JPWO2008102820A1 - 反射防止コーティング用組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
一般に、反射防止膜を形成するための組成物は、(a)界面活性剤と(b)水溶性バインダーポリマーと(c)水性媒体を主要な構成成分とし、例えば下記特許文献1、2、3では、(a)界面活性剤として、フッ素原子を含有する化合物を用いることにより膜の屈折率を低減させている。
また、特許文献5には、組成物に含有される水溶性フッ素化合物として、パーフルオロブタンスルホン酸やパーフルオロブタン酸が挙げられている。しかし、これらの化合物を用いて得られる反射防止膜が、膜厚が均一で、屈折率が十分に低いものとなるかどうかは不明である。
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、炭素数7以上のPFASおよびPFAAを使用することなく、表面張力が低くて塗布性に優れるとともに、屈折率が低い反射防止膜を形成できる反射防止コーティング用組成物を提供することを目的とする。
R1−O−(R2−O)n−R3−X1 …(I)
(式中、R1は末端のフッ素原子が水素原子または塩素原子で置換されていてもよい、直鎖状または分岐状のパーフルオロアルキル基を示し、R2及びR3はそれぞれ独立に、直鎖状または分岐状のパーフルオロアルキレン基を示し、R1、R2及びR3の炭素数の合計が5以下であり、nは0または1以上の整数を示し、X1は塩を形成していてもよい、−COOHまたは−C(CF2Z1)(CF2Z2)OHである。Z1およびZ2はそれぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子またはトリフルオロメチル基である。)
本発明で用いられる含フッ素界面活性剤(A)(以下、単に(A)成分ということもある。)は、前記一般式(I)で表わされる化合物(A1)を含有する。
本明細書におけるパーフルオロアルキル基は、アルキル基の炭素原子に結合している水素原子の全部がフッ素原子で置換されている基を意味し、エーテル結合含有パーフルオロアルキル基は、パーフルオロアルキル基の炭素鎖にエーテル結合性の酸素原子が挿入されている基を意味する。
パーフルオロアルキル基におけるアルキル基は直鎖状であってもよく分岐状でもよい。該パーフルオロアルキル基の末端のフッ素原子は、水素原子または塩素原子で置換されていてもよい。
エーテル結合含有パーフルオロアルキル基における、エーテル結合性酸素原子を有する炭素鎖は直鎖状であってもよく分岐状でもよい。
(A)成分において、分子中に存在する含フッ素アルキル基の炭素数は5以下である。すなわち、(A)成分は炭素数6以上のパーフルオロアルキル基および炭素数6以上のエーテル結合含有パーフルオロアルキル基のいずれも有さない。該含フッ素アルキル基の炭素数の下限値は特に限定されないが、表面張力低下能の点から4以上が好ましい。該炭素数は4または5がより好ましい。
(A)成分において、−COOHおよび−C(CF2Z1)(CF2Z2)OHのOH基は塩を形成していてもよい。具体的には該酸性OH基が塩を形成して−OA2となっていてもよい。
A2はアルカリ金属、NH4、有機アミンから誘導される一価基、または第四級アンモニウム基を示す。アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げられる。これらの中でも、A2は有機アミンから誘導される一価基、または第四級アンモニウム基がより好ましい。
上記一般式(I)で表される化合物(A1)において、「R1−O−(R2−O)n−R3−」が「エーテル結合含有パーフルオロアルキル基」に相当する。
上記一般式(I)において、R1はパーフルオロアルキル基であり、直鎖状であってもよく分岐状であってもよい。R1は、末端のフッ素原子が水素原子または塩素原子で置換されていてもよい。R1としてC4F9−、C3F7−、C2F5−、CF3−が好ましく、C2F5、C3F7がより好ましい。
R2及びR3はそれぞれ独立に、直鎖状または分岐状のパーフルオロアルキレン基である。R2は−CF2CF2−、−CF2CF(CF3)−が好ましく、R3は−CF2CF2−、−CF2−が好ましい。
R1、R2及びR3の炭素数の合計は5以下であり、2〜5が好ましく、4または5がより好ましい。ただし、一般式(I)中のX1が−C(CF2Z1)(CF2Z2)OHである場合は、R1、R2及びR3の炭素数の合計は4または5が好ましい。
