JPWO2008032797A1 - アルキレンオキシド製造用触媒、その製造方法、および該触媒を用いたアルキレンオキシドの製造方法 - Google Patents

アルキレンオキシド製造用触媒、その製造方法、および該触媒を用いたアルキレンオキシドの製造方法 Download PDF

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Abstract

担体に金属銀微粒子を分散担持してなるアルキレンオキシド製造用触媒であって、該金属銀微粒子の90%以上について、その銀粒子径が2〜100nmであるアルキレンオキシド製造用触媒であり、該触媒は、銀の化合物またはイオンを含む液を担体に含浸させ、乾燥させたのち、マイクロ波を照射して金属銀微粒子を担体上に分散して生成させることにより製造される。この触媒は、オレフィンを分子状酸素含有ガスにより接触気相酸化してオレフィンオキシドの製造に使用される。【選択図】なし

Description

本発明はアルキレンオキシド製造用触媒、その製造方法および該触媒を用いたアルキレンオキシドの製造方法に関するものである。
エチレンを分子状酸素含有ガスにより接触気相酸化してエチレンオキシドを製造することは広く工業的に実施されている。そして、その技術は既に高いレベルに達しているが、さらなるコストダウンを図るために、選択性や耐久性などに、より優れた性能を発揮するエチレンオキシド製造用触媒を開発することは、当該技術分野の研究者の継続的なテーマとなっている。
エチレンオキシド製造用触媒の性能は、アルミナなどの担体に担持した金属銀粒子の大きさに影響を受けることはよく知られているところであり、金属銀を微細な粒子として担体に担持する試みがなされている。しかしながら、金属銀を微細な粒子として担体に担持したものであって、選択性や耐久性などに優れ、工業的に有利に用いることのできるエチレンオキシド製造用触媒は未だ開発されていないのが実状である。
ところで、近年、マイクロ波を利用してナノサイズの金属微粒子を製造する方法が提案されている。例えば、US6,387,494 B1には、金属塩を溶媒に溶解または分散させた後、これにマイクロ波を照射することにより、上記金属塩を構成する金属からなるナノサイズの微粒子を製造する方法が記載されている。
また、特開2003−13105号公報には、担体となる固体物質と金属化合物とを、例えば、エチレングリコールと混合した後、マイクロ波を照射して、金属微粒子を担体に付着させた金属微粒子付着担体の製造方法が記載されている。
しかしながら、前記文献のいずれにも、アルミナなどの担体、特に5m/g以下の低比表面積の担体に担持した金属銀微粒子の粒子径が2〜100nmの微細な範囲にあって、エチレンオキシドの製造に好適な触媒、すなわち選択性や耐久性などの性能に優れたエチレンオキシド製造用触媒についての具体的記載はない。また、本発明者らの研究によれば、前記文献に記載された、溶媒の存在下でマイクロ波を照射して金属微粒子を生成させる方法によっては、上記のようなエチレンオキシド製造用触媒を製造することができないことがわかった。
したがって、本発明の目的は、ナノサイズの金属銀微粒子をアルミナなどの担体に担持させた、選択性や耐久性などが、従来品より優れたアルキレンオキシド製造用触媒、その製造方法、および該触媒を用いたエチレンオキシド製造用触媒を用いてアルキレンオキシドを製造する方法を提供することにある。
上記諸目的は、下記(1)〜(16)により達成される。
(1)担体に金属銀微粒子を分散担持してなるアルキレンオキシド製造用触媒であって、該金属銀微粒子の90%以上について、その銀粒子径が2〜100nmであるアルキレンオキシド製造用触媒。
(2)該担体は、α−アルミナ担体である前記(1)に記載の触媒。
(3)該担体が3質量%以下の珪素を含有してなる前記(1)または(2)に記載の触媒。
(4)該金属銀微粒子の担持量が担体の質量基準で3〜40質量%である前記(1)〜(3)のいずれか一つに記載の触媒。
(5)該金属銀微粒子の担持量が担体の質量基準で3〜25質量%であり、かつ金属銀微粒子の90%以上について、その銀粒子径が20〜80nmの範囲にある前記(1)〜(4)のいずれか一つに記載の触媒。
