JPWO2009022579A1 - コーティング用組成物 - Google Patents
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- C09D127/02—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C09D127/12—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
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-
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Abstract
Description
以下に本発明を詳細に説明する。
上記PFAは、PAVE単位が2質量%を超え、5質量%以下であることが好ましく、2.5〜4.0質量%であることがより好ましい。
上記機械的安定性は、送液・再分散の際、ホモジナイザー等による強い攪拌や剪断力を与えても、再分散不可能な凝集体を生成しにくい性質のことである。
本明細書において、上記「分解して気化を開始する温度」は、測定対象10mgについて熱重量分析計RTG220型(エスアイアイナノテクノロジー株式会社製)を用いて空気雰囲気下(空気の流量が200ml/分)、昇温速度10℃/分の条件で測定した値である。上記「フッ素樹脂の分解温度」は、上記と同じ条件で熱重量減少を測定し、10%以上重量が減少した温度を意味する。
CH2=C(CH3)−COORa (I)
(式中、Raは、炭素数1〜5のアルキル基又はヒドロキシアルキル基を表す。)
で表されるメタクリレート系単量体を重合することにより得られるメタクリレート系単独重合体又はメタクリレート系共重合体が好ましい。
また、上記HLB値が5.0未満であると、ノニオン界面活性剤が水に溶けないため、コーティング用組成物に混合することができないおそれがある。
本発明のコーティング用組成物は、2種以上のノニオン界面活性剤を含む場合、少なくとも1種のノニオン界面活性剤のHLB値が5.0〜10.0であることが好ましく、他のノニオン界面活性剤は、HLB値が10.0を超えるものであってもよい。
Rb−O−A−H (II)
(式中、Rbは、直鎖状又は分岐鎖状の炭素数8〜19の飽和若しくは不飽和の非環式脂肪族炭化水素基、又は、炭素数8〜19の飽和環式脂肪族炭化水素基を表す。Aは、オキシエチレン基を3〜25個及びオキシプロピレン基を0〜5個有するポリオキシアルキレン鎖を表す。)で表される化合物からなることが好ましい。
上記ノニオン界面活性剤(C)の含有量(N)は、試料約1g(Xg)を直径5cmのアルミカップにとり、100℃にて1時間で加熱した加熱残分(Yg)、更に、得られた加熱残分(Yg)を300℃にて1時間加熱した加熱残分(Zg)より、式:N=[(Y−Z)/Z]×100(%)から算出することができる。
カラム;ODS−120T(4.6φ×250mm、トーソー社製)
展開液;アセトニトリル/0.6質量%過塩素酸水溶液=1/1(vol/vol%)
サンプル量;20μL
流速;1.0ml/分
検出波長;UV210nm
カラム温度;40℃
Rf1OCHFCF2ORf2COOM1 (i)
(式中、Rf1及びRf2は部分または全部フッ素置換された、アルキル基又はアルコキシ基、M1は1価のアルカリ金属、NH4又はHを表す。)で表されるフルオロエーテルカルボン酸が挙げられる。
HOCH2CF2COOR1 (1)
(式中、R1はアルキル基又はHを表す。)で表されるヒドロキシアルカン酸誘導体を、アルカリ化合物の存在下に、下記一般式(2)
CF2=CFORf1 (2)
(式中、Rf1は上記と同じ。)で表されるフルオロビニルエーテルに付加させる工程を含む製造方法により製造することができる。
Rf3OCF2CF2ORf4COOM1 (ii)
(式中、Rf3及びRf4は部分または全部フッ素置換された、アルキル基又はアルコキシ基、M1は1価のアルカリ金属、NH4又はHを表す。)で表されるフルオロエーテルカルボン酸が挙げられる。
CF3(CF2)nOCH2CF2CF2ORf5COOM1 (iii)
