JP3126867B2 - 小物のめっき装置及びめっき方法 - Google Patents
小物のめっき装置及びめっき方法Info
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- JP3126867B2 JP3126867B2 JP06065999A JP6599994A JP3126867B2 JP 3126867 B2 JP3126867 B2 JP 3126867B2 JP 06065999 A JP06065999 A JP 06065999A JP 6599994 A JP6599994 A JP 6599994A JP 3126867 B2 JP3126867 B2 JP 3126867B2
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- bottom plate
- processing chamber
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/16—Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
- B22F1/18—Non-metallic particles coated with metal
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば粉体（５〜１０
０μｍ）やチップコンデンサー、ダイオード、コネク
タ、リードスイッチ、釘、ボルト、ナット、ワッシャ等
のような小物（小形部品）のめっきに適した小物のめっ
き装置及びめっき方法に関する。
０μｍ）やチップコンデンサー、ダイオード、コネク
タ、リードスイッチ、釘、ボルト、ナット、ワッシャ等
のような小物（小形部品）のめっきに適した小物のめっ
き装置及びめっき方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、垂直な駆動軸の上端部に固定され
た公転円板上において、同一円周上の２箇所に垂直軸を
中心に逆方向に駆動される自転容器を設け、容器内の小
物（被処理物）とめっき液を遠心力で容器の公転外側内
面に押付けてめっきする装置が提案されている（商品
名：ＲＯＴＡＲＹーＣＨＲＯＭＥＲ）。ところが、その
装置では、容器内のめっき液の量は限られており（少量
であり）時間の経過と共にめっき液の濃度が変化する
為、充分なめっき層厚さを得ることができないし、めっ
き工程を含む多工程を１装置で連続的に行うことはでき
ない。
た公転円板上において、同一円周上の２箇所に垂直軸を
中心に逆方向に駆動される自転容器を設け、容器内の小
物（被処理物）とめっき液を遠心力で容器の公転外側内
面に押付けてめっきする装置が提案されている（商品
名：ＲＯＴＡＲＹーＣＨＲＯＭＥＲ）。ところが、その
装置では、容器内のめっき液の量は限られており（少量
であり）時間の経過と共にめっき液の濃度が変化する
為、充分なめっき層厚さを得ることができないし、めっ
き工程を含む多工程を１装置で連続的に行うことはでき
ない。
【０００３】又図４に示す自動クロームめっき装置（特
公昭４１ー２０６８４号、米国特許第３３５９１９５
号）が提案されている。その構造は図４のように、１１
１は回転体、１１２は送出路、１１３は摺鉢状、１１４
は陰極網、１１５、１１５´は陽極板、１１６は陽極電
纜、１１７は作動杆、１１８は弁、１１９は支承体、１
２０はプーリー、１２１は注入口、１２２は係止片、１
２３は絶縁体、１２４は被めっき物の一例としてのビ
ス、１２６は導線、１２７は導板を備えており、回転体
１１１に間欠回転を与えて被めっき物を仕上げるまでに
３〜４回昇降させて陰極網１１４に密着する体位を変え
ることにより均一な良質のクロームめっき加工が得られ
る物である。しかしその装置では容器内のめっき液の量
は限られており（循環槽との間で循環せず、容器内に一
度入れた少量であり）時間の経過と共にめっき液の濃度
が変化する為、充分なめっき層厚さを得ることができな
いし、高電流密度によるめっき処理ができない。又弁１
１８を上げてめっき液を抜く場合は被処理物が同時に抜
けるので、めっき工程を含む多工程を１装置で連続的に
行うことはできない。
公昭４１ー２０６８４号、米国特許第３３５９１９５
号）が提案されている。その構造は図４のように、１１
１は回転体、１１２は送出路、１１３は摺鉢状、１１４
は陰極網、１１５、１１５´は陽極板、１１６は陽極電
纜、１１７は作動杆、１１８は弁、１１９は支承体、１
２０はプーリー、１２１は注入口、１２２は係止片、１
２３は絶縁体、１２４は被めっき物の一例としてのビ
ス、１２６は導線、１２７は導板を備えており、回転体
１１１に間欠回転を与えて被めっき物を仕上げるまでに
３〜４回昇降させて陰極網１１４に密着する体位を変え
ることにより均一な良質のクロームめっき加工が得られ
る物である。しかしその装置では容器内のめっき液の量
は限られており（循環槽との間で循環せず、容器内に一
度入れた少量であり）時間の経過と共にめっき液の濃度
が変化する為、充分なめっき層厚さを得ることができな
いし、高電流密度によるめっき処理ができない。又弁１
１８を上げてめっき液を抜く場合は被処理物が同時に抜
けるので、めっき工程を含む多工程を１装置で連続的に
行うことはできない。
【０００４】従来又、処理槽の処理液内で６角筒状の多
孔板製のバレルを６角筒が水平になる姿勢で緩やかに
（例えば２０ｒｐｍで）回転させ、バレル内には被処理
物に接触するように先端部に負極（ダンギュラー）を有
するケーブルを挿入し、バレル外に陽極を配置したバレ
ル方式もよく知られている。しかしその場合被処理物と
ダンギュラーの接触の機会を増すためにダミー（例えば
直径２ｍｍの鉄ボール）を多量に混入させなければなら
ず、それでも均一かつ充分な電流密度を得ることは困難
である。処理液は静止しているので、前例と同様に時間
の経過と共にめっき液の濃度が変化し、充分なめっき層
厚さを得ることができないし、めっき工程を含む多工程
を１装置で連続的に行うことはできない。
孔板製のバレルを６角筒が水平になる姿勢で緩やかに
（例えば２０ｒｐｍで）回転させ、バレル内には被処理
物に接触するように先端部に負極（ダンギュラー）を有
するケーブルを挿入し、バレル外に陽極を配置したバレ
ル方式もよく知られている。しかしその場合被処理物と
ダンギュラーの接触の機会を増すためにダミー（例えば
直径２ｍｍの鉄ボール）を多量に混入させなければなら
ず、それでも均一かつ充分な電流密度を得ることは困難
である。処理液は静止しているので、前例と同様に時間
の経過と共にめっき液の濃度が変化し、充分なめっき層
厚さを得ることができないし、めっき工程を含む多工程
を１装置で連続的に行うことはできない。
【０００５】図５に示すチップコンデンサー１００はセ
ラミック（例えば窒化アルミナ）の８面体で、素材の寸
法は例えばＬ2＝Ｌ3＝０．５ｍｍ、Ｌ1＝１ｍｍで、対
向する両端部１０２（網目で示す部分）にＴａが乗せて
（付着させて）ある。この素材をダミーを用いて従来の
