CN101952106B - 光学元件、辊型纳米压印装置以及模具辊的制造方法 - Google Patents

光学元件、辊型纳米压印装置以及模具辊的制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101952106B
CN101952106B CN200880126620.2A CN200880126620A CN101952106B CN 101952106 B CN101952106 B CN 101952106B CN 200880126620 A CN200880126620 A CN 200880126620A CN 101952106 B CN101952106 B CN 101952106B
Authority
CN
China
Prior art keywords
film
nanometer
nanometer structure
nano
mould roller
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN200880126620.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101952106A (zh
Inventor
山田信明
藤井晓义
田口登喜生
林秀和
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Publication of CN101952106A publication Critical patent/CN101952106A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101952106B publication Critical patent/CN101952106B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/118—Anti-reflection coatings having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
    • B29C33/38—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the material or the manufacturing process
    • B29C33/3842—Manufacturing moulds, e.g. shaping the mould surface by machining
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
    • B29C33/42—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the shape of the moulding surface, e.g. ribs or grooves
    • B29C33/424—Moulding surfaces provided with means for marking or patterning
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
    • B29C59/04—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing using rollers or endless belts
    • B29C59/046—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing using rollers or endless belts for layered or coated substantially flat surfaces
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00—Electroforming
    • C25D1/006—Nanostructures, e.g. using aluminium anodic oxidation templates [AAO]
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02—Anodisation
    • C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
    • C25D11/12—Anodising more than once, e.g. in different baths
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
    • B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
    • B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
    • B29C35/0805—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
    • B29C2035/0827—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using UV radiation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
    • B29C59/022—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing characterised by the disposition or the configuration, e.g. dimensions, of the embossments or the shaping tools therefor
    • B29C2059/023—Microembossing
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
    • Y10T428/24364—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.] with transparent or protective coating
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
    • Y10T428/24488—Differential nonuniformity at margin
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
    • Y10T428/24612—Composite web or sheet

Abstract

本发明提供一种与层压膜贴紧性优良的光学元件、辊型纳米压印装置以及模具辊的制造方法。本发明是具有在表面连续形成纳米尺寸的凹凸的纳米构造膜和层叠在上述纳米构造膜上的层压膜的光学元件，上述纳米构造膜是在沿着纳米构造膜的长边方向的两端部具有未形成纳米尺寸的凹凸的纳米构造非形成区域的辊状光学元件。