一般式(I)中のnは0または1以上の整数であり、0または1〜3の整数が好ましく、より好ましくは0、1、または2である。
化合物(A1)は水溶性に優れるため、これを含有する反射防止コーティング用組成物は均一な混合状態となる。よって、得られる反射防止膜も均一な組成、均一な膜厚となる。 さらに、化合物(A1)は、アルカリで塩化しない場合であっても水にある程度溶解するという利点を有する。反射防止膜の重要な特性として、下層のレジストとの酸性度のマッチングがある。反射防止膜の酸性度が高すぎる場合は、反射防止膜側の酸性成分がレジスト層に浸透し、過剰な膜減り、パターンのラウンドトップ化(矩形の頭の部分が過剰に現像されて削れてしまい、丸くなる。)を招く。逆に酸性度が低すぎる場合は、レジスト層の酸性成分が反射防止膜へ移動し、パターンのTトップ化(矩形の頭の部分の現像が不十分で、除きたい部分が残ってしまう。)を招く。
化合物(A1)を用いる場合は、必ずしも塩化して用いる必要がないので、反射防止膜の酸性度を調整しやすく、種々のレジスト層のコーティングに使用できる。
M1CF2CF2O(CF2CF2O)pCF2COOA1 …(III)
(式中、M1はフッ素原子、水素原子または塩素原子を示し、A1は水素原子、アルカリ金属、NH4、有機アミンから誘導される一価基、または第四級アンモニウム基を示し、pは0または1である。)
一般式(III)において、M1はフッ素原子、水素原子または塩素原子であり、フッ素原子が好ましい。
A1としてのアルカリ金属、NH4、または有機アミンから誘導される一価基、または第四級アンモニウム基は、好ましい態様も含めて上記A2と同様である。A1は好ましくは水素原子である。
pは0または1であり、好ましくは1である。
本発明の反射防止コーティング用組成物において、含フッ素界面活性剤(A)として上記一般式(III)で表される化合物(A11)を用いることが好ましい。
含フッ素界面活性剤(A)の使用量は、反射防止コーティング用組成物の表面張力が所望の範囲となるように設定することが好ましい。反射防止コーティング用組成物の表面張力の好ましい範囲は塗布法にもよるが、いずれの塗布法においても、反射防止コーティング用組成物の表面張力が高すぎても低すぎても良好な塗布性が得られない。
例えば、反射防止コーティング用組成物における含フッ素界面活性剤(A)の含有量は0.001〜10質量%の範囲が好ましく、0.05〜5質量%がより好ましく、0.1〜1質量%がさらに好ましい。
[水溶性含フッ素重合体(B1)]
[重合単位(b1)]
水溶性ポリマー(B)(以下、単に(B)成分ということもある。)は、反射防止膜の成膜成分として公知の水溶性ポリマーを使用できる。
(B)成分として、下記一般式(IV)で示される重合単位(b1)を有する水溶性含フッ素重合体(B1)が好ましい。
Y3は水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示し、好ましくはフッ素原子である。
Qはエーテル結合またはエステル結合を示し、好ましくはエーテル結合である。
R5、R6及びR7はそれぞれ独立に、炭素数6以下の直鎖状または分岐状のパーフルオロアルキレン基を示す。R5、R6及びR7の炭素数はそれぞれ1〜3が好ましく、2または3がより好ましい。R5、R6及びR7の好ましい例としては、−C2F4−、−C3F6−、−CF2−CF(CF3)−等が挙げられる。
a、bはそれぞれ独立に0または1以上の整数を示す。a、bはそれぞれ好ましくは0または1〜3の整数である。aとbの合計が0または1〜3である事が好ましい。
(式中、sは0〜5の整数を示し、tは1〜5の整数を示し、X4は−COOH、−SO3H、または−C(CF2Z1)(CF2Z2)OHを示し、Z1、Z2はそれぞれ、H、F、ClまたはCF3である。)
該重合単位(b11)を形成する含フッ素単量体としては、
CF2=CF[O(CF2CF(CF3)O)s’(CF2)t’X4‘]が好ましい。
該単量体においてs’は0〜3の整数が好ましく、t’は1〜3が好ましい。X4’は一般式(VI)におけるX4と同じ基、または加水分解反応を経てX4となる基である。
−[CF2CF(OCF2CF2CF2COOH)]−、
−[CF2CF(OCF2CF(CF3)OCF2CF2COOH)]−、
