JPWO2008081504A1 - 表面処理装置 - Google Patents

Abstract

１個の装置本体（１００）内に、処理容器（１１）と、垂直回転軸（１２）と、着脱機構と、受槽（１５）と、カバー体（１６）と、複数個のタンク（２１）等と、複数の表面処理液供給機構（２２）等と、洗浄水供給機構と、ドレイン機構（３）と、第１洗浄機構と、を備えており、小物を収容した処理容器（１１）を垂直回転軸（１２）によって回転させながら、表面処理液供給機構を作動させると、小物に対して表面処理を行うようになっており、洗浄水供給機構を作動させると、処理容器（１１）内の小物を洗浄するようになっており、第１洗浄機構を作動させると、カバー体の内面及び／又は処理容器の外面を洗浄するようになっており、タンク内の表面処理液を循環使用するようになっていることを特徴としている。

Description

本発明は、小物を表面処理する表面処理装置に関するものである。小物とは、例えば、０．５〜５０００μｍの粉体、チップコンデンサー、ダイオード、コネクタ、リードスイッチ、釘、ボルト、ナット、ワッシャ等の、小型部品を言う。

小物を表面処理するための表面処理装置としては、例えば特許文献１、２に示された装置が知られている。これらの装置では、小物を収容した処理容器を回転させながら処理容器内に表面処理液を注入することによって、小物を表面処理している。
特表平１１−５０５２９５号公報 米国特許第５，８７９，５２０公報

ところで、従来の上記装置においては、表面処理液が飛散したり漏れたりすることによって装置の内部や外部が汚れてしまう、という問題があった。

また、小物を表面処理する際には、通常、第１の表面処理を施した後に、所望の金属による第２の表面処理を施している。すなわち、２種類の表面処理を施している。また、通常、２種類の表面処理に使用した表面処理液は、それぞれ回収して再使用している。したがって、１台の表面処理装置で２種類の表面処理を行う場合には、各表面処理液を、相互に混ざらないよう厳密に分けて回収することが望まれる。しかるに、従来の１台の表面処理装置においては、そのような回収が必ずしも十分ではなかった。

本発明は、装置の内部や外部が汚れるのを防止できる表面処理装置を提供すること、また、１台の装置において２種類の表面処理液を厳密に分けて回収して再使用できることを主たる効果として発揮できる表面処理装置、を提供することを目的とする。

本発明の第１態様の表面処理装置は、小物を収容した処理容器を回転させながら小物に対して表面処理を施すための、表面処理装置であって、内から外へ液体を流出させる液体流出機構を有し、且つ、小物を収容可能である、処理容器と、処理容器を下方から囲んでいる、受槽と、受槽を上方から塞ぐよう設けられ、中央に開口を有している、カバー体と、表面処理液を、処理容器内に供給する、表面処理液供給機構と、洗浄水を、処理容器内に供給する、洗浄水供給機構と、を備えており、処理容器を回転させながら表面処理液供給機構を作動させた場合には、処理容器内に表面処理液を供給するとともに液体流出機構によって処理容器から表面処理液を流出させて、小物に対して表面処理を施すようになっており、処理容器を回転させながら洗浄水供給機構を作動させた場合には、処理容器内に洗浄水を供給するとともに液体流出機構によって処理容器から洗浄水を流出させて、小物を洗浄するようになっており、更に、洗浄水を、カバー体の内面及び／又は処理容器の外面に対して噴出させる、第１洗浄機構、を備えており、処理容器を回転させながら第１洗浄機構を作動させた場合には、カバー体の内面及び／又は処理容器の外面を洗浄するようになっていることを特徴としている。

本発明の第２態様の表面処理装置は、小物を収容した処理容器を回転させながら小物に対して表面処理を施すための、表面処理装置であって、内から外へ液体を流出させる液体流出機構を有し、且つ、小物を収容可能である、処理容器と、処理容器を下方から囲んでいる、受槽と、受槽を上方から塞ぐよう設けられ、中央に開口を有している、カバー体と、表面処理液を、処理容器内に供給する、表面処理液供給機構と、洗浄水を、処理容器内に供給する、洗浄水供給機構と、を備えており、処理容器を回転させながら表面処理液供給機構を作動させた場合には、処理容器内に表面処理液を供給するとともに液体流出機構によって処理容器から表面処理液を流出させて、小物に対して表面処理を施すようになっており、処理容器を回転させながら洗浄水供給機構を作動させた場合には、処理容器内に洗浄水を供給するとともに液体流出機構によって処理容器から洗浄水を流出させて、小物を洗浄するようになっており、更に、カバー体を受槽に対して開閉させる開閉機構、を備えており、開閉機構が、カバー体を、水平状態のままで、受槽を塞いだ位置から所定の高さ位置まで昇降させ、更に、受槽から離れるよう当該所定の高さ位置から移動させるようになっていることを特徴としている。

本発明の第３態様の表面処理装置は、小物を収容した処理容器を回転させながら小物に対して表面処理を施すための、表面処理装置であって、内から外へ液体を流出させる液体流出機構を有し、且つ、小物を収容可能である、処理容器と、処理容器を下方から囲んでいる、受槽と、受槽を上方から塞ぐよう設けられ、中央に開口を有している、カバー体と、表面処理液を収容するためのタンクと、タンクに収容されている表面処理液を、処理容器内に供給する、表面処理液供給機構と、洗浄水を、処理容器内に供給する、洗浄水供給機構と、受槽で受けられた表面処理液を、当該表面処理液を収容しているタンクに戻し、また、受槽で受けられた洗浄水を、排出部へ流す、ドレイン機構と、を備えており、処理容器を回転させながら表面処理液供給機構を作動させた場合には、処理容器内に表面処理液を供給するとともに液体流出機構によって処理容器から表面処理液を流出させて、小物に対して表面処理を施すようになっており、処理容器を回転させながら洗浄水供給機構を作動させた場合には、処理容器内に洗浄水を供給するとともに液体流出機構によって処理容器から洗浄水を流出させて、小物を洗浄するようになっており、上記ドレイン機構が、受槽の排出口に連通した排出部材と、排出部材の先端部に、又は、タンク及び排出部の各入口に、上下動自在に連結して設けられた、連結管と、連結管を上下動させる昇降部と、排出部材の先端部を移動させる移動機構と、を有しており、排出部材の先端部を、移動させて、タンク及び排出部の内の選択された入口の上に配置させ、連結管を上昇又は下降させて、排出部材と当該入口とを連結管によって連結させるようになっていることを特徴としている。

本発明の第４態様の表面処理装置は、小物を収容した処理容器を回転させながら小物に対して２種類の表面処理を施すための、表面処理装置であって、内から外へ液体を流出させる液体流出機構を有し、且つ、小物を収容可能である、処理容器と、処理容器を下方から囲んでいる、受槽と、受槽を上方から塞ぐよう設けられ、中央に開口を有している、カバー体と、２種類の表面処理液をそれぞれ収容するための２個のタンクと、２個のタンクに収容されている表面処理液を、それぞれ、処理容器内に供給する、２個の表面処理液供給機構と、洗浄水を、処理容器内に供給する、洗浄水供給機構と、受槽で受けられた表面処理液を、当該表面処理液を収容しているタンクに戻し、また、受槽で受けられた洗浄水を、排出部へ流す、ドレイン機構と、を備えており、処理容器を回転させながら表面処理液供給機構を作動させた場合には、処理容器内に表面処理液を供給するとともに液体流出機構によって処理容器から表面処理液を流出させて、小物に対して表面処理を施すようになっており、処理容器を回転させながら洗浄水供給機構を作動させた場合には、処理容器内に洗浄水を供給するとともに液体流出機構によって処理容器から洗浄水を流出させて、小物を洗浄するようになっており、更に、洗浄水を、カバー体の内面及び／又は処理容器の外面に対して噴出させる、第１洗浄機構、を備えており、処理容器を回転させながら第１洗浄機構を作動させた場合には、カバー体の内面及び／又は処理容器の外面を洗浄するようになっており、更に、カバー体を受槽に対して開閉させる開閉機構、を備えており、開閉機構が、カバー体を、水平状態のままで、受槽を塞いだ位置から所定の高さ位置まで昇降させ、更に、受槽から離れるよう当該所定の高さ位置から移動させるようになっており、上記ドレイン機構が、受槽の排出口に連通した排出部材と、排出部材の先端部に、又は、２個のタンク及び排出部の各入口に、上下動自在に連結して設けられた、連結管と、連結管を上下動させる昇降部と、排出部材の先端部を移動させる移動機構と、を有しており、排出部材の先端部を、移動させて、２個のタンク及び排出部の内の選択された入口の上に配置させ、連結管を上昇又は下降させて、排出部材と当該入口とを連結管によって連結させるようになっていることを特徴としている。

本発明は、適宜、更に、以下のような具体的構成を採用するのが好ましい。

（ａ）第１洗浄機構が、洗浄水を噴出する第１噴出部及び／又は第２噴出部を有しており、第１噴出部が、カバー体の開口の縁に沿って設けられた給水通路に形成された噴出口からなり、洗浄水をカバー体の内面に対して噴出するようになっており、第２噴出部が、カバー体の内面に沿って設けられた給水通路に形成された噴出口からなり、洗浄水を処理容器の外面に対して噴出するようになっている。

（ｂ）開閉機構が、カバー体から延びたアームと、アームの他端側に設けられ、アームに対して直交する水平軸回りに回転自在に支持された、回転体と、アームを回動自在に支持する水平支持軸と、水平支持軸を支点としたアームのカバー体側が低くなるのを防止するよう、アームを支持する支持機構と、水平支持軸をアームと共に昇降させる昇降機構と、所定の高さ位置まで上昇してきたアームの回転体が、下方から当接する、当接体と、を有しており、水平支持軸を上昇させると、回転体が当接体に当接するまで、カバー体が水平状態のままで上昇し、回転体が当接体に当接した後は、アームが水平支持軸の回りに回動するとともにカバー体が傾斜しながら上昇するようになっている。

（ｃ）洗浄水を排出部材の内面に対して噴出させる第２洗浄機構を、有している。

更に、本発明は、適宜、以下のような具体的構成を採用してもよい。

（Ｉ）更に、アノード電極を、備えており、アノード電極が、垂直回転軸に固定された処理容器内に上方から挿し込まれるよう設けられており、処理容器が、内面に沿った導電リングを更に有しており、導電リングが、垂直回転軸から通電可能となっている。

（II）上記（Ｉ）において、アノード電極が、アノード端子と、アノード端子にねじを介して着脱可能に取り付けられた、表面処理用のアノード金属を収容するための、アノードケースと、を有している。

（III）上記（II）において、アノード電極がカバー体に取り付けられており、カバー体によって受槽を塞ぐと、アノード電極が処理容器内に上方から挿し込まれるようになっている。

（IV）表面処理液供給機構が、タンク内の表面処理液を、濾過器を経て、処理容器内へ供給するための、供給管と、タンク内の表面処理液を、濾過器を経て、当該タンク内へ供給するための、戻し管と、を有しており、作動時には、供給管及び戻し管を通して表面処理液を供給し、非作動時には、戻し管のみを通して表面処理液を供給するようになっている。

（Ｖ）処理容器が取り付けられる装置本体内の室が、底面を有しており、該底面が、底面に形成した排出口に向けて低くなるよう傾斜している。

（VI）カバー体が受槽を塞いだ際にカバー体の周壁の下端が当接する樹脂体が、受槽の周壁内面に沿って設けられている。

（VII）カバー体の周壁の下端内面に、内向き下方に傾斜したフランジが設けられている。

（VIII）垂直回転軸が、受槽の内周壁によって、受槽から隔てられている。

（IX）上記（VIII）において、垂直回転軸の上端に連結されており、且つ、処理容器を載せる、受板が、受槽の内周壁の上端部を囲む周壁を下面に有している。

本発明の第１〜第４態様によれば、次のような効果を発揮できる。
（１）小物を収容した処理容器を垂直回転軸によって回転させながら、表面処理液供給機構を作動させることによって、処理容器内へ表面処理液を供給することができる。これにより、小物に対して表面処理を施すことができる。

