JPWO2008084645A1 - 印刷版材料 - Google Patents
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Abstract
本発明は、高感度で、良好な機上現像性を維持しつつ、耐刷性、保存性安定性に優れるCTP方式用の印刷版材料を提供する。この基材上に画像形成層を有する印刷版材料は、該画像形成層が下記(A1)または(A2)を含有することを特徴とする。(A1)カルボキシル基を有する重合性モノマーとアマイド基を有する重合性モノマーとを用いて乳化重合により形成された、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマー粒子、(A2)乳化重合により形成されたコアシェル構造を有するポリマー粒子であって、該ポリマー粒子のシェルが、カルボキシル基を有する重合性モノマーとアマイド基を有する重合性モノマーとを用いて重合され、かつガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマーからなるポリマー粒子
Description
本発明は印刷版材料に関し、特にコンピューター・トゥー・プレート(以下CTPと称す)方式に用いられる印刷版材料に関する。
現在、印刷の分野においては、印刷画像データのデジタル化に伴い、CTP方式による印刷が行われるようになってきているが、この印刷においては、安価で取り扱いが容易で従来の所謂PS版と同等の印刷適性を有したCTP方式用印刷版材料が求められている。
特に近年、特別な薬剤による現像処理が不要であるダイレクトイメージング(以下DIと称す)性能を有し、この機能を備えた印刷機に適用可能であり、またPS版と同等の使い勝手を有するものとして、汎用タイプのプロセスレスプレートが求められている。
サーマルプロセスレスプレートの画像形成に主として用いられるのは近赤外〜赤外線の波長を有する赤外線レーザー記録方式である。この方式で画像形成可能なサーマルプロセスレスプレートには、大きく分けて、アブレーションタイプと熱融着画像層機上現像タイプが存在する。
アブレーションタイプとしては、例えば、特開平8−507727号、同6−186750号、同6−199064号、同7−314934号、同10−58636号、同10−244773号に記載されているものが挙げられる。
これらは、例えば、基材上に親水性層と親油性層とをいずれかの層を表層として積層したものである。表層が親水性層であれば、画像様に露光し、親水性層をアブレートさせて画像様に除去して親油性層を露出することで画像部を形成することができる。ただし、アブレートした表層の飛散物による露光装置内部の汚染が問題となるため、露光装置には特別な吸引装置が必要となる場合があり、露光装置に対する汎用性は低い。
一方、アブレーションを生じることなく画像形成が可能であり、かつ特別な現像液による現像処理や拭き取り処理の不要な印刷版材料の開発も進められている。たとえば、特許2938397号や特許2938397号に開示されているような、感熱画像形成層に熱可塑性微粒子と水溶性高分子化合物の結合剤とを用いた、印刷機上で湿し水またはインクを用いて現像することが可能なCTP用印刷版材料が挙げられる。
上記印刷版材料は、赤外線レーザー露光で赤外線吸収剤が発生する熱により、画像形成層中の熱可塑性微粒子が基材表面や熱可塑性微粒子同士と融着する。これによって画像形成層の未露光部よりも露光部の耐水性や剥離強度が向上し、印刷機上での除去性に差が生じることで画像形成を行うものである
このような、熱融着タイプの印刷版材料においては、熱可塑性微粒子としては、一般にスチレンやアクリルを重合させたポリマー微粒子が用いられる。ポリマー微粒子の平均粒子径の低減が感度向上の方向であり、平均粒子径は150nm未満の領域で用いられることが多いが、一方で、粒子径が小さくなるほど機上現像性が劣化する傾向がある。機上現像性を向上させる方法の一つとして、画像形成層中の水溶性高分子化合物の比率を上げることが挙げられるが、水溶性高分子化合物の比率を上げると耐刷性が大きく劣化する懸念がある。また、印刷版材料の作製した直後は、感度、耐刷性のバランスがとれた状態でも、高温、もしくは、高湿の環境に置かれた場合に機上現像性は大きく劣化するという問題がある。
このような、熱融着タイプの印刷版材料においては、熱可塑性微粒子としては、一般にスチレンやアクリルを重合させたポリマー微粒子が用いられる。ポリマー微粒子の平均粒子径の低減が感度向上の方向であり、平均粒子径は150nm未満の領域で用いられることが多いが、一方で、粒子径が小さくなるほど機上現像性が劣化する傾向がある。機上現像性を向上させる方法の一つとして、画像形成層中の水溶性高分子化合物の比率を上げることが挙げられるが、水溶性高分子化合物の比率を上げると耐刷性が大きく劣化する懸念がある。また、印刷版材料の作製した直後は、感度、耐刷性のバランスがとれた状態でも、高温、もしくは、高湿の環境に置かれた場合に機上現像性は大きく劣化するという問題がある。
これらの問題を解決するために、ポリマー微粒子がアミド、ウレタン、メタクリロニトリル、クロトノニトリル、ビニリデンシアナイド、イソシトシン、ピロリドン、ピペラジン、シアノメチル、シアノエチル、シアノプロピル、シアノアリール等々からなる群から選択される構造化合基を含む(N原子を含む)ことを特徴とし、かつ、ポリマー微粒子の平均粒子径を小さくすることで耐刷性を向上させる印刷版材料・印刷システムが提案されている(特許文献1参照)。
しかしながら、このような印刷版材料においても、まだ耐刷性向上は不十分であり、機上現像性が不十分な場合があり、特に高温・高湿環境下での保存による機上現像性の劣化が著しいという問題を有していた。
また、耐刷性を向上させる別の方法として、画像形成層中の水溶性高分子化合物の官能基を架橋しうる架橋剤を画像形成層中に含有させる方法が提案されている(特許文献2参照)。
しかしながら、水溶性高分子を架橋させるには多大のエネルギーを要するため、低感度となることは避けられない。感度向上のために架橋反応を促進する素材を含有させると保存性が劣化する等の問題を有している。
さらに、ポリマー微粒子が、他のポリマー微粒子中に存在する官能基もしくは感熱層中の他成分中に存在する官能基と反応しうる官能基を有することを特徴とする印刷版材料が、提案されている(特許文献3参照)。
しかしながら、この印刷版材料においては、感度がまだ不充分であり、実用的な露光エネルギーにおいては耐刷性向上が十分でないという問題を有している。
このように、熱融着タイプの印刷版材料においては、機上現像性、感度、耐刷性、耐熱・耐湿保存性等の性能を同時に満足させることは困難であった。
特開2002−251005号公報
特開平9−171250号公報
特開2001−260554号公報
本発明の目的は、高感度で、良好な機上現像性を維持しつつ、耐刷性、保存性安定性に優れるCTP方式用の印刷版材料を提供することにある。
本発明の上記目的は、下記構成により達成される。
1.基材上に画像形成層を有する印刷版材料において、該画像形成層が下記(A1)または(A2)を含有することを特徴とする印刷版材料。
(A1)カルボキシル基を有する重合性モノマーとアマイド基を有する重合性モノマーとを用いて乳化重合により形成された、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマー粒子
(A2)乳化重合により形成されたコアシェル構造を有するポリマー粒子であって、該ポリマー粒子のシェルが、カルボキシル基を有する重合性モノマーとアマイド基を有する重合性モノマーとを用いて重合され、かつガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマーからなるポリマー粒子
2.前記ポリマー粒子の平均粒子径が30nm以上、120nm未満であることを特徴とする前記1に記載の印刷版材料。
(A1)カルボキシル基を有する重合性モノマーとアマイド基を有する重合性モノマーとを用いて乳化重合により形成された、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマー粒子
(A2)乳化重合により形成されたコアシェル構造を有するポリマー粒子であって、該ポリマー粒子のシェルが、カルボキシル基を有する重合性モノマーとアマイド基を有する重合性モノマーとを用いて重合され、かつガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマーからなるポリマー粒子
2.前記ポリマー粒子の平均粒子径が30nm以上、120nm未満であることを特徴とする前記1に記載の印刷版材料。
3.前記ポリマー粒子が表面にカルボニル基を有し、さらに前記画像形成層が、(B)ポリヒドラジド化合物を含有することを特徴とする前記1または2に記載の印刷版材料。
4.前記(A1)および(A2)のポリマー粒子が、実質的にスチレンを重合単位として有しないことを特徴とする前記1〜3のいずれか1項に記載の印刷版材料。
5.基材上に、該基材側から順に下塗層と画像形成層とを有する印刷版材料において、該画像形成層が下記(A3)または(A4)を含有し、かつ、下塗層が下記(B)を含有することを特徴とする印刷版材料。
(A3)カルボニル基を有するモノマーを用いて乳化重合により形成された、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマー粒子
(A4)乳化重合により形成されたコアシェル構造を有するポリマー粒子であって、シェルがカルボニル基を有するモノマーを用いて重合され、かつシェルが、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマーからなるポリマー粒子
(B)ポリヒドラジド化合物
6.前記下塗層が親水性層であることを特徴とする前記5に記載の印刷版材料。