(6)該金属銀微粒子の平均直径が10〜100nmである前記(1)〜(5)のいずれか一つに記載の触媒。
(7)該金属銀微粒子の粒子径は平均粒子径±30nmの範囲にある前記(1)〜(6)のいずれか一つに記載の触媒。
(8)該担体のBET比表面積が0.1〜5.0m/gである前記(1)〜(7)のいずれか一つに記載の触媒。
(9)該担体がアルカリ金属元素を含有してなる前記(1)〜(8)のいずれか一つに記載の触媒。
(10)該触媒が助触媒としてアルカリ金属元素およびレニウムよりなる群から選ばれた少なくとも1種の元素を含有してなる前記(1)〜(9)のいずれか一つに記載の触媒。
(11)該担体が20〜60質量%(担体質量に対する吸水率)である前記(1)〜(10)のいずれか一つの触媒。
(12)銀の化合物またはイオンを含む液を担体に含浸させ、乾燥させたのち、マイクロ波を照射して金属銀微粒子を担体上に生成させることよりなるアルキレンオキシド製造用触媒の製造方法。
(13)銀の化合物またはイオンを含む溶液がさらにアミン化合物を含有する前記(12)に記載の方法。
(14)マイクロ波照射後の担体を、不活性ガス中で400〜950℃の範囲で処理してなる前記(12)または(13)に記載の方法。
(15)前記(1)〜(11)に記載の触媒の存在下にオレフィンを分子酸素含有ガスにより気相酸化することよりなるアルキレンオキシドの製造方法。
(16)該オレフィンはエチレンである前記(15)に記載のアルキレンオキシドの製造方法。
本発明による触媒(A)における金属銀微粒子の粒子径分布を示す。
本発明による触媒(B)における金属銀微粒子の粒子径分布を示す。
従来の触媒(X)における金属銀微粒子の粒子径分布を示す。
従来の触媒(Y)における金属銀微粒子の粒子径分布を示す。
本発明のアルキレンオキシドとは、エチレンオキシド、3,4−エポキシ−1−ブテンなどのアルキレンオキシドを意味し、これらはエチレン、1,3−ブタジエンなどのオレフィン化合物の接触気相酸化により得られるものである。以下、エチレンオキシドを例に挙げて本発明を説明するが、本発明は、これに限定されるものではない。
本発明のエチレンオキシド製造用触媒(以下、「EO触媒」ということもある。)は、アルミナなどの担体に金属銀微粒子、あるいはさらにセシウム及びレニウムから選択される少なくとも1種の元素を担持したものであり、この構成自体は従来のEO触媒と同一なものである。上記担体については、一般のEO触媒の製造に使用できるものであればいずれでもよく、具体的には、例えば、Al(アルミナ)、SiO(シリカ)、ZrO(ジルコニア)およびSiC(炭化ケイ素)を挙げることができる。これらは単独で使用するのが一般的であるが、2種以上を組み合わせ使用してもよく、またこれらを主成分とする担体も使用することができる。特に、α−アルミナを主成分とするものが好適である。担体の比表面積は0.1〜5m/gが好ましく、特に0.5〜2m/gが特に好適である。また、担体の吸水率は20〜60%が好ましく、特に30〜50%が好適である。
本発明のEO触媒は、担体に担持された金属銀微粒子の90%以上が粒子径2〜100nm、好ましくは10〜80nm、より好ましくは20〜60nmの範囲にあるものである。なかでも、担体に担持された金属銀微粒子の95%以上、より好ましくは、金属銀微粒子の全てが上記範囲内にあるのがよい。粒子径が小さすぎると完全酸化が促進され、選択率が低下する。また、100nmを超えるものは従来公知のEO触媒と同じとなって、目的とする高い選択率や耐久性を得ることはできない。また、該金属微粒子の平均粒径は10〜100nm、好ましくは20〜90nmである。さらに、金属銀微粒子の粒子径は、できるだけシャープな分布を有するものが好ましく、具体的には、例えば、該微粒子は、平均粒子径±30nm、好ましくは±20nmの範囲にあるのがよい。また、該金属銀微粒子は担体の表面にほぼ均一に分散している。
本発明における金属銀微粒子の粒子径は、透過型電子顕微鏡(日本電子株式会社製JEM−100SX)を用いて測定した。サンプルは触媒を粉砕し水分散させた後、Cu−コロジオン膜上にすくい上げ、乾燥し、調製した。撮影は100kVで行った。そして、撮影した写真(TEM写真)に基づき、粒径解析ソフト(Media Cybernetics社製Image−Pro PLUS)を用いて求めた。