(式中、Rf5は部分又は全部フッ素置換された炭素数2のアルキル基、nは0又は1、M1は1価のアルカリ金属、NH4又はHを表す。)で表されるフルオロエーテルカルボン酸が挙げられる。
CF3(CF2)nOCH2CF2COF (3−1)
(式中、nは上記と同じ。)で表されるフルオロカルボン酸フルオライド(3−1)を合成する工程、上記フルオロカルボン酸フルオライド(3−1)に、更にテトラフルオロオキセタンを開環付加反応させ、必要に応じてフッ素化することにより、下記一般式(3−2)
CF3(CF2)nOCH2CF2CF2ORf6COF (3−2)
(式中、Rf6はCH2CF2、CHFCF2又はCF2CF2を表し、nは上記と同じ。)で表されるフルオロカルボン酸フルオライド(3−2)を合成する工程、及び、上記フルオロカルボン酸フルオライド(3−2)の末端−COFを、−COOM1に変換する工程を含む方法等により製造することができる。
CF3(CF2)nOCH2CF2COF (3−1)
(式中、nは上記と同じ。)で表されるフルオロカルボン酸フルオライド(3−1)を合成する工程、上記フルオロカルボン酸フルオライド(3−1)に、ヘキサフルオロエポキシプロパンを開環付加反応させ、下記一般式(3−3)
CF3(CF2)nOCH2CF2CF2OCF(CF3)COF (3−3)
(式中、nは上記と同じ。)で表されるフルオロカルボン酸フルオライド(3−3)を合成する工程、及び、上記フルオロカルボン酸フルオライド(3−3)の末端−COFを、−COOM1に変換する工程を含む方法等により製造することができる。
上記(CF3)nCOF2−nとテトラフルオロオキセタンとの反応の進行具合は、ガスクロマトグラフ等により観測する。
CF3(CF2)nOCFX1CF2CF2ORf7COOM1 (iv)
(式中、Rf7は部分又は全部フッ素置換された炭素数2のアルキル基、nは0又は1、M1は1価のアルカリ金属、NH4又はH、X1はH又はFを表す。)で表されるフルオロエーテルカルボン酸が挙げられる。
Rf8OCH2CF2CF2ORf9COOM1 (v)
(式中、Rf8は部分又は全部フッ素置換された、アルキル又はアルコキシ基、Rf9は全部フッ素置換された、アルキル又はアルコキシ基、M1は1価のアルカリ金属、NH4又はHを表す。)で表されるフルオロエーテルカルボン酸が挙げられる。
Rf8OCH2CF2COF (4)
(式中、Rf8は上記と同じ。)で表されるフルオロカルボン酸フルオライド(4)を得る工程、(2)アルカリ金属フッ化物の存在下、上記フルオロカルボン酸フルオライド(4)にテトラフルオロエチレン〔TFE〕及びヨウ素を付加させて下記一般式(5)
Rf8OCH2CF2CF2OCF2CF2I (5)
(式中、Rf8は上記と同じ。)で表される化合物を得る工程、及び、(3)上記一般式(5)で表される化合物を、加水分解還元することにより上記一般式(v)で表されるフルオロエーテルカルボン酸を得る工程を含む製造方法により製造することができる。
上記フッ素含有酸フルオライドとテトラフルオロオキセタンとの反応の進行具合は、ガスクロマトグラフ等により観測する。
上記加水分解還元は、極性溶媒中で、水、ロンガリット(HO−CH2SO2−Na)及び重炭酸ソーダ(NaHCO3)の存在下に20〜100℃の範囲で加熱して行うことが好ましい。上記極性溶媒としては、DFM、DMSO、モノグライム、ジグライム、トリグライム、テトラグライム等が例示される。
Rf8OCH2CF2CF2OCF2CF2CH2CH2I (6)
(式中、Rf8は上記と同じ。)で表される化合物を得る工程、及び、(5)上記一般式(6)で表される化合物を、酸化剤の存在下で酸化することより、末端基をCOOHに変換して本発明のフルオロエーテルカルボン酸を得る工程を含む製造方法によっても製造することができる。
Rf11(OCF2CF2)n−1OCF2COOM1 (vi)
(式中、Rf11は炭素数1〜3のパーフルオロアルキル基、nは2又は3、M1は1価のアルカリ金属、NH4又はHを表す。)で表されるフルオロエーテルカルボン酸が挙げられる。
上記一般式(vi)で表されるフルオロエーテルカルボン酸としては、例えば、CF3CF2OCF2CF2OCF2COONH4等が挙げられる。
Rf11(OCF2CF2)n−2OCF2COF (7)
(式中、Rf11、nは上記と同じ。)で表されるフルオロカルボン酸フルオライドに、テトラフルオロエチレン及びヨウ素を付加することにより、下記一般式(8)