(A3)カルボニル基を有するモノマーを用いて乳化重合により形成された、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマー粒子
(A4)乳化重合により形成されたコアシェル構造を有するポリマー粒子であって、シェルがカルボニル基を有するモノマーを用いて重合され、かつシェルが、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマーからなるポリマー粒子
(B)ポリヒドラジド化合物
6.前記下塗層が親水性層であることを特徴とする前記5に記載の印刷版材料。
7.前記(B)ポリヒドラジド化合物が水溶性であることを特徴とする前記5または6に記載の印刷版材料。
8.前記ポリマー粒子が表面にカルボキシル基およびアマイド基の少なくとも1つの基を有することを特徴とする前記5〜7のいずれか1項に記載の印刷版材料。
9.前記(A3)および(A4)のポリマー粒子が、実質的にスチレンを重合単位として有しないことを特徴とする前記5〜8のいずれか1項に記載の印刷版材料。
10.基材上に、該基材側から順に画像形成層とオーバーコート層とを有する印刷版材料において、該画像形成層が下記(A3)または(A4)を含有し、かつオーバーコート層が(B)を含有することを特徴とする印刷版材料。
(A3)カルボニル基を有するモノマーを用いて乳化重合により形成された、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマー粒子
(A4)乳化重合により形成されたコアシェル構造を有するポリマー粒子であって、シェルがカルボニル基を有するモノマーを用いて重合され、かつシェルが、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマーからなるポリマー粒子
(B)ポリヒドラジド化合物
11.前記ポリマー粒子が表面にカルボキシル基およびアマイド基の少なくとも1つの基を有することを特徴とする前記10に記載の印刷版材料。
(A3)カルボニル基を有するモノマーを用いて乳化重合により形成された、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマー粒子
(A4)乳化重合により形成されたコアシェル構造を有するポリマー粒子であって、シェルがカルボニル基を有するモノマーを用いて重合され、かつシェルが、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマーからなるポリマー粒子
(B)ポリヒドラジド化合物
11.前記ポリマー粒子が表面にカルボキシル基およびアマイド基の少なくとも1つの基を有することを特徴とする前記10に記載の印刷版材料。
12.前記(A3)および(A4)のポリマー粒子が、実質的にスチレンを重合単位として有しないことを特徴とする前記10または11に記載の印刷版材料。
本発明の上記構成により、高感度で、良好な機上現像性を維持しつつ、耐刷性、保存性安定性に優れる印刷版材料が提供できる。
以下本発明を詳細に説明する。
本発明の印刷版材料は、基材上に画像形成層を有する印刷版材料において、該画像形成層が下記(A1)または(A2)を含有することを特徴とする。
(A1)カルボキシル基を有する重合性モノマーとアマイド基を有する重合性モノマーとを用いて乳化重合により形成された、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマー粒子
(A2)乳化重合により形成されたコアシェル構造を有するポリマー粒子であって、該ポリマー粒子のシェルが、カルボキシル基を有する重合性モノマーとアマイド基を有する重合性モノマーとを用いて重合され、かつガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマーからなるポリマー粒子
また、本発明の印刷版材料は、基材上に、該基材側から順に下塗層と画像形成層とを有する印刷版材料において、該画像形成層が下記(A3)または(A4)を含有し、かつ、下塗層が(B)を含有することを特徴とする。
(A3)カルボニル基を有するモノマーを用いて乳化重合により形成された、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマー粒子
(A4)乳化重合により形成されたコアシェル構造を有するポリマー粒子であって、シェルがカルボニル基を有するモノマーを用いて重合され、かつシェルが、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマーからなるポリマー粒子
(B)ポリヒドラジド化合物
さらに、本発明の印刷版材料は、基材上に、該基材側から順に画像形成層とオーバーコート層とを有する印刷版材料において、該画像形成層が下記(A3)または(A4)を含有し、かつオーバーコート層が(B)を含有することを特徴とする。
(A3)カルボニル基を有するモノマーを用いて乳化重合により形成された、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマー粒子
(A4)乳化重合により形成されたコアシェル構造を有するポリマー粒子であって、シェルがカルボニル基を有するモノマーを用いて重合され、かつシェルが、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマーからなるポリマー粒子
(B)ポリヒドラジド化合物
(課題を解決するための手段1)
本発明の上記課題を解決するため手段1に係る画像形成層は、加熱により、画像を形成する層であり、上記(A1)、(A2)のポリマー粒子を含む。
(A1)カルボキシル基を有する重合性モノマーとアマイド基を有する重合性モノマーとを用いて乳化重合により形成された、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマー粒子
(A2)乳化重合により形成されたコアシェル構造を有するポリマー粒子であって、該ポリマー粒子のシェルが、カルボキシル基を有する重合性モノマーとアマイド基を有する重合性モノマーとを用いて重合され、かつガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマーからなるポリマー粒子
また、本発明の印刷版材料は、基材上に、該基材側から順に下塗層と画像形成層とを有する印刷版材料において、該画像形成層が下記(A3)または(A4)を含有し、かつ、下塗層が(B)を含有することを特徴とする。
(A3)カルボニル基を有するモノマーを用いて乳化重合により形成された、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマー粒子
(A4)乳化重合により形成されたコアシェル構造を有するポリマー粒子であって、シェルがカルボニル基を有するモノマーを用いて重合され、かつシェルが、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマーからなるポリマー粒子
(B)ポリヒドラジド化合物
さらに、本発明の印刷版材料は、基材上に、該基材側から順に画像形成層とオーバーコート層とを有する印刷版材料において、該画像形成層が下記(A3)または(A4)を含有し、かつオーバーコート層が(B)を含有することを特徴とする。
(A3)カルボニル基を有するモノマーを用いて乳化重合により形成された、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマー粒子
(A4)乳化重合により形成されたコアシェル構造を有するポリマー粒子であって、シェルがカルボニル基を有するモノマーを用いて重合され、かつシェルが、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマーからなるポリマー粒子
(B)ポリヒドラジド化合物
(課題を解決するための手段1)
本発明の上記課題を解決するため手段1に係る画像形成層は、加熱により、画像を形成する層であり、上記(A1)、(A2)のポリマー粒子を含む。
即ち、カルボキシル基を有する重合性モノマーとアマイド基を有する重合性モノマーとを用いて乳化重合により形成された、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマーを(A1)の粒子として用いるか、または(A2)の粒子のシェルとして用いる。
本発明に係るカルボキシル基を有する重合性モノマーは、カルボキシル基を有する重合性の単量体である。カルボキシル基を有する重合性モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸が挙げられ、これらが好ましく用いられる。カルボキシル基を有する重合性モノマー単位のポリマー粒子に対する含有量としては、粒子全体の1〜15質量%であることが好ましい。
アマイド基を有する重合性モノマーとしては、N−イソプロピルプロペンアマイド、N,N−ジメチルプロペンアマイド、N,N’−メチレンジアクリルアマイド、N−メチロールアクリルアマイド、ダイアセトンアクリルアマイド、ダイアセトンメタクリルアマイド等を挙げることができるがこれに限られるものではない。
本発明においては、特にダイアセトンアクリルアマイド、ダイアセトンメタクリルアマイドを用いることが好ましい。アマイド基を有する重合性モノマー単位のポリマー粒子に対する含有量としては、粒子全体の1〜15質量%であることが好ましい。
ポリマー粒子に用いられる、その他の重合性モノマーとしては、公知のものを用いることができる。たとえば、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、ラウリルアクリレート、ラウリルメタクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、エチレンオキサイド構造を含むモノマー等を好ましく用いることができる。