また、本発明のEO触媒においては、金属銀微粒子の粒子径が上記範囲内にあるのに加えて、その担持量が触媒の質量基準で3〜40質量%、好ましくは3〜25質量%の範囲にあるのがよい。担持量が少なすぎると触媒活性が低く、また多すぎると触媒コストが上がるなどして好ましくない。
したがって、本発明のEO触媒のなかでも、金属銀微粒子の90%以上が20〜80nmの範囲の粒子径を有し、さらにその担持量が触媒の質量基準で3〜25質量%の範囲にあるのが好ましいものである。
助触媒としては、アルカリ金属およびレニウムから選択される少なくとも1種の元素を担持することが好ましい。アルカリ金属の場合、単独で用いることができるが、レニウムを用いる場合はアルカリ金属との併用が好ましい。触媒性能の劣化が少ないことから、セシウムが好適である。これらの元素は、これらの金属の塩、例えば硝酸塩、炭酸塩、硫酸塩、アンモニウム塩、シュウ酸塩、酢酸塩等、または、これらの金属の酸化物を用いることができる。好適には、炭酸塩が用いられる。担持量については特に制限はなく、一般のEO触媒の調製に用いられている範囲の量を担持すればよい。具体的には、例えば、10〜100,000ppm(質量)、特に100〜10,000ppm(質量)が好ましい。また、セシウムを用いる場合は、10〜20,000ppm(質量)、特に100〜10,000ppm(質量)が好ましい。担持方法については、特に制限は無いが、水、アルコール等の溶液にして、含浸または浸漬により担持することができる。
担体は、α−アルミナを90%(質量)以上含有していることが好ましく、より好ましくは95%(質量)以上、さらには97%(質量)以上含有している方が好適である。微量のSiOを含有していることが好ましく、その含有量は、0.1〜5%(質量)(担体に対して酸化珪素換算の質量、以下同じ)であることが好ましく、より好ましくは0.2〜3%(質量)、さらには0.3〜1%(質量)である方が好適である。また微量のアルカリ金属およびタリウムによりなる群から選ばれた少なくとも1種の元素を含有していることが好ましく、その含有量は、0.01〜5%(質量)であることが好ましく、より好ましくは0.02〜3%(質量)、さらには0.03〜1%(質量)である方が好適である。α−アルミナの粒子径に関しては、一次粒子が0.01〜100μm、好ましくは0.1〜20μm、さらに好ましくは0.5から10μm、特に好ましくは1〜5μmのものが用いられる。また、その二次粒子は0.1〜1,000μm、好ましくは1〜500μm、さらに好ましくは10〜200μm、特に好ましくは30〜100μmであるのが良い。またBET比表面積は、0.1〜5.0m/gであることが好ましく、より好ましくは0.5〜3.0m/g、さらには0.8〜2.0m/gである方が好適である。細孔容積は0.2〜0.6ml/g、好ましくは0.3〜0.5ml/g、見掛気孔率は50〜70%(体積)、好ましくは55〜65%(体積)であることが好ましい。
これらは、通常の測定方法で測定される。
これらの担体は、球形、ペレット状、リング状等いずれでもよいが、好ましくはリング状であり、その相当直径は特に2〜10mm、好ましくは6〜9mmである。
次に、本発明のEO触媒の製造方法について詳しく説明する。本発明の方法は、銀の化合物またはイオンを含む液を担体に含浸させ、乾燥した後、マイクロ波を照射して金属銀微粒子を担体上に生成させることからなるものである。
上記「銀の化合物またはイオンを含む液」とは、銀化合物を溶媒に溶解または分散させたものを意味する。上記銀化合物としては、EO触媒の調製に一般に用いられている銀化合物を用いることができる。具体的には、例えば、シュウ酸銀、酢酸銀、硝酸銀、炭酸銀、プロピオン酸銀、乳酸銀、クエン酸銀、ネオデカン酸銀などを挙げることができる。なかでも、シュウ酸銀および酢酸銀が好適に用いられる。
上記溶媒としては、上記銀化合物を溶解または分散し得るものであればいずれでもよいが、通常、水が用いられる。したがって、上記の「銀の化合物またはイオンを含む液」(以下、「含浸液」ということもある。)としては、通常、シュウ酸銀または酢酸銀を水に溶解または分散した液が用いられる。この液中のシュウ酸銀または酢酸銀の濃度については、金属銀微粒子の担持量などを考慮して適宜決定することができる。