−[CF2CF(OCF2CF(CF3)OCF2CF2CF2COOH)]−、
−[CF2CF(OCF2CF2CF2OCF2CF2COOH)]−、
−[CF2CF(OCF2CF(CF3)OCF2CF2SO3H)]−。
水溶性含フッ素重合体(B1)は重合単位(b1)以外の重合単位を有していてもよい。例えば下記一般式(VII)で表される重合単位(b2)を有していてもよい。
−CF2CF[(CF2)uX5]− …(VII)
(式中、uは1〜10の整数を示し、X5は−COOH、−SO3H、または−C(CF2Z1)(CF2Z2)OHを示し、Z1、Z2はそれぞれ、H、F、ClまたはCF3である。)
該重合単位(b2)を形成する含フッ素単量体としては、CF2=CF[(CF2)u’X5’]が好ましい。該単量体においてu’は1〜5が好ましい。X5’は一般式(VII)におけるX5と同じ基、または加水分解反応を経てX5となる基である。
水溶性含フッ素重合体(B1)は、主鎖が重合単位(b1)と同じであって、重合単位(b1)、(b2)に含まれない重合単位(b3)を有していてもよい。
該重合単位(b3)として、例えば下記の含フッ素単量体の二重結合が開裂して形成される重合単位が好ましい。
CF2=CF2、
CF2=CFCF3、
CF2=CF(CF2)kCF3
CF2=CH2、
CF3CH=CH(CF2)kCF3、
CH2=CH[(CF2)kCF3]、
CH2=CHCH2(CF2)kCF3
CF2=CF[O(CF2)kCF3]、
CF2=CF[O[CF2CF(CF3)O]lCF2CF2CF3]等。
上記においてkは1〜10の整数、lは1〜3の整数を示す。これらの中でも特に、CF2=CF2、CF2=CFCF3等が好ましい。
水溶性含フッ素重合体(B1)は、主鎖にエーテル性の酸素原子を有する重合単位(b4)を含有していてもよい。かかる重合単位(b4)としては、下記の重合単位が好ましい。
−CF2CF(CF3)O−、
−(CF2)k’O−、
上記においてk’は1〜3の整数を示す。
(i)「酸性OH基を有する官能基」に変換可能な前駆官能基を有する含フッ素単量体を重合した後、該前駆官能基を「酸性OH基を有する官能基」に変換する方法。
(ii)含フッ素単量体を重合した後、該重合体の一部に「酸性OH基を有する官能基」を導入する方法。
方法(i)の例としては、CF2=CF[O(CF2CF(CF3)O)s’(CF2)t’COOCH3](s’、t’は前記と同じ意味を示す。)を重合した後、−COOCH3部分を加水分解する方法、CF2=CF[O(CF2CF(CF3)O)s’(CF2)t’SO2F](s’、t’は前記と同じ意味を示す。)を重合した後、−SO2F部分を加水分解する方法等が好ましい。
重合方法としては、特に限定はないが、上記含フッ素単量体に重合開始剤を加えて加熱する重合反応が好ましい。
過酸化物としては、パーオキシケタール類、ジアシルパーオキシド類、パーオキシカーボネート類、パーオキシエステル類、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等が好ましく挙げられる。
アゾ化合物としては、アゾニトリル類、アゾアミド類、環状アゾアミド類、アゾアミジン類等が好ましく挙げられる。
重合開始剤の使用量は、重合反応に用いる単量体のモル数の合計に対して0.01〜10モル%であることが好ましい。
また、重合反応においては、連鎖移動剤を用いてもよい。重合反応に使用する連鎖移動剤の使用量は、単量体のモル数の合計に対して0.01〜10モル%であることが好ましい。
重合反応においては、媒体を使用してもよく、使用しなくてもよい。使用する場合には、含フッ素単量体が媒体に溶解した状態または分散した状態で重合反応を行うのが好ましい。媒体としては、水、含フッ素溶剤等が好ましく用いられる。
本発明の反射防止コーティング用組成物に含まれる水溶性ポリマー(B)として、フッ素を含まない他の水溶性ポリマー(B2)を用いてもよい。
該他の水溶性ポリマー(B2)としては、公知の水溶性ポリマーを適宜使用できる。具体例としてはポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリビニルアルコール、水溶性ポリシロキサン、多糖類等が好ましく挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明の反射防止コーティング用組成物に含まれる水溶性ポリマー(B)のうち、水溶性含フッ素重合体(B1)が占める割合は50質量%以上が好ましく、70質量%以上がより好ましく、100質量%でもよい。上記範囲の下限値未満であると、屈折率の低減効果が低下する。
