JP2003322712A - 反射板および反射板の製造方法、並びに反射型液晶表示装置 - Google Patents
反射板および反射板の製造方法、並びに反射型液晶表示装置Info
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Abstract
つ、エンボス加工法を利用して形成される反射板とその
製造方法、並びに、当該反射板を備えた反射型液晶表示
装置を提供する。 【解決手段】 反射板の中心部から周辺部に向けて凸部
の高さが高くなる反射面の反転パターンを有する金型
を、基板21上の成型樹脂22aの表面に押圧する(図
8(a))。金型26全体の各領域において、分割面2
5’よりも突出した部分の体積と、分割面25’よりも
窪んだ部分の体積が一致するために、精度良く反射面の
凹凸形状を形成することができる(図8(b))。この
様に形成された、図8(c)に示す凹凸層22表面に、
アルミニウムなどの反射膜を設ければ、中心方向への集
光性の高い反射板にすることができる。
Description
置に用いられる反射板と反射板の製造方法、および反射
型液晶表示装置に関する。
ジタルビデオカメラやデジタルカメラなど、液晶表示装
置を備えた機器が多数使用されており、これらの装置の
小型化、省電力化、低コスト化等に対する要望が高まっ
ている。この要請を満たすべく、液晶パネルの照明にバ
ックライトを用いずに、外部から入射した光の反射を利
用する反射型液晶表示装置の開発が進んでいる。
構造を示す概略断面図である。図1の液晶表示装置1a
では、絶縁基板2上に、ゲート電極3、ゲート絶縁膜
4、半導体層5、ソース電極6、ドレイン電極7から構
成されたTFT8を形成し、その上部に絶縁層9を形成
して、フォトリソグラフィーによって、コンタクトホー
ル10や絶縁層9表面の凹凸形状を形成にした後、アル
ミニウムなどの反射率の高い物質を蒸着して画素電極と
もなる反射膜11を形成している。
明電極13、カラーフィルタ14および透明絶縁基板1
5が設けられている。透明絶縁基板15から入射した、
太陽光や室内照明光等の周囲光は、反射膜11で反射し
て、再び透明絶縁基板15から出射される。この反射光
が、液晶画面の照明光として利用される。
表示装置1aでは、TFT8や絶縁層9表面の凹凸形状
を形成する際に、多数回に及ぶフォトリソグラフィーが
必要であるため、歩留まり低下やコスト増大、基板の大
型化が困難であるといった問題がある。
の、従来の反射型液晶表示装置1bの構造を示す概略断
面図である。図2の液晶表示装置1bは、絶縁基板2、
凹凸層16、反射膜11、平坦化層17、TFT8、画
素電極18、液晶層12、透明共通電極19、カラーフ
ィルタ14、及び、透明絶縁基板15から構成されてい
る。また、TFT8は、ソース電極6、ドレイン電極
7、半導体層5、ゲート絶縁膜4、ゲート電極3から構
成されている。
簡単に形成することができる。具体的には、図3(a)
に示すように、絶縁基板2上にアクリル等の樹脂16a
を塗布し、この樹脂16aをガラス転移点以上、融点未
満の温度にして、表面に凹凸形状を有する金型20を押
し当てる(図3(b))。この後、樹脂16aが硬化し
た後に、金型20を外すと、図3(c)に示す凹凸層1
6が完成する。反射膜11は、この凹凸層表面に、アル
ミニウム等の反射率の高い金属薄膜を真空蒸着して形成
する(図3(d))。
に、例えばポリイミド系樹脂などの粘性液状のプレポリ
マーを塗布し、スピンコーターで引き延ばした後、焼成
して硬化させるスピンコート法によって形成することが
できる(図3(e))。この液晶表示装置1bによれ
ば、フォトリソグラフィーは、TFT8を形成する際に
行う2回だけでよいため、歩留まりがよく、基板の大型
化も可能であり、また、低コストで作製することができ
る。
周辺光をいかに効率良く利用し、液晶画面の輝度を上げ