Description

光学元件、辊型纳米压印装置以及模具辊的制造方法
技术领域
本发明涉及光学元件、辊型纳米压印装置以及模具辊的制造方法。更为详细地，涉及适用于经能得到低反射率的表面处理的辊状光学元件的光学元件、辊型纳米压印装置以及模具辊的制造方法。
背景技术
近几年，将刻入到模具中的尺寸为数十nm～数百nm的凹凸按压到涂敷在基板上的树脂材料上来转印形状的技术、即所谓的纳米压印技术受到关注，正在以应用于光学材料、IC的细微化、临床检查基板等为目标进行研究。作为纳米压印技术的优点，可以列举出如下方面：与使用光刻和蚀刻的现有的图案形成技术相比能够以低成本来制作具备各种特征的部件。作为其原因，可以列举出：纳米压印技术所使用的装置结构简单，与现有技术所使用的装置相比价格便宜，能够在短时间内大量地制造相同形状的部件。
作为纳米压印技术的方式，已知有热纳米压印技术、UV纳米压印技术等。例如，UV纳米压印技术是制作具有纳米尺寸的凹凸的模具，在透明基板上形成紫外线固化树脂薄膜，在该薄膜上，按压该模具，其后照射紫外线，由此在透明基板上形成具有纳米构造的薄膜。另一方面，热纳米压印技术是，例如，将透明基板和模具的温度升高至透明基板的软化点以上，其后在透明基板和模具间施加压力，在透明基板上形成纳米构造(凹凸构造)的技术。在研究阶段使用这些方式的情况下，一般使用平的模具、利用批处理来形成纳米构造。
作为利用批处理来形成纳米构造的技术，例如公开有对感光性干膜进行包括模具的按压和光照射的光纳米压印的方法(例如，参照专利文献7。)。
与此相对，为了利用纳米压印技术来以低成本大量地制造具有纳米构造的薄膜，与批处理相比，适用辊到辊(roll to roll)处理 的方法。通过辊到辊处理，能够使用模具辊连续制造具有纳米构造的膜。
作为使用辊到辊处理的纳米压印技术，公开有例如边用小型的模具辊拼接模区域边在大型的模具辊上进行转印来制造大型的模具辊的制作方法(例如，参照专利文献5。)。
另外，在纳米压印技术以外的领域中，关于用于辊到辊处理的辊，公开有在辊材料上直接形成凹凸图案的辊制作方法(例如，参照专利文献6。)。
另一方面，在光学材料(光学元件)中，已知作为纳米构造的一种的“蛾眼构造”(例如，参照专利文献1。)。蛾眼构造可以列举出例如在透明基板的表面形成多个纳米尺寸的锥形状的突起的构造。根据这种蛾眼构造，折射率从空气层到透明基板连续变化，因此入射光不会将透明基板的表面识别为光学表面，能够使反射光锐减。作为具有这种纳米构造的光学材料的制造技术，已知将通过阳极氧化在表面形成有纳米尺寸的孔的铝基板用作模具的方法(例如，参照专利文献2～4。)。根据使用该阳极氧化的方法，能够将纳米尺寸的凹坑随机地、大致均匀地形成在表面上，能够在圆柱状的模具辊的表面形成纳米构造，其中，上述纳米构造是连续生产所需的无接缝(无缝)的构造。
专利文献1：日本特开2001-264520号公报
专利文献2：日本特表2003-531962号公报
专利文献3：日本特开2003-43203号公报
专利文献4：日本特开2005-156695号公报
专利文献5：日本特开2007-203576号公报
专利文献6：日本特开2005-144698号公报
专利文献7：日本特开2007-73696号公报
发明内容
发明要解决的问题
然而，在现有的利用辊到辊处理来连续形成纳米构造的膜(例如如光学膜)的制作技术中，使用制造纳米构造后的产品会有问题。具体地，为了防止完成了的表面的纳米构造在下一道工序免受损伤、污染，希望在形成纳米构造的膜上附加保护膜(下面，也称为“层压膜”)，但是存在如下问题：膜表面存在纳米级别的凹凸，因此与保护膜的粘合材料之间的贴紧性差，在形成纳米构造的膜上很难贴附保护膜。对此，也考虑过增强保护膜的粘合材料的能力，该情况下，糊材料、糊所包含的溶剂等会在纳米构造的缝隙发生残留，即糊材料、糊所包含的溶剂等会转印到形成纳米构造的膜上，在将形成纳米构造的膜用作显示装置用的光学元件的情况下，有可能产生显示不均匀。另外，特别是如蛾眼构造那样，在液晶显示装置的偏光板表面使用产品的情况下，形成纳米构造的膜经过粘接性赋予工序、清洗工序等湿工序，因此会在贴合层压膜和基材膜的状态下经过这些工序。因此，在形成纳米构造的膜与层压膜的贴紧性弱的情况下，会出现在两者之间侵入溶剂，表面的纳米构造被溶剂侵害(被侵蚀)的情况。
本发明是鉴于上述现状而完成的，目的在于提供与层压膜的贴紧性优良的光学元件、辊型纳米压印装置以及模具辊的制造方法。
用于解决问题的方案
本发明的发明人在对与层压膜的贴紧性优良的光学元件、辊型纳米压印装置以及模具辊的制造方法进行各种研究的过程中，着眼于形成纳米构造的区域。并且，在现有的利用辊到辊处理在表面连续形成纳米构造(纳米尺寸的凹凸)的纳米构造膜的制作技术中，发现在纳米构造膜表面的整个面上形成有纳米构造(纳米尺寸的凹凸)，因此与层压膜的贴紧性会变弱，并且发现，在沿着纳米构造膜的长边方向的两端部设有未形成纳米尺寸的凹凸的纳米构造非形成区域，由此在该纳米构造非形成区域能够使层压膜充分地贴紧，由此想到其能够很好地解决上述问题，于是有了本发明。
即，本发明是具有在表面连续形成纳米尺寸的凹凸的带状的纳米构造膜；以及贴合在该纳米构造膜上的带状的层压膜的光学元件，该光学元件是该纳米构造膜和该层压膜的层叠体被卷成辊状的辊状光学元件，上述纳米构造膜在沿着纳米构造膜的长边方向的两端部具有未形成上述纳米尺寸的凹凸的纳米构造非形成区域，该纳米构造膜还具有：基材膜；以及作为该凹凸形成有比可见光的波长小的多个圆锥状的突起的蛾眼构造，该蛾眼构造在该基材膜上沿着该纳米构造膜的该长边方向带状地连续地形成，该基材膜在该纳米构造膜的该两端部露出，该层压膜，在该纳米构造膜侧的表面设有粘合层，自由剥离地贴合在该纳米构造膜的该表面上，并且在该纳米构造非形成区域内与该基材膜紧贴，相对于该纳米构造膜的整个宽度的该纳米构造非形成区域的宽度的比例在1％以上。
由此，能够在纳米构造非形成区域使层压膜充分地贴紧。另外，纳米构造非形成区域被设在沿着纳米构造膜的长边方向的两端部，因此即使将纳米构造膜暴露在湿工序下，也能够有效地抑制溶剂侵入到形成有纳米尺寸的凹凸的区域(下面，也称为“纳米构造形成区域”)。
这样，本发明的特征在于：改善纳米构造膜和保护它的层压膜的贴紧性(适用于在辊状态下进行改善)，保护纳米构造膜免受工序中的污染、损伤。
此外，在本说明书中，优选纳米尺寸的凹凸，更具体地，高度和/或宽度(更为优选的是高度和宽度)是1nm以上、不到1μm(＝1000nm)的凹凸。
另外，在本说明书中，也将纳米尺寸的凹凸称为纳米构造或者纳米构造体。并且，纳米构造膜的厚度未作特别的限定，也可被称为片。