（２）カバー体を備えているので、表面処理液が処理中に外部へ飛散するのを防止できる。

また、本発明の第１及び第４態様によれば、第１洗浄機構を作動させることによって、カバー体の内面や処理容器の外面を洗浄できる。すなわち、カバー体の内面や処理容器の外面に飛散している表面処理液を、洗い流すことができる。したがって、上述した表面処理液の分別回収をより効果的に行うことができる。

また、本発明の第２及び第４態様によれば、開閉機構を作動させることによって、カバー体を自動で開閉できる。しかも、カバー体を受槽の少し上方から水平状態のままで下降させて、カバー体によって受槽を塞ぐことができるので、カバー体の周壁を、比較的深く、受槽内に挿入でき、したがって、カバー体によって受槽を良好に塞ぐことができる。

また、本発明の第３及び第４態様によれば、次のような効果を発揮できる。
（１）表面処理液供給機構を作動させることによって、タンク内の表面処理液を用いて表面処理を行うことができ、ドレイン機構を作動させることによって、使用した表面処理液をタンクに戻すことができる。これにより、表面処理液を再使用できる。

（２）洗浄水供給機構を作動させることによって、処理容器内を洗浄でき、ドレイン機構を作動させることによって、洗浄水を排出部から排出できるとともに表面処理液をタンクに収容できる。

（３）ドレイン機構を作動させることによって、自動的に、洗浄水を排出部から排出できるとともに表面処理液をタンクに回収できる。

（４）連結管を上昇又は下降させて、排出部材と、タンク及び排出部の入口と、を連結するので、液体の流路が途切れることなく確保され、したがって、表面処理液や洗浄水が外へ漏れるのを確実に防止できる。

更に、本発明の第４態様によれば、洗浄水供給機構を作動させることによって、処理容器内を洗浄でき、ドレイン機構を作動させることによって、２種類の表面処理液を元のそれぞれのタンクに収容できる。したがって、ある表面処理液を用い、それをタンクに収容した後、洗浄を行って、別の表面処理液を用い、それをタンクに収容できる。したがって、各表面処理液を、相互に混ざらないよう厳密に分けて回収することができる。

上記構成（ａ）によれば、カバー体の内面と処理容器の外面とを確実に洗浄することができる。

上記構成（ｂ）によれば、カバー体を自動で開閉させることができる。しかも、処理容器の着脱作業の邪魔にならない位置まで、カバー体を持ち上げることができる。

上記構成（ｃ）によれば、排出部材の内面を洗浄できる。したがって、例えば、ある表面処理液を用い、それを、排出部材を経てタンクに回収した後、第２洗浄機構によって排出部材内面の洗浄を行って、別の表面処理液を用い、それを、排出部材を経てタンクに回収できる。したがって、各表面処理液を、特に排出部材において相互に混ざらないよう、厳密に分けて回収することができる。

上記構成（Ｉ）によれば、アノード電極と処理容器の導電リングとの間に通電することによって、表面処理として、電解処理、例えば電気めっき処理等、を行うことができる。

上記構成（II）によれば、アノード電極のメンテナンスを容易に行うことができる。

上記構成（III）によれば、カバー体の開閉と同時にアノード電極の着脱を行うことができるので、作業効率を向上できる。しかも、アノード電極のみを支持する支持機構を省略できるので、装置構成を簡素化できる。

上記構成（IV）によれば、表面処理液供給機構の作動時はもちろん非作動時も、タンク内の表面処理液を、濾過器を通してタンク内へ戻すことができるので、タンク内の表面処理液を常に清浄化できる。したがって、清浄な表面処理液を再使用できる。

上記構成（Ｖ）によれば、処理容器が取り付けられる装置本体内の室において、底面上に垂れ落ちた表面処理液や洗浄水が、排出口に向けて流れていく。したがって、底面の清掃を容易に行うことができる。

上記構成（VI）又は（VII）によれば、表面処理液や洗浄水が受槽の外へ漏出するのを防止できる。

上記構成（VIII）によれば、表面処理液や洗浄水が垂直回転軸側へ漏出するのを防止できる。

上記構成（IX）によれば、受板と内周壁との間の隙間から、表面処理液や洗浄水が垂直回転軸側へ漏出するのを防止でき、したがって、上記構成（VIII）に基づく効果をより確実に発揮できる。

第１実施形態の表面処理装置の正面断面図である。 図１のII−II断面矢視図である。 図２のIII−III断面矢視図である。 図１の装置の背面透視図である。 図３のＶ−Ｖ断面矢視図である。 図１の部分拡大図である。 処理容器の取り付け構造を示す分解斜視図である。 受槽を塞いだ状態のカバー体の平面図である。 図８のIX−IX断面矢視図である。 図８のＸ−Ｘ断面矢視図である。 図８のＸＩ−ＸＩ断面矢視図である。 第１アノード電極及び第１支持機構を示す部分断面図である。 第１アノード電極の拡大断面図である。 アームの平面透視図である。 図３の拡大部分図であり、カバー体の開閉機構を示している。 図１５のＸVI矢視図である。 図１５のＸVII矢視図である。 開閉機構の支持体の平面図である。 開閉機構の要部拡大斜視図である。 図３の拡大部分図であり、ドレイン機構を示している。 図２０のＸＸＩ矢視図である。 図１８のＸＸII−ＸＸII断面矢視図である。 第１アノード電極の拡大正面断面図である。 第１アノード電極の分解拡大正面断面図である。 装置本体の前部の上室の内部を示す上方斜視模式図である。 開閉機構によってカバー体が開かれた状態を示す断面図である。 開閉機構によってカバー体が閉じられた状態を示す断面図である。 開閉機構の作動途中を示す断面図である。 第１アノード電極装填工程において第１支持機構の作動前の第１アノード電極の状態を示す上方斜視図である。 第１アノード電極装填工程において図２９に続く状態を示す上方斜視図である。 第１アノード電極装填工程において図３０に続く状態を示す上方斜視図である。 第１アノード電極装填工程において図３１に続く状態を示す上方斜視図である。 第１洗浄機構の第１変形例を示す断面図である。 図３３のパイプの平面図である。 第１洗浄機構の第２変形例を示す断面図である。 図３５のＸＸＸVI矢視図である。 第１洗浄機構の第３変形例を示す断面図である。 第１洗浄機構の第４変形例を示す断面図である。 図３８のＸＸＸIX矢視図である。 第１洗浄機構の第５変形例を示す平面図である。 開閉機構の第１変形例を示す斜視図である。 図４１の開閉機構によってカバー体が閉じられている状態を示す断面図である。 図４１の開閉機構によるカバー体の開作動を示す断面図である。 図４３に続く開作動を示す断面図である。 図４１の開閉機構によってカバー体が開かれた状態を示す断面図である。 開閉機構の第２変形例を示す側面図である。 開閉機構の第３変形例を示す斜視図である。 開閉機構の第４変形例を示す斜視図である。 ドレイン機構の第１変形例を示す断面図である。 ドレイン機構の第２変形例を示す断面図である。 図５０のドレイン機構の作動状態を示す断面図である。 アノード電極支持機構の第１変形例を示す側面図である。 アノード電極支持機構の第２変形例を示す断面図である。 アノード電極支持機構の第３変形例を示す側面図である。 第２実施形態の表面処理装置の斜視図である。

符号の説明

１０ 回転表面処理装置
１１ 処理容器
１１２ 電極リング（導電リング）
１２ 垂直回転軸
１４３ 周壁
１５ 受槽
１５４ 樹脂体
１５５ 内周壁
１６ カバー体
１６５ フランジ
２１ 第１タンク
２２ 第１表面処理液供給機構
２４ 第２タンク
２５ 第２表面処理液供給機構
２７ 第３タンク
２１１、２４１、２７１ 入口
２２１、２５１ 濾過器
２２２、２５２ 第１供給管
２２３、２５３ 戻し管
２２４、２５４ 第２供給管
３ ドレイン機構
３３ 連結管
４１ 第１アノード電極
４１１ 第１アノード端子
４１２ アノードケース
５ 第１洗浄機構
５１ スリット（噴出口）
５２ 噴出口
５３、５４ 給水通路
７ 開閉機構
７１ アーム
７２ ローラ（回転体）
７３ 水平支持軸
７４ 支持体
７５ 昇降機構
７６ 当接体
８ 第２洗浄機構

［第１実施形態］
本実施形態は、１台で２種類の表面処理を行うための、いわゆる「２液タイプ」の表面処理装置に関するものである。図１は本実施形態の表面処理装置１０の正面断面図、図２は図１のII−II断面矢視図、図３は図２のIII−III断面矢視図、図４は図１の装置１０の背面透視図、図５は図３のＶ−Ｖ断面矢視図である。本実施形態は、１個の装置本体１００内に、全ての部品を据え付けて構成されている。装置本体１００は、底面に設けたコロ２０１によって床面上を移動可能であり、また、底面に設けたストッパ２０２によって床面上に固定されるようになっている。

図１に示されるように、装置本体１００の前部の上室１０１には、処理容器１１と、受槽１５と、カバー体１６と、第１アノード電極４１及びそれを支持する第１支持機構４３の一部と、第１退避場４５と、第２アノード電極４６及びそれを支持する第２支持機構４８の一部と、第２退避場４９と、が設けられている。

図１に示されるように、装置本体１００の前部の下室１０２には、中央に、垂直回転軸１２と、垂直回転軸１２を駆動するモータ１３と、が設けられており、また、両側に、第１支持機構４３の残りの部分と、第２支持機構４８の残りの部分と、が設けられている。

図２及び図３に示されるように、装置本体１００の後部の上室１０３には、前方に、カバー体１６の開閉機構７が設けられており、後方に、２個の濾過器２２１、２５１が横方向に並んで設けられている。

図３、図４、及び図５に示されるように、装置本体１００の後部の下室１０４には、前方に、ドレイン機構３が設けられており、後方に、第１タンク２１、第２タンク２４、及び第３タンク２７が横方向に並んで設けられている。

図２及び図４に示されるように、装置本体１００の後部の上室１０３及び下室１０４には、第１表面処理液供給機構２２、第２表面処理液供給機構２５、及び洗浄水供給機構（図示せず）が、設けられている。

更に、図２に示されるように、装置本体１００の側室１０５には、制御部６が設けられている。

図６は図１の部分拡大図である。図６に示されるように、処理容器１１は、非導電性で円板状の底板１１１と、電極リング（導電リング）１１２と、非導電性のフード１１３と、を重ねてボルト１１４で一体化して構成されている。また、処理容器１１は、表面処理の対象物である小物を収容可能な空間１１０を内部に有している。フード１１３は、中央に開口１１５を有している。更に、処理容器１１は、処理容器１１内の液体を周囲から少量ずつ処理容器１１外に流出させる液体流出機構（図示せず）を有している。

液体流出機構としては、例えば、次の構成（ａ）、（ｂ）等を採用できる。
（ａ）底板１１１と電極リング１１２との間に、内外に通じる多数の貫通孔を有する多孔質リングが、設けられている。
（ｂ）底板１１１と電極リング１１２との間に、内外に通じる間隙が、設けられている。

更に、上記構成（ｂ）としては、例えば、次の構成（ｂ１）、（ｂ２）等を採用できる。
（ｂ１）底板１１１に、内外に通じる溝が、形成されている。
（ｂ２）底板１１１と電極リング１１２との間に、円周方向適当間隔置きに、スペーサが挟まれている。