Rf11(OCF2CF2)nI (8)
(式中、Rf11、nは上記と同じ。)で表されるフルオロエーテルアイオダイドを製造する工程、上記一般式(8)で表されるフルオロエーテルアイオダイドを酸化することにより、下記一般式(9)
Rf11(OCF2CF2)n−1OCF2COF (9)
(式中、Rf11、nは上記と同じ。)で表されるフルオロカルボン酸フルオライドを製造する工程、及び、上記一般式(9)で表されるフルオロカルボン酸フルオライドを、酸又は塩基の存在下に酸化する工程を含む製造方法により製造することができる。
上記極性溶媒としては、DFM、DMSO、モノグライム、ジグライム、トリグライム、テトラグライムなどが例示される。
上記ヨウ素としては、I2の他、塩化ヨウ素、臭化ヨウ素等であってもよい。
Rf11(OCF2CF2)nCOOM1 (vii)
(式中、Rf11は炭素数1〜3のパーフルオロアルキル基、nは2又は3、M1は1価のアルカリ金属、NH4又はHを表す。)で表されるフルオロエーテルカルボン酸が挙げられる。
上記一般式(vii)で表されるフルオロエーテルカルボン酸としては、例えば、CF3CF2OCF2CF2OCF2CF2COONH4、CF3OCF2CF2OCF2CF2COONH4等が挙げられる。
Rf11(OCF2CF2)nCH2CH2I (10)
(式中、Rf11及びnは上記と同じ。)で表されるフルオロエーテルアイオダイドを得る工程(1)、及び、上記一般式(10)で表されるフルオロエーテルアイオダイドを酸化剤の存在下で酸化する工程(2)を含む製造方法により製造することができる。
上記金属触媒としては、銅等が挙げられる。
HCF2CF2Rf12−ORf13COOM1 (viii)
(式中、Rf12は炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基又はパーフルオロアルコキシ基を表し、Rf13は、Rf12と同一又は異なって、炭素数1〜3のパーフルオロアルキル基又はパーフルオロアルコキシ基を表し、M1は1価のアルカリ金属、NH4又はHを表す。)で表されるω−ハイドロ−フルオロエーテルカルボン酸が挙げられる。
HCF2CF2Rf14COF (11)
(式中、Rf14はRf12の炭素数が1少ない基を表し、Rf12は炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基又はパーフルオロアルコキシ基を表す。)で表されるω−ハイドロ−フルオロカルボン酸フルオライドに、テトラフルオロエチレン及びヨウ素を付加することにより下記一般式(12)
HCF2CF2Rf12OCF2CF2I (12)
(式中、Rf12は炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基又はパーフルオロアルコキシ基を表す。)で表されるω−ハイドロ−フルオロエーテルアイオダイドを製造する工程、上記一般式(12)で表されるω−ハイドロ−フルオロエーテルアイオダイドを酸化することによって下記一般式(13)
HCF2CF2Rf12OCF2COF (13)
(式中、Rf12は炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基又はパーフルオロアルコキシ基を表す。)で表されるω−ハイドロ−フルオロカルボン酸フルオライドを製造する工程、及び、上記一般式(13)で表されるω−ハイドロ−フルオロカルボン酸フルオライドを酸化することによって、下記一般式(14)
HCF2CF2Rf12OCF2COOM1 (14)
(式中、Rf12は炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基又はパーフルオロアルコキシ基、M1は1価のアルカリ金属、NH4又はHを表す。)で表されるω−ハイドロ−フルオロエーテルカルボン酸を製造する工程を含む製造方法により製造することができる。
上記極性溶媒としては、DFM、DMSO、モノグライム、ジグライム、トリグライム、テトラグライム等が例示される。
上記ヨウ素としては、I2の他、塩化ヨウ素、臭化ヨウ素等であってもよい。
HCF2CF2Rf12OCF2CF2CH2CH2I (15)
