すデータの前記発生は、対応する基本的エレメントを表すデータに基づいて強度関数値のアウトライアーを除去することを含む、請求項25に記載の方法。
- 上記処理するステップは、複数の異なるフレーム像から像を生成することを含み、更に、上記方法は、異なるフレーム像の生成における差を補償するステップを備えた、請求項19に記載の方法。
- 上記生成することは、重畳エリアを画成する一対の部分的に重畳するフレーム像を取得し、更に、その2つの部分的に重畳するフレーム像の各々における重畳エリアの視覚表現間の差に応答してその一対の部分的に重畳するフレーム像の各々の取得の差を決定することを含む、請求項29に記載の方法。
- 上記処理するステップは、規定の領域を含む部分的に重畳するフレーム像の連続シーケンスから像を生成することを含む、請求項29に記載の方法。
- 上記差を決定することは、重畳する領域に対する測定された強度関数値に、一対の隣接する連続的にスキャンされるフレームにおいてサンプルされた各重畳する領域に対するある係数を乗算することを含み、前記係数は、各関数値間の差を最小にするのに最適なものとされる、請求項29に記載の方法。
- 上記パターン化された物品の少なくとも一部分に対する関数の値の前記決定は、前記パターン化された物品の検査と同時に実行される、請求項19に記載の方法。
- 上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分の前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化を表すデータを分析して、物品生産プロセスの1つ以上のパラメータを制御するステップを備えた、請求項19に記載の方法。
- 上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分の前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化を表すデータを分析して、前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化を減少するように動作できる補償メカニズムのための入力を与えるステップを備えた、請求項19に記載の方法。
- 上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分の前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化を表すデータを分析して、それに適用されるパターン化プロセスの照明を調整し、前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化を減少するステップを備えた、請求項19に記載の方法。
- 前記パターン化された物品は、リソグラフィーマスクである、請求項19に記載の方法。
- パターンのパラメータの変化を評価するためのシステムにおいて、パターン化された物品の少なくとも一部分の空間強度像を表すデータを処理し、更に、そのパターン化された物品の前記少なくとも一部分内の所定の領域に対して空間像強度のある関数の値を決定するように適応されたプロセッサを備え、空間像強度の関数の前記値は、上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分内のパターンの少なくとも1つのパラメータの変化を表すか、又は上記パターン化された物品を使用することにより製造されるパターンの少なくとも1つのパラメータの変化を表すものである、システム。
- 空間像強度の前記ある関数は、空間像強度の積分である、請求項38に記載のシステム。
- パターンの前記少なくとも1つのパラメータは、パターン特徴部の微小寸法(CD)を含む、請求項38に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、空間強度像のデータにパターン認識アルゴリズムを適用して、前記空間強度像において所定の基準パターンを識別し、それに対応するパターン識別データを生成するように適応される、請求項38に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、空間強度像を規定の構成の基本的エレメントへ分割し、それに対応するパターン識別データを使用して、空間強度像において所定の基準パターンに対応する基本的エレメントを選択し、更に、その選択された基本的エレメントの各々に対する前記強度関数の値を決定するように適応される、請求項41に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、強度関数値と、それに対応する基本的エレメントを表すデータとを分析し、更に、上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分内の前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化マップを表している、上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分に対する強度関数マップを表すデータを発生するように適応される、請求項42に記載のシステム。
- 前記基本的エレメントの各々は、パターンの整数個のサイクルを含むように構成される、請求項43に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、関連パターンに対応する基本的エレメント内の全ての位置の強度値を総計して、強度関数の値を得るように適応される、請求項44に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、対応する基本的エレメントを表すデータに基づいて強度関数値のアウトライアーを除去するように適応される、請求項43に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、複数の異なるフレーム像から空間強度像を生成し、異なるフレーム像の生成における差を補償するように適応される、請求項38に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、部分的に重畳するフレーム像を受け取り、更に、2つの部分的に重畳するフレーム像間の差に応答してその2つの部分的に重畳するフレーム像の取得の差を決定するように適応される、請求項38に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、規定の領域を含む部分的に重畳するフレーム像の連続シーケンスから空間強度像を生成するように適応される、請求項38に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、重畳する領域に対する測定された強度関数値に、一対の隣接する連続的にスキャンされるフレームにおいてサンプルされた各重畳する領域に対するある係数を乗算するように適応され、前記係数は、各関数値間の差を最小にするのに最適なものとされる、請求項38に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、上記パターン化された物品が検査されている間に上記パターン化された物品の少なくとも一部分に対する強度関数の値を決定するように適応される、請求項38に