JPWO2009110139A1 - 光学素子、ローラー型ナノインプリント装置及び金型ロールの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
<基本構造>
図1は、モスアイ構造を説明する図(屈折率が表面から連続的になり、界面で反射が極端に減少する原理を説明する図)であり、(a)は、モスアイ構造の断面の模式図を示し、(b)は、モスアイ構造における屈折率の変化を示す。
モスアイ構造や、ワイヤーグリッド構造等のナノ構造を製造する場合、構造用の金型を製作し、この金型で、基板フイルム(基材フイルム)上に塗布した紫外線硬化樹脂等の電離放射線硬化型樹脂に加圧及び密着させ、金型及び電離放射線硬化型樹脂を密着した状態で、紫外線等のエネルギー線を照射し、電離放射線硬化型樹脂を硬化するナノインプリント方式が一般的に用いられる。この場合、できあがったナノ構造は、基板フイルムの表面にナノサイズの凹凸構造を有し、特に、モスアイ構造においては、図1(a)に示すように、電離放射線硬化型樹脂(樹脂膜31)の表面に円錐状のナノサイズの突起物32が無数に形成される。また、図1(b)に示すように、空気層から樹脂膜内部にかけて屈折率が連続的に変化する構造が採用されている。このため、従来のモスアイ構造を有するナノ構造フイルムとラミネーションフイルムとの密着力は弱く、モスアイ構造が形成された面を保護することが困難であった。それに対して、ラミネーションフイルムの密着力を増加させた場合には、密着力は高くなるが、モスアイ構造(ナノサイズの凹凸構造)の間に、溶剤や低分子量のオリゴマー、可塑剤等が入り込み、結果的にナノ構造フイルムの反射率を上昇させてしまい、このようにナノ構造フイルムを表示装置に配置した場合には表示ムラの原因となってしまう。
本実施形態のロール状光学素子21は、帯状のナノ構造フイルム20と、ナノ構造フイルム20と同様の帯状のラミネーションフイルム(図示せず、マスキングフイルムとも呼ばれる)とを備え、ナノ構造フイルム20及びラミネーションフイルムの積層体がロール状に巻き込まれている。
図3は、実施形態1のロール状光学素子及び金型ロールを示す模式図であり、金型ロールの軸方向の長さAと、金型ロールの凹凸パターンの幅Cと、ナノ構造フイルムの幅Bとの製造プロセスにおける関連を示す。
図3に示すように、製造装置上、金型ロール15の軸方向の長さ(回転軸方向の長さ、すなわち総面長)をA、金型ロールの凹凸パターンが形成された領域24の幅(金型ロールのパターン有効幅)をC、ナノ構造が形成されるナノ構造フイルム20の幅をBとしたときに、これらがA>B>Cの関係を満たすことが好ましい。ナノ構造フイルム20の幅Bが、金型ロール15の総面長Aより大きい場合、金型ロール15からナノ構造フイルム20の端が落ちることになり、ナノ構造フイルム20の平滑性が損なわれ、ナノ構造フイルム20をロール状に巻き上げるのが困難となる。また、凹凸パターンが形成された領域24の幅Cがナノ構造フイルム20の幅Bより小さいプロセス条件を満たすことにより、ナノ構造を形成するのと同時に、ナノ構造が存在しないナノ構造非形成領域23をナノ構造フイルム20の両端部に形成することができる。
ナノ構造フイルム20の両端部にナノ構造が存在しないロール状光学素子21を作製する方法としては、図5(a)に示すように、ナノ構造を形成するための紫外線硬化樹脂等の電離放射線硬化型樹脂25をダイコーター、スリットコーター等の塗布手段26により基板フイルム(例えば、シート状の樹脂)12に塗布するときに、基板フイルム12の両端部に電離放射線硬化型樹脂25を塗布しない領域を設け、続いて、電離放射線硬化型樹脂を金型ロール15に接触させ、そして、紫外線等のエネルギー線を照射することによって電離放射線硬化型樹脂を硬化させる方法も好適である。
金型ロールの製造方法について、ナノ構造として代表的なモスアイ構造を作製する場合について説明する。図4は、実施形態1の金型ロールの作製方法を説明する模式図であり、(a)〜(d)は、両端部にナノ構造を作製するための凹凸パターンがない金型ロールの作製方法を示す。
モスアイ構造を作製するための金型は、一般的に、アルミ層を陽極酸化する工程と、エッチングする工程とを繰り返すことにより、アルミ層の表面にナノオーダーの円錐状の穴を開けることによって作製する。本実施形態のように、ナノ構造フイルム20の両端部にモスアイ構造が形成されない領域を設けるとともに、ナノ構造フイルム20の中央部分をモスアイ構造が連続的に形成された領域を設けるためには、図3に示す金型ロール15のように、金型ロール15自身の両端部に円錐状の窪み(穴)を開けない領域を形成することが好ましい。
図4に示した金型ロールの作製方法を使用して、モスアイ構造形成用の金型ロールを作製した。金型ロールの両端部を除く中央部分には、図4に示すように、幅360mmの凹凸パターンを形成し、幅400mmの基材フイルム(ナノ構造フイルム)の両端に対して、それぞれ、モスアイ構造が設けられない領域が20mmずつ形成されるように、金型ロールの凹凸パターンを形成した。なお、金型ロールの総面長は450mmとし、金型ロールは、外径250mm、内径124mmの円筒体を用いた。次に、金型ロールを図5(b)に示したローラー型ナノインプリント装置にセットし、そして、基材フイルムである幅400mmのPETフイルム(東レ社製)の一方の表面上に、紫外線硬化樹脂を塗布し、このPETフイルムを圧力200g/cm2で金型ロールに押し付けた状態で紫外線を照射して、紫外線硬化樹脂を硬化させた。このようにして作製されたナノ構造フイルムに、ラミネーションフイルム(藤森工業社製、ZR−701)を貼り付けた。その結果、両者の貼り付け状況は、良好であり、ナノ構造フイルムの両端部のナノ構造がない部分がラミネーションフイルムと密着し、ラミネーションフイルムをモスアイ構造上に固定することができた。
