JPWO2008007660A1 - ステージ装置及び露光装置 - Google Patents
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Abstract
Description
また、最近は、露光装置の投影光学系として大型で重いミラーが用いられることがあるが、露光装置の軽量化を図るためには、このようなミラーについても反射面の平面度を高く維持した上で軽量化することが望まれている。
また、本発明は、その露光装置を用いるデバイス製造技術を提供することをも目的とする。
また、本発明による第1の露光装置は、露光光でパターンを照明し、その露光光でそのパターンを介して基板(W)を露光する露光装置であって、そのパターンが形成されたマスク(R)及びその基板の少なくとも一方を駆動するために、本発明のステージ装置を用いるものである。
なお、以上の本発明の所定要素に付した括弧付き符号は、本発明の一実施形態を示す図面中の部材に対応しているが、各符号は本発明を分かり易くするために本発明の要素を例示したに過ぎず、本発明をその実施形態の構成に限定するものではない。
本発明の第2の露光装置によれば、反射面の平面度を高く維持した上で、ミラーを軽量化でき、ひいては露光装置を軽量化できる。
図1は、本例の投影露光装置10の概略構成を示し、この図1において、投影露光装置10に備えられている投影光学系PLの物体面(像面に平行)に垂直にZ軸を取り、Z軸に垂直な平面内で走査露光時のレチクルR及びウエハWの走査方向にY軸を取り、その走査方向に直交する非走査方向(図1の紙面に垂直な方向)にX軸を取って説明を行う。
次に、レチクルステージ系12は、照明光学系IOPの下端部の外周にシール部材99を介して連結された環状の取り付け部101を有する照明系側プレート(キャッププレート)14の下方に配置されている。照明系側プレート14のほぼ中央部には露光光ILの光路(通路)となる矩形の開口14aが形成されている。
前記+X方向側の第1駆動機構38も上記一方の第1駆動機構36と同様に構成されている。即ち、第1駆動機構38は、Y方向を長手方向とする上下一対のそれぞれコイルユニットが配置された固定子ユニット138A,138Bと、これらの固定子ユニット138A,138BをZ方向に所定間隔を維持した状態で両端部にて固定する一対の固定部材154とを備えている。一対の固定部材154のそれぞれは、前述の枠状部材18の内壁面に固定されている。固定子ユニット138A,138Bは、前述の固定子ユニット136A,136Bと同様に構成されている(図5参照)。
したがって、図2の本例のレチクルステージRSTは、枠状部材18に対してガイドレス方式でX方向、Y方向、θz方向の3自由度で相対的に変位できるように支持されるようになっている。そして、枠状部材18に対してレチクルステージRSTを相対的に駆動するために、Y方向に推力を発生する4軸のY軸リニアモータ76A,78A,76B,78BとX方向に推力を発生する1軸のX軸ボイスコイルモータ79とからなる5軸の駆動装置が設けられる。
図6は、図4(A)のレチクルステージRSTを図1のレチクルベース16上に載置した状態を示す要部の平面図である。図6において、レチクルステージRST(レチクルステージ本体22)の−X方向の端部のY方向に離れた光学部材支持部24B1及び24B2上にそれぞれ光学系31及び32が固定されている。前者の第1光学系31は、ハーフミラー面31aと、偏光ビームスプリッター面31bと、1/4波長板が設けられた入射出面31cと、全反射面31dとを備える5角形のプリズム体である。後者の第2光学系32は、全反射面32aと、偏光ビームスプリッター面32bと、1/4波長板が設けられた入射出面32cと、全反射面32dとを備える5角形のプリズム体である。また、第1光学系31に対して+Y方向に窓ガラスg1を隔ててレーザ光源69XLと第1レシーバ69XAとが配置され、第2光学系32に対して−Y方向に窓ガラスg2を隔てて第2レシーバ69XBが配置されている。更に、光学系31及び32に−X方向に対向するように、レチクルベース16上にY軸に平行に固定鏡MXが配置されている。