(式中、Rf12は炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基又はパーフルオロアルコキシ基を表す。)で表されるω−ハイドロ−フルオロエーテルアイオダイドを得る工程、及び、(2)前記一般式(15)で表されるω−ハイドロ−フルオロエーテルアイオダイドを酸化剤の存在下で酸化することにより、下記一般式(16)
HCF2CF2Rf12OCF2CF2COOM1 (16)
(式中、Rf12は炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基又はパーフルオロアルコキシ基を表し、M1は1価のアルカリ金属、NH4又はHを表す。)で表されるω−ハイドロ−フルオロエーテルカルボン酸を得る工程を含む製造方法により製造することができる。
上記金属触媒としては、銅等が挙げられる。
Rf15−CH2O−CF2−CHF−Rf16−X2 (ix)
(式中、Rf15は、炭素数1〜5のフルオロアルキル基を表す。Rf16は、炭素数1〜3のフルオロアルキレン基を表す。X2は、−COOM2又は−SO3M2を表す。M2は、K、Na又はNH4の何れかを表す。)で表される化合物が挙げられる。上記一般式(ix)で表される化合物としては、例えば、CF3CF2CH2OCF2CFHCF2COOH、CF3CF2CH2OCF2CFHCF2COONH4等が挙げられる。
上記フッ素ガスは、50〜200℃の温度下で行うことが好ましい。上記フッ素ガスとの接触は、1kPa〜0.1MPaの圧力下で行うことが好ましい。
Rf17−O−CF2−Rf18−X2 (x)
(式中、Rf17は、炭素数1〜6のフルオロアルキル基を表す。Rf18は、炭素数1〜4のフルオロアルキレン基を表す。X2は、前記と同じ。)
で表される化合物が挙げられる。上記一般式(x)で表される化合物としては、例えば、CF3CF2CF2OCF2CF2CF2COOH、CF3CF2CF2OCF2CF2CF2COONH4、CF3CF2CHFOCF2CHFCF2COOH、CF3CF2CHFOCF2CHFCF2COONH4等が挙げられる。
上記フッ素ガスは、50〜200℃の温度下で行うことが好ましい。上記フッ素ガスとの接触は、1kPa〜0.1MPaの圧力下で行うことが好ましい。
Rf19O−(Rf20O)n−Rf21−COOM3 (xi)
(式中、Rf19は、炭素数1〜3のフルオロアルキル基を表す。Rf20及びRf21は、同一又は異なって、それぞれ炭素数1〜3のフルオロアルキレン基を表す。M3は、H、K、Na又はNH4の何れかを表す。)で表される化合物のうち互いにnの値が異なるものを2種以上存在させた混合物であって、nの平均が2〜5であるものが挙げられる。
このような調製方法として、例えば、CF3−CF=CF2とO2を出発材料として、
上記加水分解において使用するアルカリ化合物としては、例えば、KOHが挙げられる。上記加水分解は、アルカリ存在下にある上記混合物にHCl等の酸を加えることにより容易に行うことができる。
上記金属粉末としては特に限定されず、例えば、アルミニウム、鉄、すず、亜鉛、金、銀、銅等の金属単体の粉末;アルミニウム合金、ステンレス等の合金の粉末等が挙げられる。上記金属粉末の形状としては特に限定されず、粒子状、フレーク状等が挙げられる。本発明のコーティング用組成物は、このような光輝材を含有する場合、優れた外観を有する塗膜を形成することができる。上記光輝材の含有量は、上記コーティング用組成物の固形分に対して0.1〜10.0質量%であることが好ましい。
上記消泡剤としては、例えば、トルエン、キシレン、炭素数9〜11の炭化水素系などの非極性溶剤、シリコーンオイルなどが挙げられる。
上記乾燥剤として、例えば、酸化コバルトなどが挙げられる。
上記ノニオン界面活性剤(C1)は、HLBが10.0を超え、16.0以下であることが好ましい。
上記ノニオン界面活性剤(C1)は、上述のノニオン界面活性剤(C)と同種類のものであってもよいが、分散安定性の点で、上記ノニオン界面活性剤(C)よりもHLBが高いものが好ましく、HLBが12.0〜14.0であることがより好ましい。
上記(2)の工程において、更に、上述のノニオン界面活性剤(C1)、その他の樹脂や添加剤を必要に応じ加えてよい。