また、カルボキシル基を有する重合性モノマーとアマイド基を有する重合性モノマーとを用いて乳化重合により形成された、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマーは、モノマー単位としてスチレンを実質的に含まないものが好ましい。ここで実質的に含まないとは、ポリマーに対するスチレンモノマー単位の含有量が5質量%以下であることをいう。
本発明に係るガラス転移点(Tg)は、JISK7121:1987のDSC法に準拠し、5℃/分で昇温させる条件にて測定し得られたDSC曲線から求めた値をいう。
本発明に用いるポリマー粒子は公知の乳化重合法、コアシェル乳化重合法により作製することができる。例えば、特開平7−316242号、同9−43893号、特開2003−201306号に記載されている方法を好ましく用いることができる。
(A1)または(A2)の粒子に用いられるポリマーのガラス転移点(Tg)は70℃以上であることが保存性の面から必要である。Tgは用いるモノマーの組み合わせを適宜調整することで所定の値とすることができる。
本発明に係るTgとしては、70〜150℃が好ましく、特に75〜110℃であることが好ましい。
(A2)のコアシェルポリマー粒子の全体に対するシェルの比率は、機上現像性およびインキ着肉性の面から、15質量%以上、70質量%未満であることが好ましく、25質量%以上、50質量%未満であることがより好ましい。
(A1)および(A2)のポリマー粒子の平均粒子径は、耐刷性、機上現像性の面から30nm以上、120nm未満であることが好ましい。
ここでいう平均粒子径とは、レーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置、または動的散乱式粒子径分布測定装置で測定した粒子径分布より求めたメジアン径のことを示す。レーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置、動的散乱式粒子径分布測定装置としては、例えば、HORIBA社製の測定装置を好ましく用いることができる。
A1またはA2の粒子の画像形成層に対する含有量は、1〜95質量%が好ましく、特に10〜75質量%が好ましい。
上記課題を解決するため手段1または2のさらに好ましい態様として、(A1)および(A2)の粒子が、粒子の表面にカルボニル基を有し、さらに画像形成層が、(B)ポリヒドラジド化合物を含有する態様が挙げられる。
表面にカルボニル基を有するポリマー粒子は、カルボニル基を有する重合性モノマーを用いて重合を行うことで得ることができる。
カルボニル基を有する重合性モノマーとしては、アクロレイン、ダイアセトンアクリルアマイド、ダイアセトンメタクリルアマイド、アセトアセトキシエチルメタクリレート、ホルミルスチロール、4〜7個の炭素原子を有するビニルアルキルケトン(例えば、ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン、ビニルブチルケトン)等を挙げることができるがこれに限られるものではない。
本発明に用いることができるカルボニル基を有する重合性モノマーとしては、アマイド基も併せ持つことから、ダイアセトンアクリルアマイド、ダイアセトンメタクリルアマイドを用いることが好ましい。
ポリヒドラジド化合物は、複数のヒドラジノ基を有する化合物である。ヒドラジド化合物としては、シュウ酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、グルタル酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、クエン酸トリヒドラジド、セバチン酸ジヒドラジド、ドデカン二酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジドなどが挙げられる。
また、2〜4個の炭素原子を有する脂肪族の水溶性ヒドラジン、例えばエチレン−1、2−ジヒドラジン、プロピレン−1,3−ジヒドラジン、ブチレン−1、4−ジヒドラジン等も使用することができ、これら1種または2種以上から選択することができる。
また、特開2002−371069号に記載のトリス(2−ヒドラジノカルボニルエチル)イソシアヌレートも好ましく用いることができる。
ポリヒドラジド化合物は、水溶性であれば水系塗布液にそのまま溶解添加することで用いることができる。非水溶性の場合は、平均粒子径0.1〜数10μmの微粒子状に分散して水系塗布液に添加し用いることもできるし、適宜溶媒に溶解して塗布液に添加し、用いることもできる。
本発明においては、地汚れ抑制の観点から、水溶性ポリヒドラジド化合物を用いることが好ましい。
ポリヒドラジド化合物は、ポリマー粒子中のカルボニル基と反応し、ポリマー粒子間を架橋する。これは、常温でも進行する反応であると考えられるが、常温ではポリマー粒子間は点接触であるため、架橋されていたとしてもその強度は低く、機上現像が可能なレベルである。しかし、例えば赤外線レーザー露光によって画像様に加熱されると、ポリマー粒子同士は融着して粒子間の接触面積が増大し、これにともなってポリマー粒子間のポリヒドラジド化合物による架橋密度も増大し、画像部の強度が増大して、機上現像時に除去されない強固な画像部を形成すると考えられる。
ポリヒドラジド化合物の含有量としては、画像形成層に対して0.1〜30質量%が好ましく、特に1〜15質量%が好ましい。
またポリヒドラジド化合物と、A1およびA2の粒子の割合(ポリヒドラジド化合物/A1およびA2の粒子の割合(質量比))は0.1/99.9〜50/50が好ましい。
(課題を解決するため手段5)
((A3)、(A4)の粒子)
本発明の上記課題を解決するため手段5に係る画像形成層は、加熱により、画像を形成する層であり、上記(A3)または(A4)のポリマー粒子を含む。
((A3)、(A4)の粒子)
本発明の上記課題を解決するため手段5に係る画像形成層は、加熱により、画像を形成する層であり、上記(A3)または(A4)のポリマー粒子を含む。
即ち、カルボニル基を有するモノマーを用いて乳化重合により形成された、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマーを(A3)の粒子として用いるか、または(A4)の粒子のシェルとして用いる。
カルボニル基を有するポリマーを用いたA3、A4の粒子は、カルボニル基を有する重合性モノマーを用いて重合を行うことで得ることができる。
カルボニル基を有する重合性モノマーとしては、アクロレイン、ダイアセトンアクリルアマイド、ダイアセトンメタクリルアマイド、アセトアセトキシエチルメタクリレート、ホルミルスチロール、4〜7個の炭素原子を有するビニルアルキルケトン(例えば、ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン、ビニルブチルケトン)等を挙げることができるがこれに限られるものではない。
本発明に用いるカルボニル基を有する重合性モノマーとしては、アマイド基も併せ持つダイアセトンアクリルアマイド、ダイアセトンメタクリルアマイドを用いることが好ましい。
A3またはA4の粒子としては、表面にカルボキシル基またはアマイド基を有する粒子であることが好ましい態様である。
表面にカルボキシル基またはアマイド基を有する粒子とするには、カルボキシル基を有する重合性モノマーまたは、アマイド基を有する重合性モノマーを用いて、カルボニル基を有するポリマーを合成することにより得られる。
カルボキシル基を有する重合性モノマーおよびアマイド基を有する重合性モノマーとしては、前記課題を解決するため手段1に用いたモノマーと同様のものを用いることができる。
上記課題を解決するため手段5に用いられるポリヒドラジド化合物は、前記課題を解決するため手段3に用いられる上記ポリヒドラジド化合物と同様のものを用いることができ、水溶性のポリヒドラジド化合物であることが好ましい態様である。
ポリヒドラジド化合物の含有量としては、画像形成層に対して0.1〜30質量%が好ましく、特に1〜15質量%が好ましい。
またポリヒドラジド化合物と、A3およびA4の粒子の割合(ポリヒドラジド化合物/A3およびA4の粒子の割合(質量比))は0.1/99.9〜50/50が好ましい。
上記構成5の下塗層は、基材と画像形成層の間に有る層であり、親水性層であることが好ましい。親水性層とは、印刷時非画像部となり得る層であり、水保持性を有する層である。
親水性層は、親水性素材を含む。親水性素材としては、水溶性ポリヒドラジド化合物、水溶性高分子樹脂などが挙げられる。親水性層は、親水性素材からなる層であってもよく、親水性素材とコロイダルシリカ、珪酸塩などの無機バインダーとの混合物からなる層であってもよい。
親水性素材としては、水溶性ポリヒドラジド化合物、ホスホベタイン化合物などが好ましく用いられる。
ホスホベタイン化合物は、アニオン基であるホスホン基とカチオン基を分子中に有する化合物であり、例えば、下記化合物を構成単位として含む重合体などが好ましく用いられる。
下塗層の付量としては、0.001〜10g/m2が好ましく、0.01〜5g/m2が特に好ましい。
(課題を解決するため手段10)
本発明の上記課題を解決するため手段10に係る画像形成層は、加熱により、画像を形成する層であり、上記(A3)または(A4)のポリマー粒子を含む。
本発明の上記課題を解決するため手段10に係る画像形成層は、加熱により、画像を形成する層であり、上記(A3)または(A4)のポリマー粒子を含む。
即ち、カルボニル基を有するモノマーを用いて乳化重合により形成された、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマーを(A3)の粒子として用いるか、または(A4)の粒子のシェルとして用いる。
カルボニル基を有するポリマーを用いたA3、A4の粒子は、カルボニル基を有する重合性モノマーを用いて重合を行うことで得ることができる。