作为本发明的光学元件的结构，只要包含这种结构要素而形成，也可以包含或者不包含其它结构要素，没有特别限定，但是如上所述，在本发明的光学元件中，与层压膜的贴紧性优良，因此优选还具有层压膜。即，本发明的光学元件，优选还具有在上述纳米构造膜上层叠的层压膜，更为优选上述纳米构造膜和层压膜的层叠体被卷入(卷成)辊状的辊状光学元件。
上述纳米尺寸的凹凸的图案未被特别限定，可以列举出蛾眼构造、线栅构造等，其中，更适用蛾眼构造。即，优选上述纳米构造膜，具有形成有比可见光波长小的多个圆锥状(锥形状)的突起的蛾眼构造。由此，在将本发明的光学元件(辊状光学元件)使用到液晶显示装置等的偏光板，即使将纳米构造膜暴露在粘接性赋予工序、清洗工序等湿工序下，也能够抑制溶剂侵入到形成有蛾眼构造的区域，蛾眼构造被溶剂侵蚀。其结果，能够有效抑制液晶显示装置产生显示不均匀，并且使反射光锐减。
另外，本发明是用于制作本发明的光学元件的辊型纳米压印装置，上述的辊型纳米压印装置，具备在外周面具有用于形成上述纳米尺寸的凹凸的凹凸图案的模具辊(辊)，上述模具辊还是辊型纳米压印装置(下面，也称为“本发明的第一辊型纳米压印装置”)，其中，模具辊的轴方向的长度A、上述纳米构造膜的宽度B以及形成有上述凹凸图案的区域的宽度C满足A＞B＞C的关系。
由此，能够同时形成沿着纳米构造膜的长边方向的两端部的纳米构造非形成区域和纳米构造形成区域。即，能够有效地制作本发明的光学元件。另外，模具辊的轴方向(更详细地说，是转动轴方向)的长度大于纳米构造膜的宽度，因此能够不损害纳米构造膜的平坦性，形成纳米构造非形成区域和纳米构造形成区域。此外，在本说明书中，形成有凹凸图案的区域的宽度，是指模具辊的轴方向(更详细地说，是转动轴方向)形成有凹凸图案的区域的长度。
作为本发明的第一辊型纳米压印装置的结构，只要包含这种结构要素而形成，也可以包含或者不包含其它结构要素，不被特别限定。
并且，本发明是用于制作本发明的光学元件的辊型纳米压印装置，上述纳米尺寸的凹凸，包含电离辐射固化型树脂而形成，上述纳米构造膜，在基材膜上，连续形成包含上述电离辐射固化型树脂而形成的上述纳米尺寸的凹凸，上述辊型纳米压印装置还是辊型纳米压印装置(下面，也称为“本发明的第二辊型纳米压印装置”)，具备在外周面具有用于形成上述纳米尺寸的凹凸的凹凸图案的模具辊(辊)，形成有上述凹凸图案的区域的宽度大于涂敷在上述基材膜上的电离辐射固化型树脂的涂敷区域的宽度。
由此，使用UV纳米压印技术等，能够同时形成沿着纳米构造膜的长边方向的两端部的纳米构造非形成区域和纳米构造形成区域。即，能够高效制作本发明的光学元件。另外，仅变更电离辐射固化型树脂的涂敷区域的宽度，就能够容易地变更纳米构造形成区域的大小，因此，能够容易地进行纳米构造膜的设计变更，例如，纳米构造膜宽度的变更等。因此，优选本发明的第二辊型纳米压印装置，还具备用于在基材膜上涂敷电离辐射固化型树脂的涂敷单 元。此外，在本说明书中，电离辐射固化型树脂的涂敷区域的宽度，是指与纳米构造膜的长边方向正交的方向上电离辐射固化型树脂的涂敷区域的长度。另外，在本说明书中，上述电离辐射固化型树脂，包括利用紫外线来固化的树脂，所谓的紫外线固化型树脂。
作为本发明的第二辊型纳米压印装置的结构，只要包含这种结构要素而形成，也可以包含或者不包含其它结构要素，不被特别限定。
并且，本发明是用于辊型纳米压印装置的模具辊的制造方法，其中，上述辊型纳米压印装置用于制作本发明的光学元件，尤其是优选具备具有形成比可见光波长小的多个圆锥状(锥形状)的突起的蛾眼构造的纳米构造膜的光学元件，上述制造方法是模具辊的制造方法，在使用掩模材料对除了成为用于形成上述多个圆锥状的突起的凹坑图案的区域以外的铝管进行掩蔽的状态下，反复对上述铝管进行阳极氧化的工序和对上述铝管进行蚀刻的工序。
由此，能够容易地制造在铝管的两端部未设有用于形成多个圆锥状的突起的凹坑图案的模具辊、即适用于制作本发明的光学元件的模具辊。
本发明的模具辊的制造方法，只要具备上述工序，不受其它工序的特别限定。
发明效果
根据本发明的光学元件、辊型纳米压印装置以及模具辊的制造方法，能够实现与层压膜贴紧性优良的辊状光学元件。因此，能够利用层压膜对纳米构造膜进行掩蔽，能够使纳米构造膜免受工序中的污染、损伤、药液等。因此，在下一道工序中，例如，在糊的涂层工序、偏光板的贴附工序、切割工序等中，能够显著提高利用在表面具有纳米构造的光学元件的加工品的合格率。
附图说明
图1是说明蛾眼构造的图(说明折射率从表面起连续、在界面上反射锐减的原理的图)，(a)表示蛾眼构造的截面示意图，(b)表示蛾眼构造的折射率的变化。
图2是表示实施方式1的辊状光学元件的示意图，(a)表示整体，(b)是(a)中的X-Y线的截面的放大图。
图3是表示实施方式1的辊状光学元件和模具辊的示意图，表示模具辊的轴方向的长度A、模具辊的凹凸图案的宽度C以及纳米构造膜的宽度B在制造工艺中的关联。
图4是说明实施方式1的模具辊的制作方法的示意图，(a)～(d)表示在两端部没有用于制作纳米构造的凹凸图案的模具辊的制作方法。
图5是说明实施方式1的辊状光学元件的制作方法的示意图，(a)表示在纳米构造膜的两端部不涂敷电离辐射固化型树脂的情况下的形态，(b)是表示实施方式1的辊型纳米压印装置整体结构的截面图。
图6是表示实施方式1的辊状光学元件和模具辊的变形例的示意图。
附图标记说明：
11：基材膜辊；12：基材膜；13a、13b、16、17、27：夹送辊；14：模具涂敷机；15：模具辊；18：层压膜辊；19：层压膜；20：纳米构造膜；21：辊状光学元件(层叠膜辊)；22：纳米构造形成区域；23：纳米构造非形成区域；24：形成有凹凸图案的区域；25：电离辐射固化型树脂；26：涂敷单元；31：树脂膜；32：突起；33：铝管；34：掩模材料；35：反应容器；41：辊型纳米压印装置。
具体实施方式
下面揭示了实施方式和实施例，参照附图更详细地说明本发明，但本发明不限于这些实施方式和实施例。
(实施方式1)
<基本结构>
图1是说明蛾眼构造的图(说明折射率从表面连续、在界面反射锐减的原理的图)，(a)表示蛾眼构造的截面的示意图，(b)表示蛾眼构造的折射率的变化。
在制造蛾眼构造、线栅构造等纳米构造的情况下，一般使用如下纳米压印方式：制作构造用的模具，用该模具对涂敷在基板膜(基材膜)上的紫外线固化树脂等电离辐射固化型树脂加压并使之贴紧，在使模具和电离辐射固化型树脂贴紧的状态下照射紫外线等能量线，固化电离辐射固化型树脂。该情况下，完成的纳米构造，在基板膜的表面具有纳米尺寸的凹凸构造，特别地，在蛾眼构造中，如图1的(a)所示，在电离辐射固化型树脂(树脂膜31)的表面形成有无数圆锥状的纳米尺寸的突起物32。另外，如图1的(b)所示，采用了从空气层到树脂膜内部折射率连续变化的构造。因此，现有的具有蛾眼构造的纳米构造膜和层压膜的贴紧力较弱，保护形成有蛾眼构造的面很困难。对此，在增加层压膜贴紧力的情况下，贴紧力变高了，但是溶剂、低分子量的低聚物、增塑剂等会进入蛾眼构造(纳米尺寸的凹凸构造)之间，结果会使纳米构造膜的反射率上升，这样在将纳米构造膜配置在显示装置中的情况下，会成为显示不均匀的原因。