バレル方式でＮｉーＳｎ又はＮｉーはんだめっきによ
り、１〜２μｍ厚さの被膜を得る場合、０．２Ａ／ｄｍ
2の低い電流密度になり、６０分を要した。このように
従来のバレル方式では、能率が低くなり、しかも膜厚が
不均一になる。
ラミック（例えば窒化アルミナ）の８面体で、素材の寸
法は例えばＬ2＝Ｌ3＝０．５ｍｍ、Ｌ1＝１ｍｍで、対
向する両端部１０２（網目で示す部分）にＴａが乗せて
（付着させて）ある。この素材をダミーを用いて従来の
バレル方式でＮｉーＳｎ又はＮｉーはんだめっきによ
り、１〜２μｍ厚さの被膜を得る場合、０．２Ａ／ｄｍ
2の低い電流密度になり、６０分を要した。このように
従来のバレル方式では、能率が低くなり、しかも膜厚が
不均一になる。
【０００６】
【発明の目的】第１発明は、充分かつ均一なめっき層を
短時間で得ることができるようにすることを目的として
いる。第２発明は循環中の処理液の混合を避け、液管理
を容易にすることを目的としている。第３発明は被処理
物のアンロード、処理工程の分割を容易にすることを目
的としている。第４発明は一つの装置でめっきから遠心
脱水乾燥までを連続的に行えるようにすることを目的と
している。第５発明はめっき工程以前における被処理物
の酸化を可及的に防止することを目的としている。
短時間で得ることができるようにすることを目的として
いる。第２発明は循環中の処理液の混合を避け、液管理
を容易にすることを目的としている。第３発明は被処理
物のアンロード、処理工程の分割を容易にすることを目
的としている。第４発明は一つの装置でめっきから遠心
脱水乾燥までを連続的に行えるようにすることを目的と
している。第５発明はめっき工程以前における被処理物
の酸化を可及的に防止することを目的としている。
【０００７】
【発明の構成】第１発明は、垂直な駆動軸の上端部に固
定された水平な円形の底板と、上記底板に外周の取付フ
ランジが固定され中央に開口を有し上記底板との間に半
径方向外方へ行くにつれて低くなるか又は円筒状の処理
室を形成するカバーと、上記底板と上記取付フランジの
間に挾持される連続又は間欠接触用の通電用の接触リン
グと、上記接触リングの近傍に配置され処理液のみを通
す多孔体窓と、上記開口より処理液等を上記処理室に供
給する供給管と、上記多孔体窓から飛散した処理液を受
ける容器と、上記容器に溜った処理液を上記供給管へ送
るポンプと、上記開口から挿入されてめっき液に接触す
る電極とを有し、めっき中は回転と、停止又は減速を繰
り返すようにした小物のめっき装置である。
定された水平な円形の底板と、上記底板に外周の取付フ
ランジが固定され中央に開口を有し上記底板との間に半
径方向外方へ行くにつれて低くなるか又は円筒状の処理
室を形成するカバーと、上記底板と上記取付フランジの
間に挾持される連続又は間欠接触用の通電用の接触リン
グと、上記接触リングの近傍に配置され処理液のみを通
す多孔体窓と、上記開口より処理液等を上記処理室に供
給する供給管と、上記多孔体窓から飛散した処理液を受
ける容器と、上記容器に溜った処理液を上記供給管へ送
るポンプと、上記開口から挿入されてめっき液に接触す
る電極とを有し、めっき中は回転と、停止又は減速を繰
り返すようにした小物のめっき装置である。
【０００８】第２発明は、上記多孔体窓から飛散した処
理液を受ける容器は処理液が直接衝突する外周壁と、底
壁と、上記底板の下方の内周壁と、外周壁と内周壁の間
の底壁から上記底板の上面よりも低い位置まで起立した
筒状隔壁と、上記筒状隔壁の外側と内側の底壁上の１又
は複数個の処理液出口と、外周壁の上端から内向きに延
び上記底板より大径の作業口を囲む蓋とを有し、更に上
記筒状隔壁内にあって上記底板より大径の遮蔽筒と、上
記遮蔽筒の上端に固定され上記底板より大径の内周端面
を有する上壁と、上記上壁の上面が多孔体窓より低い下
降位置と上記遮蔽筒が多孔体窓に対向する上昇位置に保
持する昇降機構とを有する請求項１記載の小物のめっき
装置である。
理液を受ける容器は処理液が直接衝突する外周壁と、底
壁と、上記底板の下方の内周壁と、外周壁と内周壁の間
の底壁から上記底板の上面よりも低い位置まで起立した
筒状隔壁と、上記筒状隔壁の外側と内側の底壁上の１又
は複数個の処理液出口と、外周壁の上端から内向きに延
び上記底板より大径の作業口を囲む蓋とを有し、更に上
記筒状隔壁内にあって上記底板より大径の遮蔽筒と、上
記遮蔽筒の上端に固定され上記底板より大径の内周端面
を有する上壁と、上記上壁の上面が多孔体窓より低い下
降位置と上記遮蔽筒が多孔体窓に対向する上昇位置に保
持する昇降機構とを有する請求項１記載の小物のめっき
装置である。
【０００９】第３発明は、上記底板が駆動軸の上端部に
固定された本体と、上記本体上に同芯に載置される上板
と、上記本体と上板間に正逆回転を伝達する継手機構を
備え、上記容器の上方から供給管、電極、接触リングに
ブラシを介して接続したホルダー等を上方へ引き上げた
状態で上記上板とその上に固着されたカバー等を上記作
業口の上方へ引き上げる搬送機構を有する請求項１記載
の小物のめっき装置である。
固定された本体と、上記本体上に同芯に載置される上板
と、上記本体と上板間に正逆回転を伝達する継手機構を
備え、上記容器の上方から供給管、電極、接触リングに
ブラシを介して接続したホルダー等を上方へ引き上げた
状態で上記上板とその上に固着されたカバー等を上記作
業口の上方へ引き上げる搬送機構を有する請求項１記載
の小物のめっき装置である。
【００１０】第４発明は、垂直な駆動軸の上端部に結合
し半径方向外方へ行くにつれて低くなるか又は円筒状の
回転自在の処理室の最大直径又は下端外周部に上記処理
室に面した通電用の接触リング及び処理液は通すが被処
理物の小物は通さない多孔体窓を備え、処理室上端の開
口から電極を処理室内に挿入した小物のめっき装置を用
いて、処理室に小物を装填し、上記開口からめっき液を
上記電極がめっき液に常時接触する程度に供給し、上記
処理室を一定時間回転させた後短時間止めるか減速する
工程を繰り返し、所定時間後にめっき液の供給を止めて
洗浄水を供給し、別の所定時間後に洗浄水の供給を止
め、次に高速回転を与えて遠心脱水を行うようにした小
物のめっき方法である。
し半径方向外方へ行くにつれて低くなるか又は円筒状の
回転自在の処理室の最大直径又は下端外周部に上記処理
室に面した通電用の接触リング及び処理液は通すが被処
理物の小物は通さない多孔体窓を備え、処理室上端の開
口から電極を処理室内に挿入した小物のめっき装置を用
いて、処理室に小物を装填し、上記開口からめっき液を
上記電極がめっき液に常時接触する程度に供給し、上記
処理室を一定時間回転させた後短時間止めるか減速する
工程を繰り返し、所定時間後にめっき液の供給を止めて
洗浄水を供給し、別の所定時間後に洗浄水の供給を止
め、次に高速回転を与えて遠心脱水を行うようにした小
物のめっき方法である。
【００１１】第５発明は、垂直な駆動軸の上端部に結合
し半径方向外方へ行くにつれて低くなるか又は円筒状の
回転自在の処理室の最大直径又は下端外周部に上記処理
室に面した通電用の接触リング及び処理液は通すが被処
理物の小物は通さない多孔体窓を備え、処理室上端の開