処理容器１１は、着脱機構を介して、垂直回転軸１２に固定されている。着脱機構は、垂直回転軸１２の上端に固定された導電性で円板状の受板１４１と、処理容器１１を受板１４１に固定するためのボルト１４２と、を有している。すなわち、処理容器１１は、受板１４１上に載せられてボルト１４２を締めることによって、垂直回転軸１２に固定されている。そして、処理容器１１の電極リング１１２への通電は、垂直回転軸１２から、受板１４１及びボルト１４２を経て、行われるようになっている。

受槽１５は、垂直回転軸１２に固定された処理容器１１を下方から覆うように、設けられており、底壁１５１と周壁１５２とで構成されている。底壁１５１は、１個の排出口１５３に向けて低くなるよう傾斜している。

カバー体１６は、受槽１５を上方から塞ぐよう設けられており、開閉機構７（図３）によって、開閉作動するようになっている。開閉機構７については、後述する。カバー体１６は、中央に開口１６１を有している。

更に、受槽１５の周壁１５２の内面の上部には、周方向に連続して延びている樹脂体１５４が、設けられている。樹脂体１５４は、カバー体１６が閉じた際に、カバー体１６の周壁１６３の下端１６４が上方から当接するよう、設けられている。また、カバー体１６の周壁１６３の下端１６４の内面には、内向き下方に傾斜したフランジ１６５が設けられている。また、垂直回転軸１２は、受槽１５の内周壁１５５によって、受槽１５から隔てられている。更に、受板１４１が、内周壁１５５の上端部を囲む周壁１４３を下面に有している。

また、処理容器１１は、図７の分解斜視図に示されるように、底板１１１に形成されている２個の凹部１１６（図６）を受板１４１に形成されている２個の突起１４４に嵌めて、２本のボルト１４２によって受板１４１に取り付けられる。

図８は受槽１５を塞いだ状態のカバー体１６の平面図、図９は図８のIX−IX断面矢視図である。カバー体１６は、第１洗浄機構５を備えている。第１洗浄機構５は、洗浄水を噴出させる第１噴出部及び第２噴出部を有している。図８及び図９に示されるように、第１噴出部は、カバー体１６の開口１６１の縁の内面１６２に沿って設けられた給水通路５３と、カバー体１６の内面１６２と、の間に形成されたスリット（噴出口）５１からなっており、洗浄水をカバー体１６の内面１６２に対して噴出するようになっている。また、第２噴出部は、カバー体１６の内面１６２に沿って半径方向に延びて設けられた給水通路５４に形成された複数の噴出口５２からなっており、洗浄水を処理容器１１の外面１１９に対して噴出するようになっている。なお、給水通路５３は、給水通路５４から延びており、給水通路５４は、後述する洗浄水供給機構と同様に、外部の洗浄水供給源（例えば、水道）に連結している。

また、カバー体１６は、図８のＸ−Ｘ断面矢視図である図１０に示されるように、カバー体１６の内面１６２に沿って半径方向に延びて設けられた給水通路５６の先端に、処理容器１１内へ洗浄水を供給するためのノズル５７を有している。なお、給水通路５６は、後述する洗浄水供給機構を構成している。

更に、カバー体１６は、図８のＸＩ−ＸＩ断面矢視図である図１１に示されるように、開口１６１の縁にレベルセンサー５８を有している。レベルセンサー５８は、処理容器１１内の液面を検出することによって、液量の過不足を検出するものである。

図１２は第１アノード電極４１及びそれを支持する第１支持機構４３を示す部分断面図である。第１支持機構４３は、横方向に延びた筒状のアーム４３１と、アーム４３１の他端にて、アーム４３１を上下動可能に且つアーム４３１を水平面内で回動可能に、支持する、支持体４３２と、を有している。支持体４３２は、縦方向に延びた筒体４３３と、筒体４３３を縦軸回りに回動させる回動駆動部４３４と、筒体４３３を回動駆動部４３４と共に上下動させるシリンダ駆動部４３５と、を有している。筒体４３３は、上端にて、アーム４３２と連通して一体となっている。筒体４３３は、上室１０１の底面１０１１に立設されたスリーブ４３７内を、上下動するよう、設けられている。また、スリーブ４３７内を上下動する筒体４３３の部分は、外管４３６を有しており、すなわち、二重管構造を有している。回動駆動部４３４は、ラック及びピニオンの機構によって、筒体４３３を回動させるようになっている。ラックは、エアー圧力によって移動されるようになっている。アーム４３１の先端には、図１３に示されるように、処理容器１１内へ第１表面処理液を供給するためのノズル４３９が設けられている。図１４はアーム４３１の平面透視図である。筒体４３３及びアーム４３１の内部には、図１２及び図１４に示されるように、第１アノード電極４１へ通電するための電線４３８と、ノズル４３９へ第１表面処理液を供給するための供給通路４４０と、が通っている。

第２アノード電極４６及びそれを支持する第２支持機構４８も、第１アノード電極４１及びそれを支持する第１支持機構４３と同じ構造を有している。すなわち、第２支持機構４８は、図１に示されるように、アーム４７１と支持体４７２とを有している。支持体４７２は、スリーブ４７７（図２３）内を上下動する筒体４７３と、回動駆動部４７４と、シリンダ駆動部４７５と、を有している。筒体４７３は、外管４７６を有している。アーム４７１の先端には、処理容器１１内へ第２表面処理液を供給するためのノズルが設けられている。筒体４７３及びアーム４７１の内部には、第２アノード電極４６へ通電するための電線と、ノズルへ第２表面処理液を供給するための供給通路と、が通っている。

図１５は、図３の拡大部分図であり、カバー体１６の開閉機構７を示している。図１６は図１５のＸVI矢視図、図１７は図１５のＸVII矢視図である。開閉機構７は、アーム７１と、ローラ（回転体）７２と、水平支持軸７３と、支持機構７４と、昇降機構７５と、当接体７６と、を有している。

図１５において、アーム７１は、その一端がカバー体１６に連結しており、カバー体１６から横方向に延びている。ローラ７２は、アーム７１の他端の上部に設けられている。ローラ７２は、アーム７１に対して直交する水平軸７７に回転自在に支持されている。

昇降機構７５は、特に図１７に示されるように、垂直なポール７５１と、シリンダ駆動部７５２と、並設された２本の垂直なスライド軸７５３、７５４と、を有している。シリンダ駆動部７５２は、ポール７５１の上側に位置している。ポール７５１は、２本のスライド軸７５３、７５４の間に位置している。昇降機構７５は、シリンダ駆動部７５２を作動させることによって、ポール７５１を、後述する支持体７４０を介して２本のスライド軸７５３、７５４に沿わせるように、昇降させるようになっている。

水平支持軸７３は、アーム７１に対して直交しており、アーム７１の途中にてアーム７１を回動自在に支持しており、ポール７５１の下端部に回動自在に支持されている。支持機構７４は、支持体７４０と調整ボルト７５１７とを備えている。支持体７４０は、水平支持軸７３より下方に位置しており、ポール７５１の下端に固定されている。支持体７４０は、具体的には、平面図である図１８に示すような形態を有している。すなわち、支持体７４０は、ポール７５１の下端が固定される中央部７５１１と、２本のスライド軸７５３、７５４がそれぞれ貫通する側部７５１２、７５１３と、からなっている。中央部７５１１には、水平支持軸７３を支持するＬ型フランジ７３１の水平部７３１１（図１７）が固定されている。また、中央部７５１１は、カバー１６とは反対側の部分に、切欠き部７５１０を有している。更に、中央部７５１１は、調整ボルト７５１７を取り付けるためのボルト孔７５１８を有している。調整ボルト７５１７は、支持体７４０の下面側から取り付けて、上面側への突出高さを任意に設定できるようになっている。

２本のスライド軸７５３、７５４の、支持体７４０を境にした上部分及び下部分は、蛇腹で覆われている。当接体７６は、アーム７１の他端の上方に設けられている。当接体７６は、所定の距離Ｈだけ水平状態で上昇してきたアーム７１のローラ７２が、下方から当接するようになっている。

図１９は開閉機構７の斜視部分図である。ポール７５１の下端部は、平行な２本のポール部７５１１に分岐している。Ｌ型フランジ７３１は、ポール部７５１１の下端に連結されている。そして、アーム７１は、２本のポール部７５１１の間を通っている。また、スライド軸７５３、７５４が支持体７４０を貫通する部分には、スライド軸７５３、７５４に対して支持体７４０がぐらつくのを防止するためのガイド筒７８１、７８２が設けられている。ガイド筒７８１、７８２は支持体７４０に固定されている。

図２０は、図３の拡大部分図であり、ドレイン機構３を示している。図２１は図２０のＸＸＩ矢視図、図２２は図２０のＸＸII−ＸＸII断面矢視図である。ドレイン機構３は、受容器３１と、排出管３２と、連結管３３と、シリンダ駆動部（昇降部）３４と、回動機構（移動機構）３５と、を有している。受容器３１及び排出管３２は、排出部材を構成している。受容器３１は、底面３１１と周壁３１２とで構成されている。底面３１１は、排出口３１３に向けて低くなるよう傾斜している。排出管３２は、排出口３１３に連通しており、且つ、受容器３１に固定されている。排出管３２は、傾斜部３２１と鉛直部３２２とからなっている。連結管３３は、鉛直部３２２の下端部に連結して設けられている。連結管３３は、鉛直部３２２に対して上下に摺動自在に外嵌しており、シリンダ駆動部３４によって鉛直部３２２に沿って上下動するようになっている。シリンダ駆動部３４は、支持板３４１によって、受容器３１及び排出管３２に固定されている。連結管３３の下端部は、後述する各タンクの入口に内嵌する径に設定されている。回動機構３５は、受容器３１の回転中心に連結している垂直回転軸３５１を、モータ３５４（図２１）によって、ギア３５８、３５９を介して、回転させるようになっている。垂直回転軸３５１は、２個のアーム３５５、３５６によって、装置本体１００の内部壁１０６に支持されている。一方、第１タンク２１、第２タンク２４、及び第３タンク２７が、図２１及び図２２に示されるように、横方向に並んで設けられている。第３タンク２７が真ん中である。そして、これら３個のタンクの入口２１１、２７１、２４１は、図２２に示されるように、円弧状の軌跡Ｒ上に位置するよう設けられている。この軌跡Ｒは、回動機構３５が受容器３１と共に排出管３２及び連結管３３を回動させた時の、連結管３３が描く軌跡と一致している。回動機構３５は、連結管３３が３個の入口２１１、２７１、２４１のそれぞれの上に位置するよう、受容器３１を回動させることができる。受容器３１の回動の調整は、エンコーダ３５７によって受容器３１の回動角度を検出して、モータ３５４の作動を調整することによって、行われる。受容器３１は、周壁３１２の外周面に設けたガイド３１５がレール３１６に対してスライドすることによって回動可能となっている。レール３１６は、下室１０４の天板１０４１の下面に固定されている。

受容器３１の天板１０４１には、第２洗浄機構８が設けられている。第２洗浄機構８は、天板１０４１から下方に突出したノズル８１を有しており、ノズル８１から受容器３１の内面に向かって洗浄水を噴出するようになっている。ノズル８１には、給水通路８２が連結しており、給水通路８２は、後述する洗浄水供給機構と同様に、外部の洗浄水供給源に連結している。

