CN107111002A - 光学体、光学膜粘合体及光学体的制造方法 - Google Patents

光学体、光学膜粘合体及光学体的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种不使用保护膜而能够保护光学膜的凹凸结构，能够使光学膜薄膜化，并且提高操作性，抑制粘接剂层与光学膜的折射率差所导致的缺陷的产生，并且能够将光学膜更牢固地粘贴于被粘物的，新型且经改良的光学体、光学膜粘合体及光学体的制造方法。根据本发明的一个观点，提供一种光学体，其具有：光学膜，其具备在一侧表面所形成的第一凹凸结构和在另一侧表面所形成的第二凹凸结构；以及主膜，其覆盖第一凹凸结构，其中，第一凹凸结构的凹凸的平均周期在可见光波长以下，主膜具备：第三凹凸结构，其形成于与第一凹凸结构相对的表面，并且，具有第一凹凸结构的反转形状。

Description

光学体、光学膜粘合体及光学体的制造方法
技术领域
本发明涉及一种光学体、光学膜粘合体及光学体的制造方法。
背景技术
形成有凹凸的平均周期在可见光波长以下的凹凸结构的光学膜，对可见光波长范围的光具有优异的防反射效果。因此，具有凹凸结构的光学膜可用作例如防反射膜。这种凹凸结构也被称为蛾眼结构。例如在专利文献1～2中公开了形成有凹凸结构的光学膜。
作为凹凸结构的形成方法，例如在专利文献1中公开了光纳米压印法。在光纳米压印法中，要准备用于在表面形成凹凸结构的原盘。并且，通过在基材上涂布未固化的光固化树脂，在基材上形成未固化树脂层。然后，向未固化树脂层转印原盘的凹凸结构，使未固化树脂层固化。由此，在基材上形成凹凸结构(该凹凸结构具有原盘凹凸结构的反转形状)。
另外，例如如专利文献2中公开那样，在防反射膜的凹凸结构上，有时粘贴保护膜来用于在防反射膜的保管时、搬运时、使用时等保护凹凸结构。保护膜通过粘接剂被粘贴于凹凸结构。因此，在将保护膜从凹凸结构剥离时，粘接剂有时会残留于凹凸结构上。若在凹凸结构上残留有粘接剂，则该粘接剂会导致防反射膜性能劣化。作为解决该问题的方法，考虑降低粘接剂的粘合性，但这种方法会使保护膜容易从凹凸结构脱离。即，有可能使由保护膜实现的对凹凸结构的保护变得不充分。对此，在专利文献2中，提出使用一种应用了特定粘接剂的保护膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2011‐053496号公报
专利文献2:日本特开2011‐088356号公报
发明内容
本发明要解决的问题
然而，为了确保防反射膜的操作性，需要使防反射膜具有一定程度的厚度。但是，若防反射膜过厚，则存在防反射膜的粘合体厚型化这一问题。另外，在向表面具有大型凹凸的被粘物粘贴防反射膜时，防反射膜有时无法充分地跟随被粘物表面的凹凸。
例如，如图11所示，在使用厚度25μm的粘接剂层53，向具有高度s为50μm的框体51的触摸面板50粘贴厚度50μm的防反射膜52的情况下，存在防反射膜52无法跟随框体51的高度s的情况。此时，在贴附防反射膜52后，框体51的周围形成空隙54，因此会影响触摸面板50的外观。
另外，在使用粘接剂将防反射膜粘贴于被粘物时，存在防反射膜的折射率与粘接剂层的折射率不一致的情况。此时，有可能会使防反射膜的反射率不良(即，反射率提高)。另外，有可能会发生如纹波产生、干涉图案生成等外观缺陷。
作为解决上述问题的方法，也考虑在被粘物的表面直接形成凹凸结构。对于该方法，例如在被粘物的表面平坦，并且在被粘物的周围不存在框体和配线等情况，或者被粘物由柔软的部件形成的情况下，能够期待具有一定程度的效果。但是，在上述以外的情况(例如，被粘物的表面弯曲的情况、在被粘物的周围存在框体和配线等情况等)，会存在使凹凸结构的质量变得不稳定的问题。另外，在被粘物的表面直接形成凹凸结构的情况下，可能会妨碍之后的工序。因此，该方法无法从根本上解决上述问题。
另外，作为解决上述问题的方法，也考虑将专利文献2中公开的保护膜厚膜化的方法。根据该方法，使防反射膜作为与保护膜为一体的光学体被搬运等，因此能提高光学体的操作性，并且也提高防反射膜的操作性。但是，该方法需要保护膜，因此无法应对不使用保护膜而需要对凹凸结构进行保护的要求。
另外，在专利文献2公开的技术中，保护膜和防反射膜成为一体的光学体被粘贴于被粘物之后，将保护膜从防反射膜剥离。此时，会有防反射膜可能从被粘物剥下的另一问题。
对此，本发明是鉴于上述问题而做出的，本发明的目的在于，提供一种不使用保护膜而能够保护光学膜的凹凸结构，能够使光学膜薄膜化，并且提高操作性，抑制粘接剂层与光学膜的折射率差所导致的缺陷的产生，并且能够将光学膜更牢固地粘贴于被粘物的，新型且经改良的光学体、光学膜粘合体及光学体的制造方法。
用于解决问题的手段
本发明人发现以下事项，其结果想到本发明。即，(i)将形成有凹凸结构(第四凹凸结构)的原盘(第一原盘)用作转印模制作主膜时，能够将该主膜用作转印模来制作光学膜。另外，能够将这种主膜用作光学膜的保护膜。在光学膜的一侧表面，即主膜侧的表面形成凹凸结构(第一凹凸结构)。
(ii)包含光学膜和主膜的光学体能够借由主膜获取厚度。因此，能够使光学膜薄膜化，并且提高光学膜的操作性。
(iii)通过将主膜用作光学膜的保护膜，从而不需要另外准备保护膜。
(iv)在光学膜的另一侧表面也形成凹凸结构(第二凹凸结构)，并且在第二凹凸结构上设置粘接剂层时，通过第二凹凸结构实现的锚固效果，能够增强光学膜与粘接剂层的粘接强度。因此，在将光学膜粘贴于被粘物时，光学膜能够更牢固地粘贴于被粘物。其结果，例如在将光学膜粘贴于被粘物之后，将主膜从光学膜剥离时，光学膜难以从被粘物剥下。
(v)第二凹凸结构抑制粘接剂层与光学膜的折射率差所导致的光反射。其结果，抑制产生该折射率差所导致的缺陷(反射率的不良、纹波产生)。
(vi)主膜也能够用作光学膜(例如，防反射膜)。
根据本发明的一个观点，提供一种光学体，具有：光学膜，其具备在一侧表面所形成的第一凹凸结构和在另一侧表面所形成的第二凹凸结构；以及主膜，其覆盖第一凹凸结构，其中，第一凹凸结构的凹凸的平均周期在可见光波长以下，主膜具备：第三凹凸结构，其形成于与第一凹凸结构相对的表面，并且，具有第一凹凸结构的反转形状。
在此，优选第二凹凸结构的纵横比小于第一凹凸结构的纵横比，第一凹凸结构的纵横比是构成第一凹凸结构的凸部高度与构成第一凹凸结构的凹部底面径长之比，第二凹凸结构的纵横比是构成第二凹凸结构的凸部高度与构成第二凹凸结构的凹部底面径长之比。
另外，优选第二凹凸结构的凹凸密度小于第一凹凸结构的凹凸密度。
另外，优选光学膜的厚度为1～60μm。
另外，优选第二凹凸结构的凹凸的平均周期在可见光波长以下。
另外，优选主膜具有基材膜和形成在基材膜的一侧表面的凹凸树脂层，在凹凸树脂层形成有第三凹凸结构。
另外，优选主膜具有覆盖第三凹凸结构的无机膜。
另外，优选主膜和光学膜中至少一者添加有脱模剂。
另外，优选主膜和光学膜的弹性模量相互不同。
另外，优选第一凹凸结构～第三凹凸结构中的至少1种以上由已固化的光固化树脂形成。
另外，优选形成有第一凹凸结构的表面对于波长350～800nm的光谱反射率为0.1～1.8％，形成有第三凹凸结构的表面对于波长350～800nm的光谱反射率为0.1～1.5％。
另外，优选光学膜为一体成型。
另外，优选进一步具有覆盖第二凹凸结构的粘接剂层。
另外，优选粘接剂层的厚度为1～50μm。
根据本发明的另一观点，提供一种光学膜粘合体，其具备：被粘物；以及经由粘接剂层被粘贴于被粘物的所述光学膜。
根据本发明的另一观点，提供一种光学体的制造方法，其是上述所记载的光学体的制造方法，包括以下工序：准备在表面形成有第三凹凸结构反转形状的第四凹凸结构的第一原盘的工序；准备在表面形成有与第二凹凸结构反转形状的第五凹凸结构的第二原盘的工序；将第一原盘用作转印模，制作主膜的工序；将主膜和第二原盘用作转印模，在主膜上形成光学膜的工序。
在此，优选包括以下工序：通过将第一原盘的第四凹凸结构转印于主膜用未固化树脂层，从而将第三凹凸结构形成于主膜用未固化树脂层的表面的工序；通过使主膜用未固化树脂层固化，来制作主膜的工序；通过将形成于主膜表面的第三凹凸结构转印于光学膜用未固化树脂层的一侧表面，从而将第一凹凸结构形成于光学膜用未固化树脂层的一侧表面的工序；通过将第二原盘的第五凹凸结构转印于光学膜用未固化树脂层的另一侧表面，从而将第二凹凸结构形成于光学膜用未固化树脂层的另一侧表面的工序；通过使光学膜用未固化树脂层固化，来制作光学膜的工序。
另外，优选在主膜用未固化树脂层和光学膜用未固化树脂层的至少一者添加脱模剂。