るかが重要である。このため、従来より、図4に示すよ
うに、反射板の中心部から外周部に向かうほど、凹凸層
16に形成された個々の凸部を構成する斜面の勾配をき
つくしてゆき、また、中心部から外周部に向かうほど凸
部の高さを高くして、反射面の輪郭を放物線状に形成す
ることによって、反射光の集光性を高める方法がある。
すような、反射面の反転パターンを有する金型20を用
いたエンボス加工によって形成しようとすれば、図5
(b)に示すように、金型20の中心部の浅い窪みに樹
脂が埋まった時点で、金型20をそれ以上押し込むこと
ができず、図5(c)に示すように、凹凸層16表面は
形状不良になる。したがって、エンボス加工では、図4
に示す形状の凹凸層16は形成できないことがわかる。
によって形成した場合でも、図6(a)に示すように、
反射膜11上にスピンコート法によって形成された平坦
化層17は、中心部が周辺部に比べて窪んでしまう。こ
の状態のまま、図6(b)に示すようにTFT8、液晶
層12、及び、透明絶縁基板15等を形成しても、透明
絶縁基板15の中心部と周辺部でのセルギャップが異な
るため、位置によって干渉条件が変ることになり、色む
らを生じて液晶表示装置の表示品位が著しく低下してし
まう。
たものであり、その目的とするところは、不均一な凸部
又は凹部からなる凹凸パターンを有する反射板をエンボ
ス加工等によって精密に製造することができるようにす
ることにある。また、当該反射板を備えた反射型液晶表
示装置を提供することにある。
部からなる凹凸形状を備えた反射面を有し、前記凸部の
高さ又は前記凹部の深さが不均一となった反射板におい
て、前記反射面を、非対称となるようにして2つ以上の
領域に分割したとき、前記各領域において、前記凹部の
体積と前記凸部の体積とが等しくなるように定めた、前
記凹部と前記凸部との間の分割面は、前記反射面全体で
ほぼ一平面上にあることを特徴としている。
さの凸部又は異なる深さの凹部が、反射面に周期的に、
又は、ランダムに配置されているような反射板である。
この反射面を2つ以上の領域に非対称に分割したとき、
各領域内の凹部と凸部の間に設けた分割面は、その分割
面よりも突出している凸部の体積と、分割面よりも窪ん
でいる凹部の体積を等しくするような面になっており、
さらに、各領域の分割面は反射面全体でほぼ同一平面上
にある。
全体でほぼ同一平面上にある反射面の凹凸形状は、突起
と窪みを有する反転パターンを備えた型で押圧すること
により、凹凸形状を成型する方法(以下、エンボス加工
法という)によって、形成することができる。
反転パターンを備えた型は、前記反転パターンを形成さ
れた面における前記突起の高さ又は前記窪みの深さが不
均一であって、前記反転パターン形成領域を、非対称と
なるようにして2つ以上の領域に分割したとき、前記各
領域において、前記突起の体積と前記窪みの体積とが等
しくなるように定めた、前記突起と前記窪みとの間の分
割面は、前記反転パターン形成領域全体でほぼ一平面上
にあるような型である。
すれば、型の突起によって押し出された樹脂によって、
型の窪みがほぼ完全に埋められるため、反射面全体にお
いて、反射面の凹部および凸部を、精度良く形成するこ
とができる。
前記反射面が、前記凸部の高さが反射面の所定の位置か
ら外周部に向かうほど高くなっており、前記反射面を、
前記所定の位置を含む領域と前記外周部を含む領域とを
分けるように2以上の領域に分割して、各領域における
前記分割面を求めたとき、各分割面が前記反射面全体で
ほぼ一平面上にあるようなものが挙げられる。
置に設けることができるが、特に反射面の中心部に設
け、反射面の凸部の高さが反射面の中心部から周辺部に
向かうほど高くなるようにすれば、周辺光を観察者の瞳
のある中心部方向に向けて反射することができる。従っ
て、このように集光性の高い反射板を用いた反射型液晶