上記水性分散体において、フッ素樹脂粒子(A)、ノニオン界面活性剤(C1)及び含フッ素界面活性剤は、上述のコーティング用組成物に関して説明したものと同様である。
上記水性分散体は、ノニオン界面活性剤(C1)がフッ素樹脂粒子(A)に対して0.1〜10質量%の量であることが好ましい。
上記樹脂粒子(B)は、フッ素樹脂粒子(A)に対して5〜25質量%の量混合することが好ましい。
上記工程において、更に、上述のノニオン界面活性剤(C1)、その他の樹脂や添加剤を必要に応じ混合してもよい。
上記プライマー層は、本発明のコーティング用組成物と同様に上記プライマー塗料を塗装することにより得ることができる。上記プライマー層は、膜厚が1〜100μmであることが好ましい。
上記塗装における乾燥は、従来公知の方法により行うことができ、例えば、室温〜150℃の温度で5〜20分間行うことができる。
本発明のコーティング用組成物は、このような焼成を行っても、フッ素樹脂粒子(A)が溶融するまで樹脂粒子(B)がバインダーとして機能しているので、熱収縮によるクラックが発生しない。
このような用途として、例えば、フライパン、グリル鍋、圧力鍋、その他の各種鍋、炊飯器、餅つき器、オーブン、ホットプレート、パン焼き型、包丁、ガステーブル等の調理器具;電気ポット、製氷トレー等の飲食用容器;練りロール、圧延ロール、コンベア、ホッパー等の食品工業用部品;オフィスオートメーション機器〔OA〕用ロール、OA用ベルト、OA用分離爪、製紙ロール、フィルム製造用カレンダーロール等の工業用品;発泡スチロール成形用等の金型、鋳型、合板・化粧板製造用離型板等の成形金型離型;レンジフード等の厨房用品;コンベアーベルト等の冷凍食品製造装置;のこぎり、やすり、ダイス、きり等の工具;アイロン、鋏、包丁等の家庭用品;金属箔、電線;食品加工機、包装機、紡繊機械等のすべり軸受;カメラ・時計の摺動部品;パイプ、バルブ、ベアリング等の自動車部品、雪かきシャベル、すき、シュート、船底、ボイラー、工業用コンテナ(特に半導体工業用)が挙げられる。
以上に例示した、上記コーティング用組成物を塗装することにより得られる被覆物品もまた、本発明の一つである。
透過型電子顕微鏡観察により測定した。
水性分散液1gを送風乾燥機中で100℃、1時間、さらに300℃、1時間の条件で乾燥した際における、該水性分散液の質量(1g)に対する、加熱残分の質量の割合を百分率で表した。
透過型電子顕微鏡観察により測定した。
試料約1g(Xg)を直径5cmのアルミカップにとり、100℃にて1時間で加熱した加熱残分(Yg)、更に、得られた加熱残分(Yg)を300℃にて1時間加熱した加熱残分(Zg)より、式:N=[(Y−Z)/Z]×100(%)から算出した。
得られたコーティング用組成物に等量のメタノールを添加してソックスレー抽出を行ったのち、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)を以下の条件にて行うことにより求めた。なお、含フッ素界面活性剤濃度について上記溶出液及び条件にてHPLC測定して得られた検量線を用いた。
カラム;ODS−120T(4.6φ×250mm、トーソー社製)
展開液;アセトニトリル/0.6質量%過塩素酸水溶液=1/1(vol/vol%)
サンプル量;20μL
流速;1.0ml/分
検出波長;UV210nm
カラム温度;40℃
(1)容量5Lの反応器に、PTFE分散液(PTFE含有量25%、平均粒子径0.24μm、パーフルオロオクタン酸アンモニウム〔PFOA〕含有量:PTFEの2000ppmに相当する量)2000gを入れ、10%アンモニア水溶液でpHを9に調整した後、120rpmの攪拌下にポリエーテル系ノニオン界面活性剤(HLB値=13.0)125gを添加し、温水槽中で40℃にて均一に混合した。引き続き、攪拌を行いながら温水槽温度を上げ、内温を70℃に到達させたのち、攪拌を停止し、内温70℃で6時間保持した後に、分離した上澄み相を除去し、PTFE水性分散液相を分離した。
この水性分散液に、ポリエーテル系ノニオン界面活性剤(HLB値=13.0)及びイオン交換水を添加して、PTFE含有量60%、上記ポリエーテル系ノニオン界面活性剤の含有量がPTFEの6.0%に相当する量になるように調整した。