另外，优选主膜用未固化树脂层形成于基材膜上。
另外，优选进一步包括在主膜的第三凹凸结构上形成无机膜的工序，并且将已形成无机膜的第三凹凸结构转印于光学膜用未固化树脂层的一侧表面。
另外，优选主膜用未固化树脂层和光学膜用未固化树脂层的至少一者由未固化的光固化树脂构成。
另外，优选第二凹凸结构的纵横比小于第一凹凸结构的纵横比，第一凹凸结构的纵横比是构成第一凹凸结构的凸部高度与构成第一凹凸结构的凹部底面径长之比，第二凹凸结构的纵横比是构成第二凹凸结构的凸部高度与构成第二凹凸结构的凹部底面径长之比。
另外，优选第二凹凸结构的凹凸密度小于第一凹凸结构的凹凸密度。
另外，优选光学膜的厚度为1～60μm。
另外，优选第五凹凸结构的凹凸的平均周期在可见光波长以下。
另外，优选主膜和光学膜的弹性模量为相互不同的值。
另外，优选进一步包括在光学膜所形成的第二凹凸结构上形成粘接剂层的工序。
另外，优选粘接剂层的厚度为1～50μm。
发明效果
根据本发明，能够将主膜用作光学膜的保护膜。因此，可以不使用保护膜而保护光学膜的凹凸结构(第一凹凸结构)。并且，能够借由主膜获取厚度。因此，能够使光学膜薄膜化，并且提高光学膜的操作性。另外，光学膜具有第二凹凸结构。因此，通过第二凹凸结构实现的锚固效果，能够增强光学膜与粘接剂层的粘接强度。因此，能够将光学膜更牢固地粘贴于被粘物。另外，第二凹凸结构能够抑制由于粘接剂层与光学膜的折射率差所导致的光反射。其结果，能够抑制产生该折射率差所导致的缺陷(反射率的不良、纹波产生)。
附图说明
图1是表示本实施方式的光学体一个例子的剖视图。
图2A是表示在主膜的表面所形成的凹凸结构(第三凹凸结构)的一个例子的俯视图。
图2B是表示在主膜的表面所形成的凹凸结构的一个例子的XX剖视图。
图3A是表示在周面形成有凹凸结构(第四凹凸结构)的原盘(第一原盘)外观例的立体图。
图3B是表示在周面形成有凹凸结构(第五凹凸结构)的原盘(第二原盘)外观例的立体图。
图3C是用于说明光学体制造工艺的剖视图。
图3D是用于说明光学体制造工艺的剖视图。
图3E是用于说明光学体制造工艺的剖视图。
图3F是用于说明光学体制造工艺的剖视图。
图3G是用于说明光学体制造工艺的剖视图。
图3H是用于说明光学体制造工艺的剖视图。
图3I是表示曝光装置的结构例的框图。
图3J是表示以辊对辊制造主膜的转印装置的一个例子的示意图。
图3K是表示以辊对辊制造光学膜的转印装置的一个例子的示意图。
图3L是用于说明光学体的制造工艺的剖视图。
图4A是表示光学体的使用方法的一个例子的剖视图。
图4B是表示光学体的使用方法的一个例子的剖视图。
图5A是表示光学体的使用方法的另一个例子的剖视图。
图5B是表示光学体的使用方法的另一个例子的剖视图。
图5C是表示光学体的使用方法的另一个例子的剖视图。
图6A是用于说明主膜的光谱反射率的测定方法的剖视图。
图6B是用于说明光学膜的光谱反射率的测定方法的剖视图。
图7A是实施例1、比较例1a、1b的分光反射光谱。
图7B是实施例2、比较例2a、2b的分光反射光谱。
图7C是实施例3、比较例3a、3b的光学膜的分光反射光谱。
图8是实施例4、5、比较例1b、4的光学膜的分光反射光谱。
图9是表示耐光性试验结果的分光透射率曲线。
图10A是粘贴有本实施方式的光学膜的触摸面板的剖视图。
图10B是表示对图9A所示的光学膜进行高压釜处理后的状态的剖视图。
图11是粘贴有现有技术的防反射膜的触摸面板的剖视图。
具体实施方式
以下参照附图对本发明的优选实施方式进行详细说明。需要说明的是，在本说明书和附图中，对于本质上具有相同的功能构成的构成要素标注相同的附图标记，从而省略重复说明。
＜1.光学体的整体结构＞
首先，根据图1，针对本实施方式的光学体1的整体结构进行说明。光学体1具有：主膜10、光学膜21和粘接剂层23。需要说明的是，也可以不具有粘接剂层23(参照后述第二使用方法)。
主膜10是用于保护光学膜21的膜。另外，通过将主膜10形成为厚膜，能够使光学膜21形成为薄膜，并提高光学体1的操作性。另外，由于主膜10能够用作保护膜，因此不需要为了保护光学膜21而另外准备保护膜。主膜10具有形成在与光学膜21相对的表面的第三凹凸结构15。第三凹凸结构15的凹凸的平均周期在可见光波长以下。
另外，光学膜21具有形成在与主膜10相对的表面(一侧表面)的第一凹凸结构25。第一凹凸结构25具有第三凹凸结构15的反转形状，与第三凹凸结构15相啮合。即，构成第一凹凸结构25的第一凸部25a嵌入构成第三凹凸结构15的第三凹部15b。另外，构成第三凹凸结构15的第三凸部15a嵌入构成第一凹凸结构25的第一凹部25b。另外，第一凹凸结构25的凹凸的平均周期在可见光波长以下。因此，不仅光学膜21，主膜10也能够用作防反射膜。另外，主膜10与光学膜21能够彼此剥离。
另外，光学膜21具有在与主膜10相对的表面的相反侧的表面(另一侧表面)所形成的第二凹凸结构26。第二凹凸结构26的凹凸的平均周期不一定必须在可见光波长以下，但优选在可见光波长以下。粘接剂层23设置在第二凹凸结构26上，并且覆盖第二凹凸结构26。粘接剂层23用于将光学膜21粘贴于被粘物。在本实施方式中，通过第二凹凸结构26实现的锚固效果，能够增强粘接剂层23与光学膜21的粘接强度。因此，能够将光学膜21更牢固地粘贴于被粘物。另外，第二凹凸结构26能够抑制粘接剂层与光学膜21的折射率差所导致的光反射。其结果，能够抑制产生该折射率差所导致的缺陷(反射率的不良、纹波产生)。
＜2.光学体的整体结构＞
接着，根据图1～图2B，针对主膜10的结构进行说明。主膜10具有：基材膜12和形成在基材膜12的一侧表面的凹凸树脂层11。需要说明的是，基材膜12与凹凸树脂层11可以一体成型。例如，通过令基材膜12为热塑性树脂膜，能够使基材膜12与凹凸树脂层11一体成型。在后面进行详细说明。
在凹凸树脂层11的表面(即，主膜10的表面)形成有第三凹凸结构15。第三凹凸结构15具有：在主膜10的膜厚方向上突出的多个第三凸部15a和在主膜10的膜厚方向上凹陷的多个第三凹部15b。第三凸部15a和第三凹部15b周期性地配置在主膜10上。例如，在图2A的例中，第三凸部15a和第三凹部15b配置为交错格子状。当然，第三凸部15a和第三凹部15b也可以配置为其他排列图案。例如，第三凸部15a和第三凹部15b可以配置为矩形格子状。另外，第三凸部15a和第三凹部15b可以配置为无规则状。第三凸部15a和第三凹部15b的形状并未特别限定。第三凸部15a和第三凹部15b的形状可以为，例如炮弹型、椎体状、柱状、针状。需要说明的是，第三凹部15b的形状是指，由第三凹部15b的内壁面形成的形状。
第三凹凸结构15的凹凸的平均周期在可见光波长以下(例如，830nm以下)，优选为100nm以上且350nm以下，更优选为150nm以上且280nm以下，进一步优选为153～270nm。因此，第三凹凸结构15形成所谓的蛾眼结构。在此，当平均周期不足100nm时，由于可能难以形成第三凹凸结构15，而因此不优选。另外，当平均周期超过350nm时，由于可能产生可见光的衍射现象，而因此不优选。
第三凹凸结构15的平均周期是彼此相邻的第三凸部15a间和第三凹部15b间的距离的算术平均值。需要说明的是，能够通过例如扫描型电子显微镜(SEM)或者截面透射型电子显微镜(截面TEM)等观察第三凹凸结构15。另外，平均周期的计算方法如下所述。即，选取多个相邻第三凹部15b的组合和相邻第三凸部15a的组合，并且对它们的距离(节距)进行测定。需要说明的是，第三凸部15a间的距离为，例如第三凸部15a的顶点间的距离。另外，第三凹部15b间的距离为，例如第三凹部15b的中心点间的距离。然后，对测定值进行算术平均，计算出平均周期即可。其他凹凸结构的平均周期也能够使用同样的方法进行测定。
需要说明的是，当第三凸部15a和第三凹部15b在主膜10上周期性地排列时，第三凸部15a(或者第三凹部15b)间的节距可划分为，例如点节距L2和道节距L3。即，当第三凸部15a和第三凹部15b在主膜10上周期性地排列时，第三凹凸结构15可以被称为是由包含多个第三凸部15a和第三凹部15b的道(行)相互平行排列而成的结构。在图2A的例中，道沿左右方向延伸，沿上下方向排列。另外，相邻道间配置的第三凸部15a(或者第三凹部15b)沿道的长度方向彼此仅错开第三凸部15a(或者第三凹部15b)的一半长度。点节距L2是沿在道的长度方向上排列的第三凸部15a(或者第三凹部15b)间的节距。道节距L3是沿道的排列方向(图2A中上下方向)上排列的第三凸部15a(或者第三凹部15b)间的节距。其他凹凸结构的节距也按同样的方法划分。