なお、本実施の形態に限定されることなく、ウエハステージ系の構成部材においても、図7のレチクルステージ本体22と同様に、ねじブッシュ等が設置される部分を高密度部としてその他の部分を低密度部としてもよい。
先ず、主制御装置70の管理の下、不図示のレチクルローダ、ウエハローダによって、レチクルロード、ウエハロードが行なわれる。その後、レチクルアライメント系、ウエハステージWST上の基準マーク板、オフアクシス・アライメント検出系(いずれも図示省略)等を用いて、レチクルアライメント及びウエハアライメントが実行される。次に、先ず、ウエハWの位置が、ウエハW上の最初のショット領域(ファースト・ショット)の露光のための走査開始位置となるように、ウエハステージWSTが移動される。同時に、レチクルRの位置が走査開始位置となるように、レチクルステージRSTが移動される。そして、主制御装置70からの指示により、ステージ制御系90がレチクル側のレーザ干渉計69Y,69YR等によって計測されたレチクルRの位置情報、及びウエハ側のY軸レーザ干渉計57Y及びX軸レーザ干渉計によって計測されたウエハWの位置情報に基づき、レチクルR(レチクルステージRST)とウエハW(ウエハステージWST)とをY方向(走査方向)に同期移動させて、露光光ILを照射することにより、ファースト・ショットへの走査露光が行なわれる。続いて、ウエハステージWSTが非走査方向(X方向)又はY方向に1ショット領域分だけステップ移動した後、次のショット領域に対する走査露光が行なわれる。このようにして、ショット間のステップ移動と走査露光とが順次繰り返されて、ウエハW上の各ショット領域にレチクルRのパターンが転写される。
(1)本実施形態のレチクルステージ系12(レチクル用のステージ装置)によれば、レチクルRが載置された状態でレチクルベース16上で駆動されるレチクルステージRSTは、図7に示すように、ねじブッシュ45が装着される部分が高密度部22e1〜22e4及び22f1〜22f4とされた、密度分布が一様でない材料から形成されたレチクルステージ本体22を備えている。従って、強度又は剛性の特性を殆ど低下させることなく、一層の軽量化を達成することが可能である。
(3)また、本実施形態のウエハステージ系(ウエハ用のステージ装置)によれば、ウエハWが載置された状態でウエハベースBS上で駆動されるウエハステージWSTは、図1に示すように、反射面56Yが形成された部分が高密度部25aとされた、密度分布が一様でない材料から形成されたウエハホルダ25を備えている。従って、反射面の平面度の特性を殆ど低下させることなく、一層の軽量化を達成することが可能である。
(5)また、本実施形態の投影露光装置10は、露光光ILでレチクルRのパターンを照明し、その露光光でそのパターンを介してウエハWを露光する露光装置であって、レチクルR及びウエハWをそれぞれ駆動するために本実施形態のレチクルステージ系12及びウエハステージ系を用いている。従って、レチクルステージRST及びウエハステージWSTが軽量化できるため、走査露光時にレチクルステージRST及びウエハステージWSTをより高速に移動することが可能になり、露光工程のスループットが向上する。
(6)また、本実施形態の投影露光装置10は、照明光学系IOPを介して露光光ILをレチクルRのパターンに照射し、投影光学系PLを介してそのパターンの像をウエハWに露光する露光装置であって、投影光学系PLは凹面鏡50(反射部材、ミラー)を有し、凹面鏡50は、反射面50cを含む高密度部50aの密度がその他の部分の密度よりも高くなっている。従って、反射面の平面度を殆ど低下させることなく、ひいては、投影光学系PLの結像性能を殆ど低下させることなく、露光装置の一層の軽量化を達成することが可能である。
このように露光装置全体としての軽量化が図られているため、露光装置(投影露光装置10)の運搬、設置、組立等が容易になる。
なお、上記の実施形態の投影露光装置10において、照明光学系IOP又は投影光学系PL内のミラーを、反射面を含む部分の密度がその他の部分の密度よりも高くなるように形成した場合には、レチクルステージ系12及びウエハステージ系を、密度分布が一様でない材料から形成された部材を含まない通常のステージ系としてもよい。この場合にも、露光装置全体としての軽量化の効果は得られる。