カルボニル基を有する重合性モノマーとしては、アクロレイン、ダイアセトンアクリルアマイド、ダイアセトンメタクリルアマイド、アセトアセトキシエチルメタクリレート、ホルミルスチロール、4〜7個の炭素原子を有するビニルアルキルケトン(例えば、ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン、ビニルブチルケトン)等を挙げることができるがこれに限られるものではない。
本発明に用いるカルボニル基を有する重合性モノマーとしては、アマイド基も併せ持つダイアセトンアクリルアマイド、ダイアセトンメタクリルアマイドを用いることが好ましい。
A3またはA4の粒子としては、表面にカルボキシル基またはアマイド基を有する粒子であることが好ましい態様である。
表面にカルボキシル基またはアマイド基を有する粒子とするには、カルボキシル基を有する重合性モノマーまたは、アマイド基を有する重合性モノマーを用いて、カルボニル基を有するポリマーを合成することにより得られる。
カルボキシル基を有する重合性モノマーおよびアマイド基を有する重合性モノマーとしては、前記課題を解決するため手段1に用いたモノマーと同様のものを用いることができる。
上記課題を解決するため手段10に用いられるポリヒドラジド化合物は、前記課題を解決するため手段3に用いられる上記ポリヒドラジド化合物と同様のものを用いることができ、水溶性のポリヒドラジド化合物であることが好ましい態様である。
ポリヒドラジド化合物の含有量としては、オーバーコート層に対して1〜100質量%が好ましく、特に10〜100質量%が好ましい。
またポリヒドラジド化合物と、A3およびA4の粒子の割合(ポリヒドラジド化合物/A3およびA4の粒子の割合(質量比))は0.1/99.9〜50/50が好ましい。
上記課題を解決するため手段10のオーバーコート層は、画像形成層上に在る層であり、水溶性もしくは水膨潤性であることが好ましい。上記課題を解決するため手段10のオーバーコート層は、未露光部が印刷時に湿し水およびまたはインキにより除去される(機上現像される)層である。
オーバーコート層には、ポリヒドラジド化合物以外に、水溶性樹脂(ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸塩、多糖類等)や、水膨潤性の層状粘土鉱物等を含有させることができる。
オーバーコート層の付量としては、0.001〜3g/m2が好ましく、0.1〜1g/m2が特に好ましい。
本発明に係る画像形成層は、本発明に係る上記粒子の他に、熱可塑性物質を含むことが好ましい。またさらに光熱変換剤、水溶性塩、pH調整剤、界面活性剤などを含むことが好ましい。
画像形成層は熱可塑性化合物を熱可塑性粒子として、粒子の形態で含むのが好ましい。
熱溶融性素材あるいは熱融着性素材を熱溶融性粒子あるいは熱融着性粒子として粒子の状態で、本発明の粒子と併用して用いるのが好ましい。
上記熱溶融性粒子は、熱可塑性素材の中でも特に溶融した際の粘度が低く、一般的にワックスとして分類される素材で形成された粒子である。物性としては、軟化点40℃以上120℃以下、融点60℃以上150℃以下であることが好ましく、軟化点40℃以上100℃以下、融点60℃以上120℃以下であることが更に好ましい。融点が60℃未満では保存性が問題であり、融点が300℃よりも高い場合はインク着肉感度が低下する。
使用可能な素材としては、パラフィン、ポリオレフィン、ポリエチレンワックス、マイクロクリスタリンワックス、脂肪酸系ワックス等が挙げられる。これらは分子量800から10000程度のものである。又、乳化しやすくするためにこれらのワックスを酸化し、水酸基、エステル基、カルボキシル基、アルデヒド基、ペルオキシド基などの極性基を導入することもできる。
更には、軟化点を下げたり作業性を向上させるためにこれらのワックスにステアロアミド、リノレンアミド、ラウリルアミド、ミリステルアミド、硬化牛脂肪酸アミド、パルミトアミド、オレイン酸アミド、米糖脂肪酸アミド、ヤシ脂肪酸アミド又はこれらの脂肪酸アミドのメチロール化物、メチレンビスステラロアミド、エチレンビスステラロアミドなどを添加することも可能である。又、クマロン−インデン樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、アクリル樹脂、アイオノマー、これらの樹脂の共重合体も使用することができる。
これらの中でもポリエチレン、マイクロクリスタリン、脂肪酸エステル、脂肪酸の何れかを含有することが好ましい。これらの素材は融点が比較的低く、溶融粘度も低いため、高感度の画像形成を行うことができる。又、これらの素材は潤滑性を有するため、印刷版材料の表面に剪断力が加えられた際のダメージが低減し、擦りキズ等による印刷汚れ耐性が向上する。
又、熱溶融性粒子は水に分散可能であることが好ましく、その平均粒径は機上現像性、解像度などの面より、0.01〜10μmであることが好ましく、より好ましくは0.1〜3μmである。
又、熱溶融性粒子は内部と表層との組成が連続的に変化していたり、もしくは異なる素材で被覆されていてもよい。
被覆方法は公知のマイクロカプセル形成方法、ゾルゲル法等が使用できる。
本発明の感熱画像形成層は、熱溶融性粒子をマイクロカプセル化して含有するのが好ましい態様である。
層中の熱溶融性粒子の含有量としては、層全体の1〜90質量%が好ましく、5〜80質量%がさらに好ましい。
本発明に用いられる熱融着性粒子としては、熱可塑性疎水性高分子重合体粒子が挙げられ、高分子重合体微粒子の軟化温度に特定の上限はないが、温度は高分子重合体微粒子の分解温度より低いことが好ましい。高分子重合体の重量平均分子量(Mw)は10、000〜1、000、000の範囲であることが好ましい。
高分子重合体微粒子を構成する高分子重合体の具体例としては、例えば、ポリプロピレン、ポリブタジエン、ポリイソプレン、エチレン−ブタジエン共重合体等のジエン(共)重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体等の合成ゴム類、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート−(2−エチルヘキシルアクリレート)共重合体、メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体、メチルアクリレート−(N−メチロールアクリルアミド)共重合体、ポリアクリロニトリル等の(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸(共)重合体、ポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル−プロピオン酸ビニル共重合体、酢酸ビニル−エチレン共重合体等のビニルエステル(共)重合体、酢酸ビニル−(2−エチルヘキシルアクリレート)共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン等及びそれらの共重合体が挙げられる。これらのうち、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸(共)重合体、ビニルエステル(共)重合体、ポリスチレン、合成ゴム類が好ましく用いられる。
高分子重合体微粒子は乳化重合法、懸濁重合法、溶液重合法、気相重合法等、公知の何れの方法で重合された高分子重合体からなるものでもよい。溶液重合法又は気相重合法で重合された高分子重合体を微粒子化する方法としては、高分子重合体の有機溶媒に溶解液を不活性ガス中に噴霧、乾燥して微粒子化する方法、高分子重合体を水に非混和性の有機溶媒に溶解し、この溶液を水又は水性媒体に分散、有機溶媒を留去して微粒子化する方法等が挙げられる。又、何れの方法においても、必要に応じ重合あるいは微粒子化の際に分散剤、安定剤として、ラウリル硫酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリエチレングリコール等の界面活性剤やポリビニルアルコール等の水溶性樹脂を用いてもよい。
又、熱融着性粒子は水に分散可能であることが好ましく、その平均粒径は機上現像性、解像度などの面から0.01〜10μmであることが好ましく、より好ましくは0.1〜3μmである。
又、熱融着性粒子は内部と表層との組成が連続的に変化していたり、もしくは異なる素材で被覆されていてもよい。
被覆方法は公知のマイクロカプセル形成方法、ゾルゲル法等が使用できる。
本発明の感熱画像形成層は、熱融着性粒子をマイクロカプセル化して含有するのが特に好ましい態様である。
マイクロカプセルとしては、例えば特開2002−2135号や特開2002−19317号に記載されている疎水性素材を内包するマイクロカプセルを挙げることができる。
マイクロカプセルは平均径で0.1〜10μmであることが好ましく、0.3〜5μmであることがより好ましく、0.5〜3μmであることがさらに好ましい。
マイクロカプセルの壁の厚さは径の1/100〜1/5であることが好ましく、1/50〜1/10であることがより好ましい。
マイクロカプセルの含有量は感熱画像形成層全体の5〜100質量%であり、20〜95質量%であることが好ましく、40〜90質量%であることがさらに好ましい。
マイクロカプセルの壁材となる素材、およびマイクロカプセルの製造方法は公知の素材および方法を用いることができる。たとえば、「新版マイクロカプセルその製法・性質・応用」(近藤保、小石真純著/三共出版株式会社発行)に記載されているか、引用されている文献に記載されている公知の素材および方法を用いることができる。
光熱変換剤は、露光光を熱に変換し画像形成層に画像を形成し得る素材であり、光熱変換剤としては下記のような色素、顔料を挙げることができる。