另外，图2B所示的第三凸部15a的高度(第三凹部15b的深度)L1并未特别限定，优选为150nm以上且300nm以下，更优选为190nm以上且300nm以下，进一步优选为190nm以上且230nm以下。
通过令第三凹凸结构15的平均周期和高度为上述范围内的值，能够进一步提高主膜10的防反射特性。具体而言，可以令第三凹凸结构15的光谱反射率(在波长350～800nm下的光谱正反射率)为0.1～1.8％，优选为0.1～1.5％。另外，如下所述，利用转印法形成第三凹凸结构15时，在转印后能够容易地将主膜10从第一原盘30脱模。需要说明的是，对于第三凸部15a的高度，可以使各第三凸部15a不同。
凹凸树脂层11由固化性树脂的固化物构成。优选固化性树脂的固化物具有透明性。固化性树脂包含聚合性化合物和固化引发剂。聚合性化合物是通过固化引发剂固化的树脂。作为聚合性化合物，可列举出例如环氧聚合性化合物和丙烯酸聚合性化合物等。环氧聚合性化合物是分子内具有一个或者两个以上环氧基的单体、低聚物或者预聚物。作为环氧聚合性化合物，可列举出各种双酚型环氧树脂(双酚A型、F型等)、酚醛型环氧树脂、橡胶和氨基甲酸乙酯等各种改性环氧树脂、萘型环氧树脂、联苯型环氧树脂，苯酚酚醛型环氧树脂、二苯乙烯型环氧树脂、三酚基甲烷型环氧树脂、二环戊二烯型环氧树脂，三苯基甲烷型环氧树脂及它们的预聚物等。
丙烯酸聚合性化合物是分子内具有一个或者两个以上丙烯酸基的单体、低聚物或者预聚物。在此，单体可以进一步分类为分子内具有一个丙烯酸基的单官能单体、分子内具有两个丙烯酸基的二官能单体、分子内具有三个以上丙烯酸基的多官能单体。
作为“单官能单体”，可列举出例如：羧酸类(丙烯酸)、羟基类(丙烯酸2‐羟乙酯、丙烯酸2‐羟丙酯、丙烯酸4‐羟丁酯)、烷基或者脂环类的单体(丙烯酸异丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸硬脂基酯、丙烯酸异冰片基酯、丙烯酸环己酯)及其他功能性单体(丙烯酸2‐甲氧基乙酯、甲氧基乙二醇丙烯酸酯、丙烯酸‐2‐乙氧基乙酯、丙烯酸四氢糠酯、丙烯酸苄酯、乙基卡必醇丙烯酸酯、丙烯酸苯氧基乙酯、N,N‐丙烯酸二甲氨基乙酯、N,N‐二甲胺基丙基丙烯酰胺、N,N‐二甲基丙烯酰胺、丙烯酰吗啉、N‐异丙基丙烯酰胺、N,N‐二乙基丙烯酰胺、N‐乙烯吡咯烷酮、2‐(全氟辛基)‐乙基丙烯酸酯、3‐全氟己基‐丙烯酸2‐羟丙酯、3‐全氟辛基‐丙烯酸2‐羟丙酯、2‐(全氟癸基)丙烯酸乙酯、2‐(全氟‐3‐甲基丁基)丙烯酸乙酯、2,4,6‐三溴酚丙烯酸酯、2,4,6‐三溴酚甲基丙烯酸酯、2‐(2,4,6‐三溴苯氧基)乙基丙烯酸酯、丙烯酸2‐乙基己酯等。
作为“二官能单体”，可列举出：例如三(丙二醇)二丙烯酸酯、三羟甲丙烷‐二烯丙基醚、聚氨酯丙烯酸酯等。
作为“多官能单体”，可列举出：例如，三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，二季戊四醇戊‐/己‐丙烯酸、双三羟甲基丙烷丙烯酸酯等。
作为上述列举出的丙烯酸聚合性化合物以外的例，可列举出：丙烯酸吗啉、丙烯酸甘油酯、聚醚系丙烯酸酯、N‐乙烯基甲酰胺、N‐乙烯基己内酯、丙烯酸乙氧基二乙二醇酯、丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、聚丙烯酸乙二醇酯、EO改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、EO改性双酚A二丙烯酸酯、脂肪族氨基甲酸乙酯低聚物、聚酯低聚物等。从主膜10的透明性、与光学膜21的剥离性的观点出发，聚合性化合物优选丙烯酸聚合性化合物。
固化引发剂是使固化性树脂固化的材料。作为固化引发剂的例子，可列举出：例如热固化引发剂、光固化引发剂等。固化引发剂也可以通过热、光以外的某种能量射线(例如电子束)等来进行固化。当固化引发剂为热固化引发剂时，固化性树脂为热固化性树脂，当固化引发剂为光固化引发剂时，固化性树脂为光固化树脂。
在此，从主膜10的透明性、与光学膜21的剥离性的观点出发，优选固化引发剂为紫外线固化引发剂。因此，优选固化性树脂为紫外线固化性丙烯酸树脂。紫外线固化引发剂为光固化引发剂的一种。作为紫外线固化引发剂，可列举出：例如2,2‐二甲氧基‐1,2‐二苯基乙‐1‐酮、1‐羟基‐环己基苯基酮、2‐羟基‐2‐甲基‐1‐苯基丙‐1‐酮等。
另外，凹凸树脂层11中也可以添加与光学体1的用途相对应的添加剂。作为这种添加剂，可列举出：例如无机填料、有机填料、流平剂、表面调整剂、消泡剂等。需要说明的是，作为无机填料的种类，可列举出：例如SiO2、TiO2、ZrO2、SnO2、Al2O3等金属氧化物微粒。另外，为了能够易于将主膜10与光学膜21剥离，也能够在凹凸树脂层11中添加脱模剂等。在以下详细说明。
从第三凹凸结构15的制造稳定性这一点出发，凹凸树脂层11的厚度(即，从凹凸树脂层11的基材膜12侧的表面至第三凸部15a的顶点的距离D3)优选为1～60μm。需要说明的是，凹凸树脂层11的厚度能够使用例如株式会社MITUTOYO制的Litematic VL‐50S厚度测定仪进行测定。具体而言，测出凹凸树脂层11形成前的基材膜12的厚度与凹凸树脂层11形成后的基材膜12即主膜10的厚度，令它们之差为凹凸树脂层11的厚度即可。需要说明的是，凹凸树脂层11的厚度在每一个测定点会存在偏差。此时，令在多个测定点的值的算术平均值为凹凸树脂层11的厚度D3即可。
基材膜12的种类并未特别限定，但在主膜10用作防反射膜时，优选透明且难以断裂的膜。作为基材膜12的例子，可列举出PET(聚对苯二甲酸乙二酯)膜、TAC(三醋酸纤维素)膜等。在主膜10用作防反射膜时，优选基材膜12由透明性优异的材料构成。
在本实施方式中，主膜10能够保护光学膜21的第一凹凸结构25。并且，通过使主膜10厚膜化，能够提高光学体1的操作性。即，在本实施方式中，能够通过主膜10确保光学体1的操作性，因此能够使光学膜21薄膜化。主膜10的厚膜化可以通过例如使基材膜12厚膜化来实现。基材膜12的厚度可以根据光学体1的用途，即光学体1所要求的操作性来适当调整。基材膜12的厚度可以为例如50～125μm。
＜3.光学膜的结构＞
接着，根据图1说明光学膜21的结构。光学膜21具有：形成在一侧表面(与主膜10相对侧的表面)的第一凹凸结构25和形成在另一侧表面(与粘接剂层23相对侧的表面)的第二凹凸结构26。
第一凹凸结构25具有：在光学膜21的膜厚方向上突出的多个第一凸部25a和在光学膜21的膜厚方向上凹陷的多个第一凹部25b。第一凹凸结构25具有第三凹凸结构15的反转形状。因此，第一凹凸结构25的平均周期与第三凹凸结构15的平均周期大致一致。即，第一凹凸结构25的凹凸的平均周期也在可见光波长以下。
具体而言，第一凹凸结构25的凹凸的平均周期在可见光波长以下(例如830nm以下)，优选为100nm以上且350nm以下，更优选为150nm以上且280nm以下，进一步优选为153～270nm。平均周期的计算方法与上述第三凹凸结构15相同。因此，第一凹凸结构25形成所谓的蛾眼结构。另外，第一凸部25a的高度并未特别限定，优选为150nm以上且300nm以下，更优选为190nm以上且300nm以下，进一步优选为190nm以上且230nm以下。
令第一凹凸结构25的平均周期和高度为上述范围内的值，由此能够进一步提高光学膜21的防反射特性。具体而言，可以令第一凹凸结构25的光谱反射率(波长350～800nm)为0.1～1.8％。并且，能够抑制分光反射光谱的振动。即，能够抑制纹波。
第二凹凸结构26具有在光学膜21的膜厚方向上突出的多个第二凸部26a和在光学膜21的膜厚方向上凹陷的多个第二凹部26b。第二凹凸结构26能够通过锚固效果来提高光学膜21与粘接剂层23的粘接强度。需要说明的是，第二凹凸结构26的凹凸的平均周期不一定必须在可见光波长以下。但是，从提高光学膜21的防反射性能的观点出发，优选第二凹凸结构26的凹凸的平均周期在可见光波长以下。另外，从抑止不需要的衍射光的观点出发，优选第二凹凸结构26的凹凸的平均周期与第一凹凸结构25的凹凸的平均周期为同等程度。另外，优选第二凸部26a的高度也与第一凸部25a的高度为同等程度。即，优选第二凹凸结构26具有与第一凹凸结构25同等程度的形状。
