JPWO2006101087A1 - スクライブ装置 - Google Patents

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Abstract

ワークにスクライブ線を刻み付けるスクライブ装置において、粗動機構と微動機構を上手く組み合わせて、ゼロ点位置でカッタを正確に停止させることができるスクライブ装置を提供する。本発明のスクライブ装置は、ワークの表面に平行に移動可能なベース3と、ベース3に対して上昇・下降する移動台4と、下端にワークにスクライブ線を刻み付けるためのカッタ2が設けられ、移動台4と共に上昇・下降するヘッド6と、移動台4が上昇・下降するのを案内する第1の直動ガイド8,9と、ヘッド6が上昇・下降するのを案内する第2の直動ガイド8,10と、を備える。そして、移動台4及びヘッド6の下降中に、カッタ2がワーク1に接触してヘッド6の下降が停止しても、移動台4が僅かに下降するのを許容する。

Description

本発明は、ガラス、半導体等の脆性材料からなるワークにスクライブ線を刻み付けるスクライブ装置に関する。
脆性材料からなるワークを切断する方法として、例えば回転刃に送り込み、さいの目状に切断するダイシング法や、ワークの表面にカッタでさいの目状にスクライブ線を刻み付け、その後スクライブ線に沿ってワークに曲げ荷重を加えてワークを切断するスクライブ・ブレーク法が知られている。
ワークにスクライブ線を刻み付けるスクライブ装置としては、算盤玉状の回転可能なカッタをワークに押し付け、カッタでワークを加圧しながらカッタを転がして、ワーク表面にスクライブ線を刻み付けるスクライブ装置(例えば特許文献1参照)や、カッタに振動を与えながらカッタを移動させて、ワーク表面にスクライブ線を刻み付けるスクライブ装置(例えば特許文献2参照)が提案されている。
特開2003−212578号公報 特開平10−101967号公報
いずれのスクライブ装置においても、カッタでワーク表面にスクライブ線を刻み付ける前に、カッタを下降させてワークの表面に載せる必要がある。
しかし、カッタの下降中に、ワークの表面にカッタが接触した状態(所謂ゼロ点位置)を検知し、ゼロ点位置でカッタの下降を停止させるのは、カッタの大まかな高さを決める粗動機構だけでは困難を伴う。そこで本発明は、粗動機構と微動機構を上手く組み合わせて、ゼロ点位置でカッタを正確に停止させることができるスクライブ装置を提供することにある。
また、粗動機構及び微動機構それぞれに第1及び第2の直動ガイドを設けると、部品点数も多くなり、スクライブ装置も大型化し易い。そこで本件発明の他の目的は、装置全体をコンパクトにすることができるスクライブ装置を提供することにある。
以下、本発明について説明する。なお、本発明の理解を容易にするために添付図面の参照番号を括弧書きにて付記するが、それにより本発明が図示の形態に限定されるものでない。
上記課題を解決するために、請求項1に記載の発明は、ワーク(1)にスクライブ線を刻み付けるスクライブ装置であって、ワーク(1)の表面に平行に移動可能なベース(3)と、前記ベース(3)に対して上昇・下降する移動台(4)と、下端に前記ワーク(1)にスクライブ線を刻み付けるためのカッタ(2)が設けられ、前記移動台(4)と共に上昇・下降するヘッド(6)と、前記移動台(4)が上昇・下降するのを案内する第1の直動ガイド(8,9)と、前記ヘッド(6)が上昇・下降するのを案内する第2の直動ガイド(8,10)と、を備え、前記移動台(4)及び前記ヘッド(6)の下降中に、前記カッタ(2)が前記ワーク(1)に接触して前記ヘッド(6)の下降が停止しても、前記移動台(4)が僅かに下降するのを許容することを特徴とする。
請求項2に記載の発明は、ワーク(1)にスクライブ線を刻み付けるスクライブ装置であって、ワーク(1)の表面に平行に移動可能なベース(3)と、前記ベース(3)に対して上昇・下降する移動台(4)と、下端に前記ワーク(1)にスクライブ線を刻み付けるためのカッタ(2)が設けられ、前記移動台(4)と共に上昇・下降するヘッド(6)と、前記ベース(3)に設けられる共通軌道レール(8)と、前記共通軌道レール(8)にスライド可能に配置され、前記移動台(4)が上昇・下降するのを案内する第1の移動ブロック(9)と、前記共通軌道レール(8)にスライド可能に配置され、前記ヘッド(6)が上昇・下降するのを案内する第2の移動ブロック(10)と、を備え、前記移動台(4)及び前記ヘッド(6)の下降中に、前記カッタ(2)が前記ワーク(1)に接触して前記ヘッド(6)の下降が停止しても、前記移動台(4)が僅かに下降するのを許容することを特徴とする。