上記含浸液は、さらにアミン化合物を含有するのが好ましい。上記アミン化合物としては、EO触媒の調製に一般に用いられているアミン化合物を用いることができる。具体的には、アンモニア、ピリジンやブチルアミンなどのモノアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、などのアルカノールアミン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ブチレンジアミンなどのポリアミン、などを挙げることができる。なかでも、モノエタノールアミン、エチレンジアミンが好適に用いられる。
アミン化合物の添加量については、例えば、銀化合物とアミン化合物とが錯体を形成するように、銀化合物と等モル量となるようにするのがよい。このように銀化合物とアミン化合物との錯体を生成させることにより、含浸液は溶液状となり含浸作業が容易となる。
したがって、上記含浸液としては、硝酸銀、シュウ酸銀または酢酸銀などの銀化合物とエタノールアミン、エチレンジアミン、プロピレンジアミンなどのアミン化合物とを、水に溶解してなる液が好適に用いられる。
本発明の方法によれば、上記含浸液を担体に含浸させ、この含浸液を乾燥した後、マイクロ波を照射する。ここで、マイクロ波を照射する前に含浸液を乾燥させることが重要であり、乾燥させることなくマイクロ波を照射したのでは目的とする触媒を得ることができない。
通常、銀微粒子は溶媒中でイオンから還元される場合、粒子核形成、粒子成長の2段階で安定粒子を形成するが、本発明の方法によれば、マイクロ波の照射による分子レベルでの迅速な加熱により一斉に粒子核が形成され、その粒子成長が極めて抑制されるため、微粒子化するものと考えられている。なお、本発明は、このような理論的考察により制約を受けるものではない。
上記含浸液の乾燥方法については、特に制限はなく、例えば、空気、窒素、ヘリウム等の不活性ガスから選択される少なくとも1種のガス、または2種以上の混合ガスの気流中で行うことができ、温度は、30〜200℃、好ましくは50〜150℃で0.01〜100時間、好ましくは0.05〜10時間乾燥すればよい。窒素気流中、80〜150℃の温度で0.01〜100時間乾燥を好適に行うことができる。
マイクロ波の照射装置は、市販の専用機もあるが、家庭用電子レンジでもよい。
(照射条件)
周波数:2.45GHz
照射時間:1秒〜8時間
マイクロ波の強度範囲:0.001〜5W/cm
上記のマイクロ波の照射時間、マイクロ波強度を適宜設定して照射することにより、前記の粒子径を有する金属銀微粒子を生成することができるが、強度を大きくすると短時間で処理することができる。
次に、担体に金属銀微粒子とセシウム金属とを担持してなるEO触媒の具体的な調製方法について説明する。
その一つは、前記含浸液がアミン化合物を含まない場合であり、この方法は、含浸液を担体に含浸させ、乾燥した後、マイクロ波を照射して金属銀微粒子を担体上に生成させ、次いで、この金属銀微粒子担持担体をセシウム溶液と接触させ、乾燥することからなるものである。上記セシウム溶液としては、従来のEO触媒の調製に一般に用いられているものを用いることができる。具体的には、例えば、硝酸セシウム、炭酸セシウム、塩化セシウムなどのセシウム化合物をメタノール、エタノール、エチレングリコールなどのアルコールや水に溶解した溶液を用いることができる。セシウム化合物の濃度については、セシウム金属の担持量などを考慮して適宜決定することができる。
他の方法は、銀化合物とアミン化合物とを含む含浸液を用いるものであり、この含浸液を担体に含浸させ、乾燥した後、マイクロ波を照射して金属銀微粒子を担体上に生成させ、次いで、この金属銀微粒子担持担体を水洗した後、セシウム溶液と接触させ、乾燥することからなるものである。この方法において、セシウム溶液と金属銀微粒子担持担体とを接触させる前に、この金属銀微粒子担持担体を水洗することにより残留アミン化合物を除去する必要がある。残留アミン化合物を水洗により除去することなく、金属銀微粒子担持担体をセシウム溶液と接触させたのでは、所定のセシウム金属を担体上に担持させることができない。