在此，将后述第二原盘40用作转印模来形成第二凹凸结构26。因此，若第二原盘40的剥离强度(换言之，对于第二原盘40的锚固效果)过度大于主膜10的剥离强度(换言之，对于主膜10的锚固效果)时，会产生以下问题。即，将第二原盘40从光学膜21剥离时，有可能将主膜10从光学膜21剥离，而不是将第二原盘40从光学膜21剥离。因此，优选使第二原盘40的剥离强度不要过高。具体而言，优选第二凹凸结构26的纵横比小于第一凹凸结构25的纵横比。在此，第一凹凸结构25的纵横比是第一凸部25a的高度与第一凹部25b的底面径长之比(高度/径长)。在此，第一凹部25b的径长具体地设为第一凹部25b间的节距即可。在此，如上所述，第一凹部25b的节距被划分为道节距和点节距。因此，第一凹部25b的径长取道节距和点节距的算术平均值即可。另外，第二凹凸结构26的纵横比是第二凸部26a的高度与第二凹部26b的底面径长之比(高度/径长)。需要说明的是，在多个测定点测定纵横比时，测定值有可能存在偏差。此时，使用测定值的算术平均值即可。
需要说明的是，作为用于使主膜10难以从光学膜21剥离的其他方法，可列举出令第二凹凸结构26的凹凸密度小于第一凹凸结构25的凹凸密度的方法。在此，第一凹凸结构25的凹凸密度是指每单位面积所形成的第一凸部25a(或者凹部25b)的数量。另外，第二凹凸结构26的凹凸密度是指每单位面积所形成的第二凸部26a(或者凹部26b)的数量。调整上述纵横比的方法和调整凹凸密度的方法中，只要施行至少一者即可。
光学膜21的厚度(具体而言，从第一凸部25a的顶点至第二凸部26a的顶点的距离D1)并未特别限定，从第一凹凸结构25和第二凹凸结构26的制造稳定性的观察出发，优选为1～60μm。需要说明的是，光学膜21的厚度可以使用例如株式会社MITUTOYO制的LitematicVL‐50S厚度测定仪进行测定。光学膜21的厚度在每一个测定点会存在有偏差。此时，令在多个测定点的值的算术平均值为光学膜21的厚度即可。
但是，在本实施方式中，能够借由主膜10获取光学体1的厚度。因此，能够确保光学体1的操作性，并且使光学膜21薄膜化。例如，光学膜21的厚度为1～10μm，更优选为1～6μm。这样，在本实施方式中，能够使光学膜21薄膜化。因此，在制造光学膜21时，可以不用另外准备用于光学膜的基材膜。即，优选光学膜21为一体成型。当然，也可以准备光学膜用的基材膜，并且在该基材膜上形成第一凹凸结构25和第二凹凸结构26。需要说明的是，在该情况下，第一凹凸结构25也可以使用主膜10形成，第二凹凸结构26也可以使用第二原盘40形成。或者，使用主膜10在光学膜21的一侧表面形成第一凹凸结构25。然后，可以另外准备具有第二凹凸结构26的凹凸树脂层，并且将它们贴合。此时，不一定必须调整上述纵横比。但是，从光学膜21的薄膜化和制造工序简化的观点出发，优选光学膜21为一体成型。光学膜21可以由与凹凸树脂层11相同的固化性树脂等构成。
＜3‐1.可用来剥离主膜与光学膜的结构＞
主膜10可以与光学膜21剥离。更详细地，主膜10的凹凸树脂层11与光学膜21可以相互剥离。
可以将主膜10的凹凸树脂层11与光学膜21剥离的方法并未特别限定，例如可列举出以下方法。可以单独实施以下方法，也可以组合使用多个方法。例如，可以在凹凸树脂层11和光学膜21的至少一者中添加脱模剂。在此，脱模剂的种类并未特别限定，可列举出有机硅系、氟系的脱模剂等。
另外，可以令凹凸树脂层11的弹性模量(杨氏模量)与光学膜21的弹性模量为不同值。需要说明的是，优选凹凸树脂层11的弹性模量与光学膜21的弹性模量之差为400MPa～1200MPa。例如，可以令光学膜21的弹性模量为300～700MPa，凹凸树脂层11的弹性模量为700～1500MPa。在此，作为调整凹凸树脂层11和光学膜21的弹性模量的方法，例如可以在未固化的固化性树脂中添加官能团数少的改性二丙烯酸酯、固化后变为低弹性的二醇系树脂等。在此，作为固化后变为低弹性的二醇系树脂，可列举出例如聚二丙烯酸乙二醇酯等。
另外，可以在第三凹凸结构15的表面形成无机膜(例如，图3L所示的无机膜16)。在此，作为构成无机膜的材料，可列举出氧化硅、硅、氧化钨、ITO等。无机膜的厚度并未特别限定，例如可以为几nm～20nm左右。无机膜可以通过例如溅射法等形成在第三凹凸结构15的表面。在第三凹凸结构15的表面形成无机膜的情况下，可以省略上述处理。
＜4.粘接剂层的结构＞
粘接剂层23形成于第二凹凸结构26上。因此，在本实施方式中，通过由第二凹凸结构26实现的锚固效果，能够提高光学膜21与粘接剂层23的粘接强度。其结果，能够将光学膜21牢固地粘贴于被粘物。
构成粘接剂层23的材料并未特别限定，可以根据光学体1的用途等适当选择。例如，粘接剂层23可以由光固化性粘接剂、热固化性粘接剂等固化性粘接剂，或者压敏性粘合剂(粘接剂)等构成。更具体而言，优选粘接剂层23由全光线透射率高、雾度低的高透明性粘接剂形成。例如，优选粘接剂层23由非载体丙烯酸粘结膜等高透明性粘接剂胶带(光学胶Optically Clear Adhesive Tape：OCA)等构成。另外，粘接剂层23也可以由具有耐光性、耐热性的固化性粘接剂构成。此时，能够提高光学体1的耐光性、耐热性。另外，优选粘接剂层23的折射率与被粘物的折射率大致一致。由此，在使光学膜21贴附于被粘物时，能够使光学膜侧的反射率显著下降。另外，从保护粘接剂层23的观点出发，在将光学膜21粘贴于被粘物之前，优选用保护膜覆盖粘接剂层23。
粘接剂层23的厚度(即，从第二凹部26b的底面至粘接剂层23的表面的距离D2)并未特别限定。但是，从粘贴作业时的光学体1的操作性、及光学体1相对于被粘物(光学体1粘贴的物体)的表面形状的跟随性的观点出发，优选为1～50μm。
因此，在本实施方式中，可以令光学膜21的厚度为1～60μm，优选为1～10μm，令粘接剂层23的厚度为1～50μm。因此，可以令光学膜21和粘接剂层23的总厚度为2～110μm，优选为2～60μm。
由此，能够使粘贴光学膜21的光学膜粘合体薄模化。另外，能够使光学膜21充分地跟随被粘物的表面形状。例如，如图10A所示，将厚度5μm的光学膜21通过厚度20μm的粘接剂层23粘贴于具有高度s为50μm的框体51的触摸面板50时，能够在框体51的周围基本未形成有空隙54地，将光学膜21粘贴于触摸面板50和框体51的表面。另外，在粘贴光学膜21之后，也可以实施高压釜处理等。此时，如图10B所示，能够进一步减小空隙54。因此，光学膜21可以适用于具有各种表面形状的被粘物。即，光学膜21除了液晶显示器等平坦的板状物以外，也可以适合粘贴在具有高低差的透明基体，例如具有边框部的触摸面板、穿戴式终端、头戴式显示器、具有曲面的车载显示器的保护板及展示窗等。
＜5.第一原盘的结构＞
第三凹凸结构15可以使用例如图3A所示的第一原盘30制作。对此，接着针对第一原盘30的结构进行说明。第一原盘30为例如纳米压印法所使用的原盘，构成圆筒形状。第一原盘30可以为圆柱形状，也可以为其它形状(例如平板状)。但是，第一原盘30为圆柱或者圆筒形状时，可以通过辊对辊方式将第一原盘30的第四凹凸结构32无缝转印于树脂基材等。由此，可以高生产效率制作转印有第一原盘30的第四凹凸结构32的主膜10。从该观点出发，优选第一原盘30的形状为圆筒形状或者圆柱形状。
第一原盘30具有原盘基材31和在原盘基材31的表面所形成的第四凹凸结构32。原盘基材31为例如玻璃体，具体而言，由石英玻璃形成。但是，只要SiO2纯度高，则并未限定原盘基材31，可以由熔融石英玻璃或者合成石英玻璃等形成。原盘基材31的形状为圆筒形状，但也可以为圆柱形状、其他形状。但是，如上所述，优选原盘基材31为圆筒形状或者圆柱形状。第四凹凸结构32具有第三凹凸结构15的反转形状。
＜6.第二原盘的结构＞
第二凹凸结构26可以使用例如图3B所示的第二原盘40制作。对此，接着针对第二原盘40的结构进行说明。第二原盘40为例如纳米压印法所使用的原盘，构成圆筒形状。第二原盘40可以为圆柱形状，也可以为其他形状(例如平板状)。但是，第二原盘40为圆柱或者圆筒形状时，可以通过辊对辊方式将第二原盘40的第五凹凸结构42无缝转印于树脂基材等。由此，可以高生产效率制作转印有第二原盘40的第五凹凸结构42的光学膜21。从该观点出发，优选第二原盘40的形状为圆筒形状或者圆柱形状。
第二原盘40具有原盘基材41和在原盘基材41的表面所形成的第五凹凸结构42。原盘基材41为例如玻璃体，具体而言，由石英玻璃形成。但是，只要SiO2纯度高，则并未限定原盘基材41，可以由熔融石英玻璃或者合成石英玻璃等形成。原盘基材41的形状为圆筒形状，但也可以为圆柱形状、其他形状。但是，如上所述，优选原盘基材41为圆筒形状或者圆柱形状。第五凹凸结构42具有第二凹凸结构26的反转形状。