表示装置にあっては、周囲が適当な明るさであれば、バ
ックライトを用いなくとも、十分な明るさを得ることが
できる。
では、高さの低い凸部によって構成されており、外周部
の領域では、高さの高い凸部によって構成されることに
なるが、中心部の領域では凹部の深さを浅くし、外周部
の領域では凹部の深さを深くするなど、凸部の深さや大
きさを適当に設計することによって、各領域の分割面を
一致させることができる。
射板であっても、反射面全体で分割面がほぼ同じレベル
であれば、中心部は形成できるが外周部分が形成できな
いというような形成不良を起こすことなく、エンボス加
工法によって反射面の凹凸形状を形成することができ
る。
部と凸部からなる凹凸形状を備えた反射面を有し、前記
凸部の高さ又は前記凹部の深さが不均一となった反射板
において、前記反射面を、少なくとも1つの凸部を含む
微小領域に分割したとき、前記微小領域において、前記
凹部の体積と前記凸部の体積とが等しくなるように定め
た、前記凹部と前記凸部との間の分割面は、前記反射面
全体でほぼ一平面上にあることを特徴としている。
碁盤目状に区切るなどして微小領域に分割するが、個々
の微小領域の形状はどのような形状になっていても良
く、また、個々の微小領域の面積は等しくなくても良
い。ただし、各微小領域に含まれる凸部の個数が数個程
度であるときは、凸部の個数は整数個である必要がある
が、分割された領域又は、任意の領域に多数の凸部が含
まれており、1つに満たない凸部の割合が、全体に対し
て微少であるときは、必ずしも凸部の数は整数個でなく
てもよい。
面の全体においてほぼ一平面上にある。このような反射
板の反射面の凹凸形状は、エンボス加工法によって、本
発明にかかる第1の反射板よりも、さらに精度良く形成
することができる。なお、本発明にかかる第2の反射板
の凹凸形状の反転パターンを備えた型は、反射板の反転
パターンを形成された面を、少なくとも1つの凸部を含
む微小領域に分割したとき、前記微小領域において、凹
部の体積と凸部の体積とが等しくなるように定めた、前
記各微小領域における前記凹部と前記凸部との間の分割
面が、前記反射面全体でほぼ一平面上にあるような型で
ある。
の突起に押し出された樹脂は、必ずその突起に隣接する
窪みを埋めるため、精度良く凹凸形状が形成されること
になる。
前記分割面よりも突出した部分の体積と、前記分割面よ
りも窪んだ部分の体積が等しい、位置合わせのための凹
凸部分を備えていてもよい。このような、位置合わせの
ための凹凸部分は、エンボス加工法で精度良く形成する
ことができる。また、反射面と位置合わせのための凹凸
部は、同じ分割面を有しているので、製造工程の同一段
階で形成することができる。
形成した場合、形成した反射面の上面に、反射率の高い
材質で、反射膜を設けるとよい。具体的には、反射層
は、アルミニウムや銀など反射率の高い金属にするとよ
い。なお、アルミニウム等、延性が比較的大きな金属
に、直接反射面の凹凸形状の反転パターンを有する金型
を押圧して反射板を形成する場合には、このような反射
膜を設ける必要はない。
設けるようにしてもよい。反射面は、表面に凹凸形状を
有しているために、その上面に直接薄膜トランジスタ
(TFT)等を形成することはできないが、反射面上に
表面が水平な平坦化層を設けておけば、この平坦化層の
上にTFT等を形成することができる。
液体を固化させるようにして形成してもよい。本発明の
反射面は水平な分割面を有しているため、反射面上に塗
布した液体を固化させたときに、固化した液体の表面に
窪みなどができず、平坦化層表面はほぼ水平な平面にな
る。しがたって、この反射板を用いた反射型液晶表示装
置は、色むらのない、高品位な反射型液晶表示装置にす
ることができる。なお、このような平坦化層の形成方法
の具体的な例として、スピンコート法が挙げられる。
して精度良く形成し、かつ生産性を向上させるには、前