基材フイルムとなるPETフイルム上に、PETフイルムの両端部に上記紫外線硬化樹脂をコーティングしないように、PETフイルムの中央部分だけに上記紫外線硬化樹脂を塗布したこと以外は、実施例1と同様にして、モスアイ構造を有するナノ構造フイルムを作製した。作製したナノ構造フイルムでは、紫外線硬化樹脂を塗布した領域だけにモスアイ構造を構成する円錐形の突起が存在し、ナノ構造フイルムの両端部には基材フイルムが露出している領域が存在していた。実施例1と同様に、このナノ構造フイルムにラミネーションフイルムを貼り付けたところ、基材フイルムが露出している部分がラミネーションフイルムと密着し、ラミネーションフイルムをモスアイ構造上に固定することができた。
全ての外周面に、モスアイ構造を形成するための円錐状の凹凸パターンが形成された金型ロールを作製し、実施例1と同様に、基材フイルムの全ての表面上にモスアイ構造を有するナノ構造フイルムを作製した。実施例1と同様に、このナノ構造フイルムにラミネーションフイルムを貼り付けようと試みたが、ナノ構造フイルムとラミネーションフイルムとの密着力が充分でなく、ラミネーションフイルムをナノ構造フイルムに貼り付けることができなかった。
12 基材フイルム
13a、13b、16、17、27 ピンチロール
14 ダイコーター
15 金型ロール
18 ラミネーションフイルムロール
19 ラミネーションフイルム
20 ナノ構造フイルム
21 ロール状光学素子(積層フイルムロール)
22 ナノ構造形成領域
23 ナノ構造非形成領域
24 凹凸パターンが形成された領域
25 電離放射線硬化型樹脂
26 塗布手段
31 樹脂膜
32 突起
33 アルミニウム管
34 マスキング材料
35 反応容器
41 ローラー型ナノインプリント装置
Claims (6)
- ナノメートルサイズの凹凸が表面に連続的に形成されたナノ構造フイルムを有する光学素子であって、
該ナノ構造フイルムは、ナノ構造フイルムの長尺方向に沿う両端部に、該ナノメートルサイズの凹凸が形成されていないナノ構造非形成領域を有することを特徴とする光学素子。 - 前記ナノ構造フイルムは、可視光の波長よりも小さな複数の円錐状の突起が形成されたモスアイ構造を有することを特徴とする請求項1記載の光学素子。
- 前記光学素子は、前記ナノ構造フイルムに積層されたラミネーションフイルムを更に有することを特徴とする請求項1又は2記載の光学素子。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の光学素子を作製するためのローラー型ナノインプリント装置であって、
該ローラー型ナノインプリント装置は、前記ナノメートルサイズの凹凸を形成するための凹凸パターンを外周面に有する金型ロールを備え、
該金型ロールは、金型ロールの軸方向の長さAと、前記ナノ構造フイルムの幅Bと、該凹凸パターンが形成された領域の幅CとがA>B>Cの関係を満たすことを特徴とするローラー型ナノインプリント装置。 - 請求項1〜3のいずれかに記載の光学素子を作製するためのローラー型ナノインプリント装置であって、
前記ナノメートルサイズの凹凸は、電離放射線硬化型樹脂を含んで形成され、
前記ナノ構造フイルムは、基材フイルム上に、該電離放射線硬化型樹脂を含んで形成された前記ナノメートルサイズの凹凸が連続的に形成され、
該ローラー型ナノインプリント装置は、前記ナノメートルサイズの凹凸を形成するための凹凸パターンを外周面に有する金型ロールを備え、
該凹凸パターンが形成された領域の幅は、該基材フイルム上に塗布された電離放射線硬化型樹脂の塗布領域の幅よりも大きいことを特徴とするローラー型ナノインプリント装置。 - 請求項2又は3記載の光学素子を作製するためのローラー型ナノインプリント装置に用いられる金型ロールの製造方法であって、
該製造方法は、前記複数の円錐状の突起を形成するための窪みパターンとなる領域外のアルミニウム管をマスキング材料によりマスクした状態で、該アルミニウム管を陽極酸化する工程と、該アルミニウム管をエッチングする工程とを繰り返し行うことを特徴とする金型ロールの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010501767A JP5073050B2 (ja) | 2008-03-04 | 2008-11-19 | 光学素子、ローラー型ナノインプリント装置及び金型ロールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008053780 | 2008-03-04 | ||
JP2008053780 | 2008-03-04 | ||
PCT/JP2008/071036 WO2009110139A1 (ja) | 2008-03-04 | 2008-11-19 | 光学素子、ローラー型ナノインプリント装置及び金型ロールの製造方法 |