＜6.原盘的制造方法＞
接着，说明第一原盘30的制造方法。需要说明的是，第二原盘40也可以使用与第一原盘30同样的工序制造。首先，在原盘基材31上形成(成膜)基材抗蚀剂层。在此，构成基材抗蚀剂层的抗蚀剂材并未特别限定，可以为有机抗蚀剂材和无机抗蚀剂材的任一种。作为有机抗蚀剂材，可列举出：例如酚醛系抗蚀剂或者化学放大型抗蚀剂等。另外，作为无机抗蚀剂材，可列举出：例如含有钨(W)或钼(Mo)等1种或者2种以上的过渡金属的金属氧化物等。但是，为了进行热反应光刻，优选基材抗蚀剂层由含有金属氧化物的热反应型抗蚀剂形成。
在使用有机抗蚀剂材时，可以通过使用旋转涂布、狭缝涂布、浸渍涂布、喷洒涂布或者丝网印刷等，在原盘基材31上形成基材抗蚀剂层。另外，在基材抗蚀剂层使用无机抗蚀剂材时，可以使用溅射法形成基材抗蚀剂层。
接着，通过曝光装置200(参照图3I)对基材抗蚀剂层的一部分进行曝光，在基材抗蚀剂层形成潜像。具体而言，曝光装置200对激光200A进行调制，向基材抗蚀剂层照射激光200A。由此，照射到激光200A的基材抗蚀剂层的一部分改性，因此可以在基材抗蚀剂层形成与第四凹凸结构32相对应的潜像。潜像以在可见光波长以下的平均周期形成于基材抗蚀剂层。
接着，通过在形成有潜像的基材抗蚀剂层上滴加显影液，使基材抗蚀剂层显影。由此，在基材抗蚀剂层形成凹凸结构。然后，将基材抗蚀剂层作为掩模，对原盘基材31和基材抗蚀剂层进行蚀刻，由此在原盘基材31上形成第四凹凸结构32。需要说明的是，蚀刻的方法并未特别限定，优选具有垂直异向性的干式蚀刻，例如，优选反应性离子蚀刻(ReactiveIon Etching：RIE)。通过以上工序制作第一原盘30。需要说明的是，也可以将铝阳极氧化得到的阳极氧化多孔氧化铝用作原盘。例如，在国际公开第2006/059686号公报中公开了阳极氧化多孔氧化铝。
＜7.曝光装置的结构＞
接着，根据图3I，针对曝光装置200的结构进行说明。曝光装置200是对基材抗蚀剂层进行曝光的装置。曝光装置200具备：激光光源201、第一反射镜203、光电二极管(Photodiode：PD)205、偏转光学系统、控制机构230、第二反射镜213、移动光学平台220、主轴电机225、转台227。另外，原盘基材31可以放置于转台227上，使其旋转。
激光光源201是发射出激光200A的光源，例如为固体激光或者半导体激光等。激光光源201发射出的激光200A的波长并未特别限定，例如可以为400nm～500nm的蓝光波段的波长。另外，激光200A的光点径长(照射抗蚀剂层的光点直径)只要小于第四凹凸结构32的凹部开口面的直径即可，例如可以为200nm左右。从激光光源201发射出的激光200A可以由控制机构230控制。
从激光光源201射出的激光200A保持平行光束直线传播，由第一反射镜203反射，导向偏转光学系统。
第一反射镜203由偏振光束分离器构成，具有反射一种偏振光分量，透射另一种偏振光分量的功能。透射第一反射镜203的偏振光分量由光电二极管205接收，进行光电转换。另外，由光电二极管205进行光电转换的光接收信号被输入激光光源201，激光光源201根据所输入的光接收信号进行激光200A的相位调制。
另外，偏转光学系统具备：聚光透镜207、电光偏转元件(ElectroOpticDeflector：EOD)209、准直透镜211。
在偏转光学系统中，激光200A由聚光透镜207，聚光至电光偏转元件209。电光偏转元件209是能够控制激光200A的照射位置的元件。曝光装置200能够通过电光偏转元件209，来改变导向移动光学平台220上的激光200A的照射位置。激光200A由电光偏转元件209调整照射位置后，通过准直透镜211再次被平行光束化。从偏转光学系统射出的激光200A被第二反射镜213反射，水平且平行地导向移动光学平台220上。
移动光学平台220具备：光束扩展器(Beam expader：BEX)221和物镜223。导入移动光学平台220的激光200A通过光束扩展器221整形为所需的光束形状后，经由物镜223照射至形成在原盘基材31上的基材抗蚀剂层。另外，移动光学平台220会在原盘基材31的每一个旋转，朝箭头R方向(输送节距方向)仅移动一个输送节距(道节距)。在转台227上，设置有原盘基材31。主轴电机225使转台227旋转，而使原盘基材31旋转。
另外，控制机构230具备：格式器(formater)231和驱动器233，对激光200A的照射进行控制。格式器231生成控制激光200A的照射的调制信号，驱动器233根据格式器231生成的调制信号，控制激光光源201。由此，能够控制激光200A对原盘基材31的照射。
格式器231根据描绘于基材抗蚀剂层上的任意图案所绘出的输入图像，生成用于向基材抗蚀剂层照射激光200A的控制信号。具体而言，首先，格式器231取得描绘于基材抗蚀剂层上的任意图案所绘出的输入图像。输入图像是沿轴向切开基材抗蚀剂层的外周面，并伸展为一平面的、相当于基材抗蚀剂层的外周面的展开图的图像。接着，格式器231将输入图像分割为规定大小的小区域(例如，分割为格子状)，判断各小区域是否包含描绘图案。接着，格式器231生成用于控制对判断为包含有描绘图案的各小区域照射激光200A的控制信号。然后，驱动器233根据格式器231所生成的控制信号，控制激光光源201的输出。由此，能够控制激光200A对基材抗蚀剂层的照射。
＜8.主膜和光学膜的制造方法＞
接着，说明主膜10和光学膜21的制造方法。
(工序1)
在工序1中，如图3C所示，在基材膜12上形成主膜用未固化树脂层11p。在此，主膜用未固化树脂层11p由未固化的固化性树脂等构成。在此，固化性树脂为上述树脂。可以在主膜用未固化树脂层11p中添加上述脱模剂等。接着，使主膜用未固化树脂层11p与第一原盘30的第四凹凸结构32密合。由此，第四凹凸结构32被转印于主膜用未固化树脂层11p。
(工序2)
在工序2中，如图3D所示，使主膜用未固化树脂层11p固化。由此，在基材膜12上形成凹凸树脂层11。即，制作主膜10。在图3D的例中，通过向主膜用未固化树脂层11p照射紫外线(UV光)，使主膜用未固化树脂层11p固化。因此，在该例中，主膜用未固化树脂层11p由紫外线固化性树脂等构成。接着，如图3E所示，将主膜10从第一原盘30剥离。可以在第三凹凸结构15的表面上形成如图3L所示的无机膜16。
需要说明的是，工序1、2也可以通过所谓的辊对辊方式的转印装置连续地进行。以下，根据图3J，针对转印装置300的详细结构进行说明。图3J所示的转印装置300是使用第一原盘30的辊对辊方式的转印装置。能够使用这种转印装置300来制作主膜10。需要说明的是，转印装置300使用光固化树脂制作主膜10。当然，也可以使用其他种类的固化性树脂来制作主膜10。
转印装置300具备：第一原盘30、基材供给辊301、卷取辊302、导辊303、304、夹辊305、剥离辊306、涂布装置307、能量射线源309。
基材供给辊301是将长条的基材膜12卷成卷筒状的辊，卷取辊302是卷取主膜10的辊。另外，导辊303、304是输送基材膜12的辊。夹辊305是使层叠有主膜用未固化树脂层11p的基材膜12，即被转印膜100与第一原盘30密合的辊。剥离辊306是将形成有凹凸树脂层11的基材膜12，即主膜10从第一原盘30剥离的辊。
涂布装置307具备涂布机等涂布单元，将未固化的光固化树脂涂布于基材膜12，形成主膜用未固化树脂层11p。涂布装置307可以为，例如凹版涂布机、线棒涂布机或者口模涂布机等。另外，能量射线源309是发出可使光固化树脂固化的波长光的光源，例如可以为紫外灯等。
在转印装置300中，首先，从基材供给辊301经由导辊303，连续地送出基材膜12。需要说明的是，也可以在送出中途将基材供给辊301更换为另一批基材供给辊301。对送出的基材膜12通过涂布装置307涂布未固化的光固化树脂，在基材膜12上层叠主膜用未固化树脂层11p。由此，制作被转印膜100。被转印膜100通过夹辊305与第一原盘30密合。由此，在主膜用未固化树脂层11p上转印第一原盘30的第四凹凸结构32。能量射线源309设置在第一原盘30的外侧。并且，能量射线源309向与第一原盘30密合的主膜用未固化树脂层11p照射光，使主膜用未固化树脂层11p固化。由此，在基材膜12上形成凹凸树脂层11。接着，将形成有凹凸树脂层11的基材膜12，即主膜10通过剥离辊306从第一原盘30剥离。接着，主膜10经由导辊304被卷取辊302卷取。