また、例えば国際公開第99/49504号パンフレットなどに開示されるように、解像度及び焦点深度を向上させるために、露光中に投影光学系と基板との間に露光光を透過する液体を供給する液浸型露光装置にも本発明を適用することができる。液浸露光に必要な構造は、例えば液体供給部、ノズル部、及び液体回収部を含んで構成される。その液浸露光に必要な機構は、上記の機構の他に、例えば、欧州特許公開第1420298号公報、国際公開第2004/055803号パンフレット、国際公開第2004/057590号パンフレット、国際公開第2005/029559号パンフレット(対応米国特許公開第2006/0231206号)、国際公開第2004/086468号パンフレット(対応米国特許公開第2005/0280791号)、特開2004−289126号公報(対応米国特許第6,952,253号)などに記載されているものを用いることができる。液浸露光装置の液浸機構及びその付属機器について、指定国または選択国の法令が許す範囲において上記の米国特許又は米国特許公開などの開示を援用して本文の記載の一部とする。
また、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得ることは勿論である。また、明細書、特許請求の範囲、図面、及び要約を含む2006年7月14日付け提出の日本国特願2006−194890の全ての開示内容は、そっくりそのまま引用して本願に組み込まれている。
Claims (14)
- 物体が載置される可動部を駆動するステージ装置であって、
前記可動部が、密度分布が一様でない材料から形成された所定部材を備えたステージ装置。 - 前記可動部の可動を案内するガイド機構を更に備え、
前記ガイド機構が、密度分布が一様でない材料から形成された所定部材を備えた請求項1に記載のステージ装置。 - 前記所定部材は、局所的に他の部分よりも高い強度が必要とされる部分を含み、
前記高い強度が必要とされる部分の密度が他の部分の密度よりも高い請求項1又は2に記載のステージ装置。 - 前記所定部材の他の部分よりも高い強度が必要とされる部分は、ねじ止め用のブッシュ又はヘリサートが設けられた部分である請求項3に記載のステージ装置。
- 前記所定部材は、局所的に他の部分よりも高い平面度が必要とされる部分を含み、
前記高い平面度が必要とされる部分の密度が他の部分の密度よりも高い請求項1又は2に記載のステージ装置。 - 前記所定部材の他の部分よりも高い平面度が必要とされる部分は、位置計測用の計測光を反射する反射面が形成される部分である請求項5に記載のステージ装置。
- 前記所定部材の他の部分よりも高い平面度が必要とされる部分は、気体軸受けを形成するように気体を挟んで対向配置される部分の少なくとも一部である請求項5に記載のステージ装置。
- 前記所定部材は、多孔質セラミックス又は焼結金属から形成される請求項1から7のいずれか一項に記載のステージ装置。
- 前記所定部材の最も密度が高い部分の密度に対して最も密度が低い部分の密度はほぼ1/10である請求項1から8のいずれか一項に記載のステージ装置。
- 前記所定部材は、高密度のフレームの隙間に低密度の材料を充填した後、焼き固めて形成される請求項1から9のいずれか一項に記載のステージ装置。
- 前記密度分布が一様でない材料は、密度が連続的に変化する材料である請求項1又は2に記載のステージ装置。
- 露光光でパターンを照明し、前記露光光で前記パターンを介して基板を露光する露光装置であって、
前記パターンが形成されたマスク及び前記基板の少なくとも一方を駆動するために、請求項1から11のいずれか一項に記載のステージ装置を用いる露光装置。 - 照明光学系を介して露光光をパターンに照射し、投影光学系を介して前記パターンの像を基板に露光する露光装置であって、
前記照明光学系又は前記投影光学系のいずれか一方は、反射部材を有し、
前記反射部材は、反射面が形成された部分の密度が他の部分の密度よりも高い露光装置。 - デバイスを構成する回路パターンの形成工程の少なくとも一部において、請求項12又は13に記載の露光装置を用いるデバイス製造方法。
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