JP2010501767A JP5073050B2 (ja) | 2008-03-04 | 2008-11-19 | 光学素子、ローラー型ナノインプリント装置及び金型ロールの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2009110139A1 true JPWO2009110139A1 (ja) | 2011-07-14 |
JP5073050B2 JP5073050B2 (ja) | 2012-11-14 |
Family
ID=41055710
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010501767A Active JP5073050B2 (ja) | 2008-03-04 | 2008-11-19 | 光学素子、ローラー型ナノインプリント装置及び金型ロールの製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8597767B2 (ja) |
EP (2) | EP2543495B1 (ja) |
JP (1) | JP5073050B2 (ja) |
CN (1) | CN101952106B (ja) |
BR (1) | BRPI0822282A2 (ja) |
WO (1) | WO2009110139A1 (ja) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5243188B2 (ja) * | 2008-10-31 | 2013-07-24 | 三菱レイヨン株式会社 | 保護フィルム付き成形体 |
US8672493B2 (en) | 2009-03-30 | 2014-03-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | Display device and optical film |
JP5792425B2 (ja) * | 2009-09-28 | 2015-10-14 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止フィルム製造用組成物、反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、偏光板、および液晶表示装置 |
WO2011118367A1 (ja) * | 2010-03-24 | 2011-09-29 | シャープ株式会社 | 積層体 |
WO2011148721A1 (ja) * | 2010-05-25 | 2011-12-01 | シャープ株式会社 | 積層体 |
JP5133465B2 (ja) * | 2010-12-27 | 2013-01-30 | 三菱レイヨン株式会社 | 積層構造体および加工品の製造方法 |
CN102096125A (zh) * | 2011-01-13 | 2011-06-15 | 北京工业大学 | 一种聚光菲涅尔透镜的制造方法及装置 |
CN103415381B (zh) * | 2011-03-11 | 2016-01-06 | 夏普株式会社 | 模具、模具的制造方法、以及纳米压印膜的制造方法 |
WO2012133660A1 (ja) * | 2011-03-31 | 2012-10-04 | 東レ株式会社 | 微細構造転写フィルムの製造方法および製造装置 |
US9519082B2 (en) | 2011-08-16 | 2016-12-13 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Microscopic roughness structure with protective film and method thereof |
JP5838668B2 (ja) * | 2011-09-02 | 2016-01-06 | 三菱レイヨン株式会社 | 微細凹凸構造を表面に有する物品、および保護フィルム付き物品 |
US8703365B2 (en) * | 2012-03-06 | 2014-04-22 | Apple Inc. | UV mask with anti-reflection coating and UV absorption material |
CN102866579B (zh) * | 2012-09-26 | 2014-06-18 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 基于动态纳米刻划技术制作滚筒压模的方法 |
JP5768833B2 (ja) * | 2013-04-03 | 2015-08-26 | 三菱レイヨン株式会社 | 保護フィルム付き成形体 |
JP6265127B2 (ja) * | 2013-08-14 | 2018-01-24 | 三菱ケミカル株式会社 | 円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法、およびナノインプリント用再生モールドの製造方法 |
WO2015136733A1 (ja) | 2014-03-14 | 2015-09-17 | シャープ株式会社 | 光学素子及び表示装置 |
JP6392848B2 (ja) | 2014-03-14 | 2018-09-19 | シャープ株式会社 | 光学素子及び表示装置 |