第１表面処理液供給機構２２は、図２及び図４に示されるように、第１タンク２１の出口ポート２１２からポンプ２１３を経て濾過器２２１に至る第１供給管２２２と、濾過器２２１から第１タンク２１の戻りポート２１４に至る戻し管２２３と、濾過器２２１から第１支持機構４３の供給通路４４０に至る第２供給管２２４と、を有している。第１表面処理液供給機構２２は、作動時においては、第１供給管２２２、第２供給管２２４、及び戻し管２２３を使用し、非作動時においては、第１供給管２２２及び戻し管２２３のみを使用するようになっている。

第２表面処理液供給機構２５は、図２及び図４に示されるように、第２タンク２４の出口ポート２４２からポンプ２４３を経て濾過器２５１に至る第１供給管２５２と、濾過器２５１から第２タンク２４の戻りポート２４４に至る戻し管２５３と、濾過器２５１から第２支持機構４８の供給通路に至る第２供給管２５４と、を有している。第２表面処理液供給機構２５は、作動時においては、第１供給管２５２、第２供給管２５４、及び戻し管２５３を使用し、非作動時においては、第１供給管２５２及び戻し管２５３のみを使用するようになっている。

洗浄水供給機構は、外部の洗浄水供給源に連結された供給管（図示せず）を有している。その供給管は、分岐して、第１洗浄機構５の給水通路５４と、カバー体１６のノズル５７に至る給水通路５６と、第２洗浄機構８の給水通路８２とに、それぞれ、連結している。なお、供給管と給水通路５４、５６、８２との各接続部には、電磁弁が設けられている。

図２３は第１アノード電極４１の拡大正面断面図、図２４は第１アノード電極４１の分解拡大正面断面図である。第１アノード電極４１は、第１アノード端子４１１と第１アノードケース４１２とを有している。第１アノードケース４１２は、例えばチタン製の網体からなる容器であり、第１表面処理用のアノード金属を収容可能である。第１アノード端子４１１の下端には、ねじ部４１３が形成されている。一方、第１アノードケース４１２の底面中央には、ねじ部４１３が螺合する螺合部４１４が形成されている。第１アノードケース４１２は、第１アノード端子４１１のねじ部４１３を螺合部４１４に螺合させることによって、第１アノード端子４１１に着脱自在に取り付けられている。第１アノードケース４１２は、蓋４１５で塞がれるようになっている。蓋４１５の中央には、第１アノード端子４１１が貫通する貫通孔４１６が形成されている。

第２アノード電極４６も、第１アノード電極４１と同じ構成を有している。

図２５は装置本体１００の前部の上室１０１の内部を示す上方斜視模式図である。上室１０１は、底面１０１１を有している。底面１０１１の一隅には、排出口１０１２が形成されている。そして、底面１０１１は、排出口１０１２に向けて低くなるよう傾斜している。更に、排出口１０１２は、外部の排出部へ連絡している。

次に、上記構成の表面処理装置１０の作動を工程順に説明する。
ここでは、一例として、第１電気めっき処理及び第２電気めっき処理という２種類の表面処理を行う場合について説明する。

まず、装置１０を作動させる前に、次の準備を行っておく。
（１）第１タンク２１に第１めっき処理液を入れ、第２タンク２４に第２めっき処理液を入れる。
（２）処理の対象物である小物を処理容器１１内に投入する。
（３）小物を収容した処理容器１１を、着脱機構を介して、垂直回転軸１２に、固定する。

そして、装置１０を作動させる。装置１０を作動させると、次のような工程が順次行われる。

［１］カバー体閉作動工程
まず、開閉機構７が作動して、カバー体１６が受槽１５を上方から塞ぐ。
カバー体１６は、作動前には、図２６の状態、すなわち、開いた状態にある。装置１０を作動させると、開閉機構７が作動して、カバー体１６は、受槽１５を上方から塞ぎ、図２７の状態、すなわち、閉じた状態となる。

具体的には、次のように作動する。図２６の状態の開閉機構７において、ポール７５１は水平支持軸７３及び支持体７４０を伴って上昇しており、ローラ７２は当接体７６に下方から当接しており、アーム７１はローラ７２側を低くして傾斜している。アーム７１は、支持体７４０の切欠き部７５１０を通って傾斜している。この状態において、開閉機構７が作動すると、ポール７５１が水平支持軸７３及び支持体７４０を伴って下降し、アーム７１が水平支持軸７３回りに回動して次第に水平状態になっていく。そして、図２８に示されるように、アーム７１が調整ボルト７５１７に上方から当接した時点で、アーム７１の回動が停止し、それとともに、カバー体１６が水平状態となる。そして、更に、ポール７５１が水平支持軸７３及び支持体７４０を伴って下降し、それとともに、カバー体１６が、水平状態のまま下降して、図２７に示されるように、受槽１５を上方から塞ぐ。

［２］第１洗浄工程
次に、モータ１３、洗浄水供給機構、第１洗浄機構５、及び第２洗浄機構８が、作動する。なお、このとき、ドレイン機構３の連結管３３は、第３タンク２７の入口２７１に連結している。第３タンク２７は、使用された洗浄水を収容するためのものであり、外部の排水部へ連絡している。

洗浄水供給機構が作動すると、電磁弁が開いて、外部の洗浄水供給源に連結された供給管から給水通路５６に洗浄水が供給され、回転している処理容器１１内へノズル５７から洗浄水が供給される。供給された洗浄水は、処理容器１１の内部を洗い流しながら、液体流出機構を介して処理容器１１から排出される。これにより、処理容器１１の内面及び小物が洗浄される。

第１洗浄機構５が作動すると、電磁弁が開いて、上記供給管から給水通路５４に洗浄水が供給され、処理容器１１が回転している状況下で、スリット５１及び噴出口５２から洗浄水が噴出される。これにより、カバー体１６の内面１６２及び処理容器１１の外面１１９が洗浄される。

第２洗浄機構８が作動すると、電磁弁が開いて、上記供給管から給水通路８２に洗浄水が供給され、ノズル８１から洗浄水が噴出される。これにより、受容器３１の内面が洗浄される。

そして、所定時間、洗浄が行われると、洗浄水供給機構、第１洗浄機構５、及び第２洗浄機構８は、その作動を停止する。一方、処理容器１１は、しばらく回転する。これにより、処理容器１１内に残っている洗浄水が、液体流出機構を介して、処理容器１１から排出される。

処理容器１１から排出された洗浄水、及び、カバー体１６の内面１６２及び処理容器１１の外面１１９を洗浄した洗浄水は、受槽１５で受けられ、排出口１５３から受容器３１及び排出管３２を経て、第３タンク２７へ流入し、更には、外部の排出部へ流出する。また、受容器３１の内面を洗浄した洗浄水も、排出管３２を経て、第３タンク２７へ流入し、更には、外部の排出部へ流出する。

［３］ドレイン機構第１作動工程
次に、ドレイン機構３が作動する。すなわち、受容器３１が回動して、連結管３３が、第１タンク２１の入口２１１上に位置し、シリンダ駆動部３４によって下降して、入口２１１に連結する。

［４］第１アノード電極装填工程
次に、第１支持機構４３が作動する。なお、第１支持機構４３が作動する前においては、図２９に示されるように、第１アノード電極４１は、第１退避場４５に退避した状態にある。

第１支持機構４３が作動すると、シリンダ駆動部４３５が筒体４３３を上昇させる。これによって、図３０に示されるように、アーム４３１が第１アノード電極４１を伴って上昇し、第１アノード電極４１が第１退避場４５から上方へ出る。次に、回動駆動部４３４が、筒体４３３を図３０の矢印方向へ所定距離だけ回転させる。これにより、アーム４３１が第１アノード電極４１を伴って回転し、第１アノード電極４１が図３１に示されるようにカバー体１６の開口１６１の上方に位置する。そして、シリンダ駆動部４３５が筒体４３３を下降させる。これにより、第１アノード電極４１が図３２に示されるように処理容器１１内に装填される。

［５］第１電気めっき処理工程
次に、処理容器１１の電極リング１１２に通電しながら、モータ１３及び第１表面処理液供給機構２２が作動する。

第１表面処理液供給機構２２が作動すると、第１タンク２１内の第１めっき処理液が、第１供給管２２２、濾過器２２１、第２供給管２２４、及び供給通路４４０を経て、ノズル４３９から、処理容器１１内に流入する。一方、このとき、処理容器１１は回転しており、第１めっき処理液が、少量ずつ、液体流出機構を介して、処理容器１１から排出される。

一方、処理容器１１においては、第１アノード電極４１と電極リング１１２との間に、第１めっき処理液を介して、電気が流れ、処理容器１１の回転による遠心力によって電極リング１１２に接触している小物に対して、第１めっき処理液に基づくめっき処理が施される。処理容器１１は、正転と逆転とを繰り返し行いながら回転するので、小物は万遍なく電極リング１１２に接触し、したがって、全ての小物に対して均一なめっき処理が施される。

そして、第１表面処理液供給機構２２は、上記めっき処理を所定時間行った後に、その作動を停止する。一方、処理容器１１は、しばらく回転する。これにより、処理容器１１内に残っている第１めっき処理液が、液体流出機構を介して、処理容器１１から全て排出される。

処理容器１１から排出された第１めっき処理液は、受槽１５で受けられ、排出口１５３から受容器３１へ落下し、排出管３２及入口２１１を経て、第１タンク２１内に流入する。すなわち、排出された第１めっき処理液は、第１タンク２１へ戻される。

なお、第１表面処理液供給機構２２の作動時及び非作動時においては、第１タンク２１内の第１めっき処理液は、第１供給管２２２、濾過器２２１、及び戻し管２２３を経て、第１タンク２１へ戻される。したがって、装置１０が作動すると、第１タンク２１内の第１めっき処理液は、濾過器２２１によって、常に清浄化される。

［６］第１アノード電極退避工程
次に、第１支持機構４３が、上述した第１アノード電極装填工程とは逆に作動する。すなわち、図３２の状態において第１支持機構４３が作動すると、シリンダ駆動部４３５が筒体４３３を上昇させる。これによって、図３１に示されるように、アーム４３１が第１アノード電極４１を伴って上昇し、第１アノード電極４１がカバー体１６の開口１６１の上方に位置する。次に、回動駆動部４３４が、筒体４３３を図３１の矢印方向へ所定距離だけ回転させる。これにより、アーム４３１が第１アノード電極４１を伴って回転し、第１アノード電極４１が図３０に示されるように第１退避場４５の上方に位置する。そして、シリンダ駆動部４３５が筒体４３３を下降させる。これにより、第１アノード電極４１が図２９に示されるように第１退避場４５内に退避される。

［７］ドレイン機構第２作動工程
次に、ドレイン機構３が作動する。すなわち、受容器３１が回動して、連結管３３が、第３タンク２７の入口２７１上に位置し、シリンダ駆動部３４によって下降して、入口２７１に連結する。

［８］第２洗浄工程
次に、モータ１３、洗浄水供給機構、第１洗浄機構５、及び第２洗浄機構８が、作動して、上述した第１洗浄工程と同様の作業が行われる。

［９］ドレイン機構第３作動工程
次に、ドレイン機構３が作動する。すなわち、受容器３１が回動して、連結管３３が、第２タンク２４の入口２４１上に位置し、シリンダ駆動部３４によって下降して、入口２４１に連結する。

［１０］第２アノード電極装填工程
次に、第２支持機構４８が作動する。なお、第２支持機構４８が作動する前においては、第２アノード電極４６は、第２退避場４９に退避した状態にある。

第２支持機構４８は、第１支持機構４３と同様に作動する。すなわち、第２支持機構４８が作動すると、シリンダ駆動部４８５が筒体４８３を上昇させる。これによって、アーム４８１が第２アノード電極４６を伴って上昇し、第２アノード電極４６が第２退避場４９から上方へ出る。次に、回動駆動部４８４が、筒体４８３を所定距離だけ回転させる。これにより、アーム４８１が第２アノード電極４６を伴って回転し、第２アノード電極４６がカバー体１６の開口１６１の上方に位置する。そして、シリンダ駆動部４８５が筒体４８３を下降させる。これにより、第２アノード電極４６が処理容器１１内に装填される。