口から電極を処理室内に挿入した小物のめっき装置を用
いて、処理室に小物を装填し、上記処理室を回転させな
がら上記開口から前処理液を供給して所定時間前処理を
行い、次に前処理液の供給を止めて小物が空気に触れる
前に洗浄水を供給して別の所定時間水洗を行い、次に洗
浄水の供給を止めて小物が空気に触れる前にめっき液を
供給するようにした小物のめっき方法である。
し半径方向外方へ行くにつれて低くなるか又は円筒状の
回転自在の処理室の最大直径又は下端外周部に上記処理
室に面した通電用の接触リング及び処理液は通すが被処
理物の小物は通さない多孔体窓を備え、処理室上端の開
口から電極を処理室内に挿入した小物のめっき装置を用
いて、処理室に小物を装填し、上記処理室を回転させな
がら上記開口から前処理液を供給して所定時間前処理を
行い、次に前処理液の供給を止めて小物が空気に触れる
前に洗浄水を供給して別の所定時間水洗を行い、次に洗
浄水の供給を止めて小物が空気に触れる前にめっき液を
供給するようにした小物のめっき方法である。
【００１２】
【実施例】めっき工程の途中を示す図１において、垂直
な駆動軸１は軸受２を介してフレーム（図示せず）に回
転自在に支持され、下端部はモータ３（可逆回転、可変
速、急停止可能なもの）に接続し、上端部には円形の底
板４が固着されている。底板４は水平円板状で駆動軸１
の上端部に同芯に固定されたＳＵＳの本体４ａと、本体
４ａの上面の矩形断面かつ放射状の溝５３に噛み合う放
射状の突起５３ａからなる継手５４を介して同芯に嵌合
し、上端に平坦面５を有するＰＶＣの上板４ｂを備えて
いる。本体４ａの下面には環状の凹部４ｃが設けてあ
り、その外径は後述する内周壁３３の外径より大きく、
水切りの機能を備えている。
な駆動軸１は軸受２を介してフレーム（図示せず）に回
転自在に支持され、下端部はモータ３（可逆回転、可変
速、急停止可能なもの）に接続し、上端部には円形の底
板４が固着されている。底板４は水平円板状で駆動軸１
の上端部に同芯に固定されたＳＵＳの本体４ａと、本体
４ａの上面の矩形断面かつ放射状の溝５３に噛み合う放
射状の突起５３ａからなる継手５４を介して同芯に嵌合
し、上端に平坦面５を有するＰＶＣの上板４ｂを備えて
いる。本体４ａの下面には環状の凹部４ｃが設けてあ
り、その外径は後述する内周壁３３の外径より大きく、
水切りの機能を備えている。
【００１３】７はプラスチックの円形のカバーで、上端
中央に開口８を、下端外周に外向きの取付フランジ９
を、両者間に下開きのテーパ面１０を備え、取付フラン
ジ９はその内径と内径が等しくその外径より外径が大き
い上側のチタン製の接触リング１１と下側のカラー１２
を介して、複数のボルト１３により底板４の上板４ｂに
締着され、接触リング１１の下面内周部と上板４ｂの間
には、多孔質リング１４（多孔体窓）が挾持され、テー
パ面１０により、半径方向外方へ行くにつれて低くなる
処理室１５が形成され、処理室１５内のめっき液１６は
回転中は遠心力で半径方向外方に押し付けられる。接触
リング１１は互いに噛み合う段部等を介して電気的に接
続しかつ取付フランジ９と多孔質リング１４に対して液
密性を保持できるならば、複数個（例えばボルト１３と
同数）に分割して環状に配列してもよい。その場合は、
部品が小形になり、歩留まりが向上して安価になる。接
触リング１１の外周部に間隔が生じてブラシ１９と間欠
接触になってもかまわない。多孔質リング１４は連通気
泡を有するプラスチックやセラミック又はフィルター状
の多孔体でできており、めっき液等の処理液は通すが、
めっきの施される小物１７（被処理物）は通過しない孔
径のものが採用される。小物１７が直径３５〜５０μｍ
の粉体の場合、多孔体窓の通路の直径は２０μｍが適し
ている。多孔質リング１４の代わりに、多数の放射状の
窓を有するリングの上記窓に多孔体を充填した多孔体窓
（図示せず）を採用してもよい。その場合は、カラー１
２を省略して、接触リング１１と上記多孔体窓を取付フ
ランジ９と上板４ｂの間に強固に挾持することができ
る。６０は接触リング１１の下面に密着した円環状のス
カート（商品名：テフロンのシート）で、内周端面は接
触リング１１及び多孔質リング１４の内周端面と同一面
にあるように固定され、外周部は接触リング１１より外
方へ突出し、外径は内周端面４６ａの下端大径部に近
い。上壁４６が図１の状態から上昇する時はスカート６
０の外周部を撓ませて通過し、図２の状態から下降する
時はスカート６０の外周部を下方へ撓ませて図１の状態
に達する。
中央に開口８を、下端外周に外向きの取付フランジ９
を、両者間に下開きのテーパ面１０を備え、取付フラン
ジ９はその内径と内径が等しくその外径より外径が大き
い上側のチタン製の接触リング１１と下側のカラー１２
を介して、複数のボルト１３により底板４の上板４ｂに
締着され、接触リング１１の下面内周部と上板４ｂの間
には、多孔質リング１４（多孔体窓）が挾持され、テー
パ面１０により、半径方向外方へ行くにつれて低くなる
処理室１５が形成され、処理室１５内のめっき液１６は
回転中は遠心力で半径方向外方に押し付けられる。接触
リング１１は互いに噛み合う段部等を介して電気的に接
続しかつ取付フランジ９と多孔質リング１４に対して液
密性を保持できるならば、複数個（例えばボルト１３と
同数）に分割して環状に配列してもよい。その場合は、
部品が小形になり、歩留まりが向上して安価になる。接
触リング１１の外周部に間隔が生じてブラシ１９と間欠
接触になってもかまわない。多孔質リング１４は連通気
泡を有するプラスチックやセラミック又はフィルター状
の多孔体でできており、めっき液等の処理液は通すが、
めっきの施される小物１７（被処理物）は通過しない孔
径のものが採用される。小物１７が直径３５〜５０μｍ
の粉体の場合、多孔体窓の通路の直径は２０μｍが適し
ている。多孔質リング１４の代わりに、多数の放射状の
窓を有するリングの上記窓に多孔体を充填した多孔体窓
（図示せず）を採用してもよい。その場合は、カラー１
２を省略して、接触リング１１と上記多孔体窓を取付フ
ランジ９と上板４ｂの間に強固に挾持することができ
る。６０は接触リング１１の下面に密着した円環状のス
カート（商品名：テフロンのシート）で、内周端面は接
触リング１１及び多孔質リング１４の内周端面と同一面
にあるように固定され、外周部は接触リング１１より外
方へ突出し、外径は内周端面４６ａの下端大径部に近
い。上壁４６が図１の状態から上昇する時はスカート６
０の外周部を撓ませて通過し、図２の状態から下降する
時はスカート６０の外周部を下方へ撓ませて図１の状態
に達する。
【００１４】接触リング１１の上面外周部には、マイナ
スのホルダー１８の下端のブラシ１９が摺動自在に圧接
している。ブラシ１９を下端に有するホルダー１８は上
方の操作機５５内の昇降機構（図示せず）により後述す
る作業口５０より所定量高い位置（図２）まで引き上げ
る事ができる。２０はプラスの電極で、下端部には筒状
或いは板状の陽極２０ａを備え、図１では後述する搬送
機構５２の説明の都合上左方へ偏倚しているが、実際は
処理室１５の中央で小物１７に均等に近い位置のめっき