記反射面の反転パターンを有する型を、カレンダー形成
機の回転するロール表面に設けておき、前記ロール表面
に沿って前記反射板を通過させることにより、前記型に
より前記反射板に凹凸形状を転写させるようにするとよ
い。
射板を製造する方法によっては、量産が可能であり、ま
た高速に製造することができるため、生産性を向上させ
ることができる。また、シート状に形成された反射板を
用いることによって、反射型液晶表示装置を薄型化する
ことができる。
は、可能な限り組み合わせることができる。
本発明の一実施形態である液晶表示装置の反射板24を
説明する概略図である。反射板24は、基板21、凹凸
層22及び、反射膜23から構成されている。この反射
板24は、液晶表示装置の液晶パネルと同程度以上の大
きさを有しており、反射膜23はアルミニウムや銀な
ど、反射率の高い金属薄膜である。図7(a)には図示
していないが、凹凸層22および反射膜23の表面に
は、多数の微小な凹部と凸部からなる反射面が形成され
ている。
領域に分割したときの、各微小領域内の凹部および凸部
について考える。図7(a)には、反射面を碁盤目状に
分割したときの、外周部付近の領域イと、中心部付近の
領域ロを示している。なお、反射面の、領域イ,ロ以外
の部分も、領域イ,ロと同様に分割されており、分割さ
れたいずれの領域も、領域イ,ロと同様の取り扱いがで
きるとする。
外にも、中心から略環状に区切るなど、どのような区切
り方であってもよく、分割した各領域の面積は等しくな
くても良い。ただし、分割した各領域には少なくとも1
つの凸部が含まれている必要がある。また、反射面の任
意の領域内の凹部および凸部ついても、上記の領域イ,
ロと同様の取り扱いができるとする。また、領域イ,ロ
の位置を分割した領域は反射面の任意の方向に平行移動
しても良い。
に含まれる凸部の個数が数個程度であるときは、凸部の
個数は整数個である必要があるが、分割された領域又
は、任意の領域に多数の凸部が含まれており、1つに満
たない凸部の割合が、全体に対して微少であるときは、
必ずしも凸部の数は整数個でなくてもよい。
(a)の微小領域イ,ロの、A−A’線断面のうち、凹
凸層22の部分を抜き出して、拡大した図である。図7
(b)に示すように、領域イの個々の凸部は、高さが高
く、勾配が急な湾曲面によって構成されており、領域ロ
の個々の凸部は、高さが低く、勾配の緩やかな湾曲面に
よって構成されている。
て、凹凸層22全体にわたる水平な分割面25よりも突
出した凸部(斜めハッチングで示す。)の体積をV1、
分割面25よりも窪んでいる凹部(縦ハッチングで示
す。)の体積をV2としたとき、領域イにおける凸部と
凹部の体積の関係は、V1=V2であり、また、領域ロ
において、凹凸層22全体にわたる水平な分割面25よ
りも突出した凸部(斜めハッチングで示す。)の体積を
V3、分割面25よりも窪んでいる凹部(縦ハッチング
で示す。)の体積をV4としたとき、領域イにおける凸
部と凹部の体積の関係は、V3=V4である。領域イ、
および領域ロと同様に、反射面上のいずれの領域におい
ても、同一レベルの分割面25を境界とする凸部と、凹
部の体積は一致している。
8(a)に示すように、反射面の反転パターンを有する
金型26を、基板21上に塗布した未硬化の成型樹脂2
2aに押圧するエンボス加工法によって、精度良く形成
することができる。
層22の反射面の反転パターンが形成されているため、
中心部から外周部に向かうほど、個々の突起の高さが高
くなっている。また、分割面25に対応する、突起と窪
みとを等しい体積に分割する分割面25’を有してい
る。なお、凹凸層22の反射面の、いずれの微小領域の
分割面25も、同一レベルであったように、金型26の
反射面の反転パターンを有する面を同様に分割したとき
の、各領域の分割面25’も同一レベルの面である。