［１１］第２電気めっき処理工程
次に、処理容器１１の電極リング１１２に通電しながら、モータ１３及び第２表面処理液供給機構２５が作動する。

第２表面処理液供給機構２５が作動すると、第２タンク２４内の第２めっき処理液が、第１供給管２５２、濾過器２５１、第２供給管２５４、及び供給通路４４０を経て、ノズル４３９から、処理容器１１内に流入する。一方、このとき、処理容器１１は回転しており、第２めっき処理液が、少量ずつ、液体流出機構を介して、処理容器１１から排出される。

一方、処理容器１１においては、第２アノード電極４６と電極リング１１２との間に、第２めっき処理液を介して、電気が流れ、処理容器１１の回転による遠心力によって電極リング１１２に接触している小物に対して、第２めっき処理液に基づくめっき処理が施される。処理容器１１は、正転と逆転とを繰り返し行いながら回転するので、小物は万遍なく電極リング１１２に接触し、したがって、全ての小物に対して均一なめっき処理が施される。

そして、第２表面処理液供給機構２５は、上記めっき処理を所定時間行った後に、その作動を停止する。一方、処理容器１１は、しばらく回転する。これにより、処理容器１１内に残っている第２めっき処理液が、液体流出機構を介して、処理容器１１から全て排出される。

処理容器１１から排出された第２めっき処理液は、受槽１５で受けられ、排出口１５３から受容器３１へ落下し、排出管３２及入口２４１を経て、第２タンク２４内に流入する。すなわち、排出された第２めっき処理液は、第２タンク２４へ戻される。

なお、第２表面処理液供給機構２５の作動時及び非作動時においては、第２タンク２４内の第２めっき処理液は、第１供給管２５２、濾過器２５１、及び戻し管２５３を経て、第２タンク２４へ戻される。したがって、装置１０が作動すると、第２タンク２４内の第２めっき処理液は、濾過器２５１によって、常に清浄化される。

［１２］第２アノード電極退避工程
次に、第２支持機構４８が、上述した第２アノード電極装填工程とは逆に作動する。すなわち、第２支持機構４８が作動すると、シリンダ駆動部４８５が筒体４８３を上昇させる。これによって、アーム４８１が第２アノード電極４６を伴って上昇し、第２アノード電極４６がカバー体１６の開口１６１の上方に位置する。次に、回動駆動部４８４が、筒体４８３を所定距離だけ回転させる。これにより、アーム４８１が第２アノード電極４６を伴って回転し、第２アノード電極４６が第２退避場４９の上方に位置する。そして、シリンダ駆動部４８５が筒体４８３を下降させる。これにより、第２アノード電極４６が第２退避場４９内に退避される。

［１３］ドレイン機構第４作動工程
次に、ドレイン機構３が作動する。すなわち、受容器３１が回動して、連結管３３が、第３タンク２７の入口２７１上に位置し、シリンダ駆動部３４によって下降して、入口２７１に連結する。

［１４］第３洗浄工程
次に、モータ１３、洗浄水供給機構、第１洗浄機構５、及び第２洗浄機構８が、作動して、上述した第１洗浄工程と同様の作業が行われる。

［１５］カバー体開作動工程
次に、開閉機構７が作動して、カバー体１６が受槽１５から離れる。すなわち、図２７の状態において、開閉機構７が作動すると、ポール７５１がアーム７１と共に水平支持軸７３及び支持体７４０を伴って上昇し、ローラ７２も上昇する。このとき、カバー体１６も、水平状態のままで、受槽１５から離れて上昇する。ポール７５１が距離Ｈだけ上昇すると、図２８に示されるように、ローラ７２が当接体７６に下方から当接する。そして、ポール７５１が更に上昇すると、ローラ７２は当接体７６に当接したまま回動し、アーム７１がローラ７２を支点として上向きに傾斜していく。これにより、カバー体１６は、図２６の状態、すなわち、開いた状態となる。なお、アーム７１は、支持体７４０の切欠き部７５１０を通って傾斜している。

そして、装置１０の作動を停止させる。

その後、小物を収容した処理容器１１を、着脱機構によって、垂直回転軸１２から取り外す。そして、処理容器１１から小物を取り出して、乾燥させる。

これにより、小物に、２層のめっき被膜を形成することができる。下層のめっき被膜は、第１めっき処理液に基づくものであり、上層のめっき被膜は、第２めっき処理液に基づくものである。例えば、第１めっき処理液がニッケルめっき液の場合には、下層のめっき被膜はニッケル被膜であり、第２めっき処理液が錫めっき液の場合には、上層のめっき被膜は錫被膜である。

上記構成の装置１０によれば、次のような作用効果を発揮できる。

（１）第１電気めっき処理工程において、小物に対して第１電気めっき処理を施すことができ、第２電気めっき処理工程において、第１電気めっき処理が施された小物に対して第２電気めっき処理を施すことができる。したがって、小物に対して、２層からなるめっき被膜を形成することができる。

（２）第２洗浄工程において、洗浄水供給機構が作動することによって処理容器１１の内面及び小物を洗浄でき、また、第１洗浄機構５が作動することによってカバー体１６の内面１６２及び処理容器１１の外面１１９を洗浄でき、更に、第２洗浄機構８が作動することによって受容器３１の内面を洗浄できる。よって、第１めっき処理液を第１タンク２１に回収した後に、第１めっき処理液を、処理容器１１の内部、カバー体１６の内面１６２、処理容器１１の外面１１９、及び受容器３１の内面から、きれいに洗い流して排出することができる。したがって、第２めっき処理工程において、第２めっき処理液を、第１めっき処理液と混ざらないよう、厳密に分けて、第２タンク２４に回収することができる。

なお、第２洗浄工程においては、第１洗浄機構５によって、カバー体１６の内面１６２及び処理容器１１の外面１１９をも洗浄しているので、飛散した第１めっき処理液をきれいに洗い流すことができる。また、処理容器１１が回転しながら洗浄されるため、当該回転により吹き飛ばされた洗浄水が、カバー体１６の内面１６２及び受槽１５の内面にたたきつけられるので、飛散した第１めっき処理液をきれいに洗い流すことができる。したがって、第１めっき処理液と第２めっき処理液との分別回収を、効果的に行うことができる。更に、第２洗浄機構８によって、受容器３１の内面をも洗浄しているので、受容器３１の内面に付着している第１めっき処理液をきれいに洗い流すことができ、したがって、第１めっき処理液と第２めっき処理液との分別回収を、より効果的に行うことができる。

（３）第１電気めっき処理工程において、第１表面処理液供給機構２２が作動することによって、第１タンク２１内の第１めっき処理液を用いて処理を行い、且つ、ドレイン機構第１作動工程によって、連結管３３を第１タンク２１の入口２１１に連結させているので、使用された第１めっき処理液を第１タンク２１に戻すことができる。これにより、第１めっき処理液を再使用できる。また、第２電気めっき処理工程において、第２表面処理液供給機構２５が作動することによって、第２タンク２４内の第２めっき処理液を用いて処理を行い、且つ、ドレイン機構第３作動工程によって、連結管３３を第２タンク２４の入口２４１に連結させているので、使用された第２めっき処理液を第２タンク２４に戻すことができる。これにより、第２めっき処理液を再使用できる。

（４）カバー体１６を備えているので、第１電気めっき処理工程において第１めっき処理液が飛散するのを防止でき、第２電気めっき処理工程において第２めっき処理液が飛散するのを防止でき、第１〜第３洗浄工程において洗浄水が飛散するのを防止できる。

（５）カバー体１６は、受槽１５を塞いだ状態において、周壁１６３の下端１６４が樹脂体１５４に当接している。したがって、表面処理液や洗浄水が受槽１５の外へ漏出するのを防止できる。

（６）カバー体１６は、周壁１６３の下端１６４の内面にフランジ１６５を有している。したがって、カバー体１６の周壁１６３と受槽１５の周壁１５２との重なり部分に、表面処理液や洗浄水が懸かるのを防止できる。よって、表面処理液や洗浄水が受槽１５の外へ漏出するのを防止できる。
（７）樹脂体１５４とフランジ１６５を共に有しているので、樹脂体１５４とカバー体１６の下端１６４が当接する部分に、カバー体１６の内面１６２を伝って落下してくる洗浄水が付着するのを、フランジ１６５が防止する。したがって、洗浄水や表面処理液がカバー体１６及び受槽１５の外へ流出するのを、より確実に防止できる。

（８）垂直回転軸１２が、受槽１５の内周壁１５５によって、受槽１５から隔てられているので、表面処理液や洗浄水が垂直回転軸１２側へ漏出するのを防止できる。しかも、垂直回転軸１２の上端に連結されている受板１４１が、内周壁１５５の上端部を囲む周壁１４３を下面に有しているので、受板１４１と内周壁１５５との間の隙間１５６（図６）から、表面処理液や洗浄水が垂直回転軸１２側へ漏出するのを防止でき、したがって、垂直回転軸１２側への漏出を確実に防止できる。

（９）第１アノード電極４１と処理容器１１の電極リング１１２との間に通電できるので、第１電気めっき処理を行うことができる。また、第２アノード電極４６と処理容器１１の電極リング１１２との間に通電できるので、第２電気めっき処理を行うことができる。したがって、２種類の電気めっき処理を行うことができる。

（１０）カバー体閉作動工程において、開閉機構７が作動することによって、カバー体１６を自動で閉じることができる。また、カバー体開作動工程において、開閉機構７が作動することによって、カバー体１６を自動で開くことができる。しかも、カバー体開作動工程においては、上向きに傾斜した高い位置までカバー体１６を開くことができるので、処理容器１１の垂直回転軸１２への着脱作業の邪魔にならない位置に、カバー体１６を位置させることができる。

（１１）カバー体閉作動工程において、カバー体１６は、受槽１５の少し上方から、水平状態のままで下降して、受槽１５を塞いでいる。これにより、カバー体１６の周壁１６３を、比較的深く、受槽１５内に挿入できる。したがって、カバー体１６によって受槽１５をより確実に塞ぐことができ、処理液や洗浄水が外へ飛散するのを防止できる。

（１２）カバー体閉作動工程及びカバー体開作動工程において、カバー体１６は、受槽１５の少し上方で水平状態となるので、カバー体１６が昇降しながら傾斜していく際にレベルセンサー５８が処理容器１１の開口１１５の縁に衝突するのを、防止できる。

（１３）第１電気めっき処理工程において、第１表面処理液供給機構２２の作動時及び非作動時において、第１タンク２１内の第１めっき処理液を、濾過器２２１を通して第１タンク２１内へ戻すことができる。したがって、第１タンク２１内の第１めっき処理液を清浄化できる。また、第２電気めっき処理工程において、第２表面処理液供給機構２５の作動時及び非作動時において、第２タンク２４内の第２めっき処理液を、濾過器２５１を通して第２タンク２４内へ戻すことができる。したがって、第２タンク２４内の第２めっき処理液を清浄化できる。したがって、清浄な表面処理液を再使用できる。

（１４）第１アノード電極装填工程において、第１支持機構４３が作動することによって、第１アノード電極４１を処理容器１１内へ自動で装填できる。また、第１アノード電極退避工程において、第１支持機構４３が作動することによって、第１アノード電極４１を第１退避場４５内へ自動で退避させることができる。すなわち、第１アノード電極４１を使用しない場合には、第１アノード電極４１を第１退避場４５に退避させておくことができるので、第１アノード電極４１が処理容器１１の着脱作業等の邪魔になるのを防止でき、また、第１アノード電極４１に付着した第１めっき処理液によって処理容器１１の周辺が汚れるのを、防止できる。