液１６内に浸漬するように配置される。陽極２０ａを図
１の状態から図２に示すように後述する作業口５０より
所定量高い位置まで引き上げる昇降機構（図示せず）が
上記の操作機５５内に組み込まれている。２１は開口８
の上方で下端部が下向きに開口しためっき液の供給管
で、コック２２を有するホース２３を介してポンプ２４
の吐出口に連通し、ポンプ２４の吸込口はめっき液の貯
槽２５内のフィルター２６に連通している。供給管２１
の下端を後述する作業口５０より所定量高い位置まで引
き上げる昇降機構（図示せず）が上記の操作機５５内に
組み込まれている。開口８上にはめっき液の供給管２１
の他に、脱脂液（洗剤）供給管、酸洗液（塩酸、硫酸
等）供給管、洗浄水供給管、湯供給管、ホットエア供給
管等が配置され、めっき液の供給管２１と同様に操作機
５５内の昇降機構（図示せず）に接続し、コック２２、
ポンプ２４に対応するコック、ポンプ及び後述するコッ
ク３９、４２等を工程に応じて開閉、起動停止させるよ
うに操作機５５で自動化可能である。上記洗浄水供給管
（図２の４９）はコックを介して水道に接続し、湯供給
管はコックを介してボイラーに接続し、ホットエア供給
管はコックを介して空気加熱器に接続する。操作機５５
はホルダー１８、電極２０、供給管２１等を作業口５０
から引き上げた後、これらを作業口５０の横に移動（垂
直軸又は水平軸を中心とする回動、又は水平移動）させ
る事ができ、停止中に、下端に開閉する爪５２ａを有す
る搬送機構５２により、カバー７と上板４ｂの結合体
（ドームＤ）を作業口５０から引き上げた後、アンロー
ドステーション（図示せず）又は別の装置の底板本体４
ａ上にセットできるようになっている。コック２２の代
わりに多口切換弁（図示せず）を配置して、多口切換弁
に脱脂液（洗剤）、酸洗液（塩酸、硫酸等）、洗浄水、
湯、ホットエアの供給用ホースを接続して供給管２１の
兼用を図る事ができ、その場合は開閉制御が容易にな
る。操作機５５を水平軸５５ａ（図１）を中心として回
動させる構造を採用すると、ホルダー１８、電極２０、
供給管２１のための前記の昇降機構の一部又は全部を省
略できる場合がある。
スのホルダー１８の下端のブラシ１９が摺動自在に圧接
している。ブラシ１９を下端に有するホルダー１８は上
方の操作機５５内の昇降機構（図示せず）により後述す
る作業口５０より所定量高い位置（図２）まで引き上げ
る事ができる。２０はプラスの電極で、下端部には筒状
或いは板状の陽極２０ａを備え、図１では後述する搬送
機構５２の説明の都合上左方へ偏倚しているが、実際は
処理室１５の中央で小物１７に均等に近い位置のめっき
液１６内に浸漬するように配置される。陽極２０ａを図
１の状態から図２に示すように後述する作業口５０より
所定量高い位置まで引き上げる昇降機構（図示せず）が
上記の操作機５５内に組み込まれている。２１は開口８
の上方で下端部が下向きに開口しためっき液の供給管
で、コック２２を有するホース２３を介してポンプ２４
の吐出口に連通し、ポンプ２４の吸込口はめっき液の貯
槽２５内のフィルター２６に連通している。供給管２１
の下端を後述する作業口５０より所定量高い位置まで引
き上げる昇降機構（図示せず）が上記の操作機５５内に
組み込まれている。開口８上にはめっき液の供給管２１
の他に、脱脂液（洗剤）供給管、酸洗液（塩酸、硫酸
等）供給管、洗浄水供給管、湯供給管、ホットエア供給
管等が配置され、めっき液の供給管２１と同様に操作機
５５内の昇降機構（図示せず）に接続し、コック２２、
ポンプ２４に対応するコック、ポンプ及び後述するコッ
ク３９、４２等を工程に応じて開閉、起動停止させるよ
うに操作機５５で自動化可能である。上記洗浄水供給管
（図２の４９）はコックを介して水道に接続し、湯供給
管はコックを介してボイラーに接続し、ホットエア供給
管はコックを介して空気加熱器に接続する。操作機５５
はホルダー１８、電極２０、供給管２１等を作業口５０
から引き上げた後、これらを作業口５０の横に移動（垂
直軸又は水平軸を中心とする回動、又は水平移動）させ
る事ができ、停止中に、下端に開閉する爪５２ａを有す
る搬送機構５２により、カバー７と上板４ｂの結合体
（ドームＤ）を作業口５０から引き上げた後、アンロー
ドステーション（図示せず）又は別の装置の底板本体４
ａ上にセットできるようになっている。コック２２の代
わりに多口切換弁（図示せず）を配置して、多口切換弁
に脱脂液（洗剤）、酸洗液（塩酸、硫酸等）、洗浄水、
湯、ホットエアの供給用ホースを接続して供給管２１の
兼用を図る事ができ、その場合は開閉制御が容易にな
る。操作機５５を水平軸５５ａ（図１）を中心として回
動させる構造を採用すると、ホルダー１８、電極２０、
供給管２１のための前記の昇降機構の一部又は全部を省
略できる場合がある。
【００１５】前記フレームには、ドームＤ回転中に多孔
質リング１４から遠心力で飛散しためっき液１６を直接
受ける外周壁３０ａを有する容器３０（プラスチック）
が固定されており、容器３０は環状の底壁３１上の半径
方向幅の略中央部から底板４の高さの中間部まで起立し
た筒状の隔壁３２と、底壁３１の内周縁より凹部４ｃの
外周部直下まで起立した筒状の内周壁３３により、外側
のめっき液室３４と、内側の前処理液室３５とに区画さ
れ、めっき液室３４の下端のめっき液出口３６はコック
３７を介して貯槽２５に連通し、前処理液室３５の下端
の洗浄水出口３８はコック３９を介して排水管４０に連
通し、水以外の一種の前処理液出口４１はコック４２を
介して貯槽４３に連通している。前処理液室３５の下端
の水以外の別種の前処理液出口（図示せず）はコックを
介して別の貯槽に連通している。貯槽４３内のフィルタ
ー（図示せず）はポンプ、ホース、コック等を介してめ
っき液の供給管２１の横の供給管に接続される。貯槽２
５、４３は循環中にめっき液や前処理液の特性の急激な
変化を防止するに充分な容積を備え、少なくとも貯槽２
５にはめっき液中のイオン濃度等を一定に保持するため
の液管理装置５７を併設している。５８は検出器、５９
は補給管である。
質リング１４から遠心力で飛散しためっき液１６を直接
受ける外周壁３０ａを有する容器３０（プラスチック）
が固定されており、容器３０は環状の底壁３１上の半径
方向幅の略中央部から底板４の高さの中間部まで起立し
た筒状の隔壁３２と、底壁３１の内周縁より凹部４ｃの
外周部直下まで起立した筒状の内周壁３３により、外側
のめっき液室３４と、内側の前処理液室３５とに区画さ
れ、めっき液室３４の下端のめっき液出口３６はコック
３７を介して貯槽２５に連通し、前処理液室３５の下端
の洗浄水出口３８はコック３９を介して排水管４０に連
通し、水以外の一種の前処理液出口４１はコック４２を
介して貯槽４３に連通している。前処理液室３５の下端
の水以外の別種の前処理液出口（図示せず）はコックを
介して別の貯槽に連通している。貯槽４３内のフィルタ
ー（図示せず）はポンプ、ホース、コック等を介してめ
っき液の供給管２１の横の供給管に接続される。貯槽２
５、４３は循環中にめっき液や前処理液の特性の急激な
変化を防止するに充分な容積を備え、少なくとも貯槽２