請求項3に記載の発明は、請求項2に記載のスクライブ装置において、前記ヘッド(6)は、前記第2の移動ブロック(10)に取り付けられるヘッド本体(18)と、前記カッタ(2)を保持するホルダ(30)と、前記ヘッド本体(18)に収容され、前記ホルダ(30)を振動させるアクチュエータ(28)と、を有し、前記スクライブ装置はさらに、前記共通軌道レール(8)上にスライド可能に配置され、前記ホルダ(30)が振動するのを案内する第3の移動ブロック(11)を備えることを特徴とする。
請求項4に記載の発明は、請求項2又は3に記載のスクライブ装置において、前記スクライブ装置はさらに、前記カッタ(2)から前記ワーク(1)に加わる圧力を調節するエアシリンダ(21)を備え、前記移動台(4)に前記エアシリンダ(21)のシリンダ本体(21a)が取り付けられ、前記ヘッド(6)に前記シリンダ本体(21a)から伸縮するロッド(21b)が連結されることを特徴とする。
請求項5に記載の発明は、請求項2ないし4いずれかに記載のスクライブ装置において、前記スクライブ装置はさらに、前記移動台(4)と前記ヘッド(6)との間に掛け渡され、前記ヘッド(6)の自重を低減するばね(27)を備えることを特徴とする。
請求項1に記載の発明によれば、ワークに向かって下降するヘッドを、カッタがワークに接触する位置(ゼロ点位置)で正確に停止させることができる。
請求項2に記載の発明によれば、移動台が上昇・下降するのを案内する第1の移動ブロックと、ヘッドが上昇・下降するのを案内する第2の移動ブロックが、共通軌道レール上に配置されるので、装置をコンパクトにすることができる。また部品点数を削減することができる。
請求項3に記載の発明によれば、ホルダが振動するのを案内する第3の移動ブロックも共通軌道レール上に配置されるので、より一層装置をコンパクトにすることができ、また部品点数を削減することができる。
請求項4に記載の発明によれば、エアシリンダに加えられるエアー圧を調整することで、カッタからワークにかかる圧力を制御することができる。
請求項5に記載の発明によれば、カッタから前記ワークに加わる圧力のうち、ヘッドの自重分を低減することができる。
本発明の一実施形態におけるスクライブ装置の側面図(一部断面図を含む)。 上記スクライブ装置の正面図。 移動台とヘッドとの間に掛け渡されるばねを示す側面図。 直動ガイドの正面図。 直動ガイドの側面図。
符号の説明
1…ワーク
2…カッタ
3…ベース
4…移動台
6…ヘッド
8…共通軌道レール
9,10,11…移動ブロック
8,9…第1の直動ガイド
8,10…第2の直動ガイド
18…ヘッド本体
21…エアシリンダ
21a…シリンダ本体
21b…ロッド
27…ばね
28…アクチュータ
30…ホルダ
以下添付図面に基づいて、本発明の一実施形態におけるスクライブ装置について添付図面に基づいて説明する。各図において同一の機械要素には同一の符号を附す。
図1はスクライブ装置の側面図を示し、図2はスクライブ装置の正面図を示す。スクライブ装置は、ガラス、半導体、セラミクス等の脆性材料からなる薄板状のワークの表面にスクライブ線を刻み付けるための装置である。スクライブ装置のワークテーブル7の上面には、真空吸着あるいは治具によりワーク1が固定される。ワーク1の表面にカッタ2を押し付け、該カッタ2をワーク1の表面に沿って水平方向に移動させると、ワーク1の表面にスクライブ線が刻み付けられる。スクライブ線は、ワーク1の表層に形成された垂直クラックがワーク1の表面に沿って伝播したものである。
スクライブ装置には大きく分けて、カッタを振動させないタイプとカッタを振動させるタイプがある。以下の実施形態では、カッタを振動させるタイプのスクライブ装置について説明するが、勿論本件発明はカッタを振動させないタイプのスクライブ装置にも適用することができる。
スクライブ装置は、ワーク1に平行に水平方向(XY軸方向)に移動するベース3と、ベース3に対してZ軸方向に上昇・下降する移動台4と、移動台4と共にZ軸方向に上昇・下降するヘッド6とを備える。ヘッド6の下端には、ホイール状又はダイヤモンドのチップ状のカッタ2が設けられる。カッタ2には、例えば算盤玉状に形成されたホイール工具、又は四角錐、三角錐、若しくは三角錐の先端を平らにした形状等に形成されたダイヤモンド工具が使用される。例えば、ワーク1が半導体ウェーハの場合には、ダイヤモンド工具が使用され、ワーク1がガラスの場合には算盤玉状に形成されたホイール工具が使用される。