这样，在转印装置300中，以辊对辊输送被转印膜100，将第一原盘30的圆周面形状转印于被转印膜100。由此，制作主膜10。
需要说明的是，在由热塑性树脂制作主膜10时，则不需要涂布装置307和能量射线源309。另外，令基材膜12为热塑性树脂膜，在比第一原盘30靠上游侧配置加热装置。通过该加热装置，对基材膜12进行加热，使其软化，之后将基材膜12向第一原盘30按压。由此，在第一原盘30的圆周面形成的第四凹凸结构32被转印于基材膜12。此时，基材膜12与凹凸树脂层11为一体成型。需要说明的是，也可以令基材膜12为热塑性树脂以外的树脂构成的膜，并将基材膜12与热塑性树脂膜层叠。此时，层叠膜由加热装置加热之后，向第一原盘30被按压。
因此，转印装置300可以连续地制作转印有在第一原盘30上形成的第四凹凸结构32的转印物，即主膜10。在此，在第一原盘30的圆周面上形成的第四凹凸结构32具有所需的平均周期。因此，在主膜10上形成的第三凹凸结构15具有所需的平均周期。
(工序3)
在工序3中，如图3F所示，在第三凹凸结构15上形成光学膜用未固化树脂层21p。由此，将第三凹凸结构15转印于光学膜用未固化树脂层21p。
在此，只要光学膜用未固化树脂层21p由与主膜用未固化树脂层11p同样的材料构成即可。但是，以凹凸树脂层11与光学膜21可剥离的方式来选择主膜用未固化树脂层11p、光学膜用未固化树脂层21p的具体材料。另外，在第三凹凸结构15上形成光学膜用未固化树脂层21p的方法并未特别限定，例如可列举出用滴管在第三凹凸结构15上滴加未固化的固化性树脂的方法等，也可以如下所述使用凹版涂布机、线棒涂布机或者口模涂布机等的方法。接着，使光学膜用未固化树脂层21p与第二原盘40的第五凹凸结构42密合。由此，将第五凹凸结构42转印于光学膜用未固化树脂层21p。
(工序4)
在工序4中，如图3G所示，使光学膜用未固化树脂层21p固化。由此，在光学膜21上形成第二凹凸结构26。在图3G的例中，通过向光学膜用未固化树脂层21p照射紫外线(UV光)，使光学膜用未固化树脂层21p固化。因此，在该例中，光学膜用未固化树脂层21p由紫外线固化性树脂等构成。接着，如图3H所示，将光学膜21从第二原盘40剥离。
需要说明的是，在本实施方式中，在光学膜21的正反两面形成凹凸结构。因此，会产生对主膜10的锚固效果和对第二原盘40的锚固效果的两种效果。并且，当对第二原盘40的锚固效果过度大于对主膜10的锚固效果时，则产生以下问题。即，在将第二原盘40从光学膜21剥离时，有可能将主膜10从光学膜21剥离，而不是将第二原盘40从光学膜21剥离。因此，如上所述，优选第二凹凸结构26的纵横比小于第一凹凸结构25的纵横比。
(工序5)
接着，如图1所示，在第二凹凸结构26上形成粘接剂层23。例如，在第二凹凸结构26上粘贴粘接剂胶带。由此，制作光学体1。
需要说明的是，工序也3、4可以通过所谓的辊对辊方式的转印装置连续地进行。以下，根据图3K，针对转印装置400的详细结构进行说明。需要说明的是，转印装置400具有与转印装置300大致相同的结构，因此在此仅说明区别点。
转印装置400输送主膜10来代替基材膜12。即，基材供给辊301是将主膜10卷成卷筒状的辊，卷取辊302是卷取形成有光学膜21的主膜10的辊。导辊303、304是输送主膜10的辊。夹辊305是使层叠有光学膜用未固化树脂层21p的主膜10，即被转印膜100与第二原盘40密合的辊。剥离辊306是将形成有第二凹凸结构26的光学膜21从第二原盘40剥离的辊。涂布装置307将未固化的光固化树脂涂布于主膜10，形成光学膜用未固化树脂层21p。
在转印装置400中，首先，从基材供给辊301经由导辊303，连续地送出主膜10。需要说明的是，也可以在送出中途将基材供给辊301更换为另一批基材供给辊301。对送出的主膜10通过涂布装置307涂布未固化的光固化树脂，在主膜10上层叠光学膜用未固化树脂层21p。由此，制作被转印膜100。被转印膜100通过夹辊305与第二原盘40密合。由此，在光学膜用未固化树脂层21p上转印第二原盘40的第五凹凸结构42。能量射线源309设置在第二原盘40的外侧。并且，能量射线源309向与第二原盘40密合的光学膜用未固化树脂层21p照射光，使光学膜用未固化树脂层21p固化。由此，在光学膜21上形成第二凹凸结构26。接着，将形成有第二凹凸结构26的光学膜21通过剥离辊306从第二原盘40剥离。接着，主膜10和光学膜21经由导辊304被卷取辊302卷取。
这样，在转印装置400中，以辊对辊输送被转印膜100，将第二原盘40的圆周面形状转印于被转印膜100。由此，在光学膜21上形成第二凹凸结构26。转印装置400也可以使用热塑性树脂制作光学膜21。
＜9.光学体的使用方法＞
(第一使用方法)
接着，根据图4A～图4B，针对光学体1的第一使用方法进行说明。在该使用方法中，在光学体1上粘贴粘接剂层23。如图4A所示，首先，在被粘物500的表面粘贴光学体1的粘接剂层23。主膜10可以保护光学膜21的第一凹凸结构25。例如，主膜10可以防止第一凹凸结构25与其他物体的接触、摩擦等。接着，如图4B所示，仅将主膜10从光学体1剥离。此时，主膜10由固化性树脂的固化物形成，因此难以在光学膜21的第一凹凸结构25上残留源自主膜10的残留物等。另外，由于光学膜21可以薄膜化，因此将主膜10从光学体1剥离后，光学膜21可以容易地跟随表面的凹凸。另外，主膜10能够用作防反射膜等。需要说明的是，被粘物500的种类并未特别限定。例如，被粘物500可以为各种光学器件(光学部件)、显示元件和输入元件。被粘物500可以为，例如相机、显示器、投影仪、望远镜、触摸面板、穿戴式终端、头戴式显示器、车载显示器、展示窗等。尤其，光学膜21即使在被粘物500的表面形状变形(例如存在凹凸、具有曲面等)的情况下，也可以跟随被粘物500的表面形状。光学体1也可以用作这些光学器件的防反射膜。当然，光学体1也可以粘贴在其他被粘物500。
(第二使用方法)
接着，根据图5A～图5C，针对光学体1的第二使用方法进行说明。在该使用方法中，光学体1上未粘贴粘接剂层23。如图5A所示，首先在被粘物500的表面形成未固化的粘接剂层23b。构成粘接剂层23b的粘接剂的种类并未要求，只要是例如与构成接剂层23的粘接剂相同即可。接着，如图5B所示，将光学体1粘贴于粘接剂层23b。接着，通过使粘接剂层23b固化，使粘接剂层23b成为固化物层23B。例如，也可以通过向粘接剂层23b照射紫外线，使粘接剂层23b固化。此时，粘接剂层23b由光固化树脂构成。接着，如图5C所示，仅将主膜10从光学体1剥离。
如上所述，根据本实施方式，能够通过主膜10保护光学膜21的第一凹凸结构25，因此不需要保护膜。此外，主膜10由固化性树脂的固化物构成。因此，在将主膜10从光学膜21剥离时，难以在光学膜21的第一凹凸结构25上残留来自主膜10的残留物等。另外，能够借由主膜10获取光学体1的厚度，因此能够使光学膜21薄膜化，并且提高光学体1的操作性。另外，光学膜具有第二凹凸结构。因此，利用由第二凹凸结构实现的锚固效果，能够提高光学膜与粘接剂层的粘接强度。因此，能够将光学膜更牢固地粘贴于被粘物。
实施例
以下，通过实施例来具体地说明本发明。
(实施例1)
在实施例1中，按照以下的工序来制作光学体1。准备厚度50μm的PET膜作为基材膜12。另外，准备添加有机硅系脱模剂(BYK公司、有机硅润滑剂BYK333)的紫外线固化性丙烯酸树脂(Dexerials(株)、SK1100系列)作为光固化树脂。然后，在基材膜12上涂布光固化树脂，由此在基材膜12上形成主膜用未固化树脂层11p。另外，使用上述曝光装置200制作第一原盘30。接着，通过将第一原盘30的圆周面向主膜用未固化树脂层11p按压，将形成在第一原盘30的圆周面上的第四凹凸结构32转印于主膜用未固化树脂层11p。然后，通过使主膜用未固化树脂层11p固化，制作凹凸树脂层11。即，制作主膜10。
在此，令凹凸树脂层11的厚度约3μm。另外，第三凹凸结构15的第三凸部15a和第三凹部15b排列为交错格子状。另外，将第三凸部15a的形状制成近似于炮弹型的形状，令第三凸部15a的高度L1约200nm、点节距L2约270nm、道节距L3约153nm。需要说明的是，由扫描型电子显微镜(SEM)确认第三凹凸结构15的表面形状。