５にはめっき液中のイオン濃度等を一定に保持するため
の液管理装置５７を併設している。５８は検出器、５９
は補給管である。
【００１６】４５は隔壁３２よりやや小径かつ同芯の遮
蔽筒（プラスチック）で、環状の内向きフランジ状の上
壁４６を一体的に備え、上壁４６が底板４の上面よりや
や低い図１の下降位置から、昇降機構５１により、図２
に示す上昇位置へ上昇させることができるようになって
いる。昇降機構５１の下端は上壁４６に固定され、スリ
ット３０ｃを通過し、上端部には操作機５５とは独立し
たエアーシリンダーを有する。図示の実施例では、上壁
４６の内周端面４６ａは上端から下端まで下開きのテー
パ面４６ａ（テーパ角：９０度）で形成され、上壁４６
が図１の下降位置から上昇を開始して、多孔質リング１
４（多孔体窓）から矢印Ｂ方向に遠心力で飛散する処理
液を上方へ通過する際に、処理液をテーパ面で下方の前
処理液室３５内へ案内し、スカート６０と協同して上方
の作業口５０からの上方への飛散を防止することができ
る。図２に示す上昇位置で、遮蔽筒４５の下端は隔壁３
２の上端より低い位置を占めるように遮蔽筒４５の高さ
が定められている。図２に示す上昇位置で、上壁４６が
蓋３０ｂの下面に衝合するようにすると、めっき液室３
４と前処理液室３５をほぼ完全に区画することができ、
めっき液に酸洗液が混入する等の不具合を回避すること
ができる。
蔽筒（プラスチック）で、環状の内向きフランジ状の上
壁４６を一体的に備え、上壁４６が底板４の上面よりや
や低い図１の下降位置から、昇降機構５１により、図２
に示す上昇位置へ上昇させることができるようになって
いる。昇降機構５１の下端は上壁４６に固定され、スリ
ット３０ｃを通過し、上端部には操作機５５とは独立し
たエアーシリンダーを有する。図示の実施例では、上壁
４６の内周端面４６ａは上端から下端まで下開きのテー
パ面４６ａ（テーパ角：９０度）で形成され、上壁４６
が図１の下降位置から上昇を開始して、多孔質リング１
４（多孔体窓）から矢印Ｂ方向に遠心力で飛散する処理
液を上方へ通過する際に、処理液をテーパ面で下方の前
処理液室３５内へ案内し、スカート６０と協同して上方
の作業口５０からの上方への飛散を防止することができ
る。図２に示す上昇位置で、遮蔽筒４５の下端は隔壁３
２の上端より低い位置を占めるように遮蔽筒４５の高さ
が定められている。図２に示す上昇位置で、上壁４６が
蓋３０ｂの下面に衝合するようにすると、めっき液室３
４と前処理液室３５をほぼ完全に区画することができ、
めっき液に酸洗液が混入する等の不具合を回避すること
ができる。
【００１７】図３で示すように、まずロード工程で小物
１７（被処理物）を処理室１５に入れ、後述する前処理
を施し、ホルダー１８を下ろしてブラシ１９を接触リン
グ１１に圧接し、電極２０を下ろして陽極２０ａをめっ
き液１６中へ漬け、供給管２１を図１のように開口８の
直上まで下ろした後、供給管２１からめっき液１６を供
給しながら、駆動軸１を例えば２００ｒｐｍで矢印Ａ方
向に１０秒回して０．５秒止め、次に２００ｒｐｍで逆
Ａ方向に１０秒回して０．５秒止めるサイクルを５分又
は長いもので数時間継続する。駆動軸１が回転中には小
物１７は遠心力の作用で接触リング１１に押し付けら
れ、陽極２０ａに面した小物１７にめっき層ができる。
駆動軸１が停止すると小物１７は重力の作用とめっき液
１６の慣性による流れに引き摺られて平坦面５に流れ落
ち、混ざりあい、次に駆動軸１が逆転を開始すると、混
ざりあいながら別の姿勢で遠心力の作用により図１のよ
うに接触リング１１に押し付けられ、陽極２０ａに面し
た別の小物１７にめっき層ができる。めっき液１６は遠
心力を受けて多孔質リング１４を通過し、矢印Ｂのよう
に周囲へ飛散し、容器３０の外周壁３０ａの内面に衝突
してめっき液室３４に溜り、めっき液出口３６からコッ
ク３７を経て貯槽２５に戻り、貯槽２５内のめっき液は
液管理された後、ポンプ２４により加圧され、ホース２
３、開いたコック２２を経て供給管２１から処理室１５
に供給され、陽極２０ａが常時めっき液１６と接触状態
となるように、循環量を管理する。６１はレベルセンサ
ーである。
１７（被処理物）を処理室１５に入れ、後述する前処理
を施し、ホルダー１８を下ろしてブラシ１９を接触リン
グ１１に圧接し、電極２０を下ろして陽極２０ａをめっ
き液１６中へ漬け、供給管２１を図１のように開口８の
直上まで下ろした後、供給管２１からめっき液１６を供
給しながら、駆動軸１を例えば２００ｒｐｍで矢印Ａ方
向に１０秒回して０．５秒止め、次に２００ｒｐｍで逆
Ａ方向に１０秒回して０．５秒止めるサイクルを５分又
は長いもので数時間継続する。駆動軸１が回転中には小
物１７は遠心力の作用で接触リング１１に押し付けら
れ、陽極２０ａに面した小物１７にめっき層ができる。
駆動軸１が停止すると小物１７は重力の作用とめっき液
１６の慣性による流れに引き摺られて平坦面５に流れ落
ち、混ざりあい、次に駆動軸１が逆転を開始すると、混
ざりあいながら別の姿勢で遠心力の作用により図１のよ
うに接触リング１１に押し付けられ、陽極２０ａに面し
た別の小物１７にめっき層ができる。めっき液１６は遠
心力を受けて多孔質リング１４を通過し、矢印Ｂのよう
に周囲へ飛散し、容器３０の外周壁３０ａの内面に衝突
してめっき液室３４に溜り、めっき液出口３６からコッ
ク３７を経て貯槽２５に戻り、貯槽２５内のめっき液は
液管理された後、ポンプ２４により加圧され、ホース２
３、開いたコック２２を経て供給管２１から処理室１５
に供給され、陽極２０ａが常時めっき液１６と接触状態
となるように、循環量を管理する。６１はレベルセンサ
ーである。
【００１８】めっき工程が終了すると、ポンプ２４を止
め、コック２２を閉じ、めっき液を充分振り切った後、
遮蔽筒４５と電極２０とホルダー１８を図２のように引
き揚げ、洗浄水供給管４９から洗浄水を供給する。水洗
工程における小物１７の挙動はめっき工程時と同様であ
ることが好ましい。矢印Ｂ方向に飛散した洗浄水は、遮
蔽筒４５に衝突して前処理液室３５に落ち、洗浄水出口
３８から開いたコック３９を経て排水管４０に排出さ
れ、例えば５分継続する。
め、コック２２を閉じ、めっき液を充分振り切った後、
遮蔽筒４５と電極２０とホルダー１８を図２のように引
き揚げ、洗浄水供給管４９から洗浄水を供給する。水洗
工程における小物１７の挙動はめっき工程時と同様であ
ることが好ましい。矢印Ｂ方向に飛散した洗浄水は、遮
蔽筒４５に衝突して前処理液室３５に落ち、洗浄水出口
３８から開いたコック３９を経て排水管４０に排出さ
れ、例えば５分継続する。
【００１９】一旦洗浄水の供給を止め、遠心力を利用し
て充分水切りをした後、同様な水洗工程を例えば５分継
続し、遠心力を利用して充分水切りを行う。
て充分水切りをした後、同様な水洗工程を例えば５分継
続し、遠心力を利用して充分水切りを行う。
【００２０】次に６０〜８０℃の湯を供給して、洗浄効
果を高める。湯を例えば３分供給して止め、湯を供給す
ることなく３分回転（正転、停止、逆転、停止）を継続
して予備乾燥を行う。引き続き回転を例えばそれまでの
２００ｒｐｍを６００ｒｐｍに上げて回転を継続しなが