成型樹脂22aに押圧すれば、まず、金型26の外周部
付近の高さの高い突起によって成型樹脂22aが押し出
されて、その突起の周辺部の深さの深い窪みを埋め始め
る。最後に、中心部付近の高さの低い突起によって成型
樹脂22aが押し出され、その突起の周辺部の深さの浅
い窪みを埋めるのと同時に、その他のすべての窪みも完
全に埋まるので、金型26と成型樹脂22aが密着する
(図8(b))。
まで金型を押し込んだときに、金型26の突起によって
押し出される樹脂の体積は、反射面の凸部を形成するた
めに必要な樹脂の体積と一致するために、上記のような
同一レベルの分割面25’を有する金型26を用いれ
ば、図8(c)に示すように、凹凸層22の反射面を精
度良く形成することができる。このように形成する凹凸
層22には、光硬化樹脂や、ポリオレフィン系樹脂など
を用いてもよい。
に、反射膜23を形成した反射板24を示しており、図
7(a)のA−A’線断面を示している。反射膜23
は、アルミニウム等の反射率の高い金属を真空蒸着した
り、スパッタ法等で形成する。
かうほど凸部の勾配が急になっており、また、中心部か
ら外周部に向かうほど、凸部が高く、凹部が深くなって
いるため、反射光を中心方向に集光させることができ
る。この様な、集光性の良い反射板24を用いた反射型
液晶表示装置であれば、周囲が適当な明るさであるとき
は、バックライトを用いなくとも十分な明るさを得るこ
とができる。
の突出部(凸部及び凹部)の形状は、略円錐状や、略多
角錐状など、どのような形状であっても良い。図10及
び図11は、反射面を構成する突出部27の一例であっ
て、(a),(b),(c)は、それぞれ平面図、側面図、
及び、正面図を示している。また、各図中の破線は、等
高線を表している。図10の突出部27は、頂点28が
中心にあるため、図10(a)の突出部27に向けて入
射した光は、上下左右のいずれの方向にも反射される。
また、図11の突出部27は、頂点28が上方の一辺と
一致しているため、図11(a)の突出部27に向けて
入射した光は、左右と下方向には反射されるが、直上方
向には反射されない。
変化させたり、また、突出部27の高さを変化させるこ
とによって、突出部27を構成する面の傾きが変化し、
反射光の向きを変化させることができる。
分けられる凸部と凹部の体積が凹凸層22の全体で一致
していれば、突出部27は周期的に配列されていても、
ランダムに配列されていてもよい。ただし、同一方向か
ら入射する光の反射方向が、液晶表示装置のパネル表面
と、反射膜23とで同じ方向であると、画面に光源が映
り込み、画像が見づらくなるため、反射面は平面部を有
することがない程度に、凹凸パターンが密に形成されて
いることが望ましい。
備えた各機器によって決まる、観察者の視線方向等の特
定方向に集中して反射されるようにすればよい。また、
例えば、操作ボタンと液晶画面が隣接した装置では、反
射光が操作ボタンの照明にもなるようにするなど、各装
置の特性に合わせて反射面を設計すると良い。
マーを塗布し、スピンコーターで引き延ばし、焼成して
硬化させるスピンコート法によって、図12(a)に示
す平坦化層29を形成する。上記のように、凹凸層22
は全面にわたって水平な分割面25を有するため、形成
される平坦化層29の表面は、この分割面25にほぼ平
行になる。また、この平坦化層29の上部に、図12
(b)に示すように、TFT30、液晶層31、透明基
板32等を設ければ、平坦化層29表面と透明基板32
の間の距離は、どの位置においてもほぼ同じになるた
め、色むらのない、高品位な液晶表示装置34が製造で
きる。
の、反射面となる領域以外の位置に、位置合わせのため
のアライメントマーク33を形成した様子を説明する図
である。なお、図13(a)において、反射面となる領
域とは、反射膜23を形成した領域である。
線断面を示しており、凹凸層22の場合と同様に、凹凸