上記の金属銀微粒子担持体は、さらに不活性ガス雰囲気中で処理することが好ましい。処理温度は400〜950℃、さらに500〜700℃が好ましく、処理時間は0.1〜10時間、さらに1〜5時間が好ましい。上記不活性ガス雰囲気は、窒素、ヘリウム、アルゴンなどから選択される不活性ガス雰囲気、水素、一酸化炭素などから選択される還元性ガス雰囲気、あるいは、不活性ガスと還元性ガスの混合ガス雰囲気が挙げられる。
具体的には、例えば、エチレン0.5〜40容量%、酸素3〜10容量%、炭酸ガス5〜30容量%、残部が窒素、アルゴン、水蒸気などの不活性ガス、メタン、エタンなどの低級炭化水素類からなり、さらに反応抑制剤としての二塩化エチレン、塩化エチルなどの有機ハロゲン化物を含む原料ガスを1,000〜30,000hr−1(STP)、好ましくは3,000〜8,000hr−1(STP)の空間速度、0.2〜4MPa、好ましくは1.5〜4MPaの圧力(ゲージ左)、180〜300℃、好ましくは200〜260℃の温度で上記の酸化エチレン製造用触媒に接触させる。
なお、上記残余ガス中のエタンは0.01〜3容量%が好ましく、さらに0.1〜0.5容量%が好適である。
また、上記残余ガス中の有機ハロゲン化物は、0.1〜100ppmが好ましく、さらに1〜10ppmが好適である。
なお、実施例および比較例に記載する転化率および選択率は次式により算出されたものである。
つぎに、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。
本明細書を通じて、各数値は、つぎの方法により測定したものである。
(1)SiO,NaO成分の定量:蛍光X線分析法により測定した。
(2)比表面積:担体を破砕し、0.85〜1.2mmの粒径に分級したもの0.2g程度を正確に秤量した。200℃で少なくとも30分脱気したサンプルをBET(Brunauer−Emett−Teller)法、(Journal of the American Chemical Society,60巻,309〜316項,(1938)に記載の方法)、により測定した。
(3)吸水率:日本工業規格(JIS R 2205−(1998年度))の方法を参考にして、つぎの方法で測定した。
a)破砕していない担体(リング状、球状等)を、120℃に保った乾燥機に入れ、恒量に達したときの重量を秤量した。(乾燥重量:W1(g))。
b)秤量した担体を水面下に沈めて30分以上煮沸したのち、室温の水中で冷却した。これを飽水試料とした。
c)飽水試料を水中から取り出し、湿布で素早く表面を拭い、水滴を除去したのち秤量した(飽水試料重量W2(g))。
d)吸水率は以下の式にて算出した。
(実施例1)
相当直径8mmのα−アルミナを主成分としたリング状担体(比表面積0.7m/g、吸水率42%)54.4gに、シュウ酸銀20g、モノエタノールアミン8mlおよび水10gからなる銀含有液を含浸させた後、120℃で3時間乾燥して液体成分を除去した。この担体を市販の電子レンジ(SHARP製1000W INVERTER)に入れ、マイクロ波(2.45GHz、0.3W/cm)を5分間照射した後、水洗して金属銀微粒子担持体を得た。その後、この金属銀微粒子担持体を、炭酸セシウム0.4gをエタノール75mlに溶解した溶液に浸漬させた後、30℃の窒素気流中で18時間乾燥して触媒(A)を得た。
このようにして得られた触媒(A)の金属銀微粒子の粒子径は、透過型電子顕微鏡(日本電子株式会社製JEM−100SX)を用いて測定した。サンプルは触媒を粉砕し水分散させた後、Cu−コロジオン膜上にすくい上げ、乾燥し、調製した。撮影は100kVで行った。そして、撮影した写真(TEM写真)に基づき、粒径解析ソフト(Media Cybernetics社製Image−Pro PLUS)を用いて求めた。触媒(A)における、金属銀微粒子の粒子径分布を図1に示す。金属銀微粒子の90%以上が20〜80nmの範囲の粒子径を有し、その平均粒子径は61nmであった。また、金属銀微粒子の担持量は20.1質量%であった。