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分の前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化を表すデータを分析して、物品生産プロセスの1つ以上のパラメータを制御するように適応される、請求項38に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分の前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化を表すデータを分析して、前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化を減少するように動作できる補償メカニズムのための入力を与えるように適応される、請求項38に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分の前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化を表すデータを分析して、それに適用されるパターン化プロセスの照明を調整し、前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化を減少するように適応される、請求項38に記載のシステム。
- 前記パターン化された物品は、リソグラフィーマスクである、請求項38に記載のシステム。
- パターンのパラメータの変化を評価するためのシステムにおいて、パターン化された物品の少なくとも一部分の像を表すデータを処理し、更に、そのパターン化された物品の前記少なくとも一部分内の所定の領域に対して像のある関数の値を決定するように適応されたプロセッサを備え、像の関数の前記値は、そのパターン化された物品を使用することにより製造されるパターンの少なくとも1つのパラメータの変化を表すものである、システム。
- 上記プロセッサは、空間強度像を表すデータを処理し、更に、空間像強度のある関数の値を決定するように適応される、請求項56に記載のシステム。
- 像の前記ある関数は、像強度の積分である、請求項56に記載のシステム。
- パターンの前記少なくとも1つのパラメータは、パターン特徴部の微小寸法(CD)を含む、請求項56に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、像データにパターン認識アルゴリズムを適用して、その像において所定の基準パターンを識別し、それに対応するパターン識別データを生成するように適応される、請求項56に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、上記像を規定の構成の基本的エレメントへ分割し、それに対応するパターン識別データを使用して、その像において所定の基準パターンに対応する基本的エレメントを選択し、更に、その選択された基本的エレメントの各々に対する前記強度関数の値を決定するように適応される、請求項60に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、強度関数値と、それに対応する基本的エレメントを表すデータとを分析し、更に、上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分内の前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化マップを表している、上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分に対する強度関数マップを表すデータを発生するように適応される、請求項61に記載のシステム。
- 前記基本的エレメントの各々は、パターンの整数個のサイクルを含むように構成される、請求項62に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、関連パターンに対応する基本的エレメント内の全ての位置の強度値を総計して、強度関数の値を得るように適応される、請求項63に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、対応する基本的エレメントを表すデータに基づいて強度関数値のアウトライアーを除去するように適応される、請求項64に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、複数の異なるフレーム像から像を生成し、異なるフレーム像の生成における差を補償するように適応される、請求項56に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、部分的に重畳するフレーム像を受け取り、更に、2つの部分的に重畳するフレーム像間の差に応答してその2つの部分的に重畳するフレーム像の取得の差を決定するように適応される、請求項56に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、規定の領域を含む部分的に重畳するフレーム像の連続シーケンスから像を生成するように適応される、請求項56に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、重畳する領域に対する測定された強度関数値に、一対の隣接する連続的にスキャンされるフレームにおいてサンプルされた各重畳する領域に対するある係数を乗算するように適応され、前記係数は、各関数値間の差を最小にするのに最適なものとされる、請求項56に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、上記パターン化された物品が検査されている間に上記パターン化された物品の少なくとも一部分に対する強度関数の値を決定するように適応される、請求項56に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分の前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化を表すデータを分析して、物品生産プロセスの1つ以上のパラメータを制御するように適応される、請求項56に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分の前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化を表すデータを分析して、前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化を減少するように動作できる補償メカニズムのための入力を与えるように適応される、請求項56に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、上記パターン化された物品の前記少なくとも一部分の前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化を表すデータを分析して、それに適用されるパターン化プロセスの照明を調整し、前記少なくとも1つのパターンパラメータの変化を減少するように適応される、請求項56に記載のシステム。
- 前記パターン化された物品は、リソグラフィーマスクである、請求項56に記載のシステム。
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