ベース3は、XY軸テーブル5に結合される。XY軸テーブル5は、図示しないXY軸移動機構によって水平方向に移動される。XY軸移動機構は、駆動源としてモータ・ボールねじ機構や、リニアモータを有し、またXY軸テーブル5がスライドするのを案内するXY軸直動ガイド12を有する。ワークテーブル7側にX軸又はY軸移動機構が設けられる場合には、XY軸テーブル5側はX軸又はY軸移動機構のいずれか一方でよい。XY軸テーブル5をワークテーブル7に平行に水平方向に移動させることで、ワーク1の表面に水平方向に伸びるスクライブ線を刻み付けることができる。
ベース3には、Z軸方向に上昇・下降する移動台4が設けられる。ベース3には、Z軸方向に伸びる共通軌道レール8が取り付けられる。この共通軌道レール8には、第1の移動ブロック9がスライド可能に配置される。第1の移動ブロック9には移動台4が取り付けられる。これら共通軌道レール8及び第1の移動ブロック9で構成される第1の直動ガイドが、ベース3に対して移動台4がZ軸方向にスライドするのを案内する。
移動台4は、Z軸モータ13及びボールねじ機構14,15からなるZ軸移動機構16に連結され、Z軸方向に駆動される。Z軸モータ13が回転駆動すると、ねじ軸14が回転し、ねじ軸14に螺合するナット15及びナット15に結合された移動台4が、ねじ軸14の軸線方向に移動する。
またベース3には、移動台4と共にZ軸方向に上昇・下降するヘッド6が、スライド可能に設けられる。共通軌道レール8上には、第2の移動ブロック10がスライド可能に配置される。第2の移動ブロック10には、ヘッド6(正確にはヘッド本体18)が取り付けられる。これら共通軌道レール8及び第2の移動ブロック10で構成される第2の直動ガイドが、ベース3に対してヘッド6がZ軸方向にスライドするのを案内する。ヘッド6の構造については後述する。
移動台4には、エアシリンダ21の筒状のシリンダ本体21aが、ロッド21bをZ軸方向に向けて取り付けられる。エアシリンダ21のロッド21bの先端には、ロードセル等のセンサ、又は接点スイッチ等のスイッチ22を介して、Z加圧軸23が取り付けられる。このZ加圧軸23は、移動台4に固定されたあて板24を貫通する。シリンダ本体21aからロッド21bが所定量以上伸びると、Z加圧軸23の上部の大径部23aがあて板24の上面に当接して、ロッド21bの伸びる量が制限される。第2の移動ブロック10には、ヘッド本体18と共にその上部にブラケット25が取り付けられ、このブラケット25にZ加圧軸23が連結される。以上により、エアシリンダ21のロッド21bがヘッド本体18に連結される。
カッタ2がワーク1に接触した状態で、エアシリンダ21を作動させると、カッタ2からワーク1に圧力が加わる。スクライブ線を刻み付けている間は、この圧力は一定に保たれる。エアシリンダ21に接続される電空レギュレータをプログラムにより電気的に操作して、電空レギュレータからエアシリンダに供給されるエアー圧を制御し、ひいてはカッタ2からワーク1に掛かる圧力を制御する。
図3に示されるように、移動台4とブラケット25との間には、ばねとしての引っ張りコイルばね27が掛け渡される。このばね27の引っ張り力は、ヘッド6の自重を持ち上げるように作用し、カッタ2からワーク1に加わる圧力のうち、ヘッド6の自重分を低減する。
図1及び図2に示されるように、箱状のヘッド本体18内には、振動を発生するアクチュエータ28が設けられる。アクチュエータ28には、例えば外部電界を加えると歪を生じる圧電素子(ピエゾアクチュエータ)が用いられる。圧電素子に印加する電圧を所定の周波数で変化させると、圧電素子が周期的に伸縮する。また、アクチュエータ28として磁界を加えると磁性体に歪を生じる超磁歪素子などの磁性材料が用いられることもある。超磁歪素子に印加する磁界を所定の周波数で変化させると、超磁歪素子が周期的に伸縮する。
アクチュエータ28は上下方向に一対のアクチュエータガイド29a,29bによって挟まれる。上方のアクチュエータガイド29aは、第2の移動ブロック10に取り付けられ、下方のアクチュエータガイド29bは、第3の移動ブロック11に取り付けられる。この第3の移動ブロック11は、共通軌道レール8上にスライド可能に配置される。第3の移動ブロック11には、カッタ2を保持するホルダ30が取り付けられる。