因此，本发明者设计了如下构造：在基材膜上连续生产这些纳米构造的情况(使用辊成型的情况)下，能够保持层压膜和基材膜的贴紧性，并且有效地抑制溶剂、低分子量的低聚物、增塑剂等物质向基材膜转移的构造。
图2是显示实施方式1的辊状光学元件的示意图，(a)表示整体，(b)是(a)中X-Y线的截面的放大图。
本实施方式的辊状光学元件21，具备带状的纳米构造膜20和与纳米构造膜20相同的带状的层压膜(未图示，也称为掩模膜)，纳米构造膜20和层压膜的层叠体被卷成辊状。
在纳米构造膜20的层压膜侧的表面，作为纳米构造，连续地带状地形成有与图1说明的构造相同的蛾眼构造。这样，纳米构造膜20是具有纳米构造的光学片。
层压膜，是具有与纳米构造膜20大致相同的宽度的保护膜，在纳米构造膜20侧的表面设有包括糊等粘合材料的粘合层，可自由剥离地贴合在形成纳米构造膜20的蛾眼构造的面上。
并且，本实施方式的纳米构造膜20在沿着长边方向的两端部具有未形成蛾眼构造的纳米构造非形成区域23。即，纳米构造膜20具有带状连续地形成有蛾眼构造的纳米构造形成区域22和未形成蛾眼构造的带状的纳米构造非形成区域23。
这样，在将蛾眼构造形成在纳米构造膜20上时，在纳米构造膜20的两端部，形成没有凹凸的平坦的纳米构造非形成区域23，由此能够确保在该纳米构造膜20的两端部和层压膜的充分的贴紧力。因此，在辊状光学元件21的形成工序以后的纳米构造膜加工工序中，能够在纳米构造膜20上事先盖上(事先贴附)层压膜，因此能够保护蛾眼构造免受污染、伤害、工序中的药液等。另外，不必要像现有的那样在层压膜上使用粘合力强的粘合材料，因此能够有效抑制纳米构造膜20被层压膜的粘合材料污染。并且，纳米构造非形成区域23被设置在纳米构造膜20的两端部，因此即使将纳米构造膜20暴露在湿工序中，也能够有效地抑制在纳米构造形成区域22中溶剂的侵入。
此外，纳米构造非形成区域23只要在能够充分确保与层压膜的贴紧性的范围内即可，无需严格的平坦，平坦性的程度未作特别的限定，但是优选在基材膜上能够实现的程度的平坦。
另外，图2的(b)中，纳米构造体被较大地图示，但实际上，纳米构造体的高度是非常小的纳米级别，因此在纳米构造形成区域22与纳米构造非形成区域23的区域之间没有达到形成台阶的程度。
各纳米构造非形成区域23的宽度的下限，只要在能够实质性确保与层压膜的贴紧性的范围内即可，便未作特别的限定，但更具体地，优选20mm以上。另外，相对于纳米构造膜20的整个宽度，纳米构造非形成区域23的宽度的比例，与纳米构造膜20的整个宽度相对应适当选择即可，但更具体地，优选1％以上。并且，各纳米构造非形成区域23的宽度的上限，从很好地确保纳米构造图案的获取效率的观点出发优选尽量选择狭窄的，更具体地，优选40mm程度以下。此外，本说明书中，膜(纳米构造膜20、层压膜)、纳米构造非形成区域以及纳米构造形成区域的宽度分别表示与膜的长边 方向正交的方向的膜、纳米构造非形成区域以及纳米构造形成区域的长度。
<工艺条件>
图3是表示实施方式1的辊状光学元件和模具辊的示意图，表示模具辊的轴方向的长度A、模具辊的凹凸图案的宽度C以及纳米构造膜的宽度B在制造工艺中的关联。
如图3所示，在制造装置中，当设模具辊15的轴方向的长度(转动轴方向的长度、即总面长)为A、设模具辊的形成有凹凸图案的区域24的宽度(模具辊的图案的有效宽度)为C、设形成纳米构造的纳米构造膜20的宽度为B时，优选满足A＞B＞C的关系。在纳米构造膜20的宽度B大于模具辊15的总面长的情况下，纳米构造膜20的端部会从模具辊15上落下，纳米构造膜20的平滑性受损，将纳米构造膜20卷成辊状变得困难。另外，满足形成有凹凸图案的区域24的宽度C小于纳米构造膜20的宽度B的工艺条件，因此在形成纳米构造的同时，能够在纳米构造膜20的两端部形成不存在纳米构造的纳米构造非形成区域23。
这样，本实施方式的辊型纳米压印装置，具备在外周面具有用于形成纳米构造的凹凸图案的圆筒状或圆柱状的模具辊(辊)15，并且被设定为模具辊15的总面长A、纳米构造膜20的宽度B、以及形成有凹凸图案的区域的宽度C满足A＞B＞C的关系。并且，模具辊15以圆筒轴或圆柱轴为中心进行转动，能够连续进行被转印体(纳米构造膜20)的阴模压制和脱模，其结果，能够高速且大量地制造在表面形成有纳米构造的纳米构造膜20。
此外，模具辊15，从制造成本的观点来看，优选中间是空洞的圆筒，但也可以是中间实心的圆柱。
图5是说明实施方式1的辊状光学元件的制作方法的示意图，(a)表示在纳米构造膜的两端部不涂敷电离辐射固化型树脂的情况下的形态，(b)是表示实施方式1的辊型纳米压印装置的整体结构的截面图。
作为制作在纳米构造膜20的两端部不存在纳米构造的辊状光 学元件21的方法，如图5的(a)所示，也适用如下方法：当将用于形成纳米构造的紫外线固化树脂等电离辐射固化型树脂25利用模具涂敷机、狭缝式涂布机等涂敷单元26涂敷在基板膜(例如，片状的树脂)12上时，在基板膜12的两端部设置不涂敷电离辐射固化型树脂25的区域，接着，使电离辐射固化型树脂与模具辊15接触，然后，照射紫外线等能量线，由此使电离辐射固化型树脂固化。
此外这种情况下，作为模具辊15，也可以使用在圆筒轴或圆柱轴方向的两端部分未设有用于形成纳米构造的凹凸图案的模具辊，也可以使用外周面的整个面上设有用于形成纳米构造的凹凸图案的模具辊。
另外，在图5的(a)中，平面地图示了各部件的配置关系，但如图5的(b)所示，实际上，纳米构造膜20(基板膜12)卷在模具辊15的外周面上。
使用图5的(b)，更为详细地说明本实施方式的辊状光学元件21的制造方法和辊型纳米压印装置41。
本实施方式的辊型纳米压印装置41，首先，使三醋酸纤维素酯(TAC)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)等基材膜被卷成辊状的基材膜辊11转动，从基材膜辊11中将带状的基材膜12沿图5的(b)中箭头所指的方向送出。然后，基材膜12通过调节松紧的一对夹送辊(保持辊)13a、13b，利用模具涂敷机14涂敷未固化的紫外线固化树脂等电离辐射固化型树脂。此外，电离辐射固化型树脂未涂敷在基材膜12的两端部。然后，基材膜12沿圆柱状的模具辊15的外周面移动半周的量。此时，涂敷在基材膜12上的电离辐射固化型树脂与模具辊15的外周面相接。
在基材膜12与模具辊15的外周面最初相接的位置，与模具辊15的外周面对置地配置橡胶制的圆柱状夹送辊16。在该位置，用模具辊15和夹送辊16夹住基材膜12，对模具辊15和电离辐射固化型树脂进行加压并使之贴紧，由此形成在模具辊15的外周面的凹凸图案被转印到电离辐射固化型树脂。