層22における分割面25と同一のレベルに設定された
分割面25より突出した凸領域の体積V5と、分割面2
5より窪んでいる凹領域の体積V6が等しくなってい
る。したがって、このアライメントマーク33も反射面
形成と同時に、エンボス加工によって精度良く形成する
ことができる。
らに別な実施形態による反射板24を用いた、反射型液
晶表示装置34の構造を表す概略断面図を示している。
この液晶表示装置34は、基板21、厚みが100μm
程度のシート状の凹凸層22、及び、銀薄膜の反射膜2
3からなる反射板24と、対向する一組の透明基板32
a、32b間に液晶層31等を設けた液晶パネル35
と、収納ケース36から構成されている。
が、液晶表示装置34の表示面37となるように、収納
ケース36内に配置されている。また、反射板24は、
収納ケース36の底面38に、両面テープで貼付されて
いる。透明基板32aと、反射膜23の間には、これら
が接することがない程度の隙間39が設けられている。
造方法を示す図である。図15において、ロール40
a,40b,40c,40dは、円筒形状をした、カレン
ダー成形機の回転ロールである。また、ロール40c
は、その表面にスタンパ41を備えており、スタンパ4
1の表面には、第1の実施形態で示した、分割面25’
を備えた金型と同様の凹凸形状が刻まれている。
40a,40bの間に挟んで送り出したシート状の基板
21に、紫外線硬化型の成型樹脂22aを均一に滴下
し、ロール40c表面に設けられたスタンパ41によっ
て凹凸形状を形成する(図15(a)〜(c))。
のと同様に、スタンパ41の突起によって押し出される
紫外線硬化型の成型樹脂22aが、樹脂を押し出した突
起周辺の窪みを完全に埋めるために、凹凸形状を精度良
く形成することができる。
照射装置42から紫外線を照射して、凹凸層22を硬化
させた後(図15(d))、基板21および凹凸層22
を裁断機43で切断する(図15(e))。切断する基
板21および凹凸層22の大きさは、反射型液晶表示装
置34のパネルと同程度以上であって、次の工程で扱い
やすい大きさにするとよい。
基板21および凹凸層22を、凹凸層22の表面を外側
にして円柱状の支持部材44に巻き付け、この状態で銀
を2000Å程度の厚さに蒸着して、反射膜23を形成
する。このように凹凸層22を湾曲させることにより、
凹凸層22の凹部が広がるために、凹部の奥にまで均一
に銀粒子を行き渡らせることができ、均一な厚みの反射
膜23を形成することができる。なお、反射膜23は、
スパッタリング法で作製しても良い。
反射板24を連続した製造工程によって製造することが
できるため、非常に高速に、量産することができる。
明な樹脂などで被膜すれば、反射板24が扱いやすくな
り、また、反射膜23の酸化などによる変質や傷を防止
することができる。また、透明基板32aと反射板24
を、透明な粘着剤などで貼り合わせて一体化させてもよ
い。
成型によって形成すれば、反射膜23を成膜する必要も
なく、さらに製造工程を簡略化することができる。
面の分割された各領域において、突出している凸部の体
積と窪んでいる凹部の体積とが等しくなるように分割す
る分割面が、反射面の全体においてほぼ一平面上にある
ので、凸部の高さ又は凹部の深さが不均一に形成されて
いる場合であっても、エンボス加工法によって、精度良
く形成することができる。また、エンボス加工法を利用
することで、反射板及び反射型液晶表示装置を低コスト
で製造することができる。
ンコート法によって平坦化層を形成すれば、表面がほぼ
水平になるため、パネルに色むらが生じるおそれがな
い、高品位な液晶表示装置を製造することができる。
シート状に形成すれば、高速に大量生産をすることがで
きため、生産性が向上する。また、シート状の反射板を
用いれば、反射型液晶表示装置を薄型化することができ
る。