解重合性アクリル樹脂エマルション(ブチルアクリレート系樹脂、平均粒子径0.3μm、樹脂濃度40%)118gに製造例(2)で得られたPTFE水性分散体787g加え、グリセリン47g、ポリエーテル系ノニオン界面活性剤(HLB値=13.0)の20%水溶液47g、増粘剤(ラウリル硫酸ナトリウムの25%水溶液)19gを添加し、ポリオキシエチレントリデシルエーテル(HLB値=9.5)の20%水溶液を11.8g(該ポリオキシエチレントリデシルエーテルがPTFEの固形分に対して0.5%に相当する量)添加して、PTFEの固形分45.9%、解重合性アクリル樹脂の固形分4.6%、PFOAがPTFEの固形分に対し90ppm相当する量のコーティング用組成物を得た。
得られたコーティング用組成物約100mlを40℃、300rpmの条件で6時間攪拌したが、凝集物の発生はなく、機械的安定性は良好であった。
○ 塗膜表面に塗料のブツがまったく無い(塗料の機械的安定性及び塗装性が良好)
× 塗膜表面に塗料のブツが観察された(塗料の機械的安定性及び塗装性が不良)
製造例(2)で得られたフッ素樹脂含有水性分散液に変え、製造例(1)の水性分散体を使用したこと、更にポリオキシエチレントリデシルエーテル(HLB値=9.5)の20%水溶液に変えてイオン交換水11.8gを添加したこと以外は、実施例1と同様にコーティング用組成物を得た。
得られたコーティング用組成物は、PTFEの固形分45.9%、解重合性アクリル樹脂の固形分10%、ノニオン界面活性剤(HLB=13.0)がPTFEの固形分に対して8.0%に相当する量、PFOAがPTFEの固形分に対し932ppmに相当する量であった。
得られたコーティング用組成物を用いて、実施例1と同様に評価用塗装板を作製し、評価を行った。
Claims (10)
- フッ素樹脂からなるフッ素樹脂粒子(A)と、分解して気化を開始する温度が前記フッ素樹脂の分解温度以下の温度である樹脂粒子(B)と、ノニオン界面活性剤(C)とを水性媒体中に含む水性分散体であり、
前記樹脂粒子(B)が前記フッ素樹脂粒子(A)に対して5〜25質量%の量であり、含フッ素界面活性剤が前記フッ素樹脂粒子(A)に対して500ppm未満の量である
ことを特徴とするコーティング用組成物。 - 樹脂粒子(B)が解重合性アクリル樹脂の粒子である請求項1記載のコーティング用組成物。
- フッ素樹脂が、ポリテトラフルオロエチレン〔PTFE〕、TFE/ヘキサフルオロプロピレン〔HFP〕共重合体〔FEP〕及びTFE/パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)〔PAVE〕共重合体〔PFA〕よりなる群から選択される少なくとも1種の樹脂である請求項1〜2のいずれか1項に記載のコーティング用組成物。
- 含フッ素界面活性剤は、パーフルオロカルボン酸又はその塩からなるものである請求項1〜3のいずれか1項に記載のコーティング用組成物。
- フッ素樹脂からなるフッ素樹脂粒子(A)と、HLB値が10.0を超え、16.0以下であるノニオン界面活性剤(C1)と、含フッ素界面活性剤とを含有し、前記含フッ素界面活性剤が前記フッ素樹脂粒子(A)に対して500ppm未満の量である水性分散体に、HLB値が5.0以上、10.0以下であるノニオン界面活性剤(C2)と、分解して気化を開始する温度が前記フッ素樹脂の分解温度以下の温度である樹脂粒子(B)とを混合する工程を含む
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のコーティング用組成物の製造方法。 - 前記水性分散体は、ノニオン界面活性剤(C1)がフッ素樹脂粒子(A)に対して0.1〜10質量%の量である請求項5記載のコーティング用組成物の製造方法。
- ノニオン界面活性剤(C2)は、フッ素樹脂粒子(A)に対して0.1〜5質量%の量混合する請求項5又は6記載のコーティング用組成物の製造方法。
- 樹脂粒子(B)は、フッ素樹脂粒子(A)に対して5〜25質量%の量混合する請求項5〜7の何れか1項に記載のコーティング用組成物の製造方法。
- 請求項1〜4の何れか1項に記載のコーティング用組成物を塗装して得られる
ことを特徴とする被覆物品。 - コーティング用組成物は、請求項5〜8の何れか1項に記載のコーティング用組成物の製造方法から得られる請求項9記載の被覆物品。
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