另外，在基材膜12沿模具辊15的外周面移动期间，从模具辊15 的下方照射紫外线等能量线。由此，电离辐射固化型树脂在具有形成在模具辊15的外周面的凹凸图案的反转形状的状态下被固化。此外，图5的(b)中的白色中空箭头表示能量线的照射方向。
在沿模具辊15的外周面移动半周的量之后，基材膜12沿与模具辊15的外周面对置地配置的夹送辊17移动，与被固化了的电离辐射固化型树脂一起从模具辊15剥离。由此，制作在表面连续形成有由电离辐射固化型树脂构成的纳米构造的纳米构造膜20。另一方面，基材膜12的两端部未涂敷电离辐射固化型树脂，因此在纳米构造膜20的两端部，依然保持露出基材膜12。
然后，由层压膜19被卷成辊状的层压膜辊18提供的层压膜19，通过夹送辊27，贴附到纳米构造膜20的被涂敷了电离辐射固化型树脂的一侧，由此，纳米构造膜20的两端部，即在纳米构造膜20的两端部露出的平坦的基材膜12和层压膜19充分贴紧。最后，卷成由基材膜12和电离辐射固化型树脂构成的包括纳米构造的纳米构造膜20和层压膜19的层叠体(层叠膜)来制作本实施方式的辊状光学元件(层叠膜辊)21。
此外，本实施方式的辊状光学元件21，也可以使用后述的模具辊15，即，在圆筒轴或圆柱轴方向的两端部未设置用于形成纳米构造的凹凸图案的模具辊15，利用热纳米压印技术来制作。
<模具辊的制造方法>
关于模具辊的制造方法，说明以纳米构造为代表的蛾眼构造的制作情况。图4是说明实施方式1的模具辊的制造方法的示意图，(a)～(d)表示两端部没有用于制作纳米构造的凹凸图案的模具辊的制造方法。
用于制作蛾眼构造的模具，通常是反复对铝层进行阳极氧化工序和蚀刻工序，由此在铝层的表面形成纳米级别的圆锥状的孔来制成的。如本实施方式所示，为了在纳米构造膜20的两端部设置未形成蛾眼构造的区域，并且在纳米构造膜20的中央部分设置连续形成蛾眼构造的区域，优选如图3所示的模具辊15那样，在模具辊15自身的两端部形成未形成有圆锥状的凹坑(孔)的区域。
为了制作这样的模具辊15，在进行阳极氧化和蚀刻时，首先，如图4的(a)和(b)所示，将通过切削研磨等对外周面进行了研磨的铝管33的两端部使用不被所使用的药液侵蚀的掩模材料34进行掩蔽，然后，如图4的(c)所示，在用掩模材料34对铝管33的两端部进行掩蔽的状态下，在反应容器35中，反复对铝管进行阳极氧化工序和蚀刻工序，例如进行3次，最后，如图4的(d)所示，除去掩模材料34即可。由此，能够制作在铝管33两端部没有用于制作纳米构造(蛾眼构造)的凹凸图案(凹坑图案)的模具辊15。另外，能够在纳米构造膜20上形成无缝的(无接缝的)蛾眼构造。作为掩模材料34，能够使用在聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜等上涂上粘合材料的粘结膜。
如图1的(a)所示，利用这样制作出的模具辊而形成的纳米构造膜20，优选形成有多数大致圆锥状(锥形状)的突起32的表面构造，上述突起32的高度为150～400nm(例如，300nm)，并且顶点间的距离为80～300nm(例如，200nm)。这样的表面构造，普遍被称为“蛾眼(蛾的眼睛)构造”，具有蛾眼构造的纳米构造膜20，已知例如能够将可见光的反射率设为0.15％程度的超低反射膜。在具有蛾眼构造的纳米构造膜20中，存在比可见光波长的长度(380～780nm)小的大小的突起，因此如图1的(b)所示，界面的折射率能够从纳米构造膜20的表面的空气折射率1.0，连续地逐渐增大到与纳米构造膜20的结构材料的折射率(树脂膜31的情况下，为1.5)相同为止。其结果，实质上不存在折射率界面，在纳米构造膜20的界面的反射率锐减。
此外，作为模具辊15，不是在模具辊15上直接形成凹凸图案，也可以例如将形成有凹凸图案的片(薄膜)贴附在圆筒或者圆柱的圆筒面或者圆柱面表面，但从形成无缝的(无接缝的)纳米构造的观点看，如上所述，优选在模具辊15上直接形成凹凸图案。
另外，对铝管33的两端部以外使用掩模材料34进行掩蔽来制作模具辊15，由此除了在模具辊15的两端部以外，例如图6所示，也可以在模具辊15的两端部分以外，在例如模具辊15的中央部形成没 有用于制作纳米构造的凹凸图案的区域。由此，除了两端部以外，能够制作在两端部分以外形成有纳米构造非形成区域23的纳米构造膜。这样，纳米构造膜20，例如，如图6所示，也可以在沿着长边方向的两端部和宽度方向的中央部形成纳米构造非形成区域23。由此，能够更为改善纳米构造膜20和层压膜19的贴紧性。另外，能够不降低获取效率地高效制作多个小面积的光学元件。即，能够不降低获取效率地高效生产比较小型的光学元件。此外，在纳米构造膜20的中央部分所设置的纳米构造非形成区域23的数量未作特别的限定，与纳米构造膜20、模具辊15以及必要的光学元件的大小相应地酌情设定即可。
(实施例1)
使用图4所示的模具辊的制作方法，制作蛾眼构造形成用的模具辊。如图4所示，在除了模具辊两端部的中央部分，形成宽度为360mm的凹凸图案，形成模具辊的凹凸图案，使得在宽度为400mm的基材膜(纳米构造膜)的两端分别形成20mm的不设置蛾眼构造的区域。此外，模具辊的总面长为450mm，模具辊使用外径为250mm、内径为124mm的圆筒体。然后，将模具辊安装在图5的(b)所示的辊型纳米压印装置上，并且，在作为基材膜的宽度400mm的PET膜(东丽株式会社制)的一方的表面上涂敷紫外线固化树脂，在将该PET膜以200g/cm2的压力按压在模具辊上的状态下，照射紫外线，使紫外线固化树脂固化。在这样制作的纳米构造膜上贴附层压膜(藤森工业株式会社制，ZR-701)。其结果，二者的贴附状态良好，纳米构造膜两端部的没有纳米构造的部分紧贴层压膜，能够将层压膜固定在蛾眼构造上。
(实施例2)
在作为基材膜的PET膜上，在PET膜的两端部不涂上上述紫外线固化树脂，仅在PET膜的中央部分涂敷上述紫外线固化树脂，除此之外，与实施例1相同，制作具有蛾眼构造的纳米构造膜。在制作出的纳米构造膜上，仅在涂敷了紫外线固化树脂的区域存在构成蛾眼构造的圆锥形突起，在纳米构造膜的两端部，存在露出基材膜 的区域。与实施例1相同，在该纳米构造膜上贴附有层压膜，基材膜的露出部分与层压膜贴紧，能够将层压膜固定在蛾眼构造上。
(比较例1)
制作在全部的外周面形成有用于形成蛾眼构造的圆锥状的凹凸图案的模具辊，与实施例1相同，制作出在基材膜的全部表面上具有蛾眼构造的纳米构造膜。与实施例1相同，尝试了在该纳米构造膜上贴附层压膜，但纳米构造膜与层压膜的贴紧力不充分，不能将层压膜贴附在纳米构造膜上。
本申请以2008年3月4日申请的日本专利申请2008-53780号为基础，要求基于巴黎公约和进入国的法规的优先权。该申请的内容其整体作为参照被引入到本申请中。