触媒(A)について、エチレンの接触気相酸化によるエチレンオキシドの製造に係わる触媒性能を下記方法により評価した。
<触媒性能評価>
触媒(A)を粉砕して平均直径600〜850μmに篩い分けし、内径3mm、管長300mmの外部が加熱式の二重管式ステンレス製反応器に触媒(A)1.2gを充填し、この充填層にエチレン25容量%、酸素7容量%、二塩化エチレン3ppm、残余がメタン、窒素、アルゴンおよびエタンからなるガスを導入し、反応圧力20kg・G、空間速度11,000hr−1の条件で、エチレン転化率が10容量%となるようにして反応を行った。反応開始から5日後および30日後の結果を表1に示す。
(実施例2)
実施例1と同様な寸法のα−アルミナを主成分としたリング状担体(比表面積2.0m/g、吸水率38%)54.4gに、シュウ酸銀5g、エチレンジアミン3mlおよび水4gからなる銀含有液を含浸させた後、120℃で3時間乾燥して液体成分を除去した。この担体を実施例1で用いたと同じ電子レンジに入れ、マイクロ波(2.45GHz、0.3W/cm3)を5分間照射した後、水洗して金属銀微粒子担持体を得た。その後、この金属銀微粒子担持体を、炭酸セシウム0.4gをエタノール75mlに溶解した溶液に浸漬させた後、30℃の窒素気流中で18時間乾燥して触媒(B)を得た。
触媒(B)における、金属銀微粒子の粒子径分布を図2に示す。金属銀微粒子の95%以上が20〜80nmの範囲の粒子径を有し、その平均粒子径は31nmであった。また、金属銀微粒子の担持量は5.8質量%であった。
触媒(B)について、エチレンの接触気相酸化によるエチレンオキシドの製造に係わる触媒性能を実施例1と同様にして評価した。結果を表1に示す。
(比較例1)
実施例1と同様な寸法のα−アルミナを主成分としたリング状担体(比表面積2.3m/g、吸水率47%)54.4gに、シュウ酸銀20g、モノエタノールアミン8mlおよび水10gからなる銀含有液を含浸させた。この担体を、窒素気流中で乾燥して液体成分を除去することなく、そのまま、実施例1で用いたと同じ電子レンジに入れ、マイクロ波(2.45GHz、0.3W/cm3)を5分間照射した。そうすると担体外側に銀鏡膜が生成して、粒子の凝集が観察された。この銀担持体を水洗した後、炭酸セシウム0.4gをエタノール75mlに溶解した溶液に2時間浸漬させた後、30℃の窒素気流中で18時間乾燥して触媒(X)を得た。
触媒(X)における、金属銀微粒子の粒子径分布を図3に示す。金属銀微粒子の90%以上が100−220nmの範囲の粒子径を有し、その平均粒子径は150nmであった。また、金属銀微粒子の担持量は19.9質量%であった。
触媒(X)について、エチレンの接触気相酸化によるエチレンオキシドの製造に係わる触媒性能を実施例1と同様にして評価した。結果を表1に示す。
(比較例2)
実施例1と同様な寸法のα−アルミナを主成分としたリング状担体(比表面積2.5m/g、吸水率48%)54.4gに、シュウ酸銀20g、モノエタノールアミン8mlおよび水10gからなる銀含有液を含浸させた。この担体を、窒素気流中で乾燥して液体成分を除去した後、空気中、400℃で5分間加熱処理して銀担持担体を得た。この銀担持担体を水洗した後、炭酸セシウム0.4gをエタノール75mlに溶解した溶液に2時間浸漬させた後、30℃の窒素気流中で18時間乾燥して触媒(Y)を得た。
触媒(Y)における、金属銀微粒子の粒子径分布を図4に示す。金属銀微粒子の平均粒子径は205nmであった。また、金属銀微粒子の担持量は20.3質量%であった。
触媒(Y)について、エチレンの接触気相酸化によるエチレンオキシドの製造に係わる触媒性能を実施例1と同様にして評価した。結果を表1に示す。
(実施例3)
実施例1と同様な寸法のα−アルミナを主成分としたリング状担体(比表面積1.7m/g、吸水率42%、NaO含有量0.04質量%)54.4gに、シュウ酸銀15g、モノエタノールアミン8mlおよび水10gからなる銀含有液を含浸させた後、120℃で3時間乾燥して液体成分を除去した。この担体を市販の電子レンジ(SHARP製1000W INVERTER)に入れ、マイクロ波(2.45GHz、0.3W/cm3)を5分間照射した後、水洗して金属銀微粒子担持体を得た。その後、この金属銀微粒子担持体を、炭酸セシウム0.2gをエタノール75mlに溶解した溶液に浸漬させた後、30℃の窒素気流中で18時間乾燥した。さらに窒素気流下600℃で3時間熱処理し触媒(C)を得た。