ら、６０〜９０℃のホットエアーを３分供給して乾燥工
程を終了し、モータ３を止める。洗浄水、湯、ホットエ
アー等の供給管をホルダー１８、電極２０と同様に作業
口５０の上方に引き上げた後、操作機５５により作業口
５０から横にずらせ、処理済みの小物１７を内蔵したド
ームＤ（カバー７と上板４ｂの結合体）を操作機５５と
は独立した搬送機構５２により作業口５０より引き上
げ、アンロードステーションへ運び、反転して小物１７
を取り出す。アンロードの方法として、ドームＤを移動
させることなく、可撓性ロッド（図示せず）の下端に磁
石を固定した治具を開口８から処理室１５内へ挿入して
回し、磁石が吸着した小物１７を取り出すこともでき
る。湾曲した可撓性チューブ（図示せず）を開口８から
処理室１５に挿入して回し、バキュームにより小物１７
を取り出すこともできる。
果を高める。湯を例えば３分供給して止め、湯を供給す
ることなく３分回転（正転、停止、逆転、停止）を継続
して予備乾燥を行う。引き続き回転を例えばそれまでの
２００ｒｐｍを６００ｒｐｍに上げて回転を継続しなが
ら、６０〜９０℃のホットエアーを３分供給して乾燥工
程を終了し、モータ３を止める。洗浄水、湯、ホットエ
アー等の供給管をホルダー１８、電極２０と同様に作業
口５０の上方に引き上げた後、操作機５５により作業口
５０から横にずらせ、処理済みの小物１７を内蔵したド
ームＤ（カバー７と上板４ｂの結合体）を操作機５５と
は独立した搬送機構５２により作業口５０より引き上
げ、アンロードステーションへ運び、反転して小物１７
を取り出す。アンロードの方法として、ドームＤを移動
させることなく、可撓性ロッド（図示せず）の下端に磁
石を固定した治具を開口８から処理室１５内へ挿入して
回し、磁石が吸着した小物１７を取り出すこともでき
る。湾曲した可撓性チューブ（図示せず）を開口８から
処理室１５に挿入して回し、バキュームにより小物１７
を取り出すこともできる。
【００２１】前処理工程では、図３のように、一般に
は、洗剤による脱脂、水洗、塩酸又は硫酸による酸洗、
水洗が連続的に行われるが、その間、遮蔽筒４５を図２
のように上昇位置に保持し、ホルダー１８、電極２０も
上昇位置に保持する。回転はめっき工程時と同様でよ
い。まず処理室１５に洗剤を供給して例えば５分脱脂
し、洗剤の供給を止めて小物１７が空気に触れる前に洗
浄水を供給して例えば５分水洗し、洗浄水の供給を止め
て小物１７が空気に触れる前に塩酸又は硫酸を供給して
例えば５分酸洗し、次に塩酸等の酸の供給を止めて小物
１７が空気に触れる前に洗浄水を供給して例えば５分水
洗して前処理工程を終了し、洗浄水の供給を止めて小物
１７が空気に触れる前に遮蔽筒４５、ホルダー１８、電
極２０を図１の位置に下ろしてめっき液を供給し、前述
のめっき工程に入る。これにより、前処理工程および前
処理工程からめっき工程に入る間における小物１７（被
処理物）の酸化を可及的に防止することができる。上記
の前処理工程を採用すると、図１の装置でロードからア
ンロードまでを一貫して行うことができ、酸化を防止し
て高品質の製品が得られる。しかし、洗浄水に少量の洗
剤、塩酸等の酸が混入し、排水管４０の途中に浄化槽が
必要になる場合がある。又塩酸等の酸及びめっき液に少
量の洗浄水が混入するので、希釈化され、液管理が不可
欠になる。この為、酸化を余り気にしなくてもよい場合
は、各工程の間に処理液が小物１７からほぼ完全に飛散
するに充分な無液期間を配置してもよい。又脱脂と酸洗
をそれぞれ別の装置で行うこともできる。その場合は、
各工程の専用装置が簡素化する利点がある。又製品によ
っては、前処理の全部、又は一部を省略できる場合があ
る。
は、洗剤による脱脂、水洗、塩酸又は硫酸による酸洗、
水洗が連続的に行われるが、その間、遮蔽筒４５を図２
のように上昇位置に保持し、ホルダー１８、電極２０も
上昇位置に保持する。回転はめっき工程時と同様でよ
い。まず処理室１５に洗剤を供給して例えば５分脱脂
し、洗剤の供給を止めて小物１７が空気に触れる前に洗
浄水を供給して例えば５分水洗し、洗浄水の供給を止め
て小物１７が空気に触れる前に塩酸又は硫酸を供給して
例えば５分酸洗し、次に塩酸等の酸の供給を止めて小物
１７が空気に触れる前に洗浄水を供給して例えば５分水
洗して前処理工程を終了し、洗浄水の供給を止めて小物
１７が空気に触れる前に遮蔽筒４５、ホルダー１８、電
極２０を図１の位置に下ろしてめっき液を供給し、前述
のめっき工程に入る。これにより、前処理工程および前
処理工程からめっき工程に入る間における小物１７（被
処理物）の酸化を可及的に防止することができる。上記
の前処理工程を採用すると、図１の装置でロードからア
ンロードまでを一貫して行うことができ、酸化を防止し
て高品質の製品が得られる。しかし、洗浄水に少量の洗
剤、塩酸等の酸が混入し、排水管４０の途中に浄化槽が
必要になる場合がある。又塩酸等の酸及びめっき液に少
量の洗浄水が混入するので、希釈化され、液管理が不可
欠になる。この為、酸化を余り気にしなくてもよい場合
は、各工程の間に処理液が小物１７からほぼ完全に飛散
するに充分な無液期間を配置してもよい。又脱脂と酸洗
をそれぞれ別の装置で行うこともできる。その場合は、
各工程の専用装置が簡素化する利点がある。又製品によ
っては、前処理の全部、又は一部を省略できる場合があ
る。
【００２２】洗浄水を供給する場合は図２でコック３９
を開き、コック４２を閉じ、洗浄水以外の前処理液を供
給する場合は洗剤用のコック４２又は塩酸等の酸用の別
のコック（図示せず）を開き、コック３９を閉じる。各
コックの開閉、操作機５５の動作、昇降機構５１、搬送
機構５２の動作は全て自動制御方式で行われる。なお本
発明を実施する場合、小物１７の直径が大きい場合は、
多孔質リング１４の部分に、放射状の多数の小孔を有す
るリングを採用してもよい。多孔質リング１４としては
例えば直径１００μｍの連通気孔を有するポリプロピレ
ンの焼結体が安価に入手でき、充分な強度を有するため
適している。又、小物１７が遠心力と重力の作用を受け
て接触リング１１に押し付けられさえすれば、カバー７
は７ａのように円筒状であってもよい。
を開き、コック４２を閉じ、洗浄水以外の前処理液を供
給する場合は洗剤用のコック４２又は塩酸等の酸用の別
のコック（図示せず）を開き、コック３９を閉じる。各
コックの開閉、操作機５５の動作、昇降機構５１、搬送
機構５２の動作は全て自動制御方式で行われる。なお本
発明を実施する場合、小物１７の直径が大きい場合は、
多孔質リング１４の部分に、放射状の多数の小孔を有す
るリングを採用してもよい。多孔質リング１４としては
例えば直径１００μｍの連通気孔を有するポリプロピレ
ンの焼結体が安価に入手でき、充分な強度を有するため
適している。又、小物１７が遠心力と重力の作用を受け
て接触リング１１に押し付けられさえすれば、カバー７
は７ａのように円筒状であってもよい。
【００２３】第１発明を実施する場合は色々な変更が可
能である。例えば、少なくともめっき中に、回転ー停止
ー逆転ー停止のサイクルの内の逆転を回転（正転）とし
てもよく、停止の代わりに減速（例えば２０〜５０ｒｐ