JP6211491B2 (ja) * | 2014-09-02 | 2017-10-11 | 富士フイルム株式会社 | ロール金型の製造方法およびロール金型 |
JP2015163995A (ja) * | 2015-06-15 | 2015-09-10 | 三菱レイヨン株式会社 | 保護フィルム付き成形体 |
JP6923293B2 (ja) * | 2015-09-24 | 2021-08-18 | 三菱ケミカル株式会社 | 微細凹凸構造体および接合体 |
JP6623058B2 (ja) * | 2015-12-18 | 2019-12-18 | デクセリアルズ株式会社 | 反射防止光学体の形成方法およびディスプレイパネル |
CN105898987B (zh) * | 2016-06-17 | 2019-03-29 | 上海交通大学 | 一种纳米级柔性透明电路及其制备工艺 |
CN108459464A (zh) * | 2018-03-08 | 2018-08-28 | 宁波微迅新材料科技有限公司 | 一种uv纳米压印全自动流水线设备 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001264520A (ja) * | 2000-03-16 | 2001-09-26 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルム、偏光素子、および表示装置、ならびに反射防止フィルムの製造方法 |
JP2004223836A (ja) * | 2003-01-22 | 2004-08-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | パターンロールの製作方法及び装置並びに光学シートの製膜方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2052074A1 (en) | 1990-10-29 | 1992-04-30 | Victor Vali | Integrated optics gyroscope sensor |
JPH0671763B2 (ja) | 1991-02-21 | 1994-09-14 | 筒中プラスチック工業株式会社 | ポリカーボネート樹脂シートの熱成形方法 |
DE10020877C1 (de) | 2000-04-28 | 2001-10-25 | Alcove Surfaces Gmbh | Prägewerkzeug, Verfahren zum Herstellen desselben, Verfahren zur Strukturierung einer Oberfläche eines Werkstücks und Verwendung einer anodisch oxidierten Oberflächenschicht |
US7066234B2 (en) * | 2001-04-25 | 2006-06-27 | Alcove Surfaces Gmbh | Stamping tool, casting mold and methods for structuring a surface of a work piece |
JP2003043203A (ja) | 2001-08-01 | 2003-02-13 | Hitachi Maxell Ltd | 反射防止膜、その製造方法、反射防止膜製造用スタンパ、その製造方法、スタンパ製造用鋳型及びその製造方法 |
JP2003322712A (ja) * | 2002-04-30 | 2003-11-14 | Omron Corp | 反射板および反射板の製造方法、並びに反射型液晶表示装置 |
JP2004294616A (ja) * | 2003-03-26 | 2004-10-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 防眩性反射防止フィルムの製造方法及び装置並びに防眩性反射防止フィルム |
US7070406B2 (en) | 2003-04-29 | 2006-07-04 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Apparatus for embossing a flexible substrate with a pattern carried by an optically transparent compliant media |
US7384792B1 (en) * | 2003-05-27 | 2008-06-10 | Opto Trace Technologies, Inc. | Method of fabricating nano-structured surface and configuration of surface enhanced light scattering probe |
JP4438355B2 (ja) * | 2003-09-01 | 2010-03-24 | オムロン株式会社 | マイクロ凹凸パターンを有する樹脂薄膜を備えた光学素子の製造方法 |
US20050104253A1 (en) * | 2003-11-11 | 2005-05-19 | Ryuichi Katsumoto | Production method and production apparatus of pattern-indented sheet |