触媒(C)では、金属銀微粒子の90%以上が38〜99nmの範囲の粒子径を有し、その平均粒子径は69nmであった。また、金属銀微粒子の担持量は15.0質量%であり、シリカ含有量は0.5質量%であった。
触媒(C)について、エチレンの接触気相酸化によるエチレンオキシドの製造に係わる触媒性能を下記方法により評価した。
<触媒性能評価>
触媒(C)を粉砕して平均直径600〜850μmに篩い分けし、内径3mm、管長300mmの外部が加熱式の二重管式ステンレス製反応器に触媒(C)1.2gを充填し、この充填層にエチレン25容量%、酸素7容量%、二塩化エチレン3ppm、残余がメタン、窒素、アルゴンおよびエタンからなるガスを導入し、反応圧力20kg・G、空間速度22,000hr−1の条件で、エチレン転化率が12容量%となるようにして反応を行った。反応開始から30日、110日後の結果を表1に示す。
(実施例4)
実施例1と同様な寸法のα−アルミナを主成分としたリング状担体(比表面積1.3m/g、吸水率40%、Na2O含有量0.2質量%)54.4gに、シュウ酸銀15g、モノエタノールアミン8mlおよび水10gからなる銀含有液を含浸させた後、120℃で3時間乾燥して液体成分を除去した。この担体を実施例1で用いたものと同じ電子レンジに入れ、マイクロ波(2.45GHz、0.3W/cm3)を5分間照射した後、水洗して金属銀微粒子担持体を得た。その後、この金属銀微粒子担持体を、炭酸セシウム0.4gをエタノール75mlに溶解した溶液に浸漬させた後、30℃の窒素気流中で18時間乾燥した。さらに窒素気流下600℃で3時間熱処理し触媒(D)を得た。
触媒(D)では金属銀微粒子の90%以上が19〜98nmの範囲の粒子径を有し、その平均粒子径は68nmであった。また、金属銀微粒子の担持量は15.0質量%であり、シリカ含有量は1.9質量%であった。
触媒(D)について、エチレンの接触気相酸化によるエチレンオキシドの製造に係わる触媒性能を触媒(C)と同じ方法により評価した。
本発明の触媒は、粒子径が特定範囲にある金属銀微粒子がほぼ均一に担持されているため、例えば、オレフィン分子状酸素含有ガスによる接触気相酸化に優れた性能を発揮する。なかでも、エチレンの接触気相酸化によるエチレンオキシドの製造に好適であり、高い選択率をもってエチレンオキシドを製造することができる。また、金属銀微粒子のシンタリングが起こりにくいので、耐久性に優れ、長期にわたってエチレンの接触気相酸化を行うことができる。さらに、微細な金属銀微粒子が担持されているため、その担持量を、従来品に比較して、低減することができる。
本発明のアルキレンオキシド製造用触媒の製造方法によれば、ナノサイズの金属銀微粒子を担持し、例えば、オレフィンの接触気相酸化により対応するアルキレンオキシドを製造する、なかでもエチレンの接触気相酸化によりエチレンオキシドを製造するに好適な触媒を効率よく製造することができる。この方法によれば、銀をナノサイズの微粒子として、均一に担持することができ、結果として、使用時の銀シンタリングが起こりにくいエチレンオキシド製造用触媒が得られる。
(3)該担体が0.1〜5質量%(担体に対して酸化珪素換算の質量)の珪素を含有してなる前記(1)または(2)に記載の触媒。
触媒(A)について、エチレンの接触気相酸化によるエチレンオキシドの製造に係わる触媒性能を下記方法により評価した。
<触媒性能評価>
触媒(A)を粉砕して平均直径600〜850μmに篩い分けし、内径3mm、管長300mmの外部が加熱式の二重管式ステンレス製反応器に触媒(A)1.2gを充填し、この充填層にエチレン25容量%、酸素7容量%、二塩化エチレン3ppm、残余がメタン、窒素、アルゴンおよびエタンからなるガスを導入し、反応圧力20kg/cm ・G、空間速度11,000hr−1の条件で、エチレン転化率が10容量%となるようにして反応を行った。反応開始から5日後および30日後の結果を表1に示す。
(実施例2)