本発明の反射防止コーティング用組成物における水溶性ポリマー(B)の含有量は、該(B)成分が溶解でき、かつコーティング時に所望の厚さの膜を形成できる範囲であればよい。具体的には0.1〜20質量%が好ましく、1〜10質量%がより好ましく、3〜7質量%がさらに好ましい。
水性媒体(C)は水および水溶性の有機溶媒から選ばれるものが好ましい。好ましくは水であり、水溶性の有機溶媒と水を併用してもよい。
水は、蒸留、イオン交換処理、フィルター処理、各種吸着処理等の処理により、有機不純物、金属イオン等が除去されたものが好ましい。
水溶性の有機溶媒としては、水に対して0.1質量%以上溶解する有機溶媒であれば特に制限はなく、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、2−ブタノール、ヘキシレングリコール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル等のエステル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート、アルキルセロソルブアセテート、ブチルカルビトール、カルビトールアセテート等の極性溶媒が挙げられる。これらのうちでもアルコール類が好ましい。
本発明の反射防止コーティング用組成物における水性媒体(C)の含有量は、(A)成分、(B)成分、および必要に応じて添加されるその他の成分を、各必要量含有させることができ、かつ全成分が溶解されるように設定される。水性媒体(C)の含有量は、例えば70〜99.9質量%が好ましく、95〜99質量%がより好ましい。
本発明の反射防止コーティング用組成物に、必要に応じて有機アミン(D)を含有させることができる。該有機アミン(D)を添加して反射防止コーティング用組成物のpHを調整することにより、フォトレジスト層とのインターミックスを抑制できる。
有機アミン(D)の具体例としては、NH3、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(N(CH3)4OH)、トリメチル−2−ヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、アルカノールアミン、アルキルアミン、芳香族アミンが挙げられる。
反射防止コーティング用組成物における有機アミン(D)の含有量は、反射防止コーティング用組成物のpHがレジストパターンの形成に好適な範囲となるように設定することができる。例えば、酸性官能基の総量の50〜95質量%の範囲内が好ましい。
本発明の反射防止コーティング用組成物には、必要に応じて各種添加剤を含有させることができる。例えばフォトレジスト層に対する濡れ性およびレベリング性を向上させる目的で、(A)成分に含まれない公知の界面活性剤を添加してもよい。
該界面活性剤としては、ポリフルオロアルキル基とポリオキシエチレン基を有する化合物(3M社製、製品名:フロラード「FC−430」、「FC−4430」等)、アセチレングリコールおよびそれにポリオキシエチレンを付加した化合物(エアープロダクツ社製、製品名:「サーフィノール104」、「サーフィノール420」)、アルキルスルホン酸およびアルキルベンゼンスルホン酸類(例えば、日光ケミカルズ株式会社製、製品名:ニッコール「SBL−2N−27」等)、および水酸基を含みポリオキシエチレン基を含まない化合物(ポリグリセリン脂肪酸エステル等)等が好ましく挙げられる。
本発明の反射防止コーティング用組成物は、フォトレジスト用の反射防止膜を形成するための塗布液として好適である。具体的には、フォトレジストを用いたフォトリソグラフィによってパターンを形成するにあたり、フォトレジスト層の表面上に設けられる反射防止膜を形成する塗布液として好適である。フォトレジスト層についての制限はなく、g線用、i線用、KrF、ArF等のエキシマレーザ用の各フォトレジストに適用できる。