ある。
図である。
る図である。
が、エンボス加工で形成できないことを説明する図であ
る。
層や液晶層等を設けた様子を説明する図である。
明する図であって、(b)の(イ),(ロ)は、(a)
の領域イ,ロのA−A’線断面のうち凹凸層部分のみを
拡大して表した図である。
説明する図である。
成する突出部の平面図、側面図、及び、正面図である。
成する別な突出部の平面図、側面図、及び、正面図であ
る。
けた様子を示す図であり、(b)は、図7の反射板を用
いた液晶表示装置を説明する図である。
ークを設けた様子を説明する図であり、(b)は(a)
のB−B’線断面図である。
液晶表示装置を説明する図である。
程を説明する図である。
Claims (10)
- 【請求項1】 凹部と凸部からなる凹凸形状を備えた反
射面を有し、前記凸部の高さ又は前記凹部の深さが不均
一となった反射板において、 前記反射面を、非対称となるようにして2つ以上の領域
に分割したとき、 前記各領域において、前記凹部の体積と前記凸部の体積
とが等しくなるように定めた、前記凹部と前記凸部との
間の分割面は、前記反射面全体でほぼ一平面上にあるこ
とを特徴とする反射板。 - 【請求項2】 前記反射面は、前記凸部の高さが反射面
の所定の位置から外周部に向かうほど高くなったもので
あり、 前記反射面を、前記所定の位置を含む領域と前記外周部
を含む領域とを分けるように2以上の領域に分割して、
各領域における前記分割面を求めたとき、各分割面が前
記反射面全体でほぼ一平面上にあることを特徴とする、
請求項1に記載の反射板。 - 【請求項3】 凹部と凸部からなる凹凸形状を備えた反
射面を有し、前記凸部の高さ又は前記凹部の深さが不均
一となった反射板において、 前記反射面を、少なくとも1つの凸部を含む微小領域に
分割したとき、 前記微小領域において、前記凹部の体積と前記凸部の体
積とが等しくなるように定めた、前記凹部と前記凸部と
の間の分割面は、前記反射面全体でほぼ一平面上にある
ことを特徴とする反射板。 - 【請求項4】 前記反射面の外部に、前記分割面よりも
突出した部分の体積と、前記分割面よりも窪んだ部分の
体積が等しい、位置合わせのため凹凸部分を備えている
こと特徴とする、請求項1又は3に記載の反射板。 - 【請求項5】 前記反射面の上面に、反射率の高い材質
の反射膜が形成されていることを特徴とする、請求項1
又は3に記載の反射板。 - 【請求項6】 前記反射面の上方に、表面が平坦な平坦
化層を備えていることを特徴とする、請求項1又は3に
記載の反射板。 - 【請求項7】 突起と窪みを有する反転パターンを備え
た型で押圧することにより、凹部と凸部からなる凹凸形
状を反射板の反射面に成型する反射板の製造方法であっ
て、 前記型は、前記反転パターンを形成された面における前
記突起の高さ又は前記窪みの深さが不均一であって、 前記反転パターン形成領域を、非対称となるようにして
2つ以上の領域に分割したとき、 前記各領域において、前記突起の体積と前記窪みの体積
とが等しくなるように定めた、前記突起と前記窪みとの
間の分割面は、前記反転パターン形成領域全体でほぼ一
平面上にあることを特徴とする反射板の製造方法。 - 【請求項8】 前記反射面の反転パターンを有する型
は、回転するロール表面に設けられており、前記ロール
表面に沿って前記反射板を通過させることにより、前記
型により前記反射板に凹凸形状を転写させることを特徴
とする請求項7に記載の反射板の製造方法。 - 【請求項9】 凹凸形状を備えた前記反射面上に塗布し
た液体を固化させて、表面が平坦な平坦化層を形成する
ことを特徴とする請求項7に記載の反射板の製造方法。 - 【請求項10】 請求項1〜6に記載の反射板と、液晶
パネルとを備えた反射型液晶表示装置。
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