另外，作为光学膜21用的光固化树脂，准备了在多官能特殊丙烯酸酯(Dexerials(株)、SK1100系列)中添加有官能团数少的改性二丙烯酸酯(东亚合成(株)、M260)的紫外线固化性树脂。即，在实施例1中，为了使光学膜21的弹性模量小于凹凸树脂层11的弹性模量，向紫外线固化性树脂中添加官能团数少的改性二丙烯酸酯。另外，考虑到光学膜21与主膜10的剥离性，也可以在形成光学膜21的光固化树脂中添加有机硅系脱模剂(BYK公司、产品名：有机硅系润滑剂BYK333)。
然后，将该光固化树脂涂布在主膜10的第三凹凸结构15上，由此在第三凹凸结构15上形成光学膜用未固化树脂层21p。通过该工序，将第三凹凸结构15转印于光学膜用未固化树脂层21p。即，在光学膜21上形成第一凹凸结构25。第一凹凸结构25具有第三凹凸结构15的反转形状。令第一凹凸结构25的纵横比为1.3。另外，使用上述曝光装置200制作第二原盘40。接着，将第二原盘40的圆周面向光学膜用未固化树脂层21p按压，由此将在第二原盘40的圆周面上形成的第五凹凸结构42转印于光学膜用未固化树脂层21p。接着，使光学膜用未固化树脂层21p固化，由此在光学膜21上形成第二凹凸结构26。需要说明的是，第二凹凸结构26的第二凸部26a和第二凹部26b排列为交错格子状。另外，将第二凸部26a制成近似于炮弹型的形状，令第二凸部26a的高度L1约130nm，令点节距L2和道节距L3与第一凹凸结构25和第三凹凸结构15相同。另外，令第二凹凸结构26的纵横比为0.62。因此，第二凹凸结构26的纵横比小于第一凹凸结构25的纵横比。需要说明的是，由扫描型电子显微镜(SEM)确认第二凹凸结构26的表面形状。
在此，令光学膜21的厚度约3μm。另外，通过粘弹性测定仪器(DMA)(德克萨斯仪器公司制造Rheometrics System Analyzer‐3(RSA‐3))测定主膜10的弹性模量(具体而言，凹凸树脂层11的弹性模量)和光学膜21的弹性模量。其结果，主膜10的弹性模量为2,710MPa，光学膜21的弹性模量为1,300MPa。接着，在光学膜21上粘贴作为粘接剂层23的厚度25μm的高透明性粘接剂胶带(OCA胶带)(丙烯酸粘合材、产品名：FW25、日荣化工公司)。通过以上工序，制作光学体1。
主膜10的分光反射光谱按照以下的工序测定。即，如图6A所示，主膜10的另一侧表面(未形成凹凸树脂层11一侧的表面)上使用OCA胶带粘贴黒色的PET(聚对苯二甲酸乙二酯)板501。即，能够消除来自主膜10的另一侧表面的反射。然后，测定第三凹凸结构15上的分光正反射光谱。分光正反射光谱使用分光光度计(型号V‐550、附绝对反射率测定单元、日本分光公司制造)测定。另外，令入射角和反射角均为5°、波长范围为350～800nm、波长分辨率为1nm。其结果，可以确认光谱反射率为0.1～1.5％的值。
光学膜21的分光反射光谱按照以下的工序测定。即，如图6B所示，将光学体1使用粘接剂层23粘贴于玻璃制的被粘物502，仅剥离主膜10。此时，光学膜21并未从被粘物502剥离。另外，在被粘物502的另一侧表面(未粘贴光学膜21一侧的表面)上，使用OCA胶带粘贴黒色的PET板503。由此，可以消除来自被粘物502的另一侧表面的反射。按照以上的工序，制作光学膜粘合体。然后，测定在第一凹凸结构25上的分光正反射光谱。具体测定方法与主膜10相同。
另外，使用模拟软件(TFCalc、HULINKS Inc.制造)计算光学膜21的分光反射光谱。具体而言，向模拟软件输入光学膜21具有的参数。在此，令光学膜21的折射率为1.53，粘接剂层23的折射率为1.65，被粘物502的折射率为1.65。另外，第一凹凸结构25具有可以通过二次函数求得的形成炮弹型的深度方向的形状，并且设置其节距在可见光波长以下。然后，将光学膜的21的第一凹凸结构25建模为10层的多层膜。各层近似为将凹凸的高度分割为10份的量。另外，令入射角和反射角均为5°，波长范围为350～800nm。
在图7A中示出模拟的结果。如根据图7A可知，光学膜21的光谱反射率(波长350～800nm)为0.1～1.8％。需要说明的是，使用分光光度计测得的光谱反射率也得到大致相同的结果。需要说明的是，图7A～图7C的横轴表示波长，纵轴表示光谱反射率(正反射率)。
(比较例1a)
除了令光学膜21的粘接剂层侧的表面平坦以外，进行与实施例1相同的工序，由此制作光学体。并且，按照与实施例1相同的工序制作光学膜粘合体。然后，使用模拟软件(TFCalc、HULINKS公司制造)计算光学膜粘合体的分光反射光谱。测定条件与实施例1相同。结果在图1中示出。在比较例1a中，因未形成第二凹凸结构26，而使光谱反射率略有上升，且观察到纹波。因此可知，优选在光学膜21形成凹凸的平均周期在可见光波长以下的第二凹凸结构26。
(比较例1b)
除了令光学膜21的两面平坦以外，进行与实施例1相同的工序，制作光学体。然后，按照与实施例1相同的工序制作光学膜粘合体。接着，使用模拟软件(TFCalc、HULINKS公司制造)计算光学膜粘合体的分光反射光谱。测定条件与实施例1相同。结果在图1中示出。在比较例1b中，因在光学膜21上均未形成第一凹凸结构25和第二凹凸结构26，因此使光谱反射率大幅度上升。具体而言，光谱反射率成为6％左右的值。
(实施例2)
除了令粘接剂层23的折射率为1.7，被粘物502的折射率为1.7以外，进行与实施例1相同的处理，由此计算出光学膜粘合体的分光反射光谱。其结果在表7B中示出。在实施例2中，也能够与实施例1大致相同的结果。
(比较例2a)
除了令光学膜21的粘接剂层侧的表面平坦以外，进行与实施例2相同的处理，由此计算出光学膜粘合体的分光反射光谱。其结果在表7B中示出。在比较例2a中，得到与比较例1a大致相同的结果。
(比较例2b)
除了令光学膜21的两面平坦以外，进行与实施例2相同的处理，由此计算出光学膜粘合体的分光反射光谱。其结果在表7B中示出。在比较例2b中，得到与比较例1b大致相同的结果。但是，光谱反射率进一步上升，成为近似于7％的值。
(实施例3)
除了令粘接剂层23的折射率为1.75，被粘物502的折射率为1.75以外，进行与实施例1相同的处理，由此计算出光学膜粘合体的分光反射光谱。其结果在表7C中示出。在实施例3中，也得到与实施例1大致相同的结果。
(比较例3a)
除了令光学膜21的粘接剂层侧的表面平坦以外，进行与实施例3相同的处理，由此计算出光学膜粘合体的分光反射光谱。其结果在表7C中示出。在比较例3a中，得到与比较例1a大致相同的结果。
(比较例3b)
除了令光学膜21的两面平坦以外，进行与实施例3相同的处理，由此计算出光学膜粘合体的分光反射光谱。其结果在表7C中示出。在比较例3a中，得到与比较例1a大致相同的结果。但是，光谱反射率进一步上升，并且超过7％。因此，在比较例1b、2b、3b中，光谱反射率达到6～8％左右。
(实施例4)
除了令光学膜21的第一凸部25a的高度为220nm，第二凸部26a的高度为200nm以外，进行与实施例1相同的处理，由此计算出膜被粘物的分光反射光谱。结果在图8中示出。如图8所示，在实施例4中，也得到与实施例1大致相同的结果。
(比较例4)
除了令光学膜21的第一凸部25a的高度为220nm，并且粘接剂层侧的表面平坦以外，进行与实施例1相同的处理，由此计算出膜被粘物的分光反射光谱。结果在图8中示出。在比较例1a中，因未形成第二凹凸结构26，而使光谱反射率略有上升，且观察到纹波。需要说明的是，在图8中也示出比较例1b的计算结果。
(实施例5)
除了令光学膜21的第一凸部25a的高度为220nm，第二凸部26a的高度为100nm以外，进行与实施例1相同的处理，由此计算出膜被粘物的分光反射光谱。结果在图8中示出。如图8所示，在实施例5中虽然观察到略有纹波，但与比较例4相比纹波变小。
因此可知，优选在光学膜21上形成凹凸的平均周期在可见光波长以下的第二凹凸结构26。另外还可知，优选第二凹凸结构26具有与第一凹凸结构25相同程度的形状。
(实施例6)
在实施例6中，制作出与实施例1相同的光学体1。接着，将作为光固化性粘接剂的有机硅粘接剂(信越有机硅公司制造、KER2500)涂布在白板玻璃上(涂布厚度0.005～0.01mm)。然后，将光学体1的光学膜21粘贴于有机硅粘接剂层。接着，使有机硅粘接剂层固化。然后，将主膜10剥离。由此，得到附光学膜的白板玻璃。
在实施例6中，检测该附光学膜的白板玻璃的耐光性。具体而言，在以下的条件下，从附光学膜的白板玻璃的光学膜21侧照射光。接着，使用日本分光制V560分光仪和绝对反射率测定仪ARV474S，测定在光照射的前后，附光学膜的白板玻璃的分光透射率。
光照射条件
光源：紫外线LED灯(波长385nm)
强度：1000mW/cm2
光源与附光学膜的白板玻璃的距离：2cm