本発明の反射防止コーティング用組成物を、反射防止膜を形成しようとする面上に塗布して塗膜を形成した後、該塗膜中の溶媒を除去することにより反射防止膜を形成することができる。塗布方法としては、塗膜の均一性および簡便性に優れることから、スピンコート法が好ましい。塗膜を形成した後、必要に応じてホットプレート、オーブン等を用いて加熱乾燥を行ってもよい。乾燥条件は、例えばホットプレートの場合70〜100℃で30〜180秒間が好ましい。
反射防止膜が、フォトリソグラフィ工程における露光時の反射を防止することを目的とするものである場合、該反射防止膜の厚さは、公知の反射防止理論によって設定すればよい。具体的には「(露光波長)/(4×反射防止膜の屈折率)」の奇数倍とすることが、反射防止性能に優れることから好ましい。
したがって本発明によれば、炭素数7以上のPFAS等、環境への影響の問題から使用が禁止される懸念のある化合物を使用せず、組成物の屈折率を悪化させること無く、コーティング液の表面張力を低下させ、高い塗布性能を有するコーティング組成物が得られる。
(製造例1:水溶性含フッ素重合体(B1)の合成)
前記方法(i)により、前記一般式(VI)で表される重合単位(b11)からなる重合体(B1)を製造した。
すなわち、撹拌機付き1.3Lオートクレーブの系内の空気を窒素で置換した後、CF2=CFOCF2CF2CF2COOCH3(以下、CVEと記す。)の1.18kg、および重合開始剤としてジイソプロピルパーオキシジカーボネートの5.30gを仕込み、窒素により内圧を0.1MPaとした。オートクレーブを加熱して内温を40℃とし、40℃にて12時間撹拌して重合反応を行った。撹拌終了後、未反応のCVEを留去して、CVEが重合した前駆重合体470gを得た。該前駆重合体の質量平均分子量をGPC法で測定したところ5×103であった。
得られた前駆重合体に水を加えて90℃まで昇温した後、90℃にて5時間撹拌して、CVE由来のメチルエステル基の加水分解を行った。次に、酢酸の10gを加えて90℃まで昇温した後、1時間撹拌して、水を加えることにより、前駆重合体のメチルエステル基のうちの95モル%以上が−COOHに変換された水溶性含フッ素重合体(B1)の水溶液を得た。該水溶液の不揮発分濃度は30質量%であった。
製造例1で得られた、水溶性含フッ素重合体(B1)の水溶液を水で希釈し、下記式(III−1)で表される含フッ素界面活性剤(A11−1)を加えて混合することにより反射防止コーティング用組成物を得た。該反射防止コーティング用組成物における、水溶性含フッ素重合体(B1)の含有量(単位:質量%)および界面活性剤(A11−1)の含有量(単位:質量%)を表1に示す。
CF3CF2OCF2CF2OCF2COOH …(III−1)
実施例1において、反射防止コーティング用組成物における、水溶性含フッ素重合体(B1)の含有量および含フッ素界面活性剤(A11−1)の含有量を、表1に示すとおりに変更したほかは実施例1と同様にして反射防止コーティング用組成物を調製した。
実施例1において、含フッ素界面活性剤を下記式(II−1)で表される含フッ素界面活性剤(A2−1)に変更したほかは実施例1と同様にして反射防止コーティング用組成物を調製した。
CF3(CF2)4COOH …(II−1)
比較例1−1において、反射防止コーティング用組成物における、水溶性含フッ素重合体(B1)の含有量および含フッ素界面活性剤(A2−1)の含有量を、表1に示すとおりに変更したほかは比較例1−1と同様にして反射防止コーティング用組成物を調製した。
実施例1において、含フッ素界面活性剤(A11−1)に代えて、市販の非フッ素系界面活性剤であるニッコール SBL−2N−27(製品名、日光ケミカルズ株式会社製)を用いた他は実施例1と同様にして反射防止コーティング用組成物を調製した。
(比較例2〜4)
比較例1において、水溶性含フッ素重合体(B1)の含有量および非フッ素系界面活性剤(ニッコール)の含有量を、表1に示すとおりに変更したほかは比較例1と同様にして反射防止コーティング用組成物を調製した。
実施例3において、含フッ素界面活性剤(A11−1)を添加しない他は、実施例1と同様にして反射防止コーティング用組成物を調製した。
(比較例6〜8)
実施例1、3、4において、含フッ素界面活性剤(A11−1)に代えて、特開2004−37887号公報(上記特許文献7)の実施例1〜4で用いられているドデシルベンゼンスルホン酸を表1に示す含有量で用いた。その他は実施例1、3、4とそれぞれ同様にして反射防止コーティング用組成物を調製した。
(表面張力の評価)