JP2005144698A (ja) | 2003-11-11 | 2005-06-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 凹凸状シートの製造方法及び製造装置 |
JP4406553B2 (ja) | 2003-11-21 | 2010-01-27 | 財団法人神奈川科学技術アカデミー | 反射防止膜の製造方法 |
US20070235342A1 (en) | 2004-10-01 | 2007-10-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing nanostructure |
JP4368384B2 (ja) * | 2004-12-03 | 2009-11-18 | シャープ株式会社 | 反射防止材、光学素子、および表示装置ならびにスタンパの製造方法およびスタンパを用いた反射防止材の製造方法 |
US9709700B2 (en) * | 2005-04-06 | 2017-07-18 | 3M Innovative Properties Company | Optical bodies including rough strippable boundary layers |
JP2007073696A (ja) | 2005-09-06 | 2007-03-22 | Meisho Kiko Kk | パターン形成方法、パターン形成装置およびパターン形成ずみフィルム |
JP2007203576A (ja) | 2006-02-01 | 2007-08-16 | Oji Paper Co Ltd | ロール式インプリント装置用の広幅ナノインプリントロールの製造方法 |
CN101484614B (zh) | 2006-06-30 | 2011-09-07 | 三菱丽阳株式会社 | 铸模、铸模的制造方法以及片材的制造方法 |
CN101909859B (zh) | 2008-02-27 | 2015-02-04 | 夏普株式会社 | 辊型纳米压印装置、辊型纳米压印装置用模具辊、辊型纳米压印装置用固定辊以及纳米压印片的制造方法 |
-
2008
- 2008-11-19 EP EP12006895.2A patent/EP2543495B1/en active Active
- 2008-11-19 BR BRPI0822282-7A patent/BRPI0822282A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2008-11-19 US US12/735,297 patent/US8597767B2/en active Active
- 2008-11-19 EP EP08873158.3A patent/EP2248655B1/en active Active
- 2008-11-19 CN CN200880126620.2A patent/CN101952106B/zh active Active
- 2008-11-19 WO PCT/JP2008/071036 patent/WO2009110139A1/ja active Application Filing
- 2008-11-19 JP JP2010501767A patent/JP5073050B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001264520A (ja) * | 2000-03-16 | 2001-09-26 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルム、偏光素子、および表示装置、ならびに反射防止フィルムの製造方法 |
JP2004223836A (ja) * | 2003-01-22 | 2004-08-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | パターンロールの製作方法及び装置並びに光学シートの製膜方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2543495B1 (en) | 2017-01-04 |
US20100284087A1 (en) | 2010-11-11 |
BRPI0822282A2 (pt) | 2015-06-30 |
JP5073050B2 (ja) | 2012-11-14 |
WO2009110139A1 (ja) | 2009-09-11 |
EP2248655B1 (en) | 2016-04-13 |
EP2543495A1 (en) | 2013-01-09 |
CN101952106A (zh) | 2011-01-19 |
EP2248655A4 (en) | 2012-03-07 |
EP2248655A1 (en) | 2010-11-10 |
US8597767B2 (en) | 2013-12-03 |
CN101952106B (zh) | 2016-08-31 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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