実施例1と同様な寸法のα−アルミナを主成分としたリング状担体(比表面積2.0m/g、吸水率38%)54.4gに、シュウ酸銀5g、エチレンジアミン3mlおよび水4gからなる銀含有液を含浸させた後、120℃で3時間乾燥して液体成分を除去した。この担体を実施例1で用いたと同じ電子レンジに入れ、マイクロ波(2.45GHz、0.3W/cm)を5分間照射した後、水洗して金属銀微粒子担持体を得た。その後、この金属銀微粒子担持体を、炭酸セシウム0.4gをエタノール75mlに溶解した溶液に浸漬させた後、30℃の窒素気流中で18時間乾燥して触媒(B)を得た。
<触媒性能評価>
触媒(C)を粉砕して平均直径600〜850μmに篩い分けし、内径3mm、管長300mmの外部が加熱式の二重管式ステンレス製反応器に触媒(C)1.2gを充填し、この充填層にエチレン25容量%、酸素7容量%、二塩化エチレン3ppm、残余がメタン、窒素、アルゴンおよびエタンからなるガスを導入し、反応圧力20kg/cm ・G、空間速度22,000hr−1の条件で、エチレン転化率が12容量%となるようにして反応を行った。反応開始から30日、110日後の結果を表に示す。
(実施例4)
実施例1と同様な寸法のα−アルミナを主成分としたリング状担体(比表面積1.3m/g、吸水率40%、NaO含有量0.2質量%)54.4gに、シュウ酸銀15g、モノエタノールアミン8mlおよび水10gからなる銀含有液を含浸させた後、120℃で3時間乾燥して液体成分を除去した。この担体を実施例1で用いたものと同じ電子レンジに入れ、マイクロ波(2.45GHz、0.3W/cm)を5分間照射した後、水洗して金属銀微粒子担持体を得た。その後、この金属銀微粒子担持体を、炭酸セシウム0.4gをエタノール75mlに溶解した溶液に浸漬させた後、30℃の窒素気流中で18時間乾燥した。さらに窒素気流下600℃で3時間熱処理し触媒(D)を得た。

Claims (16)

  1. 担体に金属銀微粒子を分散担持してなるアルキレンオキシド製造用触媒であって、該金属銀微粒子の90%以上について、その銀粒子径が2〜100nmであるアルキレンオキシド製造用触媒。
  2. 該担体は、α−アルミナ担体である請求項1に記載の触媒。
  3. 該担体が3質量%以下の珪素を含有してなる請求項1または2に記載の触媒。
  4. 該金属銀微粒子の担持量が担体の質量基準で3〜40質量%である請求項1〜3のいずれか一つに記載の触媒。
  5. 該金属銀微粒子の担持量が担体の質量基準で3〜25質量%であり、かつ金属銀微粒子の90%以上について、その銀粒子径が20〜80nmの範囲にある請求項1〜4のいずれか一つに記載の触媒。
  6. 該金属銀微粒子の平均直径が30〜100nmである請求項1〜5のいずれか一つに記載の触媒。
  7. 該金属銀微粒子の粒子径は平均粒子径±30nmの範囲にある請求項1〜6のいずれか一つに記載の触媒。
  8. 該担体のBET比表面積が0.1〜5.0m/gである請求項1〜7のいずれか一つに記載の触媒。
  9. 該担体がアルカリ金属元素を含有してなる請求項1〜8のいずれか一つに記載の触媒。
  10. 該触媒が助触媒としてアルカリ金属およびレニウムよりなる群から選ばれた少なくとも1種の元素を含有してなる請求項1〜9のいずれか一つに記載の触媒。
  11. 該担体が20〜60質量%(担体質量に対する吸水率)である請求項1〜10のいずれか一つの触媒。
  12. 銀の化合物またはイオンを含む液を担体に含浸させ、乾燥させたのち、マイクロ波を照射して金属銀微粒子を担体上に生成させることよりなるアルキレンオキシド製造用触媒の製造方法。
  13. 銀の化合物またはイオンを含む溶液がさらにアミン化合物を含有する請求項12に記載の方法。
  14. マイクロ波照射後の担体を、不活性ガス中で30〜200℃の範囲で処理してなる請求項12または13に記載の方法。
  15. 請求項1〜11に記載の触媒の存在下にオレフィンを分子酸素含有ガスにより気相酸化することによりなるアルキレンオキシドの製造方法。
  16. 該オレフィンはエチレンである請求項15に記載のアルキレンオキシドの製造方法。
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