Claims (4)

1.一种光学元件，其具有：在表面连续形成纳米尺寸的凹凸的带状的纳米构造膜；以及贴合在该纳米构造膜上的带状的层压膜，其特征在于：
该光学元件是该纳米构造膜和该层压膜的层叠体被卷成辊状的辊状光学元件，
该纳米构造膜在沿着纳米构造膜的长边方向的两端部具有未形成该纳米尺寸的凹凸的纳米构造非形成区域，
该纳米构造膜还具有：基材膜；以及作为该凹凸形成有比可见光的波长小的多个圆锥状的突起的蛾眼构造，
该蛾眼构造在该基材膜上沿着该纳米构造膜的该长边方向带状地连续地形成，
该基材膜在该纳米构造膜的该两端部露出，
该层压膜，在该纳米构造膜侧的表面设有粘合层，自由剥离地贴合在该纳米构造膜的该表面上，并且在该纳米构造非形成区域内与该基材膜紧贴，
相对于该纳米构造膜的整个宽度的该纳米构造非形成区域的宽度的比例在1％以上。
2.一种辊型纳米压印装置，其用于制作根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于：
该辊型纳米压印装置具备模具辊，上述模具辊在外周面具有用于形成上述纳米尺寸的凹凸的凹凸图案，
在该模具辊中，模具辊的轴方向的长度A、上述纳米构造膜的宽度B以及形成有该凹凸图案的区域的宽度C满足A＞B＞C的关系。
3.一种辊型纳米压印装置，其用于制作根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于：
上述纳米尺寸的凹凸包含电离辐射固化型树脂而形成，
上述纳米构造膜在基材膜上连续形成包含该电离辐射固化型树脂而形成的上述纳米尺寸的凹凸，
该辊型纳米压印装置具备模具辊，上述模具辊在外周面具有用于形成上述纳米尺寸的凹凸的凹凸图案，
形成有该凹凸图案的区域的宽度大于涂敷在该基材膜上的电离辐射固化型树脂的涂敷区域的宽度。
4.一种模具辊的制造方法，用于用来制作根据权利要求1所述的光学元件的辊型纳米压印装置，其特征在于：
在该制造方法中，在利用掩模材料对除了成为用于形成上述多个圆锥状突起的凹坑图案的区域以外的铝管进行掩蔽的状态下，反复对该铝管进行阳极氧化的工序和对该铝管进行蚀刻的工序。
CN200880126620.2A 2008-03-04 2008-11-19 光学元件、辊型纳米压印装置以及模具辊的制造方法 Active CN101952106B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008-053780 2008-03-04
JP2008053780 2008-03-04
PCT/JP2008/071036 WO2009110139A1 (ja) 2008-03-04 2008-11-19 光学素子、ローラー型ナノインプリント装置及び金型ロールの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101952106A CN101952106A (zh) 2011-01-19
CN101952106B true CN101952106B (zh) 2016-08-31