上記実施例および比較例でそれぞれ調製した反射防止コーティング用組成物について、表面張力計 ESB-V(製品名、協和化学社製)にて表面張力を測定した。結果を表1に示す。
上記実施例および比較例でそれぞれ調製した反射防止コーティング用組成物を、シリコンウエハー上にスピンコーターを用いて塗布した後、ホットプレートを用い、120℃で90秒間加熱乾燥して膜(反射防止膜)を得た。膜厚は水溶性含フッ素重合体(B1)の含有量が6質量%の場合は約100nm、3質量%の場合は約40nmとした。
得られた膜の外観を目視にて観察し、均一な膜が形成されているかどうかを評価した。結果を表1に示す。塗布液の表面張力が低くて膜に放射状のスピンコート跡が残った場合を「スピンコート跡」と記載し、塗布液の表面張力が高くて均一な膜にならずスジムラが生じた場合を「スジムラ」と記載した。
また得られた膜の屈折率を、エリプソメーターを用いて測定した。屈折率の測定はフォトリソグラフィ工程において一般的に用いられる露光波長である193nmと248nmについて行った。結果を表1に示す。
一般に、該露光波長におけるフォトレジストの屈折率は1.6〜1.8程度であり、フォトレジスト層上に設けられる反射防止膜の屈折率が、それ以下であると良好な反射防止機能が得られる。
また、塗布液の表面張力の適切な範囲は塗布法にもよるが、スピンコート法に関しては、実施例1ではスピンコート跡が発生し、比較例1−4ではスジムラが発生したことから、反射防止コーティング用組成物の表面張力が13〜35、好ましくは15〜30程度となるように、含フッ素界面活性剤(A)を含有させることが好ましいことがわかる。
さらに、含フッ素界面活性剤(A)を含有させず、ドデシルベンゼンスルホン酸を配合した比較例6〜8では、組成物水溶液の保存安定性が悪い傾向がある。なお、比較例8の膜外観評価における「スジムラ*」は、スジムラの発生はあるが他の例より少ないレベルであった。
なお、2007年2月22日に出願された日本特許出願2007−042418号の明細書、特許請求の範囲及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
Claims (8)
- 下記一般式(I)で表わされる化合物(A1)を含む含フッ素界面活性剤(A)と、水溶性ポリマー(B)と、水性媒体(C)を含有することを特徴とする反射防止コーティング用組成物。
R1−O−(R2−O)n−R3−X1 …(I)
(式中、R1は末端のフッ素原子が水素原子または塩素原子で置換されていてもよい、直鎖状または分岐状のパーフルオロアルキル基を示し、R2及びR3はそれぞれ独立に、直鎖状または分岐状のパーフルオロアルキレン基を示し、R1、R2及びR3の炭素数の合計が5以下であり、nは0または1以上の整数を示し、X1は塩を形成していてもよい、−COOHまたは−C(CF2Z1)(CF2Z2)OHである。Z1およびZ2はそれぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子またはトリフルオロメチル基である。) - 前記含フッ素界面活性剤(A1)が、下記一般式(III)で表される化合物(A11)である請求項1に記載の反射防止コーティング用組成物。
M1CF2CF2O(CF2CF2O)pCF2COOA1 …(III)
(式中、M1はフッ素原子、水素原子または塩素原子を示し、A1は水素原子、アルカリ金属、NH4、有機アミンから誘導される一価基、または第四級アンモニウム基を示し、pは0または1である。) - さらに有機アミン(D)を含む請求項1〜4のいずれか一項に記載の反射防止コーティング用組成物。
- 含フッ素界面活性剤(A)の含有割合が、0.001〜10質量%である請求項1〜4のいずれか一項に記載の反射防止コーティング用組成物。
- 水溶性ポリマー(B)の含有割合が、0.1〜20質量%である請求項1〜5のいずれか一項に記載の反射防止コーティング用組成物。
- 水性媒体(C)の含有割合が、70〜99.9質量%である請求項1〜6のいずれか一項に記載の反射防止コーティング用組成物。
- 水溶性ポリマー(B)の質量平均分子量(ゲルパーミネーションクロマトグラフィー法によるPMMA換算)が、1000以上、50000以下である請求項1〜7のいずれか一項に記載の反射防止コーティング用組成物。
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