色素としては、一般的な赤外吸収色素であるシアニン系色素、クロコニウム系色素、ポリメチン系色素、アズレニウム系色素、スクワリウム系色素、チオピリリウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素などの有機化合物、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、アゾ系、チオアミド系、ジチオール系、インドアニリン系の有機金属錯体などが挙げられる。具体的には、特開昭63−139191号、同64−33547号、特開平1−160683号、同1−280750号、同1−293342号、同2−2074号、同3−26593号、同3−30991号、同3−34891号、同3−36093号、同3−36094号、同3−36095号、同3−42281号、同3−97589号、同3−103476号等に記載の化合物が挙げられる。これらは一種又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
また、特開平11−240270号、同11−265062号、特開2000−309174号、同2002−49147号、同2001−162965号、同2002−144750号、同2001−219667号に記載の化合物も好ましく用いることができる。
顔料としては、カーボン、グラファイト、金属、金属酸化物等が挙げられる。
カーボンとしては特にファーネスブラックやアセチレンブラックの使用が好ましい。粒度(d50)は100nm以下であることが好ましく、50nm以下であることが更に好ましい。
グラファイトとしては粒径が0.5μm以下、好ましくは100nm以下、更に好ましくは50nm以下の微粒子を使用することができる。
金属としては粒径が0.5μm以下、好ましくは100nm以下、更に好ましくは50nm以下の微粒子であれば何れの金属であっても使用することができる。形状としては球状、片状、針状等何れの形状でも良い。特にコロイド状金属微粒子(Ag、Au等)が好ましい。
金属酸化物としては、可視光域で黒色を呈している素材、または素材自体が導電性を有するか、半導体であるような素材を使用することができる。
本発明に係る画像形成層は水溶性化合物を含有することが好ましい態様である。
水溶性化合物は、25℃の水100gに0.1g以上溶解する化合物をいい、好ましくは25℃の水100gに1g以上溶解する化合物である。
画像形成層中の水溶性化合物の含有量は画像形成層に対して、機上現像性の面から1〜40質量%であり、5〜30質量%であることが好ましく、10〜25質量%であることがより好ましい。
水溶性化合物の具体例としては、下記を挙げることができるが、これに限られるものではない。
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンモノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、テトラエチルアンモニウムブロミド等の4級アンモニウム塩、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩、リン酸塩(リン酸三Na、リン酸水素二Na、リン酸二水素Na、リン酸グアニジン)、炭酸塩(炭酸Na、炭酸グアニジン)、その他水溶性の有機塩、無機塩。糖類(単糖、オリゴ糖等)、多糖類、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール(PEG)、ポリビニルエーテル、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸塩、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリスチレンスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸塩等の水溶性ポリマーが挙げられる。また、スチレン−ブタジエン共重合体ラテックス、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体の共役ジエン系重合体ラテックス、アクリル系重合体ラテックス、ビニル系重合体ラテックス等の水分散性ラテックスを挙げることができる
また画像形成層は、pH調整のための酸(リン酸、酢酸等)またはアルカリ(水酸化ナトリウム、ケイ酸塩、リン酸塩等)を含有していても良い。
また画像形成層は、pH調整のための酸(リン酸、酢酸等)またはアルカリ(水酸化ナトリウム、ケイ酸塩、リン酸塩等)を含有していても良い。
画像形成層の付き量としては、0.01〜5g/m2であり、好ましくは0.1〜3g/m2であり、さらに好ましくは0.2〜2g/m2である。
本発明に係る画像形成層は、機上現像可能な画像形成層であることが好ましい態様である。
機上現像可能な画像形成層とは、画像露光後特に現像工程を経ることなく、印刷工程に供した時点で、即ち印刷準備段階で湿し水、または湿し水と印刷インクにより、印刷時に非画像部となる部分の画像形成層が除去されて、印刷可能な画像が形成され得る画像形成層のことをいう。
(基材)
本発明に係る基材としては、印刷版の基板として使用される公知の材料を使用することができ、例えば、金属板、プラスチックフィルム、ポリオレフィン等で処理された紙、上記材料を適宜貼り合わせた複合基材等が挙げられる。
本発明に係る基材としては、印刷版の基板として使用される公知の材料を使用することができ、例えば、金属板、プラスチックフィルム、ポリオレフィン等で処理された紙、上記材料を適宜貼り合わせた複合基材等が挙げられる。
基材の厚さとしては、印刷機に取り付け可能であれば特に制限されるものではないが、50〜500μmのものが一般的に取り扱いやすい。
本発明に係る基材としては、基材表面を親水化処理した金属板が好ましく用いられる。
金属板としては、鉄、ステンレス、アルミニウム等が挙げられるが、本発明においては、比重と剛性との関係から、特にアルミニウムまたはアルミニウム合金(以下両者含めてアルミニウム板と称する)が好ましく、加えて、公知の粗面化処理、陽極酸化処理、表面親水化処理のいずれかの処理がなされたもの(所謂アルミ砂目板)がより好ましい。
本発明に係る基材として用いるアルミニウム合金としては、種々のものが使用でき、例えば、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いられる。
本発明に係る基材として用いられるアルミニウム板は、粗面化(砂目立て処理)するに先立って表面の圧延油を除去するために脱脂処理を施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、トリエタノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処理等が用いられる。又、脱脂処理には、苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去することができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、基材の表面にはスマットが生成するので、この場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、或いはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理を施すことが好ましい。粗面化の方法としては、例えば、機械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。
用いられる機械的粗面化法は特に限定されるものではないが、ブラシ研磨法、ホーニング研磨法が好ましい。ブラシ研磨法による粗面化は、例えば、直径0.2〜0.8mmのブラシ毛を使用した回転ブラシを回転し、基材表面に、例えば、粒径10〜100μmの火山灰の粒子を水に均一に分散させたスラリーを供給しながら、ブラシを押し付けて行うことができる。ホーニング研磨による粗面化は、例えば、粒径10〜100μmの火山灰の粒子を水に均一に分散させ、ノズルより圧力をかけ射出し、基材表面に斜めから衝突させて粗面化を行うことができる。又、例えば、基材表面に、粒径10〜100μmの研磨剤粒子を、100〜200μmの間隔で、2.5×103〜10×103個/cm2の密度で存在するように塗布したシートを張り合わせ、圧力をかけてシートの粗面パターンを転写することにより粗面化を行うこともできる。
上記の機械的粗面化法で粗面化した後、基材の表面に食い込んだ研磨剤、形成されたアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でも、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、0.5〜5g/m2が好ましい。アルカリ水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
電気化学的粗面化法も特に限定されるものではないが、酸性電解液中で電気化学的に粗面化を行う方法が好ましい。酸性電解液は、電気化学的粗面化法に通常用いられる酸性電解液を使用することができるが、塩酸系または硝酸系電解液を用いるのが好ましい。電気化学的粗面化方法については、例えば、特公昭48−28123号公報、英国特許第896,563号公報、特開昭53−67507号公報に記載されている方法を用いることができる。この粗面化法は、一般には、1〜50ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、10〜30ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2の範囲を用いることが出来るが、50〜150A/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100〜5000C/dm2の範囲を用いることができるが、100〜2000C/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。この粗面化法を行う温度は、10〜50℃の範囲を用いることが出来るが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。