Family

ID=41055710

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN200880126620.2A Active CN101952106B (zh) 2008-03-04 2008-11-19 光学元件、辊型纳米压印装置以及模具辊的制造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US8597767B2 (zh)
EP (2) EP2248655B1 (zh)
JP (1) JP5073050B2 (zh)
CN (1) CN101952106B (zh)
BR (1) BRPI0822282A2 (zh)
WO (1) WO2009110139A1 (zh)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5243188B2 (ja) * 2008-10-31 2013-07-24 三菱レイヨン株式会社 保護フィルム付き成形体
WO2010113868A1 (ja) * 2009-03-30 2010-10-07 シャープ株式会社 表示装置及び光学フィルム
JP5792425B2 (ja) * 2009-09-28 2015-10-14 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム製造用組成物、反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、偏光板、および液晶表示装置
US20130011611A1 (en) * 2010-03-24 2013-01-10 Tokio Taguchi Laminate
US9429685B2 (en) 2010-05-25 2016-08-30 Sharp Kabushiki Kaisha Laminate
WO2012091012A1 (ja) * 2010-12-27 2012-07-05 三菱レイヨン株式会社 積層構造体および加工品の製造方法
CN102096125A (zh) * 2011-01-13 2011-06-15 北京工业大学 一种聚光菲涅尔透镜的制造方法及装置
WO2012124498A1 (ja) * 2011-03-11 2012-09-20 シャープ株式会社 金型、金型の製造方法、及び、ナノインプリントフィルムの製造方法
JP5924337B2 (ja) * 2011-03-31 2016-05-25 東レ株式会社 微細構造転写フィルムの製造方法および製造装置
TWI519423B (zh) * 2011-08-16 2016-02-01 三菱麗陽股份有限公司 附有保護膜的微細凹凸構造體及其製造方法
JP5838668B2 (ja) * 2011-09-02 2016-01-06 三菱レイヨン株式会社 微細凹凸構造を表面に有する物品、および保護フィルム付き物品
US8703365B2 (en) * 2012-03-06 2014-04-22 Apple Inc. UV mask with anti-reflection coating and UV absorption material
CN102866579B (zh) * 2012-09-26 2014-06-18 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 基于动态纳米刻划技术制作滚筒压模的方法
JP5768833B2 (ja) * 2013-04-03 2015-08-26 三菱レイヨン株式会社 保護フィルム付き成形体
CN105451966B (zh) * 2013-08-14 2017-03-15 三菱丽阳株式会社 圆柱状纳米压印用模具的制造方法，和纳米压印用再生模具的制造方法
WO2015136733A1 (ja) 2014-03-14 2015-09-17 シャープ株式会社 光学素子及び表示装置
JP6392848B2 (ja) 2014-03-14 2018-09-19 シャープ株式会社 光学素子及び表示装置
JP6211491B2 (ja) * 2014-09-02 2017-10-11 富士フイルム株式会社 ロール金型の製造方法およびロール金型
JP2015163995A (ja) * 2015-06-15 2015-09-10 三菱レイヨン株式会社 保護フィルム付き成形体
JP6923293B2 (ja) * 2015-09-24 2021-08-18 三菱ケミカル株式会社 微細凹凸構造体および接合体
JP6623058B2 (ja) * 2015-12-18 2019-12-18 デクセリアルズ株式会社 反射防止光学体の形成方法およびディスプレイパネル
CN105898987B (zh) * 2016-06-17 2019-03-29 上海交通大学 一种纳米级柔性透明电路及其制备工艺
CN108459464A (zh) * 2018-03-08 2018-08-28 宁波微迅新材料科技有限公司 一种uv纳米压印全自动流水线设备

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1754824A (zh) * 2004-10-01 2006-04-05 佳能株式会社 用于制造毫微结构的方法