ｍ）を採用して、回転ー減速のサイクルを繰り返しても
よい。回転、減速時の回転数は、連続的又は段階的に変
化させてもよく、その場合は小物１７の位置、姿勢の変
更が頻繁になり、より均一なめっきが得られる。めっき
液その他の処理液の後処理システムとしては、色々な物
が考えられる。例えば、図１から隔壁３２、遮蔽筒４
５、上壁４６、昇降機構５１、出口３６、３８を除き、
底壁３１を左下がりに傾け、最も低い位置に出口４１を
設け、コック４２の代わりに複数の三方切換弁を垂直直
列に配置するか、多口切換弁を配置し、各切換弁の出口
を対応する貯槽又は排水管に接続する。その構造による
と容器３０等が簡素化し、切換弁の制御が容易になる。
別の例として、前記の最も低い位置の出口４１に短い垂
直下開きの口金を設け、口金の下方へ各処理液用の受け
口が水平面内の移動の途中に停止するようにすることも
できる。受け口は対応する貯槽又は排水管に接続する。
その場合は切換弁を省略することができる。更に別の例
として、貯槽を水平な一円周上に配置し、最も低い位置
に出口４１を有する形式の装置を各貯槽上で停止するよ
うに旋回機構を設けることもできる。その場合は複数の
装置で各工程を順次行わせることができ、大量処理に有
効である。
能である。例えば、少なくともめっき中に、回転ー停止
ー逆転ー停止のサイクルの内の逆転を回転（正転）とし
てもよく、停止の代わりに減速（例えば２０〜５０ｒｐ
ｍ）を採用して、回転ー減速のサイクルを繰り返しても
よい。回転、減速時の回転数は、連続的又は段階的に変
化させてもよく、その場合は小物１７の位置、姿勢の変
更が頻繁になり、より均一なめっきが得られる。めっき
液その他の処理液の後処理システムとしては、色々な物
が考えられる。例えば、図１から隔壁３２、遮蔽筒４
５、上壁４６、昇降機構５１、出口３６、３８を除き、
底壁３１を左下がりに傾け、最も低い位置に出口４１を
設け、コック４２の代わりに複数の三方切換弁を垂直直
列に配置するか、多口切換弁を配置し、各切換弁の出口
を対応する貯槽又は排水管に接続する。その構造による
と容器３０等が簡素化し、切換弁の制御が容易になる。
別の例として、前記の最も低い位置の出口４１に短い垂
直下開きの口金を設け、口金の下方へ各処理液用の受け
口が水平面内の移動の途中に停止するようにすることも
できる。受け口は対応する貯槽又は排水管に接続する。
その場合は切換弁を省略することができる。更に別の例
として、貯槽を水平な一円周上に配置し、最も低い位置
に出口４１を有する形式の装置を各貯槽上で停止するよ
うに旋回機構を設けることもできる。その場合は複数の
装置で各工程を順次行わせることができ、大量処理に有
効である。
【００２４】
【発明の効果】第１発明によると、小物１７は遠心力の
作用により大きい面積の接触リング１１に強制的に押し
付けられ、回転と、停止又は減速を繰り返すので均一に
混合して通電性が向上し、電流密度が増加し、めっき液
の更新も活発になるためめっきの付きがよくなる。図５
のチップコンデンサー１００の両端部１０２に２μｍの
Ｎｉめっきを従来のバレル装置で得る場合の電流密度は
０．２Ａ／ｄｍ2で６０分を要したが、第１発明による
と電流密度は２Ａ／ｄｍ2に増加し１０分に短縮した。
しかも、処理室１５内のめっき液１６は常時供給管２１
から供給される新鮮なめっき液と入れ換わるので、高電
流密度によるめっき処理が可能で、短時間で均一なめっ
き厚さを確保することが容易になった。めっき液は処理
室１５から外部に排出されるので、処理室１５の外部に
おけるめっき液管理が容易になり、最適のめっき層が得
られる。一装置で全部の工程を連続的に済ませることが
でき、ダミーも不要となる。めっき液１６の旋回、減
速、停止、逆転等により、めっき液１６と陽極２０ａの
接触がよくなり、この面からも電流密度が増加する。処
理室１５の底面が平坦面５であるため水切りがよい。多
孔体窓（多孔質リング１４）をプラスチックやセラミッ
クのような通電体でない物で作れるので、開口率の変化
がなく、耐久性が向上し、用途に応じた交換も容易にな
る。
作用により大きい面積の接触リング１１に強制的に押し
付けられ、回転と、停止又は減速を繰り返すので均一に
混合して通電性が向上し、電流密度が増加し、めっき液
の更新も活発になるためめっきの付きがよくなる。図５
のチップコンデンサー１００の両端部１０２に２μｍの
Ｎｉめっきを従来のバレル装置で得る場合の電流密度は
０．２Ａ／ｄｍ2で６０分を要したが、第１発明による
と電流密度は２Ａ／ｄｍ2に増加し１０分に短縮した。
しかも、処理室１５内のめっき液１６は常時供給管２１
から供給される新鮮なめっき液と入れ換わるので、高電
流密度によるめっき処理が可能で、短時間で均一なめっ
き厚さを確保することが容易になった。めっき液は処理
室１５から外部に排出されるので、処理室１５の外部に
おけるめっき液管理が容易になり、最適のめっき層が得
られる。一装置で全部の工程を連続的に済ませることが
でき、ダミーも不要となる。めっき液１６の旋回、減
速、停止、逆転等により、めっき液１６と陽極２０ａの
接触がよくなり、この面からも電流密度が増加する。処
理室１５の底面が平坦面５であるため水切りがよい。多
孔体窓（多孔質リング１４）をプラスチックやセラミッ
クのような通電体でない物で作れるので、開口率の変化
がなく、耐久性が向上し、用途に応じた交換も容易にな
る。
【００２５】第２発明によると、隔壁３２、遮蔽筒４５
により循環中の処理液の混合を避け、液管理を容易にす
ることができる。蓋３０ｂを設けたので、商品名：テフ
ロンのシートからなるスカート６０と協同して、処理液
が矢印Ｂ方向に飛散して外周壁３０ａの内面に衝突して
もめっき液が上方へ飛散することがなくなる。図２の上
昇位置では上壁４６が処理液の上方への飛散を更に防止
する。カバー７と上板４ｂの結合体（ドームＤ）を作業
口５０を通して搬送機構５２により取り出すことができ
るため小物１７のアンロードが容易になる。前処理から
めっき工程までを１箇所で行うことが容易になり、従来
の槽から別の槽へのバレルのトランスファー時間を省略
可能となる。
により循環中の処理液の混合を避け、液管理を容易にす
ることができる。蓋３０ｂを設けたので、商品名：テフ
ロンのシートからなるスカート６０と協同して、処理液
が矢印Ｂ方向に飛散して外周壁３０ａの内面に衝突して
もめっき液が上方へ飛散することがなくなる。図２の上
昇位置では上壁４６が処理液の上方への飛散を更に防止
する。カバー７と上板４ｂの結合体（ドームＤ）を作業
口５０を通して搬送機構５２により取り出すことができ
るため小物１７のアンロードが容易になる。前処理から
めっき工程までを１箇所で行うことが容易になり、従来
の槽から別の槽へのバレルのトランスファー時間を省略
可能となる。
【００２６】第３発明によると、小物１７（被処理物）
のアンロードが容易になり、搬送機構５２で引き上げた
上板４ｂを別装置の本体４ａ上に相対回転不能かつ同芯
に載置できるので、特に前処理工程の分割が容易にな
る。
のアンロードが容易になり、搬送機構５２で引き上げた