照射时间：2小时。
另外，作为对照例(I)的光学膜，准备了环烯烃聚合物(COP)膜(日本ZEON公司制、ZF14)(厚度100μm)。并且，将实施例6中使用的有机硅粘接剂在白板玻璃的表面涂布，至涂布厚度0.01mm，并且使其光固化，由此准备了对照例(II)的光学膜。然后，同样地测定它们的光学膜的分光透射率。
结果在图9中示出。图9的横轴表示波长，纵轴表示扩散透射率(分光透射率)。根据图9可知，光学体1在紫外线的照射前后，透射率并无显著变动，并且维持高透射率，因此与一般光学特性优异的所谓COP膜(对照例(I))、使有机硅粘接剂固化而成的光学膜(对照例(II))相比，耐光性优异。
(粘贴试验)
在玻璃基板的表面安装高度50μm的框体，由此制成被粘物。然后，在该被粘物上粘贴实施例1制得的光学体1，之后将主膜10剥离。另外，制作同样的被粘物，在该被粘物上使用OCA胶带粘贴主膜10。即，制成粘贴有光学膜21的膜粘贴体和粘贴有主膜10的膜粘贴体。然后，目测观察这些膜粘贴体。其结果，在粘贴有光学膜21的膜粘贴体中，框体的周围基本上未观察到有空隙54。但是，在粘贴有主膜10的膜粘贴体中，框体的周围观察到有多处明显空隙54。
然后，对各膜粘贴体进行高压釜处理(条件：50℃、+0.5atm、0.5h保持)。并且，目测观察高压釜处理后的膜粘贴体。其结果，可以确认到在粘贴有光学膜21的膜粘贴体中，空隙54已消失。另外，在粘贴有主膜10的膜粘贴体中，空隙54的分布没有变化。即，仍然观察到有多处明显空隙54。
以上，参照附图详细地说明了本发明优选的实施方式，但本发明不限于上述例。可知只要是具有本发明所属的技术领域的通常知识的人，就可以在专利权利要求的范围所记载的技术思想范围内，想到各种变形例或者修正例，并且可以理解这些当然也属于本发明的技术范围内。
产业上的可利用性
本发明的光学膜用于赋予相机、显示器、投影仪、望远镜等光学器件防反射功能的膜。
附图标记说明
1 光学体
10 主膜
11 凹凸树脂层
12 基材膜
15 第三凹凸结构
15a 第三凸部
15b 第三凹部
21 光学膜
23 粘接剂层
25 第一凹凸结构
25a 第一凸部
25b 第一凹部
26 第二凹凸结构
26a 第二凸部
26b 第二凹部

Claims (28)

1.一种光学体，其特征在于，具有：
光学膜，其具备在一侧表面所形成的第一凹凸结构和在另一侧表面所形成的第二凹凸结构；以及
主膜，其覆盖所述第一凹凸结构，
所述第一凹凸结构的凹凸的平均周期在可见光波长以下，
所述主膜具备：第三凹凸结构，其形成于与所述第一凹凸结构相对的表面，并且，具有所述第一凹凸结构的反转形状。
2.根据权利要求1所述的光学体，其特征在于，
所述第二凹凸结构的纵横比小于所述第一凹凸结构的纵横比，
所述第一凹凸结构的纵横比是构成所述第一凹凸结构的凸部高度与构成所述第一凹凸结构的凹部底面径长之比，
所述第二凹凸结构的纵横比是构成所述第二凹凸结构的凸部高度与构成所述第二凹凸结构的凹部底面径长之比。
3.根据权利要求1或2所述的光学体，其特征在于，
所述第二凹凸结构的凹凸密度小于所述第一凹凸结构的凹凸密度。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的光学体，其特征在于，
所述光学膜的厚度为1～60μm。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的光学体，其特征在于，
所述第二凹凸结构的凹凸的平均周期在可见光波长以下。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的光学体，其特征在于，
所述主膜具有基材膜和形成在所述基材膜的一侧表面的凹凸树脂层，
在所述凹凸树脂层形成有所述第三凹凸结构。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的光学体，其特征在于，
所述主膜具有覆盖所述第三凹凸结构的无机膜。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的光学体，其特征在于，
所述主膜和所述光学膜中至少一者添加有脱模剂。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的光学体，其特征在于，
所述主膜和所述光学膜的弹性模量相互不同。
10.根据权利要求1～9中任一项所述的光学体，其特征在于，
所述第一凹凸结构～所述第三凹凸结构中的至少1种以上由已固化的光固化树脂形成。
11.根据权利要求1～10中任一项所述的光学体，其特征在于，
形成有所述第一凹凸结构的表面对于波长350～800nm的光谱反射率为0.1～1.8％，
形成有所述第三凹凸结构的表面对于波长350～800nm的光谱反射率为0.1～1.5％。
12.根据权利要求1～11中任一项所述的光学体，其特征在于，
所述光学膜为一体成型。
13.根据权利要求1～12中任一项所述的光学体，其特征在于，
进一步具有覆盖所述第二凹凸结构的粘接剂层。
14.根据权利要求13所述的光学体，其特征在于，
所述粘接剂层的厚度为1～50μm。
15.一种光学膜粘合体，其具备：
被粘物；以及
经由粘接剂层被粘贴于所述被粘物的权利要求1～14中任一项所述的光学膜。
16.一种光学体的制造方法，其是权利要求1～14中任一项所述的光学体的制造方法，包括以下工序：
准备在表面形成有与所述第三凹凸结构反转形状的第四凹凸结构的第一原盘的工序；
准备在表面形成有与所述第二凹凸结构反转形状的第五凹凸结构的第二原盘的工序；
将所述第一原盘用作转印模，制作所述主膜的工序；
将所述主膜和所述第二原盘用作转印模，在所述主膜上形成所述光学膜的工序。
17.根据权利要求16所述的光学体的制造方法，其包括以下工序：
通过将所述第一原盘的所述第四凹凸结构转印于主膜用未固化树脂层，从而将所述第三凹凸结构形成于所述主膜用未固化树脂层的表面的工序；
通过使所述主膜用未固化树脂层固化，来制作主膜的工序；
通过将形成于所述主膜表面的所述第三凹凸结构转印于光学膜用未固化树脂层的一侧表面，从而将所述第一凹凸结构形成于所述光学膜用未固化树脂层的一侧表面的工序；
通过将所述第二原盘的所述第五凹凸结构转印于所述光学膜用未固化树脂层的另一侧表面，从而将所述第二凹凸结构形成于所述光学膜用未固化树脂层的另一侧表面的工序；
通过使所述光学膜用未固化树脂层固化，来制作光学膜的工序。
18.根据权利要求17所述的光学体的制造方法，其特征在于，
在所述主膜用未固化树脂层和所述光学膜用未固化树脂层的至少一者添加脱模剂。
19.根据权利要求17或18所述的光学体的制造方法，其特征在于，
所述主膜用未固化树脂层形成于基材膜上。
20.根据权利要求17～19中任一项所述的光学体的制造方法，其进一步包括：
在所述主膜的所述第三凹凸结构上形成无机膜的工序，
并且将已形成所述无机膜的所述第三凹凸结构转印于所述光学膜用未固化树脂层的一侧表面。
21.根据权利要求17～20中任一项所述的光学体的制造方法，其特征在于，
所述主膜用未固化树脂层和所述光学膜用未固化树脂层的至少一者由未固化的光固化树脂构成。
22.根据权利要求16～21中任一项所述的光学体的制造方法，其特征在于，
所述第二凹凸结构的纵横比小于所述第一凹凸结构的纵横比，
所述第一凹凸结构的纵横比是构成所述第一凹凸结构的凸部高度与构成所述第一凹凸结构的凹部底面径长之比，
所述第二凹凸结构的纵横比是构成所述第二凹凸结构的凸部高度与构成所述第二凹凸结构的凹部底面径长之比。
23.根据权利要求16～22中任一项所述的光学体的制造方法，其特征在于，
所述第二凹凸结构的凹凸密度小于所述第一凹凸结构的凹凸密度。
24.根据权利要求16～23中任一项所述的光学体的制造方法，其特征在于，
所述光学膜的厚度为1～60μm。
25.根据权利要求16～24中任一项所述的光学体的制造方法，其特征在于，
所述第五凹凸结构的凹凸的平均周期在可见光波长以下。
26.根据权利要求16～25中任一项所述的光学体的制造方法，其特征在于，
所述主膜和所述光学膜的弹性模量为相互不同的值。
27.根据权利要求16～26中任一项所述的光学体的制造方法，其进一步包括：
在所述光学膜所形成的所述第二凹凸结构上形成粘接剂层的工序。
28.根据权利要求27所述的光学体的制造方法，其特征在于，
所述粘接剂层的厚度为1～50μm。
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