（１５）第２アノード電極装填工程において、第２支持機構４８が作動することによって、第２アノード電極４６を処理容器１１内へ自動で装填できる。また、第２アノード電極退避工程において、第２支持機構４８が作動することによって、第２アノード電極４６を第２退避場４９内へ自動で退避させることができる。すなわち、第２アノード電極４６を使用しない場合には、第２アノード電極４６を第２退避場４９に退避させておくことができるので、第２アノード電極４６が処理容器１１の着脱作業等の邪魔になるのを防止でき、また、第２アノード電極４６に付着した第２めっき処理液によって処理容器１１の周辺が汚れるのを、防止できる。

（１６）第１アノード電極４１が、第１アノード端子４１１に第１アノードケース４１２を着脱自在に取り付けて構成されているので、第１アノードケース４１２を取り外すことによって、第１アノード電極４１のメンテナンスを容易に行うことができる。第２アノード電極４６についても同様である。

（１７）装置本体１００の上室１０１においては、底面１０１１上に垂れ落ちためっき処理液や洗浄水を、排出口１０１２に向けて流すことができる。したがって、底面１０１１の清掃を容易に行うことができる。

なお、第１電気めっき処理工程及び第２電気めっき処理工程においては、いわゆる「脱泡運転」を行うのが好ましい。一般に、表面処理液が界面活性剤を含んでいる場合には、表面処理中に泡が発生して、表面処理に支障を来すことがある。そこで、泡の発生が認められるようになった時に、「脱泡運転」と称して、表面処理液の供給は続けながら、処理容器１１への通電を停止するとともに処理容器１１の回転を遅くすることによって、表面処理液を泡と共に処理容器１１からオーバーフローさせる。これにより、表面処理を、泡によって妨げられることなく、良好に行うことができる。

なお、本実施形態の表面処理装置においては、以下のような変形構成を採用してもよい。

［第１洗浄機構５の変形構成］
（Ａ）第１変形例である。第１洗浄機構５が、図３３及び図３４に示されるように、１本のパイプ５９を用いて構成されている。図３４は、図３３のパイプ５９の平面図である。なお、両図において、洗浄水供給機構は省略している。すなわち、パイプ５９は、図８の給水通路５３に相当する円形部５９１と、図８の給水通路５４に相当する直線部５９２と、からなっている。そして、円形部５９１では、縦断面上部近傍に多数の噴出口５９１１（スリット５１に相当）が形成されており、直線部５９２では、縦断面最下部に１個以上の噴出口５９２１（噴出口５２に相当）が形成されている。

この構成においては、外部の洗浄水供給源に連結された供給管からパイプ５９に供給されてきた洗浄水が、噴出口５１から、カバー体１６の内面１６２に、噴出され、また、噴出口５２から、処理容器１１の外面１１９に、噴出される。

この構成によっても、図８〜図１０に示す第１洗浄機構５と同様の作用効果を発揮できる。しかも、第１洗浄機構５の構成を簡素化できる。

（Ｂ）第２変形例である。第１洗浄機構５が、図３５及び図３６に示されるように、更に、第３噴出部を有している。図３６は図３５のＸＸＸVI矢視図である。第３噴出部は、カバー体１６の外周縁に沿って設けられた給水通路６１に形成された噴出口６１１からなっている。

この構成においては、外部の洗浄水供給源に連結された供給管から給水通路６１に供給されてきた洗浄水が、噴出口６１１から、カバー体１６の周壁１６３の内面に、噴出される。

この構成によっても、図８〜図１０に示す第１洗浄機構５と同様の作用効果を発揮できる。しかも、カバー体１６の周壁１６３の内面を確実に洗浄できる。

（Ｃ）第３変形例である。第１洗浄機構５が、図３７に示されるように、複数の給水通路５４を有している。各給水通路５４は、給水通路５３から半径方向に延びている。各給水通路５４には、複数の噴出口５２が形成されている。

この構成においては、外部の洗浄水供給源に連結された供給管から供給されてきた洗浄水が、各給水通路５４に流れ、各給水通路５４の噴出口５２から、処理容器１１の外面１１９に、噴出される。

この構成によっても、図８〜図１０に示す第１洗浄機構５と同様の作用効果を発揮できる。しかも、処理容器１１の外面１１９を効果的に洗浄できる。

（Ｄ）第４変形例である。第１洗浄機構５が、図３８及び図３９に示されるように、給水通路５３をカバー体１６の半径方向外側から囲むように設けられた給水通路５４を、有している。図３９は図３８のＸＸＸIX矢視図である。

この構成においては、外部の洗浄水供給源に連結された供給管から供給されてきた洗浄水が、周方向に延びている給水通路５４の噴出口５２から、処理容器１１の外面１１９に、噴出される。

この構成によっても、図８〜図１０に示す第１洗浄機構５と同様の作用効果を発揮できる。しかも、処理容器１１の外面１１９を全周に渡って確実に洗浄できる。

（Ｅ）第５変形例である。この例は、洗浄水供給機構と第１洗浄機構を一体に形成したものである。第１洗浄機構５の給水通路５３、５４が、図４０に示されるように、洗浄水供給機構のノズル５７に連結されている。

この構成においては、外部の洗浄水供給源に連結された供給管から供給されてきた洗浄水が、スリット５１から、カバー体１６の内面１６２に、噴出され、また、噴出口５２から、処理容器１１の外面１１９に、噴出され、更に、ノズル５７から処理容器１１内に注入される。

この構成によっても、図８〜図１０に示す第１洗浄機構５と同様の作用効果を発揮できる。しかも、洗浄水供給機構を省略できるので、装置構成を簡素化できる。

なお、上述した例では、洗浄水として、水のみを供給しているが、高圧エアーと水とを混ぜて噴出してもよい。これによれば、エアーの圧力によって、水とエアーとが勢い良く噴出するので、より洗浄効果が高い。

［開閉機構７の変形構成］
（Ａ）第１変形例である。図４１は開閉機構７の斜視図であり、図４２〜図４５はその作動を順に示す側面断面図である。この開閉機構７も、アーム７１と、ローラ（回転体）７２と、水平支持軸７３と、支持機構と、昇降機構７５と、当接体と、を有している。

図４２において、アーム７１は、カバー体１６から横方向に延びた前アーム部７１１と、前アーム部７１１に直交して上方に延びた後アーム部７１２とからなっている。ローラ７２は、後アーム部７１２の上端に設けられている。ローラ７２は、後アーム部７１２に対して直交し且つ水平な軸回りに回転自在に支持されている。

昇降機構７５は、垂直なポール７５１と、シリンダ駆動部７５２と、並設された２本の垂直なスライド軸７５３、７５４と、を有している。シリンダ駆動部７５２は、ポール７５１の下側に位置している。ポール７５１は、２本のスライド軸７５３、７５４の間に位置している。昇降機構７５は、シリンダ駆動部７５２を作動させることによって、ポール７５１を、水平支持軸７３を介して２本のスライド軸７５３、７５４に沿わせるように、昇降させるようになっている。

水平支持軸７３は、アーム７１に対して直交しており、前アーム部７１１と後アーム部７１２との交叉部にてアーム７１を回動自在に支持しており、ポール７５１の上端部に回動自在に支持されている。また、水平支持軸７３は、両側のスライド軸７５３、７５４まで延びており、スライド軸７５３、７５４に対してスライド可能に連結されている。

ポール７５１の両側には、垂直壁７８１と水平壁７８２とを有する枠体７８が設けられている。すなわち、枠体７８は２個設けられている。一方、ローラ７２は、後アーム部７１２の上端から両側の枠体７８まで延びている。垂直壁７８１は、ローラ７２が後方から当接した場合に前アーム部７１１が水平となる位置関係で設けられている。水平壁７８２は、垂直壁７８１から後方へ延びている。水平壁７８２は、前アーム部７１１が水平状態のままで所定距離Ｈ（図４２）だけ上昇した際に、ローラ７２が下方から当接する高さ位置に、設けられている。垂直壁７８１が、この開閉機構７における支持機構を構成しており、水平壁７８２が、この開閉機構７における当接体を構成している。

上記構成の開閉機構７は、次のように開作動する。
カバー体１６が閉じている状態、すなわち、図４２の状態において、開閉機構７が作動すると、図４３に示されるように、ポール７５１がアーム７１と共に水平支持軸７３を伴って上昇し、ローラ７２も上昇する。このとき、カバー体１６も、水平状態のまま、受槽１５から離れて上昇する。ポール７５１が距離Ｈだけ上昇すると、ローラ７２が水平壁７８２に下方から当接する。そして、図４４に示されるように、ポール７５１が更に上昇すると、ローラ７２は回転しながら水平壁７８２に沿って後方へ移動し、前アーム部７１１が水平支持軸７３を支点として上向きに傾斜していく。これにより、カバー体１６は、図４５の状態、すなわち、開いた状態となり、後方に設けられている支持部材７９に当接することによって、後方へ倒れるのが防止される。

上記構成の開閉機構７によっても、図１５に示されている開閉機構７と同様の作用効果を発揮できる。

（Ｂ）第２変形例である。図４６は開閉機構７の側面図である。この開閉機構７は、アーム７１と、昇降機構７５と、を有している。

昇降機構７５は、上下に掛け渡されたチェーン７５５と、チェーン駆動機構７５６と、上下に延びたスライド軸７５７と、を有している。チェーン７５５は、上部スプロケット７５５１と下部スプロケット７５５２との間に掛け渡されている。

アーム７１は、カバー体１６から横方向に延びており、他端部において軸受７１３を介してスライド軸７５７に沿ってスライド可能に設けられている。そして、軸受７１３は、チェーン７５５に連結されている。

この開閉機構７においては、チェーン駆動機構７５６が作動すると、チェーン７５５が上下動し、それに伴って、アーム７１がスライド軸７５７に沿って上下動し、その結果、カバー体１６が水平状態のまま上下動する。これにより、カバー体１６の開閉が行われる。

上記構成の開閉機構７によっても、図１５に示されている開閉機構７と同様の作用効果を発揮できる。しかも、開閉機構７の構成を極めて簡素化できる。

（Ｃ）第３変形例である。図４７は開閉機構７の斜視図である。この開閉機構７は、アーム７１と、昇降機構７５と、横移動機構９１と、を有している。

横移動機構９１は、横移動体９１１と、レール９１２と、を有している。レール９１２は、アーム７１に対して直交する方向に延びている。横移動体９１１は、駆動源（図示せず）によって、レール９１２に沿って移動するよう設けられている。

昇降機構７５は、上下に延びたポール７５１と、ポール７５１を上下動させるシリンダ駆動機構７５２と、上下に延びたスライド軸７５７とを、横移動体９１１上に有している。ポール７５１の上端は、アーム７１の途中に連結されている。

アーム７１は、カバー体１６から横方向に延びており、他端部において軸受７１３を介してスライド軸７５７に沿ってスライド可能に設けられている。

この開閉機構７による開作動は、次のように行われる。すなわち、シリンダ駆動機構７５２が作動すると、アーム７１がスライド軸７５７に沿って所定距離（例えば上記Ｈ）だけ上昇し、その結果、カバー体１６が水平状態のまま上記所定距離だけ上昇する。その後、横移動機構９１が作動して、横移動体９１がレール９１２に沿って移動する。これにより、アーム７１がカバー体１６を伴って移動し、カバー体１６は、処理容器１１の上方から横方向へ移動する。すなわち、カバー体１６は、開状態となる。なお、閉作動は、これらの逆となる。

上記構成の開閉機構７によっても、図１５に示されている開閉機構７と同様の作用効果を発揮できる。しかも、カバー体１６を処理容器１１から完全に引き離すことができるので、確実な開状態を実現できる。

（Ｄ）第４変形例である。図４８は開閉機構７の斜視図である。この開閉機構７は、アーム７１と、昇降機構７５と、回動機構９２と、を有している。

昇降機構７５は、上下に延びたポール７５１と、ポール７５１を上下動させるシリンダ駆動機構７５２と、上下に延びたスライド軸７５７と、昇降板７５８と、を有している。ポール７５１の上端は昇降板７５８の下面に固定されている。昇降板７５８は、スライド軸７５７に沿って上下動するよう設けられている。

アーム７１は、カバー体１６から横方向に延びており、他端部において軸受７１３を介してスライド軸７５７に沿ってスライド可能に設けられている。軸受７１３の周面にはギヤ７１３１が形成されている。アーム７１及び軸受７１３は、昇降板７５８上に載っており、昇降板７５８に対して摺動可能である。

回動機構９２は、昇降板７５８上に固定されたモータ９２１と、モータ９２１によって回転駆動されるギヤ９２２と、を有している。ギヤ９２２は、軸受７１３のギヤ７１３１に連結している。

この開閉機構７による開作動は、次のように行われる。すなわち、シリンダ駆動機構７５２が作動すると、昇降板７５８がスライド軸７５７に沿って所定距離（例えば上記Ｈ）だけ上昇し、その結果、昇降板７５８に載っているアーム７１が上記所定距離だけ上昇し、カバー体１６が水平状態のまま上記所定距離だけ上昇する。その後、回動機構９２が作動して、軸受７１３が回動し、アーム７１が回動し、これにより、カバー体１６は、処理容器１１の上方から、横方向へ、円弧状軌跡を描きながら移動していく。すなわち、カバー体１６は、開状態となる。なお、閉作動は、これらの逆となる。

上記構成の開閉機構７によっても、図１５に示されている開閉機構７と同様の作用効果を発揮できる。しかも、カバー体１６を処理容器１１から完全に引き離すことができるので、確実な開状態を実現できる。

［ドレイン機構３の変形構成］
（Ａ）第１変形例である。図２０の受容器３１と排出管３２とからなる排出部材に代えて、図４９に示されるように、可撓性ホース３７が用いられている。すなわち、可撓性ホース３７の上端は、受槽１５の排出口１５３に連結されており、可撓性ホース３７の下端には、連結管３３が連結されている。連結管３３は、フォーク３８１を介して、ロータリーテーブル３８２の中心軸３８３に支持されており、ロータリーテーブル３８２の回動に伴って図２０の場合と同様に回動するようになっている。ロータリーテーブル３８２は、ロッド３８４に支持されており、シリンダ駆動部３８５によって昇降するようになっている。

この構成においては、連結管３３が、回動して、任意のタンクの入口の上に位置し、シリンダ駆動部３８５の作動によって下降して、当該入口に連結する。

この構成によっても、図２０に示すドレイン機構３と同様の作用効果を発揮できる。しかも、ドレイン機構３の構成を簡素化でき、更には、回動や昇降に要するパワーを、図２０の場合に比して、低減できる。

（Ｂ）第２変形例である。図５０に示されるように、連結管３３が、排出管３２ではなく、タンクの入口に設けられている。図５０では、連結管３３は、第１タンク２１の入口２１１に対して上下に摺動自在に設けられており、シリンダ駆動部３４によって入口２１１に対して上下動するようになっている。連結管３３は、第２タンク２４の入口２４１及び第３タンク２７の入口２７１にも、それぞれ、同様に、設けられている。

この構成においては、受容器３１が回動して、図５１に示されるように、排出管３２の鉛直部３２２が、例えば第１タンク２１の入口２１１上に位置し、シリンダ駆動部３４によって連結管３３が上昇して、入口２１１が連結管３３を介して排出管３２に連結する。

この構成によっても、図２０に示すドレイン機構３と同様の作用効果を発揮できる。

［アノード電極支持機構の変形構成］
（Ａ）第１変形例である。図５２は第１アノード電極４１及びその支持機構４３と、第２アノード電極４６及びその支持機構４８とを、示す側面図である。第１アノード電極４１の第１支持機構４３は、横方向に延びたアーム４４１と、上下に延びた支持体４４２と、当接体４４３と、を有している。

アーム４４１は、一端にて第１アノード電極４１を支持しており、他端の上部にローラ４４４を有している。

支持体４４２は、シリンダ駆動機構４４５と、シリンダ駆動機構４４５から下方に延びたポール４４６と、ポール４４６の下端部に固定されたブロック４４７と、を有している。アーム４４１は、ローラ４４３に近い位置で、ブロック４４７の下端に、水平支持軸４４８回りに回動可能に、支持されている。但し、アーム４４１の回動は、第１アノード電極４１がアーム４４１の水平位置から下がらないよう、抑制されている。

当接体４４３は、アーム４４１が第１アノード電極４１を伴って水平状態のまま所定距離Ｈだけ上昇した際に、ローラ４４４が下方から当接する位置に、設けられている。

更に、第１支持機構４３には、第１表面処理液供給機構２２のノズル４３９が設けられている。ノズル４３９は、第１アノード電極４１の近傍にて、アーム４４１に支持されている。ノズル４３９へ至る供給通路４４０は、ブロック４４７とシリンダ駆動機構４４５とに固定されている。ブロック４４７とシリンダ駆動機構４４５との間の供給通路４４０の部分４４０１は、蛇腹構造を有しており、それ故、伸縮自在となっている。

第２アノード電極４６の第２支持機構４８も、第１支持機構４３と同じ構造を有している。すなわち、アーム４８１と、支持体４８２と、当接体４８３と、を有している。アーム４８１は、ローラ４８４を有している。支持体４８２は、シリンダ駆動機構４８５と、ポール４８６と、ブロック４８７と、を有している。アーム４８１は、水平支持軸４８８回りに回動可能である。第２表面処理液供給機構２４のノズル４８９が、アーム４８１に支持されている。ノズル４８９へ至る供給通路４６０は、ブロック４８７とシリンダ駆動機構４８５との間の部分４６０１が、蛇腹構造を有しており、それ故、伸縮自在となっている。

上記構成のアノード電極支持機構によれば、ポールを上下動させるだけで、アノード電極を着脱させることができるので、作業効率を向上できる。

（Ｂ）第２変形例である。図５３はアノード電極を１個のみ用いる場合の支持機構の縦断面図である。ここで、アノード電極を１個のみ用いる場合とは、１種類のみの表面処理を行う場合、又は、不溶性陽極を用いる場合、である。

この支持機構では、アノード端子９３１とアノードケース９３２とからなるアノード電極９３が、カバー体１６の中央部に、設けられている。アノードケース９３２を塞ぐ蓋部９３３は、カバー体１６の開口１６１も塞いでいる。

また、アノードケース９３２内には、表面処理液を供給するためのノズル９４と、洗浄水を供給するためのノズル９５と、が設けられている。ノズル９５からの洗浄水によって、アノードケース９３２内は洗浄される。アノード端子９３１及びノズル９４、９５は、蓋部９３３を貫通して蓋部９３３に固定されている。

更に、第１洗浄機構５の給水通路５３には、半径方向内側に開いたスリット５９が設けられている。

上記構成によれば、カバー体１６の開閉と共にアノード電極９３の着脱を行うことができるので、作業効率をより向上できる。しかも、アノード電極のみを支持するための支持機構を不要にできるので、装置の構成を簡素化できる。更に、カバー体１６の開口１６１が蓋部９３３で塞がれているので、表面処理液が開口１６１を通って飛散するのを防止できる。

（Ｃ）第３変形例である。図５４はアノード電極を１個のみ用いる場合の支持機構の縦断面図である。ここで、アノード電極を１個のみ用いる場合とは、不溶性陽極を用いる場合である。不溶性陽極を用いる場合には、金属イオンを供給する必要がないので、金属イオンの供給源となる金属を保持するためのアノードケースが不要である。

よって、この支持機構は、図５３の場合に比して、アノードケース及びノズル９５を省略している。

上記構成によっても、図５３の場合と同様の効果を発揮できる。

なお、本発明の表面処理装置は、上述したような第１電気めっき処理及び第２電気めっき処理という２種類の電気めっき処理を行うのに使用できるだけでなく、下記に示すような表面処理を行うのにも、使用できる。

表面処理としては、電気めっき処理以外に、前処理、後処理、無電解めっき処理、電着塗装処理、複合めっき処理等がある。各処理について、以下、簡単に説明する。

［Ｉ］前処理
・脱脂処理…表面処理液はアルカリ脱脂剤である。通電は不要である。この処理は、小物表面の油分を落とす。
・電解脱脂処理…表面処理液はアルカリ性溶液である。通電は必要である。この処理において、「陰極電解法」は、小物を陰極として、陰極から発生する水素ガスによって、小物表面の汚れを落とし、「陽極電解法」は、小物を陽極として、陽極から発生する酸素ガスによって、小物表面の汚れを落とし、「ＰＲ電解法」は、電流の方向を周期的に逆転させることにより、「陰極電解法」と「陽極電解法」との長所を生かして、小物表面の汚れを落とす。
・バレル研磨処理…表面処理液は水であるが、用いなくてもよい。通電は不要である。この処理は、処理容器内に、傷を防止するためのメディアと研磨剤と小物とを入れて、これらを混合させることによって、小物表面を研磨する。水を用いると湿式研磨であり、水を用いないと乾式研磨である。
・アルカリ浸漬洗浄処理…表面処理液はアルカリ性溶液である。通電は不要である。この処理は、小物表面の汚れを落とす。
・酸洗い処理…表面処理液は酸液である。通電は不要である。この処理は、小物表面の錆や異物等を除去する、又は、小物表面を腐食させることによって小物表面とめっき被膜との密着性を向上させる。
・酸電解処理…表面処理液は酸液である。通電は必要である。この処理は、小物表面のひどい錆を除去する。小物を陰極とする方法と陽極とする方法とがある。
・化学研磨処理…表面処理液は化学研磨液である。通電は不要である。この処理は、表面処理液の作用によって、小物表面の凸部を凹部よりも溶解させて、小物表面を平滑化する。
・電解研磨処理…表面処理液は電解研磨液である。通電は必要である。この処理は、小物を陽極として、小物表面の凸部を余分に溶解させて、小物表面を平滑化する。
・中和処理…表面処理液は中和液である。通電は不要である。この処理は、小物表面を中和する。

［II］後処理
・水切り変色防止処理…表面処理液は、水溶性シリコン又は界面活性剤等の数％水溶液である。通電は不要である。この処理は、小物の乾燥を促進させることによって、小物表面における、しみの発生及び変色を防止する。
・水溶性樹脂処理…表面処理液は、水溶性樹脂を溶解させた水溶液である。通電は不要である。この処理は、小物を表面処理液に浸漬させた後に乾燥させることによって、小物表面に有機防錆被膜を形成する。
・クロメート処理…表面処理液は、クロム酸及び鉱酸を含む液である。通電は不要である。この処理は、小物を表面処理液に浸漬させることによって、小物表面にクロメート被膜を形成する。この処理は、主として、亜鉛めっき処理の後に行って、亜鉛めっき被膜の表面にクロメート被膜を形成することによって、亜鉛めっき被膜の耐食性を向上させるとともに、見映えも向上させる。

［III］無電解めっき処理
・浸漬めっき処理…表面処理液は、銅、ニッケル、錫、金等のイオンを含む溶液である。通電は不要である。この処理は、卑な金属である小物を、貴な金属イオンを含む溶液に浸漬させることにより、小物表面の溶解によって放出された電子を貴な金属イオンへ転移させ、小物表面に貴な金属の被膜を形成する。
・化学めっき処理…表面処理液は、銅、ニッケル、錫、金等のイオンと、還元剤等と、を含む溶液である。通電は不要である。この処理は、還元剤の酸化によって放出される電子を金属イオンへ転移させ、小物表面に金属の被膜を形成する。

［IV］電着塗装処理
・アニオン電着塗装処理…表面処理液は、水に分散したイオン性樹脂粒子を含む電着塗料である。通電は必要である。この処理は、小物を電着塗料に浸漬し、小物を陽極として両者に電圧を加え、樹脂粒子を小物に引き寄せて、小物表面に樹脂被膜を形成する。
・カチオン電着塗装処理…小物を陰極とする点の他は、アニオン電着塗装処理と同じである。

［Ｖ］複合めっき処理
・複合めっき処理…表面処理液は、金属イオン及び非金属物質を含む複合めっき液である。通電は必要である。この処理は、小物を表面処理液に浸漬させて通電することにより、小物表面に、金属と非金属物質とが混合してなる被膜を形成する。
・化学複合めっき処理…通電しない点の他は、複合めっき処理と同じである。

更に、本発明の回転表面処理装置は、通電を必要とする２種類の表面処理を行う場合には、通常は、上述したような工程で作動するが、通電を必要としない２種類の表面処理を行う場合には、上述した工程の内の［４］、［６］、［１０］、及び［１２］の工程が不要である。また、通電を必要とする１種類の表面処理のみを行う場合には、上述した工程の内の［９］〜［１４］の工程が不要である。また、通電を必要としない１種類の表面処理のみを行う場合には、上述した工程の内の［９］〜［１４］の工程と［４］及び［６］の工程が不要である。

［第２実施形態］
図５５は第２実施形態の表面処理装置の斜視図である。本実施形態は、１台で１種類の表面処理を行うための、いわゆる「１液タイプ」の表面処理装置に関するものである。本実施形態の表面処理装置では、第１実施形態の表面処理装置において２種類の表面処理液を用いるために２個ずつ設けられていた構成要素が、１個ずつ設けられている。本実施形態の他の構成は、第１実施形態と同じである。図５５において、図１〜図５４における符号と同じ符号は、同じ又は相当する構成要素を示している。

この装置の開閉機構７は、図４１に示された開閉機構であり、ドレイン機構３は、図４９に示されたドレイン機構である。

この装置のアノード電極９６の支持機構９７は、アーム９７１と、昇降機構９７２と、横移動機構９７３と、を有している。アノード電極９６は、アーム９７１の一端に支持されている。昇降機構９７２は、ポール（図示せず）と、シリンダ駆動機構９７４と、スライド軸９７５と、を有している。アーム９７１は、ポールの上端に連結されており、シリンダ駆動機構９７４によってスライド軸９７５に沿って昇降するようになっている。横移動機構９７３は、スライド軸９７５をガイド軸９７６に沿って横方向に移動させるようになっている。

この支持機構９７では、図５５の状態において、横移動機構９７３が作動して、スライド軸９７５がアーム９７１を保持したまま横方向に移動し、アノード電極９６が処理容器（図示せず）上に位置する。そして、昇降機構９７２が作動して、アーム９７１が下降する。これにより、アノード電極９６が処理容器内に装着される。また、この逆の作動によって、アノード電極９６は、処理容器から取り出される。

本実施形態の表面処理装置も、第１実施形態の表面処理装置と同じ構成要素に基づいて、第１実施形態の表面処理装置と同様に作動する。したがって、本実施形態の表面処理装置によっても、第１実施形態の表面処理装置と同様の作用効果を発揮できる。

本発明の表面処理装置は、装置の内部や外部が汚れるのを防止できるので、産業上の利用価値が大である。

Claims (7)

1. 小物を収容した処理容器を回転させながら小物に対して表面処理を施すための、表面処理装置であって、
   内から外へ液体を流出させる液体流出機構を有し、且つ、小物を収容可能である、処理容器と、
   処理容器を下方から囲んでいる、受槽と、
   受槽を上方から塞ぐよう設けられ、中央に開口を有している、カバー体と、
   表面処理液を、処理容器内に供給する、表面処理液供給機構と、
   洗浄水を、処理容器内に供給する、洗浄水供給機構と、を備えており、
   処理容器を回転させながら表面処理液供給機構を作動させた場合には、処理容器内に表面処理液を供給するとともに液体流出機構によって処理容器から表面処理液を流出させて、小物に対して表面処理を施すようになっており、
   処理容器を回転させながら洗浄水供給機構を作動させた場合には、処理容器内に洗浄水を供給するとともに液体流出機構によって処理容器から洗浄水を流出させて、小物を洗浄するようになっており、
   更に、洗浄水を、カバー体の内面及び／又は処理容器の外面に対して噴出させる、第１洗浄機構、を備えており、
   処理容器を回転させながら第１洗浄機構を作動させた場合には、カバー体の内面及び／又は処理容器の外面を洗浄するようになっていることを特徴とする表面処理装置。
2. 小物を収容した処理容器を回転させながら小物に対して表面処理を施すための、表面処理装置であって、
   内から外へ液体を流出させる液体流出機構を有し、且つ、小物を収容可能である、処理容器と、
   処理容器を下方から囲んでいる、受槽と、
   受槽を上方から塞ぐよう設けられ、中央に開口を有している、カバー体と、
   表面処理液を、処理容器内に供給する、表面処理液供給機構と、
   洗浄水を、処理容器内に供給する、洗浄水供給機構と、を備えており、
   処理容器を回転させながら表面処理液供給機構を作動させた場合には、処理容器内に表面処理液を供給するとともに液体流出機構によって処理容器から表面処理液を流出させて、小物に対して表面処理を施すようになっており、
   処理容器を回転させながら洗浄水供給機構を作動させた場合には、処理容器内に洗浄水を供給するとともに液体流出機構によって処理容器から洗浄水を流出させて、小物を洗浄するようになっており、
   更に、カバー体を受槽に対して開閉させる開閉機構、を備えており、
   開閉機構が、カバー体を、水平状態のままで、受槽を塞いだ位置から所定の高さ位置まで昇降させ、更に、受槽から離れるよう当該所定の高さ位置から移動させるようになっていることを特徴とする表面処理装置。
3. 小物を収容した処理容器を回転させながら小物に対して表面処理を施すための、表面処理装置であって、
   内から外へ液体を流出させる液体流出機構を有し、且つ、小物を収容可能である、処理容器と、
   処理容器を下方から囲んでいる、受槽と、
   受槽を上方から塞ぐよう設けられ、中央に開口を有している、カバー体と、
   表面処理液を収容するためのタンクと、
   タンクに収容されている表面処理液を、処理容器内に供給する、表面処理液供給機構と、
   洗浄水を、処理容器内に供給する、洗浄水供給機構と、
   受槽で受けられた表面処理液を、当該表面処理液を収容しているタンクに戻し、また、受槽で受けられた洗浄水を、排出部へ流す、ドレイン機構と、を備えており、
   処理容器を回転させながら表面処理液供給機構を作動させた場合には、処理容器内に表面処理液を供給するとともに液体流出機構によって処理容器から表面処理液を流出させて、小物に対して表面処理を施すようになっており、
   処理容器を回転させながら洗浄水供給機構を作動させた場合には、処理容器内に洗浄水を供給するとともに液体流出機構によって処理容器から洗浄水を流出させて、小物を洗浄するようになっており、
   上記ドレイン機構が、
   受槽の排出口に連通した排出部材と、
   排出部材の先端部に、又は、タンク及び排出部の各入口に、上下動自在に連結して設けられた、連結管と、
   連結管を上下動させる昇降部と、
   排出部材の先端部を移動させる移動機構と、を有しており、
   排出部材の先端部を、移動させて、タンク及び排出部の内の選択された入口の上に配置させ、連結管を上昇又は下降させて、排出部材と当該入口とを連結管によって連結させるようになっていることを特徴とする表面処理装置。
4. 小物を収容した処理容器を回転させながら小物に対して２種類の表面処理を施すための、表面処理装置であって、
   内から外へ液体を流出させる液体流出機構を有し、且つ、小物を収容可能である、処理容器と、
   処理容器を下方から囲んでいる、受槽と、
   受槽を上方から塞ぐよう設けられ、中央に開口を有している、カバー体と、
   ２種類の表面処理液をそれぞれ収容するための２個のタンクと、
   ２個のタンクに収容されている表面処理液を、それぞれ、処理容器内に供給する、２個の表面処理液供給機構と、
   洗浄水を、処理容器内に供給する、洗浄水供給機構と、
   受槽で受けられた表面処理液を、当該表面処理液を収容しているタンクに戻し、また、受槽で受けられた洗浄水を、排出部へ流す、ドレイン機構と、を備えており、
   処理容器を回転させながら表面処理液供給機構を作動させた場合には、処理容器内に表面処理液を供給するとともに液体流出機構によって処理容器から表面処理液を流出させて、小物に対して表面処理を施すようになっており、
   処理容器を回転させながら洗浄水供給機構を作動させた場合には、処理容器内に洗浄水を供給するとともに液体流出機構によって処理容器から洗浄水を流出させて、小物を洗浄するようになっており、
   更に、洗浄水を、カバー体の内面及び／又は処理容器の外面に対して噴出させる、第１洗浄機構、を備えており、
   処理容器を回転させながら第１洗浄機構を作動させた場合には、カバー体の内面及び／又は処理容器の外面を洗浄するようになっており、
   更に、カバー体を受槽に対して開閉させる開閉機構、を備えており、
   開閉機構が、カバー体を、水平状態のままで、受槽を塞いだ位置から所定の高さ位置まで昇降させ、更に、受槽から離れるよう当該所定の高さ位置から移動させるようになっており、
   上記ドレイン機構が、
   受槽の排出口に連通した排出部材と、
   排出部材の先端部に、又は、２個のタンク及び排出部の各入口に、上下動自在に連結して設けられた、連結管と、
   連結管を上下動させる昇降部と、
   排出部材の先端部を移動させる移動機構と、を有しており、
   排出部材の先端部を、移動させて、２個のタンク及び排出部の内の選択された入口の上に配置させ、連結管を上昇又は下降させて、排出部材と当該入口とを連結管によって連結させるようになっていることを特徴とする表面処理装置。
5. 第１洗浄機構が、洗浄水を噴出する第１噴出部及び／又は第２噴出部を有しており、
   第１噴出部が、カバー体の開口の縁に沿って設けられた給水通路に形成された噴出口からなり、洗浄水をカバー体の内面に対して噴出するようになっており、
   第２噴出部が、カバー体の内面に沿って設けられた給水通路に形成された噴出口からなり、洗浄水を処理容器の外面に対して噴出するようになっている、請求項１又は４に記載の表面処理装置。
6. 開閉機構が、
   カバー体から延びたアームと、
   アームの他端側に設けられ、アームに対して直交する水平軸回りに回転自在に支持された、回転体と、
   アームを回動自在に支持する水平支持軸と、
   水平支持軸を支点としたアームのカバー体側が低くなるのを防止するよう、アームを支持する支持機構と、
   水平支持軸をアームと共に昇降させる昇降機構と、
   所定の高さ位置まで上昇してきたアームの回転体が、下方から当接する、当接体と、を有しており、
   水平支持軸を上昇させると、回転体が当接体に当接するまで、カバー体が水平状態のままで上昇し、回転体が当接体に当接した後は、アームが水平支持軸の回りに回動するとともにカバー体が傾斜しながら上昇するようになっている、請求項２又は４に記載の表面処理装置。
7. 洗浄水を排出部材の内面に対して噴出させる第２洗浄機構を、有している、請求項３又は４に記載の表面処理装置。

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