上板４ｂを別装置の本体４ａ上に相対回転不能かつ同芯
に載置できるので、特に前処理工程の分割が容易にな
る。
【００２７】第４発明によると、一つの装置でめっきか
ら遠心脱水乾燥までを連続的に行うことができるように
なる。
ら遠心脱水乾燥までを連続的に行うことができるように
なる。
【００２８】第５発明によると、前処理からめっき処理
までにおける被処理物の酸化を可及的に防止して、製品
の品質を向上させることができる。勿論めっき液を回収
して水洗し、異なるめっき液を供給する等の多層めっき
も可能である。例えばセラミックのベースに銀を塗布し
た後、第１層としてＮｉ、第２層として半田のめっきも
できる。
までにおける被処理物の酸化を可及的に防止して、製品
の品質を向上させることができる。勿論めっき液を回収
して水洗し、異なるめっき液を供給する等の多層めっき
も可能である。例えばセラミックのベースに銀を塗布し
た後、第１層としてＮｉ、第２層として半田のめっきも
できる。
【図１】 めっき工程における縦断正面略図である。
【図２】 前処理工程における縦断正面略図である。
【図３】 工程の順序を示す略図である。
【図４】 従来の装置の一例を示す縦断正面図である。
【図５】 特殊な被処理物であるチップコンデンサーの
斜視図である。
斜視図である。
１ 駆動軸 ４ 底板 ７ カバー ８ 開口 １１ 接触リング １４ 多孔質リング １５ 処理室 ２０ 電極 ２１ 供給管 ２４ ポンプ ３０ 容器 Ｄ ドーム
Claims (5)
- 【請求項１】 垂直な駆動軸の上端部に固定された水平
な円形の底板と、上記底板に外周の取付フランジが固定
され中央に開口を有し上記底板との間に半径方向外方へ
行くにつれて低くなるか又は円筒状の処理室を形成する
カバーと、上記底板と上記取付フランジの間に挾持され
る連続又は間欠接触用の通電用の接触リングと、上記接
触リングの近傍に配置され処理液のみを通す多孔体窓
と、上記開口より処理液等を上記処理室に供給する供給
管と、上記多孔体窓から飛散した処理液を受ける容器
と、上記容器に溜った処理液を上記供給管へ送るポンプ
と、上記開口から挿入されてめっき液に接触する電極と
を有し、めっき中は回転と、停止又は減速を繰り返すよ
うにした小物のめっき装置。 - 【請求項２】 上記多孔体窓から飛散した処理液を受け
る容器は処理液が直接衝突する外周壁と、底壁と、上記
底板の下方の内周壁と、外周壁と内周壁の間の底壁から
上記底板の上面よりも低い位置まで起立した筒状隔壁
と、上記筒状隔壁の外側と内側の底壁上の１又は複数個
の処理液出口と、外周壁の上端から内向きに延び上記底
板より大径の作業口を囲む蓋とを有し、更に上記筒状隔
壁内にあって上記底板より大径の遮蔽筒と、上記遮蔽筒
の上端に固定され上記底板より大径の内周端面を有する
上壁と、上記上壁の上面が多孔体窓より低い下降位置と
上記遮蔽筒が多孔体窓に対向する上昇位置に保持する昇
降機構とを有する請求項１記載の小物のめっき装置。 - 【請求項３】 上記底板が駆動軸の上端部に固定された
本体と、上記本体上に同芯に載置される上板と、上記本
体と上板間に正逆回転を伝達する継手機構を備え、上記
容器の上方から供給管、電極、接触リングにブラシを介
して接続したホルダー等を上方へ引き上げた状態で上記
上板とその上に固着されたカバー等を上記作業口の上方
へ引き上げる搬送機構を有する請求項１記載の小物のめ
っき装置。 - 【請求項４】 垂直な駆動軸の上端部に結合し半径方向
外方へ行くにつれて低くなるか又は円筒状の回転自在の
処理室の最大直径又は下端外周部に上記処理室に面した
通電用の接触リング及び処理液は通すが被処理物の小物
は通さない多孔体窓を備え、処理室上端の開口から電極
を処理室内に挿入した小物のめっき装置を用いて、処理
室に小物を装填し、上記開口からめっき液を上記電極が
めっき液に常時接触する程度に供給し、上記処理室を一
定時間回転させた後短時間止めるか減速する工程を繰り
返し、所定時間後にめっき液の供給を止めて洗浄水を供
給し、別の所定時間後に洗浄水の供給を止め、次に高速
回転を与えて遠心脱水を行うようにした小物のめっき方
法。 - 【請求項５】 垂直な駆動軸の上端部に結合し半径方向
外方へ行くにつれて低くなるか又は円筒状の回転自在の
処理室の最大直径又は下端外周部に上記処理室に面した
通電用の接触リング及び処理液は通すが被処理物の小物
は通さない多孔体窓を備え、処理室上端の開口から電極
を処理室内に挿入した小物のめっき装置を用いて、処理
室に小物を装填し、上記処理室を回転させながら上記開
口から前処理液を供給して所定時間前処理を行い、次に
前処理液の供給を止めて小物が空気に触れる前に洗浄水
を供給して別の所定時間水洗を行い、次に洗浄水の供給
を止めて小物が空気に触れる前にめっき液を供給するよ
うにした小物のめっき方法。
Priority Applications (5)
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|---|---|---|---|
| JP06065999A JP3126867B2 (ja) | 1993-08-31 | 1994-04-04 | 小物のめっき装置及びめっき方法 |
| TW083106904A TW305884B (ja) | 1993-08-31 | 1994-07-28 | |
| KR1019940020905A KR100298616B1 (ko) | 1993-08-31 | 1994-08-24 | 작은물품의도금장치및도금방법 |
| US08/295,055 US5487824A (en) | 1993-08-31 | 1994-08-26 | Electroplating apparatus and electroplating method of small articles |
| US08/445,728 US5565079A (en) | 1993-08-31 | 1995-05-22 | Fine particle microencapsulation and electroforming |
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|---|---|---|---|
| JP21563693 | 1993-08-31 | ||
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- 1994-07-28 TW TW083106904A patent/TW305884B/zh not_active IP Right Cessation
- 1994-08-24 KR KR1019940020905A patent/KR100298616B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-08-26 US US08/295,055 patent/US5487824A/en not_active Expired - Lifetime
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