電解液として硝酸系電解液を用いて電気化学的粗面化を行う場合、一般には、1〜50ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、10〜30ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2の範囲を用いることができるが、20〜100A/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100〜5000C/dm2の範囲を用いることができるが、100〜2000C/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は、10〜50℃の範囲を用いることができるが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液における硝酸濃度は0.1〜5質量%が好ましい。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう酸等を加えることができる。
電解液として塩酸系電解液を用いる場合、一般には、1〜50ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、2〜30ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2の範囲を用いることができるが、50〜150A/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100〜5000C/dm2の範囲を用いることができるが、100〜2000C/dm2、更には200〜1000C/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は、10〜50℃の範囲を用いることができるが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液における塩酸濃度は0.1〜5質量%が好ましい。
上記の電気化学的粗面化法で粗面化した後、表面のアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。
これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、0.5〜5g/m2が好ましい。又、アルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
機械的粗面化処理法、電気化学的粗面化法はそれぞれ単独で用いて粗面化してもよいし、又、機械的粗面化処理法に次いで電気化学的粗面化法を行って粗面化してもよい。
粗面化処理の次には、陽極酸化処理を行うことが好ましい。本発明において用いることができる陽極酸化処理の方法には特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。陽極酸化処理を行うことにより、基材上には酸化皮膜が形成される。該陽極酸化処理には、硫酸及び/又は燐酸等を10〜50%の濃度で含む水溶液を電解液として、電流密度1〜10A/dm2で電解する方法が好ましく用いられるが、他に、米国特許第1,412,768号公報に記載されている硫酸中で高電流密度で電解する方法や、米国特許第3,511,661号公報に記載されている燐酸を用いて電解する方法、クロム酸、シュウ酸、マロン酸等を一種又は二種以上含む溶液を用いる方法等が挙げられる。形成された陽極酸化被覆量は、1〜50mg/dm2が適当であり、好ましくは10〜40mg/dm2である。陽極酸化被覆量は、例えばアルミニウム板を燐酸クロム酸溶液(燐酸85%液:35ml、酸化クロム(IV):20gを1Lの水に溶解して作製)に浸積し、酸化被膜を溶解し、板の被覆溶解前後の質量変化測定等から求められる。
陽極酸化処理された基材は、必要に応じ封孔処理を施してもよい。これら封孔処理は、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処理等公知の方法を用いて行うことができる。
更に、これらの処理を行った後に、前述の下塗層を設ける処理として、水溶性の樹脂、例えば、上記のホスホノベタイン化合物、ポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩(例えばホウ酸亜鉛)もしくは、黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。
基材として用いられるプラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、セルロースエステル類等のフィルムを挙げることができる。
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、実施例における「部」は、特に断りない限り「質量部」を表す。また表中単位記載のない数値は質量部を示す。
(基材の作製)
以下のようにして基材を作製した。
以下のようにして基材を作製した。
[支持体1]
厚さ0.24mmのアルミニウム板(材質1050、調質H16)を、50℃の1質量%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、溶解量が2g/m2になるように溶解処理を行ない水洗した後、25℃の5質量%硝酸水溶液中に30秒間浸漬し、中和処理した後水洗した。
厚さ0.24mmのアルミニウム板(材質1050、調質H16)を、50℃の1質量%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、溶解量が2g/m2になるように溶解処理を行ない水洗した後、25℃の5質量%硝酸水溶液中に30秒間浸漬し、中和処理した後水洗した。
次いでこのアルミニウム板を、塩酸11g/L、酢酸10g/L、アルミ8g/Lを含有する電解液により、正弦波の交流を用いて、ピーク電流密度が80A/dm2の条件で電解粗面化処理を行った。この際の電極と試料表面との距離は10mmとした。電解粗面化処理は、8回に分割して行ない、一回の処理電気量(陽極時)を40C/dm2、合計の処理電気量(陽極時)を320C/dm2とした。また、各回の処理の間に3秒間の休止時間を設けた。
電解粗面化後は、50℃に保たれた10質量%リン酸水溶液中に浸漬して、粗面化された面のスマット含めた溶解量が0.65g/m2になるようにエッチングし、水洗した。
次いで、20%硫酸水溶液中で、5A/dm2の電流密度で付量2.5g/m2の陽極酸化皮膜を形成させる条件で陽極酸化処理を行ない、さらに水洗した。
次いで、水洗後の表面水をスクイーズした後、50℃に保たれた、SiO2成分として0.5質量%のリチウムシリケート(LSS45、日産化学社製)水溶液に15秒間浸漬し、水洗を行った後に80℃で5分間乾燥し、支持体を得た。
下記の方法により、基材の表面形状パラメータRa値を求めた。Ra値は0.38μmであった。
試料表面に白金ロジウムを1.5nmの厚さで蒸着した後、WYKO社製の非接触三次元粗さ測定装置:RST plusを用いて、40倍の条件(111.2μm×149.7μmの測定範囲で、測定点は236×368、解像度は約0.5μm)で測定し、傾き補正およびMedian Smoothingのフィルターをかけて測定データを処理してノイズを取り除いた後、Ra値を求めた。測定は測定箇所を変えて5回行ない、その平均を求めた。
[基材2]
基材1の表面に下記の下塗層塗布液Aを、乾燥付量が20mg/m2となるようにワイヤーバーを用いて塗布し、100℃で1分間乾燥して、下塗層を有する基材2を得た。
基材1の表面に下記の下塗層塗布液Aを、乾燥付量が20mg/m2となるようにワイヤーバーを用いて塗布し、100℃で1分間乾燥して、下塗層を有する基材2を得た。
下塗層塗布液A
下記のホスホベタイン化合物[1] 0.30質量部
純水 99.70質量部
下記のホスホベタイン化合物[1] 0.30質量部
純水 99.70質量部
(ポリマー粒子の作製)
ポリマー粒子1
2リットルの4つ口フラスコに脱イオン水312質量部、Newcol707SF(日本乳化剤製、固形分30質量%)2.3質量部を加え、窒素置換後、80℃に保ち、下記組成のプレエマルジョンを滴下する直前に0.7質量部の過硫酸アンモニウムを加え、プレエマルジョンを3時間にわたって滴下した。
ポリマー粒子1
2リットルの4つ口フラスコに脱イオン水312質量部、Newcol707SF(日本乳化剤製、固形分30質量%)2.3質量部を加え、窒素置換後、80℃に保ち、下記組成のプレエマルジョンを滴下する直前に0.7質量部の過硫酸アンモニウムを加え、プレエマルジョンを3時間にわたって滴下した。
脱イオン水 350質量部
ダイアセトンアクリルアミド 65質量部
アクリル酸 65質量部
スチレン 98質量部
メチルメタクリレート 370質量部
2−エチルヘキシルアクリレート 52質量部
Newcol707SF(ポリオキシエチレン多環フェニルエーテル界面活性剤)
60質量部
過硫酸アンモニウム 1.2質量部
滴下終了後30分より、30分間0.7質量部の過硫酸アンモニウムを7質量部の脱イオン水に溶かした溶液を滴下し、さらに2時間80℃に保持し、その後約50℃に降温した後、アンモニア水でpHを8〜9の範囲内に調整し、固形分50質量%、平均粒子径100nmのポリマー粒子1のエマルションを得た。ポリマー粒子1のTgは80℃であった。
ダイアセトンアクリルアミド 65質量部
アクリル酸 65質量部
スチレン 98質量部
メチルメタクリレート 370質量部
2−エチルヘキシルアクリレート 52質量部
Newcol707SF(ポリオキシエチレン多環フェニルエーテル界面活性剤)
60質量部
過硫酸アンモニウム 1.2質量部
滴下終了後30分より、30分間0.7質量部の過硫酸アンモニウムを7質量部の脱イオン水に溶かした溶液を滴下し、さらに2時間80℃に保持し、その後約50℃に降温した後、アンモニア水でpHを8〜9の範囲内に調整し、固形分50質量%、平均粒子径100nmのポリマー粒子1のエマルションを得た。ポリマー粒子1のTgは80℃であった。