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2052074A1 (en) 1990-10-29 1992-04-30 Victor Vali Integrated optics gyroscope sensor
JPH0671763B2 (ja) 1991-02-21 1994-09-14 筒中プラスチック工業株式会社 ポリカーボネート樹脂シートの熱成形方法
JP4502445B2 (ja) 2000-03-16 2010-07-14 大日本印刷株式会社 反射防止フィルムの製造方法
US7066234B2 (en) 2001-04-25 2006-06-27 Alcove Surfaces Gmbh Stamping tool, casting mold and methods for structuring a surface of a work piece
DE10020877C1 (de) 2000-04-28 2001-10-25 Alcove Surfaces Gmbh Prägewerkzeug, Verfahren zum Herstellen desselben, Verfahren zur Strukturierung einer Oberfläche eines Werkstücks und Verwendung einer anodisch oxidierten Oberflächenschicht
JP2003043203A (ja) 2001-08-01 2003-02-13 Hitachi Maxell Ltd 反射防止膜、その製造方法、反射防止膜製造用スタンパ、その製造方法、スタンパ製造用鋳型及びその製造方法
JP2003322712A (ja) 2002-04-30 2003-11-14 Omron Corp 反射板および反射板の製造方法、並びに反射型液晶表示装置
JP2004223836A (ja) * 2003-01-22 2004-08-12 Fuji Photo Film Co Ltd パターンロールの製作方法及び装置並びに光学シートの製膜方法
JP2004294616A (ja) 2003-03-26 2004-10-21 Fuji Photo Film Co Ltd 防眩性反射防止フィルムの製造方法及び装置並びに防眩性反射防止フィルム
US7070406B2 (en) 2003-04-29 2006-07-04 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Apparatus for embossing a flexible substrate with a pattern carried by an optically transparent compliant media
US7384792B1 (en) 2003-05-27 2008-06-10 Opto Trace Technologies, Inc. Method of fabricating nano-structured surface and configuration of surface enhanced light scattering probe
JP4438355B2 (ja) 2003-09-01 2010-03-24 オムロン株式会社 マイクロ凹凸パターンを有する樹脂薄膜を備えた光学素子の製造方法
US20050104253A1 (en) 2003-11-11 2005-05-19 Ryuichi Katsumoto Production method and production apparatus of pattern-indented sheet
JP2005144698A (ja) 2003-11-11 2005-06-09 Fuji Photo Film Co Ltd 凹凸状シートの製造方法及び製造装置
JP4406553B2 (ja) 2003-11-21 2010-01-27 財団法人神奈川科学技術アカデミー 反射防止膜の製造方法
KR100893251B1 (ko) 2004-12-03 2009-04-17 샤프 가부시키가이샤 반사 방지재, 광학 소자, 및 표시 장치 및 스탬퍼의 제조방법 및 스탬퍼를 이용한 반사 방지재의 제조 방법
US9709700B2 (en) * 2005-04-06 2017-07-18 3M Innovative Properties Company Optical bodies including rough strippable boundary layers
JP2007073696A (ja) 2005-09-06 2007-03-22 Meisho Kiko Kk パターン形成方法、パターン形成装置およびパターン形成ずみフィルム
JP2007203576A (ja) 2006-02-01 2007-08-16 Oji Paper Co Ltd ロール式インプリント装置用の広幅ナノインプリントロールの製造方法
CN101484614B (zh) 2006-06-30 2011-09-07 三菱丽阳株式会社 铸模、铸模的制造方法以及片材的制造方法
US8673193B2 (en) 2008-02-27 2014-03-18 Sharp Kabushiki Kaisha Roller nanoimprint apparatus, mold roller for use in roller nanoimprint apparatus, fixing roller for use in roller nanoimprint apparatus, and production method of nanoimprint sheet

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1754824A (zh) * 2004-10-01 2006-04-05 佳能株式会社 用于制造毫微结构的方法

Also Published As

Publication number Publication date
US8597767B2 (en) 2013-12-03
EP2248655B1 (en) 2016-04-13
EP2248655A1 (en) 2010-11-10
US20100284087A1 (en) 2010-11-11
EP2543495B1 (en) 2017-01-04
BRPI0822282A2 (pt) 2015-06-30
WO2009110139A1 (ja) 2009-09-11
JPWO2009110139A1 (ja) 2011-07-14
EP2543495A1 (en) 2013-01-09
EP2248655A4 (en) 2012-03-07
CN101952106A (zh) 2011-01-19
JP5073050B2 (ja) 2012-11-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101952106B (zh) 光学元件、辊型纳米压印装置以及模具辊的制造方法
CN101909859B (zh) 辊型纳米压印装置、辊型纳米压印装置用模具辊、辊型纳米压印装置用固定辊以及纳米压印片的制造方法
Han et al. Enhanced transmittance of glass plates for solar cells using nano-imprint lithography
TWI588009B (zh) A method of manufacturing a stamper, a stamper, and a stamper With components
CN105593718B (zh) 用于制造单面薄偏光板的方法
CN101959670A (zh) 辊型压印装置和压印片的制造方法
CN104608370A (zh) 基于卷对卷uv固化聚合物薄膜表面微结构加工系统及方法
CN107111002A (zh) 光学体、光学膜粘合体及光学体的制造方法
WO2017181456A1 (zh) 纳米压印模板的制作方法及纳米压印模板
DK2923818T3 (en) Process for making an embossing mold
WO2015194649A1 (ja) 光学体、フィルム貼付体、及び光学体の製造方法
CN104412165A (zh) 圆筒形聚合物掩膜和制造方法
JP5449789B2 (ja) インプリント用転写フィルムロール体の製造方法、およびインプリント用転写フィルムロール体
JP5576555B2 (ja) ナノインプリントフィルムの製造方法
JP2010225785A (ja) インプリント用の転写フィルムの製造方法、及びインプリント用の転写フィルム
CN102285300B (zh) 一种立体纹理高清玻璃画及其加工方法
KR20180054666A (ko) 임프린트용 몰드의 제조 방법
JP2013142814A (ja) 光学フィルムの製造方法
KR101385976B1 (ko) 나노-마이크로 복합 패턴 형성을 위한 몰드의 제조 방법
JP5884555B2 (ja) インプリント用のモールドおよび微細構造の形成方法
WO2019085375A1 (zh) 万向易撕薄膜及其加工方法和生产线
JP6343173B2 (ja) 微細パターンの形成方法、成型体の製造方法、ワイヤグリッド偏光子の製造方法、及び転写装置
CN104914487A (zh) 一种可增强光反射柔性薄膜的制造方法
CN101746207A (zh) 可产生视觉效果的平坦纹路的结构、制法及其制作装置
KR20110118018A (ko) 반사 방지 필름의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant