JPWO2007029609A1 - 耐熱性接着シート - Google Patents

耐熱性接着シート Download PDF

Info

Publication number
JPWO2007029609A1
JPWO2007029609A1 JP2007534371A JP2007534371A JPWO2007029609A1 JP WO2007029609 A1 JPWO2007029609 A1 JP WO2007029609A1 JP 2007534371 A JP2007534371 A JP 2007534371A JP 2007534371 A JP2007534371 A JP 2007534371A JP WO2007029609 A1 JPWO2007029609 A1 JP WO2007029609A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
adhesive sheet
heat
film
resistant adhesive
insulating layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007534371A
Other languages
English (en)
Inventor
金城 永泰
永泰 金城
菊池 剛
剛 菊池
松脇 崇晃
崇晃 松脇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kaneka Corp
Original Assignee
Kaneka Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kaneka Corp filed Critical Kaneka Corp
Publication of JPWO2007029609A1 publication Critical patent/JPWO2007029609A1/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J179/00Adhesives based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen, with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C09J161/00 - C09J177/00
    • C09J179/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C09J179/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/20Layered products comprising a layer of metal comprising aluminium or copper
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/281Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polyimides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/34Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyamides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • B32B7/12Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22Plastics; Metallised plastics
    • C09J7/25Plastics; Metallised plastics based on macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0346Organic insulating material consisting of one material containing N
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/30Properties of the layers or laminate having particular thermal properties
    • B32B2307/306Resistant to heat
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/51Elastic
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70Other properties
    • B32B2307/732Dimensional properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/08PCBs, i.e. printed circuit boards
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2203/00Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2203/326Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for bonding electronic components such as wafers, chips or semiconductors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2479/00Presence of polyamine or polyimide
    • C09J2479/08Presence of polyamine or polyimide polyimide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2479/00Presence of polyamine or polyimide
    • C09J2479/08Presence of polyamine or polyimide polyimide
    • C09J2479/086Presence of polyamine or polyimide polyimide in the substrate
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/0353Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
    • H05K1/036Multilayers with layers of different types
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/01Dielectrics
    • H05K2201/0137Materials
    • H05K2201/0154Polyimide
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/022Processes for manufacturing precursors of printed circuits, i.e. copper-clad substrates
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/386Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31721Of polyimide

Abstract

本発明は、フレキシブルプリント基板、特には、最近、ますます需要が高まっている、より高い耐熱性・信頼性を要求される2層フレキシブルプリント基板の寸法安定性のばらつきを向上させる耐熱性接着シートにを提供することにある。非熱可塑性ポリイミドを含む絶縁層の少なくとも一方の面に熱可塑性ポリイミドを含む耐熱性接着剤層を設けてなる接着シートであって、片伸びが10mm以下であることを特徴とする耐熱性接着シートによって、上記課題を解決しうる。

Description

本発明は、フレキシブルプリント基板、特にはより高い耐熱性・信頼性を要求される2層フレキシブルプリント基板の寸法安定性のばらつきを向上させる耐熱性接着シートに関する。
近年、エレクトロニクス製品の軽量化、小型化、高密度化にともない、各種プリント基板の需要が伸びているが、中でも、フレキシブル積層板(フレキシブルプリント配線板(FPC)等とも称する)の需要が特に伸びている。フレキシブル積層板は、絶縁性フィルム上に金属箔からなる回路が形成された構造を有している。
上記フレキシブル積層板は、一般に、各種絶縁材料により形成され、柔軟性を有する絶縁性フィルムを基板とし、この基板の表面に、各種接着材料を介して金属箔を加熱・圧着することにより貼りあわせる方法により製造される。上記絶縁性フィルムとしては、ポリイミドフィルム等が好ましく用いられている。上記接着材料としては、エポキシ系、アクリル系等の熱硬化性接着剤が一般的に用いられている(これら熱硬化性接着剤を用いたFPCを以下、三層FPCともいう)。
熱硬化性接着剤は比較的低温での接着が可能であるという利点がある。しかし今後、耐熱性、屈曲性、電気的信頼性といった要求特性が厳しくなるに従い、熱硬化性接着剤を用いた三層FPCでは対応が困難になると考えられる。これに対し、絶縁性フィルムに直接金属層を設けたり、接着層に熱可塑性ポリイミドを使用したFPC(以下、二層FPCともいう)が提案されている。この二層FPCは、三層FPCより優れた特性を有し、今後需要が伸びていくことが期待される。
一方、エレクトロニクスの技術分野においては、益々高密度実装の要求が高くなり、それに伴いフレキシブルプリント配線板(以下、FPCという)を用いる技術分野においても、高密度実装の要求が高くなってきている。FPCの製造工程は、ベースフィルムに金属を積層する工程、金属表面に配線を形成する工程に大別される。FPCの製造工程において寸法変化率が大きい工程は、金属表面に配線を形成する際のエッチング工程の前後や、FPCの状態で加熱される工程の前後であり、これら工程の前後においてFPCの寸法変化が小さいことが要求されている。さらには、高密度実装化に対応するためには、寸法変化率のバラツキが小さいことも要求される。接着剤層に熱可塑性ポリイミド樹脂を用いる2層FPC用の接着シートを用いてFPCを製造する場合、接着シートを製造する過程で高温に晒される。従って、2層FPCにおける寸法安定性を改善することは、3層FPCに比べてより難しい。また特に、FPCを製造する際の寸法安定性のバラツキを抑制するという観点での検討はあまりなされていないというのが現状である。
ところで、ブルプリント回路基板や、カバーレイフィルムのフラット性を改善することを目的として、フレキシブルプリント回路基板や、接着剤付きカバーレイフィルムにおける耐熱性の絶縁フィルムのたるみ量を特定の値以下に抑える技術が知られている。(特許文献1、2)
また、ポリイミドフィルムの片伸びと熱収縮率を規定して平坦性と寸法安定性を向上させたり、ポリイミドフィルムの最大たるみ値と熱収縮率を規定することにより、加工時に発生するシワや蛇行を改善する技術が知られている(特許文献3,4)
しかし、これらの技術でフィルムのたるみ量ないし片伸びを規定しているのは、フィルムの平坦性を改善することを目的としているものである。さらには、これらの技術で開示されているのは、エポキシ系接着剤など熱硬化性接着剤を用いたいわゆる三層FPCに関するものである。
ところが、加工工程でより高温に晒される2層FPCを製造する場合には、これらの技術は適用できないことが本発明者らにより明らかになった。特に、これらの技術では考慮されていない寸法安定性のバラツキを抑えるという観点からは、絶縁フィルムのたるみ量や、片伸びを規定しても、2層FPCを製造する場合には、解決には至らないことが判明した。
特開平5−327147号公報 特開平8−139436号公報 特開2001−164006号公報 特開2004−346210号公報
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、益々需要が高まっている2層FPCの寸法安定性のばらつきを改善することにある。
本発明者らは、上記の課題に鑑み鋭意検討した結果、耐熱性接着シートの片伸び値を規定することにより上記課題を解決できることを見出し本発明を完成させるに至った。
即ち本発明は、以下の新規な接着シートによって、上記課題を解決しうる。
1)非熱可塑性ポリイミドを含む絶縁層の少なくとも一方の面に熱可塑性ポリイミドを含む耐熱性接着剤層を設けてなる接着シートであって、片伸びが10mm以下であることを特徴とする耐熱性接着シート。
2)絶縁層の250℃での貯蔵弾性率と380℃での貯蔵弾性率の比[E'(380℃)/E'(250℃)]が0.4以下であり、かつ380℃での貯蔵弾性率が0.7GPa以上であることを特徴とする1)記載の耐熱性接着シート。
3)絶縁層の380℃での貯蔵弾性率が2GPa以下であることを特徴とする1)または2)記載の耐熱性接着シート。
4)絶縁層に含まれる非熱可塑性ポリイミド樹脂が絶縁層全体の50重量%以上であることを特徴とする1)記載の耐熱性接着シート。
5)耐熱性接着剤層に含まれる熱可塑性ポリイミド樹脂が耐熱性接着剤層の70重量%以上であることを特徴とする1)記載の耐熱性接着シート。
6)350℃以上の温度で、熱ロールラミネート法により連続的に金属箔と張り合わせるために用いる接着シートであって、片伸びが10mm以下であることを特徴とする耐熱性接着シート。
本発明により2層フレキシブル金属張積層板の製造工程で発生する寸法変化率のばらつきが低減され、また、生産性向上を伴った収率改善を図ることができる。
片伸び値を測定する方法を示す図である 寸法変化率を測定する方法を示す図である。
本発明の実施の一形態について、以下に説明する。
(本発明の接着シート)
本発明の接着シートは、非熱可塑性ポリイミドを含む絶縁層の少なくとも一方の面に熱可塑性ポリイミドを含む耐熱性接着剤層を設けてなる接着シートであって、片伸びが10mm以下であることを特徴とする耐熱性接着シートである。
従来技術で説明したように、フラット性や、FPCの製造工程における蛇行を改善することを目的として、絶縁層の片伸びやたるみ量を規定することはよく行われている。本発明者らの検討により、絶縁層と接着層ともにポリイミド樹脂が用いられる2層FPCにおける寸法安定性、特に寸法変化率のバラツキを考えた場合には、絶縁層の片伸びを規定してもFPCの寸法変化率のバラツキにはほとんど寄与しないことが判明した。
これは、2層FPCと3層FPCの製造工程における加熱の違いによるものと推測できる。すなわち、3層FPCに用いられる接着剤は比較的低温で硬化が可能な熱硬化型の接着剤が用いられるので、金属箔を積層する際の加熱による影響はほとんどなく、絶縁層における特性が反映されると考えられる。
一方、2層FPCの代表的な製造方法としては、非熱可塑性ポリイミドフィルムを含む絶縁層の少なくとも片面に、熱可塑性のポリイミドを含む耐熱性接着剤層を設けてなる接着シートに、金属箔を積層する方法が挙げられる。このような2層FPCにおいては、接着シートを製造する工程で、高温での加熱が必要とされる。例えば、非熱可塑性ポリイミドフィルムに熱可塑性ポリイミドの前駆体を塗布後、加熱・イミド化して接着シートにする方法や、非熱可塑性ポリイミドを含む絶縁層に対応する樹脂溶液(非熱可塑性ポリイミドの前駆体と有機溶媒を含む溶液)と、熱可塑性ポリイミドを含む接着剤層に対応する樹脂溶液(熱可塑性ポリイミドの前駆体と有機溶媒を含む溶液あるいは熱可塑性ポリイミドと有機溶媒を含む溶液)を、共押出により支持体上に押出し、支持体上で乾燥し、自己支持性を有するフィルムを得、これを引き剥がして加熱・イミド化する方法などが挙げられる。 どのような方法を選択するにせよ、2層FPCに用いられる接着シートは、非熱可塑性ポリイミド樹脂を含む絶縁層と熱可塑性ポリイミドを含む接着剤層を有しているため、その製造工程においてイミド化のために必要な加熱がなされる。また、製造工程において、さまざまな張力が加えられる。
2層FPCを製造する場合には、これらの技術は適用できないことが本発明者らにより明らかになった。特に、これらの技術では考慮されていない寸法安定性のバラツキを抑えるという観点からは、絶縁フィルムのたるみ量や、片伸びを規定しても、2層FPCを製造する場合には、解決には至らないことが判明した。
そこで、寸法変化率のバラツキを抑制するためには接着シートの片伸びを規定することが有効である。本発明においては、接着フィルムの片伸びは10mm以下であり、好ましくは9mm以下、より好ましくは8mm以下である。
片伸びがこの範囲を上回ると寸法安定性のばらつきが大きくなり、銅張積層板(FCCL)の幅方向での寸法ばらつきが大きくなる傾向にある。
本発明において片伸びの測定は、次にようにして測定する。
接着シートを508mm幅で長さ6.5mの短冊状にスリットし、このシートを平坦な台上に広げる。この時、長手方向にまっすぐであれば片伸び値は0mm、弧を描くように湾曲している場合、図1に示す値が片伸び値となる。なお、幅広の接着シートの場合は、幅方向における中央部から508mm幅でスリットする。
このような片伸びの少ない接着フィルムを得るためには、絶縁層に用いられフィルムの熱的性質に関する設計が重要である。本発明者らは、上述のような例に代表されるような、熱可塑性ポリイミドを接着剤層に用いた接着シートを製造する場合に加えられる加熱が、耐熱接着シートの片伸びに与える影響と、絶縁層の熱的特性を種々検討した。その結果、絶縁層の250℃での貯蔵弾性率と380℃での貯蔵弾性率の比および380℃での貯蔵弾性率の値を特定の範囲に設定することで、得られる耐熱性接着シートの片伸びをコントロールすることが容易となることが判明した。すなわち、絶縁層の貯蔵弾性率の比と特定温度における絶対値を適切に制御することで、接着シートの製造工程で加えられる熱による影響を緩和できる
まず、絶縁層の250℃での貯蔵弾性率と380℃での貯蔵弾性率の比[E'(380℃)/E'(250℃)]は0.4以下であることが好ましく、さらには0.35以下、特には0.3以下が好ましい。
ここで、貯蔵弾性率250℃での貯蔵弾性率を選定した理由は、二層FPCの分野においてフレキシブル金属張積層板の加熱後寸法変化を評価する場合、250℃で評価されることが多いからであり、380℃の貯蔵弾性率を選定した理由は貯蔵弾性率を測定した場合に、この温度付近で値が安定化するからである。そしてこの比が小さいほど、接着シートの片伸びが小さくなることがわかった。特に、絶縁層の250℃での貯蔵弾性率と380℃での貯蔵弾性率の比[E'(380℃)/E'(250℃)]が0.4という値を目安として、この値以下であることが重要である。この値が小さいほど、各温度での貯蔵弾性率の値の差が大きいということである。この範囲を外れた場合、加熱時の寸法安定性が悪くなる傾向にある。
また、380℃での貯蔵弾性率E'(380℃)が0.7GPa以上であることが必要である。好ましくは0.8GPa以上である。この範囲を外れた場合、耐熱性接着シートの片伸びが大きくなり、その結果、寸法安定性のバラツキが大きくなる場合がある。
また、E'(380℃)の好ましい下限値は、2GPa以下であり、さらに好ましくは1.5GPa以下である。この範囲を外れた場合、加熱時の寸法安定性が悪くなる傾向にある。
なお、250℃と380℃における貯蔵弾性率はセイコー電子社製DMS−600を用いて以下の条件により測定する。
温度プロファイル:0〜400℃ (3℃/min)
サンプル形状:つかみ具間20mm、巾9mm
周波数:5Hz
歪振幅:10μm
最小張力:100
張力ゲイン:1.5
力振幅初期値:100mN
(絶縁層)
本発明の絶縁層は、非熱可塑性ポリイミドを含む絶縁層であり、非熱可塑性ポリイミドを絶縁層全体の50重量%以上含むことが好ましい。このような絶縁層を非熱可塑性ポリイミドフィルムと称して以下にその製造方法の一例を説明する。
本発明に用いられる非熱可塑性ポリイミドフィルムはポリアミド酸を前駆体として用いて製造される。ポリアミド酸の製造方法としては公知のあらゆる方法を用いることができ、通常、芳香族酸二無水物と芳香族ジアミンを、実質的等モル量を有機溶媒中に溶解させて、得られたポリアミド酸有機溶媒溶液を、制御された温度条件下で、上記酸二無水物とジアミンの重合が完了するまで攪拌することによって製造される。これらのポリアミド酸溶液は通常5〜35wt%、好ましくは10〜30wt%の濃度で得られる。この範囲の濃度である場合に適当な分子量と溶液粘度を得る。
重合方法としてはあらゆる公知の方法およびそれらを組み合わせた方法を用いることができる。ポリアミド酸の重合における重合方法の特徴はそのモノマーの添加順序にあり、このモノマー添加順序を制御することにより得られるポリイミドの諸物性を制御することができる。従い、本発明においてポリアミド酸の重合にはいかなるモノマーの添加方法を用いても良い。代表的な重合方法として次のような方法が挙げられる。すなわち、
1)芳香族ジアミンを有機極性溶媒中に溶解し、これと実質的に等モルの芳香族テトラカルボン酸二無水物を反応させて重合する方法。
2)芳香族テトラカルボン酸二無水物とこれに対し過小モル量の芳香族ジアミン化合物とを有機極性溶媒中で反応させ、両末端に酸無水物基を有するプレポリマーを得る。続いて、全工程において用いる芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン化合物が実質的に等モルとなるように、芳香族ジアミン化合物を用いて重合させる方法。
3)芳香族テトラカルボン酸二無水物とこれに対し過剰モル量の芳香族ジアミン化合物とを有機極性溶媒中で反応させ、両末端にアミノ基を有するプレポリマーを得る。続いてここに芳香族ジアミン化合物を追加添加後、全工程において用いる芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン化合物が実質的に等モルとなるように、芳香族テトラカルボン酸二無水物を用いて重合する方法。
4)芳香族テトラカルボン酸二無水物を有機極性溶媒中に溶解及び/または分散させた後、実質的に等モルとなるように芳香族ジアミン化合物を用いて重合させる方法。
5)実質的に等モルの芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンの混合物を有機極性溶媒中で反応させて重合する方法。
などのような方法である。これら方法を単独で用いても良いし、部分的に組み合わせて用いることもできる。
これらポリアミック酸溶液からポリイミドフィルムを製造する方法については従来公知の方法を用いることができる。この方法には熱イミド化法と化学イミド化法が挙げられ、どちらの方法を用いてフィルムを製造してもかまわないが、化学イミド化法によるイミド化の方が本発明に好適に用いられる諸特性を有したポリイミドフィルムを得やすい傾向にある。
また、本発明において特に好ましいポリイミドフィルムの製造工程は、
a)有機溶剤中で芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物を反応させてポリアミック酸溶液を得る工程、
b)上記ポリアミック酸溶液を含む製膜ドープを支持体上に流延する工程、
c)支持体上で加熱した後、支持体からゲルフィルムを引き剥がす工程、
d)更に加熱して、残ったアミック酸をイミド化し、かつ乾燥させる工程、
を含むことが好ましい。
上記工程において無水酢酸等の酸無水物に代表される脱水剤と、イソキノリン、β−ピコリン、ピリジン、ジエチルピリジン類等の第三級アミン類等に代表されるイミド化触媒とを含む硬化剤を用いても良い。
以下本発明の好ましい一形態、化学イミド法を一例にとり、ポリイミドフィルムの製造工程を説明する。ただし、本発明は以下の例により限定されるものではない。
製膜条件や加熱条件は、ポリアミド酸の種類、フィルムの厚さ等により、変動し得る。
脱水剤及びイミド化触媒を低温でポリアミド酸溶液中に混合して製膜ドープを得る。引き続いてこの製膜ドープをガラス板、アルミ箔、エンドレスステンレスベルト、ステンレスドラムなどの支持体上にフィルム状にキャストし、支持体上で80℃〜200℃、好ましくは100℃〜180℃の温度領域で加熱することで脱水剤及びイミド化触媒を活性化することによって部分的に硬化及び/または乾燥した後、支持体から剥離してポリアミック酸フィルム(以下、ゲルフィルムという)を得る。
ゲルフィルムは、ポリアミド酸からポリイミドへの硬化の中間段階にあり、自己支持性を有し、式(1)
(A−B)×100/B・・・・(1)
式(1)中
A,Bは以下のものを表す。
A:ゲルフィルムの重量
B:ゲルフィルムを450℃で20分間加熱した後の重量
から算出される揮発分含量は5〜500重量%の範囲、好ましくは5〜200重量%、より好ましくは5〜150重量%の範囲にある。この範囲のフィルムを用いることが好適であり、焼成過程でフィルム破断、乾燥ムラによるフィルムの色調ムラ、異方性の発現、特性ばらつき等の不具合が起こることがある。
脱水剤の好ましい量は、ポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して、0.5〜5モル、好ましくは1.0〜4モルである。
また、イミド化触媒の好ましい量はポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して、0.05〜3モル、好ましくは0.2〜2モルである。
脱水剤及びイミド化触媒が上記範囲を下回ると化学的イミド化が不十分で、焼成途中で破断したり、機械的強度が低下したりすることがある。また、これらの量が上記範囲を上回ると、イミド化の進行が早くなりすぎ、フィルム状にキャストすることが困難となることがあるため好ましくない。
前記ゲルフィルムの端部を固定して硬化時の収縮を回避して乾燥し、水、残留溶媒、残存転化剤及び触媒を除去し、そして残ったアミド酸を完全にイミド化して、本発明のポリイミドフィルムが得られる。
この時、最終的に400〜550℃の温度で5〜400秒加熱するのが好ましい。最終焼成温度は好ましくは400〜500℃、特に好ましくは400〜480℃である。温度が低すぎると耐薬品性や耐湿性および機械的強度に悪影響を及ぼす傾向にあり、高すぎると得られる接着シートの片伸び量が大きくなる場合がある。
また、フィルム中に残留している内部応力を緩和させるためにフィルムを搬送するに必要最低限の張力下において加熱処理をすることもできる。この加熱処理はフィルム製造工程において行ってもよいし、また、別途この工程を設けても良い。加熱条件はフィルムの特性や用いる装置に応じて変動するため一概に決定することはできないが、一般的には200℃以上500℃以下、好ましくは250℃以上500℃以下、特に好ましくは300℃以上450℃以下の温度で、1〜300秒、好ましくは2〜250秒、特に好ましくは5〜200秒程度の熱処理により内部応力を緩和することができ、200℃における加熱収縮率を小さくすることができる。また、フィルムの異方性を悪化させない程度にゲルフィルムの固定前後でフィルムを延伸することもできる。この時、このましい揮発分含有量は100〜500重量%、好ましくは150〜500重量%である。揮発分含有量がこの範囲を下回ると延伸しにくくなる傾向にあり、この範囲を上回るとフィルムの自己支持性が悪く、延伸操作そのものが困難になる傾向にある。
延伸は、差動ロールを用いる方法、テンターの固定間隔を広げていく方法等公知のいかなる方法を用いてもよい。
本発明においては、絶縁層たる非熱可塑性ポリイミドフィルムの設計が重要なのであって、目的とする貯蔵弾性率を有するフィルムを与えるものであれば、原料となる酸二無水物あるいはジアミン成分がいかなるものを用いても良い。
使用できる適当な酸無水物はいかなるものを用いてもよいが、ピロメリット酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、オキシジフタル酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、エチレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物 )、ビスフェノールAビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)及びそれらの類似物が挙げられ、これらを単独で用いても良いし、任意の割合で含む混合物を用いてもよい。
本発明において使用し得る適当なジアミンとしては、p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、ベンジジン、3,3’−ジクロロベンジジン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,5−ジアミノナフタレン、4,4’−ジアミノジフェニルジエチルシラン、4,4’−ジアミノジフェニルシラン、4,4’−ジアミノジフェニルエチルホスフィンオキシド、4,4’−ジアミノジフェニルN−メチルアミン、4,4’−ジアミノジフェニル N−フェニルアミン、1,4−ジアミノベンゼン(p−フェニレンジアミン)、1,3−ジアミノベンゼン、1,2−ジアミノベンゼン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン及びそれらの類似物などが挙げられる。
上述のように、本発明はフィルムを構成する樹脂の分子構造や、製造方法によって一義的に表現されるものではなく、絶縁層のフィルム設計が重要である。従って、絶縁層の250℃での貯蔵弾性率と380℃での貯蔵弾性率の比[E'(380℃)/E'(250℃)]と、380℃での貯蔵弾性率の値を適切に設定しさえできればよい。ゆえに、このようなフィルムを与えるための、完全な法則性というのもは無く、およそ以下の傾向にしたがって当業者の常識の範囲内での試行錯誤が必要となる。
1)下記一般式(1)で表される剛直な構造を有するジアミン類や、ピロメリット酸二無水物などの剛直な構造を有するモノマーを用いた場合、E'(380℃)/E'(250℃)が大きく、E'(380℃)が大きくなる傾向にある。
Figure 2007029609
式中のR2は
Figure 2007029609
で表される2価の芳香族基からなる群から選択される基であり、式中のR3は同一または異なってCH3−、−OH、−CF3、−SO4、−COOH、−CO-NH2、Cl−、Br−、F−、及びCH3O−からなる群より選択される何れかの1つの基である)
2)一般式(2)で表される構造を有するジアミン類のような柔軟な構造を有するモノマーを用いた場合、E'(380℃)/E'(250℃)が小さく、E'(380℃)が小さくなる傾向にある。
Figure 2007029609
(式中のR4は、
Figure 2007029609
で表される2価の有機基からなる群から選択される基であり、式中のR5は同一または異なって、CH3−、−OH、−CF3、−SO4、−COOH、−CO-NH2、Cl−、Br−、F−、及びCH3O−からなる群より選択される1つの基である。)
3)3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物のように分子全体で見た場合に直線状でないモノマーを用いた場合も2)と同様の傾向になる。
4)ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸の重合方法によっても、E'(380℃)/E'(250℃)やE'(380℃)は変動するので、上述した重合方法を選択したり、組み合わせるなどして、重合方法の変更を試みて調整してもよい。
なお、絶縁層と接着層を共押出法のように一括で積層するような方法で接着シートを製造する場合には、同条件で絶縁層のみを作成してみて、絶縁層の貯蔵弾性率を測定し、目的とする絶縁層を選択すればよい。
ポリイミド前駆体(以下ポリアミド酸という)を合成するための好ましい溶媒は、ポリアミド酸を溶解する溶媒であればいかなるものも用いることができるが、アミド系溶媒すなわちN,N−ジメチルフォルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドンなどであり、N,N−ジメチルフォルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドが特に好ましく用い得る。
また、摺動性、熱伝導性、導電性、耐コロナ性、ループスティフネス等のフィルムの諸特性を改善する目的でフィラーを添加することもできる。フィラーとしてはいかなるものを用いても良いが、好ましい例としてはシリカ、酸化チタン、アルミナ、窒化珪素、窒化ホウ素、リン酸水素カルシウム、リン酸カルシウム、雲母などが挙げられる。
フィラーの粒子径は改質すべきフィルム特性と添加するフィラーの種類によって決定されるため、特に限定されるものではないが、一般的には平均粒径が0.05〜100μm、好ましくは0.1〜75μm、更に好ましくは0.1〜50μm、特に好ましくは0.1〜25μmである。粒子径がこの範囲を下回ると改質効果が現れにくくなり、この範囲を上回ると表面性を大きく損なったり、機械的特性が大きく低下したりする可能性がある。また、フィラーの添加部数についても改質すべきフィルム特性やフィラー粒子径などにより決定されるため特に限定されるものではない。一般的にフィラーの添加量はポリイミド100重量部に対して0.01〜100重量部、好ましくは0.01〜90重量部、更に好ましくは0.02〜80重量部である。フィラー添加量がこの範囲を下回るとフィラーによる改質効果が現れにくく、この範囲を上回るとフィルムの機械的特性が大きく損なわれる可能性がある。フィラーの添加は、
1.重合前または途中に重合反応液に添加する方法
2.重合完了後、3本ロールなどを用いてフィラーを混錬する方法
3.フィラーを含む分散液を用意し、これをポリアミド酸有機溶媒溶液に混合する方法
などいかなる方法を用いてもよいが、フィラーを含む分散液をポリアミド酸溶液に混合する方法、特に製膜直前に混合する方法が製造ラインのフィラーによる汚染が最も少なくすむため、好ましい。フィラーを含む分散液を用意する場合、ポリアミド酸の重合溶媒と同じ溶媒を用いるのが好ましい。また、フィラーを良好に分散させ、また分散状態を安定化させるために分散剤、増粘剤等をフィルム物性に影響を及ぼさない範囲内で用いることもできる。
(接着層)
本発明において耐熱性接着剤層に用いられる熱可塑性ポリイミドは公知の如何なるものを用いてもよく、末端封止などにより分子量を制御してもよい。
絶縁層の少なくとも一方の面に接着剤層を設ける手段としては、絶縁層にポリアミド酸を含む接着剤層を塗布・イミド化して設ける方法、絶縁層と同時押出し法などにより同時に設ける方法等如何なる方法を用いてもよいが、前者の方法を用いる場合、ガラス転移温度は300℃以下、さらには290℃以下、特には280℃以下が好ましい。ガラス転移温度がこの範囲を上回ると、接着剤層をイミド化する際に高温を必要とし、連続的に生産する際の張力および温度ムラの影響で耐熱性接着シートの片伸びが大きくなる傾向にある。
接着シートの片伸び値を上記範囲に抑えるためには、絶縁層の貯蔵弾性率を適切に制御することで、接着シートの製造工程で加えられる熱による影響を緩和できることは上述のとおりであるが、接着剤層に含まれるポリイミドをイミド化する際の温度も片伸び値に影響を与えうる。
この温度は接着シートに熱電対を貼り付けて測定した実温として400℃以下、好ましくは380℃以下、特に好ましくは370℃以下である。加熱炉中の雰囲気温度が上記範囲を満たしている場合さらに好ましい。
またさらに加熱炉中の幅方向での雰囲気温度のばらつきが80℃以下、さらには70℃以下、特に好ましくは60℃以下である。
(FPCの製造)
以上のようにして得られた耐熱性接着シートは、熱ロール法やダブルベルトプレス法、単板プレス法など公知の方法により導電層と積層することができる。
上記熱ラミネート工程における加熱温度、すなわちラミネート温度は、接着フィルムのガラス転移温度(Tg)+50℃以上の温度であることが好ましく、接着フィルムのTg+100℃以上がより好ましい。Tg+50℃以上の温度であれば、接着フィルムと金属箔とを良好に熱ラミネートすることができる。また、Tg+100℃以上であれば、ラミネート速度を上昇させてその生産性をより向上させることができる。また、好ましいラミネート温度は、350℃以上である。
上記ラミネート工程における接着フィルム張力は、0.01〜4N/cmの範囲内であることが好ましく、0.02〜2.5N/cmの範囲内であることがより好ましく、0.05〜1.5N/cmの範囲内であることが特に好ましい。張力が上記範囲を下回ると、ラミネートの搬送時に、たるみや蛇行が生じ、均一に加熱ロールに送り込まれないために、外観の良好なフレキシブル金属張積層板を得ることが困難となることがある。逆に、上記範囲を上回ると、接着層のTgと貯蔵弾性率の制御では緩和できないほど張力の影響が強くなり、寸法安定性が劣ることがある。
FPCを製造した場合の寸法変化率のばらつきは、その絶対値が0.05%以下、好ましくは0.04%以下、特に好ましくは0.03%以下である。
ばらつきがこの範囲を上回ると実装時に不具合を生じやすくなる。
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
(動的粘弾性の測定)
250℃と380℃における貯蔵弾性率はセイコー電子社製DMS−600を用いて以下の条件により測定した。
温度プロファイル:0〜400℃ (3℃/min)
サンプル形状:つかみ具間20mm、巾9mm
周波数:5Hz
歪振幅:10μm
最小張力:100
張力ゲイン:1.5
力振幅初期値:100mN
(片伸び値)
接着シートを508mm幅で長さ6.5mの短冊状にスリットし、このシートを平坦な台上に広げた。この時、長手方向にまっすぐであれば片伸び値は0mm、弧を描くように湾曲している場合、図1に示す値を片伸び値とした。
(FCCLの寸法変化率)
FCCLを20×20cmに切り出し15cm間隔で4隅にドリルで直径1mmの基準穴をあけた後、銅箔をエッチングにより完全に除去した。24時間23℃55%RH下で調湿したのち、基準穴間距離を測定し初期値とした。この接着シートをさらに250℃30分熱処理し、24時間23℃55%RH下で調湿したのち、基準穴間距離を測定し加熱後の値とした。
この穴間距離の変化率を加熱時の寸法変化率とした。
なお、上記寸法変化率は、MD方向及びTD方向の双方について測定した。
寸法変化率のばらつきは次のように測定した。
400mm幅以上のFCCLにおいて、図2のように各端部側から寸法変化率測定用のサンプルを切り出した。寸法変化率測定用のサンプルはA端部側、B端部側ともに、長手方向に5点切り出し、5点の平均値の差の絶対値で評価した。
(参考例1;熱可塑性ポリイミド前駆体の合成)
溶媒としてDMFを用い、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン(BAPP)と3,3’4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)をモル比およそ1:1で40℃の加温下5時間反応させて粘度が2800poise、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。
(実施例1)
表1に示す処方で重合した。
10℃に冷却したN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)656kgに2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン(BAPP)36.4kgおよび3,4’−オキシジアニリン(3,4’−ODA)10.0kgを溶解した。ここに3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)19.6kg添加して溶解させた後、ピロメリット酸二無水物(PMDA)13.9kg添加して60分攪拌し、プレポリマーを形成した。
この溶液にp−フェニレンジアミン(p−PDA)15.0kgを溶解した後、PMDA32.0kgを添加し1時間撹拌して溶解させた。さらにこの溶液に別途調製してあったPMDAのDMF溶液(重量比PMDA1.2kg/DMF15.6kg)を注意深く添加し、粘度が3000ポイズ程度に達したところで添加を止めた。3時間撹拌を行って固形分濃度約16重量%、23℃での回転粘度が3100ポイズのポリアミド酸溶液を得た。(モル比:BAPP/3,4’−ODA/PDA/BTDA/PMDA=32/18/50/22/78)
このポリアミド酸溶液に無水酢酸20.71kgとイソキノリン3.14kgとDMF26.15kgからなる化学イミド化剤をポリアミド酸DMF溶液に対して重量比45%ですばやくミキサーで攪拌しTダイから押出してダイの下15mmを走行しているステンレス製のエンドレスベルト上に流延した。この樹脂膜を130℃×100秒乾燥させた後エンドレスベルトより引き剥がして(揮発分含量63重量%)テンターピンに固定した後、テンター炉中で250℃(熱風)×20秒、450℃(熱風)×20秒、460℃(熱風と遠赤外線ヒータ併用)×60秒で乾燥・イミド化させ17μmのポリイミドフィルムを得た。このフィルム特性を表1に示す。
参考例1で得られたポリアミド酸溶液を固形分濃度10重量%になるまでDMFで希釈した後、上記ポリイミドフィルムの両面に、熱可塑性ポリイミド層(接着層)の最終片面厚みが2μmとなるようにポリアミド酸を塗布した後、140℃で1分間加熱を行った。続いて、3kg/mの張力下で雰囲気温度360℃の遠赤外線ヒーター炉の中を20秒間通して加熱イミド化を行って、接着シートを得た。得られた接着シートの両側に18μm圧延銅箔(BHY−22B−T,ジャパンエナジー社製)を、さらに銅箔の両側に保護材料(アピカル125NPI;鐘淵化学工業株式会社製)を用いて、ポリイミドフィルムの張力5N/cm、ラミネート温度360℃、ラミネート圧力196N/cm(20kgf/cm)、ラミネート速度1.5m/分の条件で連続的に熱ラミネートを行い、FCCLを作製した。このようにして得た接着シートおよびFCCLの特性を表1に示す。
(実施例2)
実施例1と同様にして、表1に示す重合処方に従って重合した。10℃に冷却したN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)に、2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン(BAPP)を溶解した。ここに3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)を添加して溶解させた後、ピロメリット酸二無水物(PMDA)を添加して60分攪拌し、プレポリマーを形成した。
この溶液にp−フェニレンジアミン(p−PDA)を溶解した後、PMDAを添加し1時間撹拌して溶解させた。さらにこの溶液に別途調製してあったPMDAのDMF溶液(重量比PMDA1.2kg/DMF15.6kg)を注意深く添加し、粘度が3000ポイズ程度に達したところで添加を止めた。3時間撹拌を行って固形分濃度約16重量%、23℃での回転粘度が3100ポイズのポリアミド酸溶液を得た。(モル比:BAPP/BPDA/PMDA/PDA=40/15/85/60)
この溶液を用いて実施例1と同様にして厚み10μmのポリイミドフィルム、厚み14μmの接着シート、FCCLを得た。これらの特性を表1に示す。
(比較例1)
実施例1と同様にして、表1に示す重合処方に従って重合した。10℃に冷却したN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)に、2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン(BAPP)を溶解した。ここに3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)を添加して溶解させた後、ピロメリット酸二無水物(PMDA)を添加して60分攪拌し、プレポリマーを形成した。
この溶液にp−フェニレンジアミン(p−PDA)を溶解した後、PMDAを添加し1時間撹拌して溶解させた。さらにこの溶液に別途調製してあったPMDAのDMF溶液(重量比PMDA1.2kg/DMF15.6kg)を注意深く添加し、粘度が3000ポイズ程度に達したところで添加を止めた。3時間撹拌を行って固形分濃度約16重量%、23℃での回転粘度が3100ポイズのポリアミド酸溶液を得た。(モル比:BAPP/BTDA/PMDA/PDA=50/40/60/50)
この溶液を用いて実施例1と同様にして厚み10μmのポリイミドフィルム、厚み14μmの接着シート、FCCLを得た。これらの特性を表2に示す。
(比較例2)
実施例1において、PDA/ODA/BPDA(3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物)/PMDA=20/80/25/75のモル比でランダム重合を行った以外は実施例1と全く同様にしてポリイミドフィルム、接着シート、FCCLを得た。これらの特性を表2に示す。
Figure 2007029609
Figure 2007029609
以上のように、本発明の接着フィルムは寸法変化率のバラツキが低減された耐熱性接着シートとなっている。ゆえに、フレキブル配線板などを生産性よく製造するのにに有用である。

Claims (6)

  1. 非熱可塑性ポリイミドを含む絶縁層の少なくとも一方の面に熱可塑性ポリイミドを含む耐熱性接着剤層を設けてなる接着シートであって、片伸びが10mm以下であることを特徴とする耐熱性接着シート。
  2. 絶縁層の250℃での貯蔵弾性率と380℃での貯蔵弾性率の比[E'(380℃)/E'(250℃)]が0.4以下であり、かつ380℃での貯蔵弾性率が0.7GPa以上であることを特徴とする請求項1記載の耐熱性接着シート。
  3. 絶縁層の380℃での貯蔵弾性率が2GPa以下であることを特徴とする請求項1〜2記載の耐熱性接着シート。
  4. 絶縁層に含まれる非熱可塑性ポリイミド樹脂が絶縁層全体の50重量%以上であることを特徴とする請求項1記載の耐熱性接着シート。
  5. 耐熱性接着剤層に含まれる熱可塑性ポリイミド樹脂が耐熱性接着剤層の70重量%以上であることを特徴とする請求項1記載の耐熱性接着シート。
  6. 350℃以上の温度で、熱ロールラミネート法により連続的に金属箔と張り合わせるために用いる接着シートであって、片伸びが10mm以下であることを特徴とする耐熱性接着シート。
JP2007534371A 2005-09-05 2006-09-01 耐熱性接着シート Pending JPWO2007029609A1 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005256921 2005-09-05
JP2005256921 2005-09-05
PCT/JP2006/317312 WO2007029609A1 (ja) 2005-09-05 2006-09-01 耐熱性接着シート

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPWO2007029609A1 true JPWO2007029609A1 (ja) 2009-03-19

Family

ID=37835728

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007534371A Pending JPWO2007029609A1 (ja) 2005-09-05 2006-09-01 耐熱性接着シート

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20090155610A1 (ja)
JP (1) JPWO2007029609A1 (ja)
KR (1) KR20080044330A (ja)
CN (1) CN101258212B (ja)
TW (1) TWI430883B (ja)
WO (1) WO2007029609A1 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007169494A (ja) * 2005-12-22 2007-07-05 Du Pont Toray Co Ltd 芳香族ポリイミドフィルム、カバーレイフイルムおよびフレキシブル積層板
TWI422207B (zh) * 2009-07-09 2014-01-01 Orise Technology Co Ltd 用於行動通訊裝置之顯示模組
CN102775927A (zh) * 2012-07-27 2012-11-14 昆山旭虹精密零组件有限公司 一种电子耐热双面胶
CN104859223B (zh) * 2015-05-21 2018-01-05 成都多吉昌新材料股份有限公司 一种双层介质无胶挠性覆铜板
TWI698345B (zh) 2015-06-26 2020-07-11 日商鐘化股份有限公司 單面貼金屬之積層板之製造方法及製造裝置
JP2019093548A (ja) * 2016-03-30 2019-06-20 株式会社カネカ 長尺ポリイミド積層体およびその製造方法
JP6839594B2 (ja) * 2016-04-27 2021-03-10 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 ポリイミドフィルム及び銅張積層板
KR101696347B1 (ko) * 2016-08-30 2017-01-13 (주)아이피아이테크 반도체 패키지 리플로우 공정용 폴리이미드 필름 및 그 제조 방법

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005205806A (ja) * 2004-01-23 2005-08-04 Kaneka Corp 接着フィルムならびにそれから得られる寸法安定性を向上させたフレキシブル金属張積層板、ならびにその製造方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH091723A (ja) * 1995-04-17 1997-01-07 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 耐熱性ボンディングシート
JP3635384B2 (ja) * 1996-10-29 2005-04-06 株式会社カネカ 耐熱性ボンディングシート
JP2004266138A (ja) * 2003-03-03 2004-09-24 Hitachi Chem Co Ltd 半導体用接着フィルム、これを用いた樹脂基板及び半導体装置、並びに半導体装置の製造方法
JP2004269675A (ja) * 2003-03-07 2004-09-30 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd ボンディングシートおよびそれから得られるフレキシブル金属張積層板
JP2004319852A (ja) * 2003-04-17 2004-11-11 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Tab用テープの製造方法
JP2005153244A (ja) * 2003-11-21 2005-06-16 Kaneka Corp 積層性に優れたボンディングシートおよび片面金属張積層板
JP2005305968A (ja) * 2004-04-26 2005-11-04 Kaneka Corp 接着フィルムの製造方法
JP2006159785A (ja) * 2004-12-09 2006-06-22 Kaneka Corp 接着フィルムの製造方法
JP2006291150A (ja) * 2005-04-14 2006-10-26 Kaneka Corp 耐熱性接着シート

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005205806A (ja) * 2004-01-23 2005-08-04 Kaneka Corp 接着フィルムならびにそれから得られる寸法安定性を向上させたフレキシブル金属張積層板、ならびにその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TWI430883B (zh) 2014-03-21
WO2007029609A1 (ja) 2007-03-15
US20090155610A1 (en) 2009-06-18
CN101258212B (zh) 2012-12-12
TW200714463A (en) 2007-04-16
CN101258212A (zh) 2008-09-03
KR20080044330A (ko) 2008-05-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5049594B2 (ja) 接着性の改良された新規なポリイミドフィルム
TWI384018B (zh) Polyimide film
JP5514861B2 (ja) 高い接着性を有するポリイミドフィルムの製造方法
JPWO2009019968A1 (ja) 多層ポリイミドフィルム、積層板および金属張積層板
JP5694891B2 (ja) 高い接着性を有するポリイミドフィルムおよびその製造方法
JP5323315B2 (ja) 高い接着性を有するポリイミドフィルムおよびその製造方法
JPWO2006115258A1 (ja) 新規なポリイミドフィルムおよびその利用
JPWO2007029609A1 (ja) 耐熱性接着シート
JP2008188954A (ja) 片面金属張積層板用基材及び片面金属張積層板の製造方法
JP5185535B2 (ja) 接着性の改良された新規なポリイミドフィルム
JP5254752B2 (ja) 多層ポリイミドフィルム
JP4901509B2 (ja) ポリイミド前駆体溶液の多層膜、多層ポリイミドフィルム、片面金属張積層板、および多層ポリイミドフィルムの製造方法
JP2008188843A (ja) ポリイミド前駆体溶液の多層膜、多層ポリイミドフィルム、片面金属張積層板、および多層ポリイミドフィルムの製造方法
JPWO2007083526A1 (ja) ポリイミドフィルムおよびその利用
JP2006291150A (ja) 耐熱性接着シート
JP4951513B2 (ja) フレキシブル金属張積層板
JP2007098672A (ja) 片面金属張積層板
JP5297573B2 (ja) 高い接着性を有するポリイミドフィルム
JP5069844B2 (ja) プリント配線板用絶縁フィルムの製造方法、ポリイミド/銅積層体及びプリント配線板
JP2006316232A (ja) 接着フィルムおよびその製造方法
JP5261563B2 (ja) 高い接着性を有するポリイミドフィルムの製造方法
JP5355993B2 (ja) 接着フィルム

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090722

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120403

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120601

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130326