ポリマー粒子2〜6:(コアシェルタイプ)
特開2000−119618号公報の実施例1の製法にならい、表に示すモノマー組成となるように乳化重合を行った。各ポリマー粒子は固形分30質量%のエマルションとした。また、エマルションの溶媒組成は水:90質量%、IPA(イソプロパノール):10質量%となるよう調製した。
特開2000−119618号公報の実施例1の製法にならい、表に示すモノマー組成となるように乳化重合を行った。各ポリマー粒子は固形分30質量%のエマルションとした。また、エマルションの溶媒組成は水:90質量%、IPA(イソプロパノール):10質量%となるよう調製した。
各ポリマー粒子の平均粒子径、コア/シェルの質量比率、コア部およびシェル部のTgを下記表に示した。
印刷版材料の作製(1)
画像形成層塗布液の調製
下表の各素材を十分に混合攪拌し、ろ過して、固形分濃度5質量%の各画像形成層用塗布液(塗布液1〜7)を調製した。素材の添加順としては、熱可塑性樹脂粒子の水分散液に純水を添加し、次いで、これを攪拌しながら水溶性化合物水溶液を滴下して混合した。
画像形成層塗布液の調製
下表の各素材を十分に混合攪拌し、ろ過して、固形分濃度5質量%の各画像形成層用塗布液(塗布液1〜7)を調製した。素材の添加順としては、熱可塑性樹脂粒子の水分散液に純水を添加し、次いで、これを攪拌しながら水溶性化合物水溶液を滴下して混合した。
印刷版材料1〜7の作製
表3に示すように基材1または基材2の上に、ワイヤーバーを用いて、表3の組み合わせで画像形成層塗布液を塗布し、70℃で1分間乾燥した。画像形成層の乾燥付量は0.6g/m2となるように調製した。
表3に示すように基材1または基材2の上に、ワイヤーバーを用いて、表3の組み合わせで画像形成層塗布液を塗布し、70℃で1分間乾燥した。画像形成層の乾燥付量は0.6g/m2となるように調製した。
画像形成層塗布後の各試料を50℃で24時間エイジング処理して印刷版材料1〜7を得た。
各印刷版材料について、各印刷版材料はエイジング処理後そのまま評価するものと、さらに55℃湿度20%未満の環境下で72時間保存したもの、および、さらに40℃湿度80%の環境下で72時間保存したものとをそれぞれ作製した。
[赤外線レーザーによる露光]
各印刷版材料を露光ドラムに巻付け固定した。露光には波長830nm、スポット径約18μmのレーザービームを用い、2400dpi(dpiとは、2.54cm当たりのドット数を表す)、175線で画像を形成した。露光した画像はベタ画像と1〜99%の網点画像とを含むものである。露光エネルギーは300mJ/cm2とした。
各印刷版材料を露光ドラムに巻付け固定した。露光には波長830nm、スポット径約18μmのレーザービームを用い、2400dpi(dpiとは、2.54cm当たりのドット数を表す)、175線で画像を形成した。露光した画像はベタ画像と1〜99%の網点画像とを含むものである。露光エネルギーは300mJ/cm2とした。
[印刷方法]
印刷機:三菱重工業社製DAIYA1F−1を用いて、コート紙、湿し水:アストロマーク3(日研化学研究所製)2質量%、インキ(東洋インキ社製TKハイユニティMZ紅)を使用して印刷を行った。
印刷機:三菱重工業社製DAIYA1F−1を用いて、コート紙、湿し水:アストロマーク3(日研化学研究所製)2質量%、インキ(東洋インキ社製TKハイユニティMZ紅)を使用して印刷を行った。
露光後の印刷版材料をそのまま版胴に取り付け、PS版と同様の印刷条件および刷り出しシークエンスを用いて500枚の印刷を行った。
[機上現像性評価]
刷り出しから何枚目の印刷物で良好な画像が得られるかを求めた。良好な画像とは、地汚れがなく、90%網点画像の目が開いており、かつ、ベタ画像部の濃度が1.5以上であることとした。コート紙500枚の印刷でも良好な画像が得られなかった場合は、500枚以上とした。結果を表に示した。
刷り出しから何枚目の印刷物で良好な画像が得られるかを求めた。良好な画像とは、地汚れがなく、90%網点画像の目が開いており、かつ、ベタ画像部の濃度が1.5以上であることとした。コート紙500枚の印刷でも良好な画像が得られなかった場合は、500枚以上とした。結果を表に示した。
[こすりキズ跡汚れ防止性評価]
露光後の各印刷版材料の非画像部に、爪およびプラスチック部材を用いてこすり跡キズをつけた。刷り出しから100枚目の印刷物を観察し、こすり跡キズが汚れとして見えるかどうかを評価した。
露光後の各印刷版材料の非画像部に、爪およびプラスチック部材を用いてこすり跡キズをつけた。刷り出しから100枚目の印刷物を観察し、こすり跡キズが汚れとして見えるかどうかを評価した。
評価指標は下記とし、結果を表3に示した。尚、100枚目でも地汚れが残っている場合は、地汚れが解消された印刷枚数の印刷物で評価を行ない、500枚目でも地汚れが残ってこすり跡キズ汚れの程度が判別できなかった場合は、地汚れのため判別不能とした。
○:こすり跡キズが全く見えない
△:こすり跡キズが濃度の薄い汚れとして見える
×:こすり跡キズが濃度の濃い汚れとしてはっきり見える
△:こすり跡キズが濃度の薄い汚れとして見える
×:こすり跡キズが濃度の濃い汚れとしてはっきり見える
表3から本発明の印刷版材料は、機上現像性に優れ、熱保存後にも安定した機上現像性と耐こすりキズ跡汚れ性防止性とを有し保存性安定性に優れていることがわかる。
印刷版材料の作製(2)
画像形成層塗布液の調製
下表の各素材を十分に混合攪拌し、ろ過して、固形分濃度5質量%の各画像形成層用塗布液(塗布液8〜12)を調製した。素材の添加順としては、熱可塑性樹脂粒子の水分散液に純水を添加し、次いで、これを攪拌しながら水溶性化合物水溶液を滴下して混合した。
画像形成層塗布液の調製
下表の各素材を十分に混合攪拌し、ろ過して、固形分濃度5質量%の各画像形成層用塗布液(塗布液8〜12)を調製した。素材の添加順としては、熱可塑性樹脂粒子の水分散液に純水を添加し、次いで、これを攪拌しながら水溶性化合物水溶液を滴下して混合した。
印刷版材料8〜12の作製
表5に示した基材に、ワイヤーバーを用いて、表5の組み合わせで画像形成層塗布液を塗布し、70℃で1分間乾燥した。画像形成層の乾燥付量は0.6g/m2となるように調整した。
表5に示した基材に、ワイヤーバーを用いて、表5の組み合わせで画像形成層塗布液を塗布し、70℃で1分間乾燥した。画像形成層の乾燥付量は0.6g/m2となるように調整した。
画像形成層塗布後の各試料を50℃で24時間エイジング処理して印刷版材料8〜12を得た。
印刷版材料13の作製
印刷版材料2と同様にして、基材2に画像形成層塗布液2を塗布し、乾燥した。
印刷版材料2と同様にして、基材2に画像形成層塗布液2を塗布し、乾燥した。
次いで、画像形成層の上に下記のオーバーコート層1塗布液を、ワイヤーバーを用いて塗布し、70℃で45秒間乾燥した。オーバーコート層の乾燥付量は20mg/m2となるようにした。
これに50℃24時間のエイジング処理を行って、印刷版材料13を得た。
オーバーコート層1塗布液:
トリス(2−ヒドラジノカルボニルエチル)イソシアヌレートの0.3質量%水溶液
印刷版材料14の作製
オーバーコート層1に変えて、下記のオーバーコート層2塗布液を用い、乾燥付量を0.1g/m2とした以外は、印刷版材料13と同様にして、印刷版材料14を得た。
トリス(2−ヒドラジノカルボニルエチル)イソシアヌレートの0.3質量%水溶液
印刷版材料14の作製
オーバーコート層1に変えて、下記のオーバーコート層2塗布液を用い、乾燥付量を0.1g/m2とした以外は、印刷版材料13と同様にして、印刷版材料14を得た。
オーバーコート層2塗布液
ポリマー粒子2とトリス(2−ヒドラジノカルボニルエチル)イソシアヌレートとを固形分で90/10の比率で混合した固形分1質量%の水系塗布液
[赤外線レーザーによる露光]
前述と同様にして行った。
ポリマー粒子2とトリス(2−ヒドラジノカルボニルエチル)イソシアヌレートとを固形分で90/10の比率で混合した固形分1質量%の水系塗布液
[赤外線レーザーによる露光]
前述と同様にして行った。
[印刷方法]
印刷機:三菱重工業社製DAIYA1F−1を用いて、印刷用紙:上質紙(しらおい)、湿し水:アストロマーク3(日研化学研究所製)2質量%、インキ(東洋インキ社製TKハイユニティ ネオMZ紅)を使用して印刷を行った。
印刷機:三菱重工業社製DAIYA1F−1を用いて、印刷用紙:上質紙(しらおい)、湿し水:アストロマーク3(日研化学研究所製)2質量%、インキ(東洋インキ社製TKハイユニティ ネオMZ紅)を使用して印刷を行った。
露光後の印刷版材料をそのまま版胴に取り付け、PS版と同様の印刷条件および刷り出しシークエンスを用いて20000枚の印刷を行った。印刷時にはパウダー(ニッカリコ コートタイプ、ニッカ株式会社製)を噴霧した。
次いで、片面を印刷済の印刷用紙の裏面に続けて印刷を行って表裏合わせて40000枚の印刷を行った。
[機上現像性評価]
前述と同様にして行った。
前述と同様にして行った。
[耐刷性評価]
印刷1000枚ごとに印刷物をサンプリングし、3%網点画像部およびベタ画像部の画像劣化の程度を確認した。3%網点画像部において網点の欠落が確認できた時点、もしくは、ベタ画像部において目視でカスレが確認できた時点を耐刷終点とし、その印刷枚数を耐刷枚数とした。4万枚印刷後でも3%網点画像の欠落や、ベタ画像のカスレが確認できなかったものは4万枚以上とした。結果を表5に示した。
印刷1000枚ごとに印刷物をサンプリングし、3%網点画像部およびベタ画像部の画像劣化の程度を確認した。3%網点画像部において網点の欠落が確認できた時点、もしくは、ベタ画像部において目視でカスレが確認できた時点を耐刷終点とし、その印刷枚数を耐刷枚数とした。4万枚印刷後でも3%網点画像の欠落や、ベタ画像のカスレが確認できなかったものは4万枚以上とした。結果を表5に示した。
表5から、本発明の印刷版材料は、機上現像性に優れ、かつ、耐刷性も良好であることがわかる。
印刷版材料の作製(3)
光熱変換能を有する金属酸化物粒子の分散物の作製
分散物1
下記素材を、サンドグラインダーを用いて1500rpmで2時間分散した。分散メディアとしては1mmφのジルコニアビーズを用いた。分散処理後、ビーズを除去し、ろ過して固形分50質量%の分散物1を得た。分散物1は、ほぼ一次粒子にまで分散された分散物となっていた。
光熱変換能を有する金属酸化物粒子の分散物の作製
分散物1
下記素材を、サンドグラインダーを用いて1500rpmで2時間分散した。分散メディアとしては1mmφのジルコニアビーズを用いた。分散処理後、ビーズを除去し、ろ過して固形分50質量%の分散物1を得た。分散物1は、ほぼ一次粒子にまで分散された分散物となっていた。
分散物1組成(表中単位記載のない数値は質量部を示す)
分散物2
黒色酸化鉄:ABL−207に変えて、Fe−Ti系の複合金属酸化物であるETB−300(チタン工業社製、平均粒子径:0.5μm)を用いた以外は分散物1と同様にして、分散物2を得た。分散物2も、ほぼ一次粒子にまで分散された分散物となっていた。
黒色酸化鉄:ABL−207に変えて、Fe−Ti系の複合金属酸化物であるETB−300(チタン工業社製、平均粒子径:0.5μm)を用いた以外は分散物1と同様にして、分散物2を得た。分散物2も、ほぼ一次粒子にまで分散された分散物となっていた。
親水性層塗布液の調製
下表の素材のうち、界面活性剤を除く素材をホモジナイザを用いて十分に混合分散した後、界面活性剤を添加してさらに攪拌混合し、これをろ過して、固形分30質量%の親水性層塗布液をそれぞれ調製した。
下表の素材のうち、界面活性剤を除く素材をホモジナイザを用いて十分に混合分散した後、界面活性剤を添加してさらに攪拌混合し、これをろ過して、固形分30質量%の親水性層塗布液をそれぞれ調製した。
画像形成層塗布液の調製
ワックス粒子と赤外線吸収色素との混合分散物Aの調製
カルナバワックスエマルジョンA118(岐阜セラック社製、平均粒子径0.3μm、軟化点65℃、融点80℃、140℃での溶融粘度8cps、固形分40質量%)を攪拌しながら純水で希釈し、固形分を10質量%とした。
ワックス粒子と赤外線吸収色素との混合分散物Aの調製
カルナバワックスエマルジョンA118(岐阜セラック社製、平均粒子径0.3μm、軟化点65℃、融点80℃、140℃での溶融粘度8cps、固形分40質量%)を攪拌しながら純水で希釈し、固形分を10質量%とした。
これの48.5質量部を攪拌しながら、下記構造の赤外線吸収色素2の1質量%IPA溶液を15質量部を5分間かけて滴下した。さらに攪拌を続けながら、純水36.5質量部を添加して、固形分5質量%の混合分散物Aを得た。
次に、下表の各素材を十分に混合攪拌し、ろ過して、固形分濃度5質量%の各画像形成層塗布液(塗布液13〜17)を調製した
印刷版材料15〜23の調製
基材1の上に、ワイヤーバーを用いて、表9の組み合わせで親水性層塗布液を塗布し、120℃で1分間乾燥した。親水性層の乾燥付量は4g/m2となるように調整した。
基材1の上に、ワイヤーバーを用いて、表9の組み合わせで親水性層塗布液を塗布し、120℃で1分間乾燥した。親水性層の乾燥付量は4g/m2となるように調整した。
次いで、親水性層の上に、ワイヤーバーを用いて、表 の組み合わせで画像形成層塗布液を塗布し、70℃で1分間乾燥した。画像形成層の乾燥付量は0.6g/m2となるように調整した。
画像形成層塗布後の各試料を50℃で24時間エイジング処理して印刷版材料15〜23を得た。
各印刷版材料について、各印刷版材料はエイジング処理後そのまま評価するものと、さらに55℃湿度20%未満の環境下で72時間保存したもの、および、さらに40℃湿度80%の環境下で72時間保存したものとをそれぞれ作製した。
[赤外線レーザーによる露光]
各印刷版材料を露光ドラムに巻付け固定した。露光には波長830nm、スポット径約18μmのレーザービームを用い、2400dpi(dpiとは、2.54cm当たりのドット数を表す)、175線で画像を形成した。露光した画像はベタ画像と1〜99%の網点画像とを含むものである。露光エネルギーは120mJ/cm2とした。
各印刷版材料を露光ドラムに巻付け固定した。露光には波長830nm、スポット径約18μmのレーザービームを用い、2400dpi(dpiとは、2.54cm当たりのドット数を表す)、175線で画像を形成した。露光した画像はベタ画像と1〜99%の網点画像とを含むものである。露光エネルギーは120mJ/cm2とした。
[印刷方法]
印刷機:三菱重工業社製DAIYA1F−1を用いて、コート紙、湿し水:アストロマーク3(日研化学研究所製)2質量%、インキ(東洋インキ社製TKハイユニティMZ紅)を使用して印刷を行った。
印刷機:三菱重工業社製DAIYA1F−1を用いて、コート紙、湿し水:アストロマーク3(日研化学研究所製)2質量%、インキ(東洋インキ社製TKハイユニティMZ紅)を使用して印刷を行った。
露光後の印刷版材料をそのまま版胴に取り付け、PS版と同様の印刷条件および刷り出しシークエンスを用いて500枚の印刷を行った。
[機上現像性評価]
前述のように評価した。結果を表9に示した。
前述のように評価した。結果を表9に示した。
[こすりキズ跡汚れ防止性評価]
前述のように評価した。結果を表9に示した。
前述のように評価した。結果を表9に示した。
表9から本発明の印刷版材料は、下塗層として親水性層を形成した態様においても、機上現像性に優れ、熱保存後にも安定した機上現像性と耐こすりキズ跡汚れ性防止性とを有し保存安定性に優れていることがわかる。
耐刷性評価
印刷版材料18〜23の熱保存を行っていない試料について、前述と同様にして耐刷性評価を行った。結果を表10に示した。
印刷版材料18〜23の熱保存を行っていない試料について、前述と同様にして耐刷性評価を行った。結果を表10に示した。
表10から本発明の印刷版材料は、下塗層として親水性層を形成した態様においても、良好な耐刷性を有していることがわかる。
Claims (12)
- 基材上に画像形成層を有する印刷版材料において、該画像形成層が下記(A1)または(A2)を含有することを特徴とする印刷版材料。
(A1)カルボキシル基を有する重合性モノマーとアマイド基を有する重合性モノマーとを用いて乳化重合により形成された、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマー粒子
(A2)乳化重合により形成されたコアシェル構造を有するポリマー粒子であって、該ポリマー粒子のシェルが、カルボキシル基を有する重合性モノマーとアマイド基を有する重合性モノマーとを用いて重合され、かつガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマーからなるポリマー粒子 - 前記ポリマー粒子の平均粒子径が30nm以上、120nm未満であることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の印刷版材料。
- 前記ポリマー粒子が表面にカルボニル基を有し、さらに前記画像形成層が、(B)ポリヒドラジド化合物を含有することを特徴とする請求の範囲第1項または第2項に記載の印刷版材料。
- 前記(A1)および(A2)のポリマー粒子が、実質的にスチレンを重合単位として有しないことを特徴とする請求の範囲第1項〜第3項のいずれか1項に記載の印刷版材料。
- 基材上に、該基材側から順に下塗層と画像形成層とを有する印刷版材料において、該画像形成層が下記(A3)または(A4)を含有し、かつ、下塗層が下記(B)を含有することを特徴とする印刷版材料。
(A3)カルボニル基を有するモノマーを用いて乳化重合により形成された、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマー粒子
(A4)乳化重合により形成されたコアシェル構造を有するポリマー粒子であって、シェルがカルボニル基を有するモノマーを用いて重合され、かつシェルが、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマーからなるポリマー粒子
(B)ポリヒドラジド化合物 - 前記下塗層が親水性層であることを特徴とする請求の範囲第5項に記載の印刷版材料。
- 前記(B)ポリヒドラジド化合物が水溶性であることを特徴とする請求の範囲第5項または第6項に記載の印刷版材料。
- 前記ポリマー粒子が表面にカルボキシル基およびアマイド基の少なくとも1つの基を有することを特徴とする請求の範囲第5項〜第7項のいずれか1項に記載の印刷版材料。
- 前記(A3)および(A4)のポリマー粒子が、実質的にスチレンを重合単位として有しないことを特徴とする請求の範囲第5項〜第8項のいずれか1項に記載の印刷版材料。
- 基材上に、該基材側から順に画像形成層とオーバーコート層とを有する印刷版材料において、該画像形成層が下記(A3)または(A4)を含有し、かつオーバーコート層が(B)を含有することを特徴とする印刷版材料。
(A3)カルボニル基を有するモノマーを用いて乳化重合により形成された、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマー粒子
(A4)乳化重合により形成されたコアシェル構造を有するポリマー粒子であって、シェルがカルボニル基を有するモノマーを用いて重合され、かつシェルが、ガラス転移点(Tg)が70℃以上であるポリマーからなるポリマー粒子
(B)ポリヒドラジド化合物 - 前記ポリマー粒子が表面にカルボキシル基およびアマイド基の少なくとも1つの基を有することを特徴とする請求の範囲第10項に記載の印刷版材料。
- 前記(A3)および(A4)のポリマー粒子が、実質的にスチレンを重合単位として有しないことを特徴とする請求の範囲第10項または第11項に記載の印刷版材料。
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