これら共通軌道レール8及び第3の移動ブロック11で構成される第3の直動ガイドが、ホルダ30がZ軸方向に振動するのを案内する。エアシリンダ21を作動させると、ヘッド本体18側はその位置が変化し難くなる。このためアクチュエータ28を伸縮させると、ヘッド本体18側ではなくて、ホルダ30側が振動する。第3のガイドはこのホルダ30のZ軸方向の振動を案内する。
カッタ2を振動させるアクチュエータ28は、Z軸方向に伸縮するが、Z軸方向のみならずどうしてもXY軸方向にも伸縮してしまう。カッタ2がXY軸方向に振動すると、ワーク1に形成されるスクライブ線に悪影響を及ぼす。アクチュエータ28の振動をZ軸方向に矯正するために、第3の移動ブロック11でホルダ30がZ軸方向に振動するのを案内する。
下方のアクチュエータガイド29bとヘッド本体18との間には、アクチュエータガイド29bをアクチュエータ28に付勢する皿状の板ばね31が設けられる。ヘッド本体18の下部に螺合するねじ32を回転させて、該ねじ32を上下動させると、板ばね31が撓む量が調節される。これにより、一対のアクチュエータガイド29a,29bでアクチュエータ28を挟む圧力(すなわち予圧)が調節される。アクチュエータ28に予圧を与えることで、アクチュエータ28の伸縮にホルダ30の振動を追従させることができる。
図4及び図5は、共通軌道レール8及び第1ないし第3の移動ブロック9,10,11で構成される直動ガイドを示す。図4は直動ガイドの正面図を示し、図5は直動ガイドの側面図を示す。移動ブロック9,10,11は共通軌道レール8に多数の転動体としてのボールを介してスライド自在に組みつけられる。転動体としてボールの替わりにローラが用いられることもある。
共通軌道レール8は、断面が扁平な四角形状で細長く延ばされる。共通軌道レール8の上面の左右縁、並びに左右側面には、長手方向に沿って伸びる複数条のボール転走溝8aが形成される。
移動ブロック9,10,11は鞍状に形成され、共通軌道レール8の上面に対向する中央部31と、中央部31の左右両側から下方に延びて共通軌道レール8の左右側面に対向する側壁部32と、を備える。移動ブロック9,10,11の中央部31の底面及び側壁部32の内側には、共通軌道レール8のボール転走溝8aに対向した複数条の負荷ボール転走溝31aが形成される。
ボール転走溝8aと負荷ボール転走溝31aとの間には、複数のボールが配列される。共通軌道レール8に対して移動ブロック9,10,11がスライドすると、複数のボールがボール転走溝8aと負荷ボール転走溝31aとの間で荷重を受けながら転がり運動する。
移動ブロック9,10,11の負荷ボール転走溝31aの一端まで転がったボールは、エンドプレート33内のU字状の方向転換路を経由した後、負荷ボール転走溝31aと平行に伸びる無負荷ボール戻し通路に入る。無負荷ボール戻し通路を通過したボールは、反対側のエンドプレート33の方向転換路を経由した後、再び負荷ボール転走溝31aに入る。これら負荷ボール転走溝31a、方向転換路及び無負荷ボール戻し通路でサーキット状のボール循環路が形成される。
直動ガイドには上述のLMガイド(THK社登録商標)以外に、ボールスプライン、ボールブッシュ、すべり軸受け等を用いることができる。
次に、図1に基づいて、本実施形態のスクライブ装置の使用方法について説明する。まず、スクライブ装置のワークテーブル7の上面にワーク1をセットする。次に、XY軸移動機構によってヘッド6をワーク1の上方に移動させる。次に、Z軸モータ13を回転駆動し、移動台4及びヘッド6をワークに向かって下降させる。移動台4及びヘッド6の下降量を制御できるように、Z軸モータ13の回転角度はエンコーダ36で測定される。
ヘッド6が下降し、ヘッド6の下端のカッタ2がワーク1に接触すると、ヘッド6はそれ以上、下降しなくなって停止する。それでもZ軸モータ13は回転を停止することなく、移動台4をさらに下降させようとするから、移動台4が僅かに下降してヘッド6に接近する。あて板24とブラケット25との間には、移動台4がヘッド6に接近するための隙間が空けられる。センサ又はスイッチ22は移動台4がヘッド6に接近したのを検知し、制御装置に信号を送る。スイッチ22からの信号を受け取ったら、制御装置は、Z軸モータ13の回転駆動を停止し、そのときのカッタ2の位置がゼロ点位置であると記憶する。
そして、オペレータが、切り込み深さや切り込み圧力や水平方向のカッタの軌跡を、制御装置に入力する。設定された切り込み圧力に応じて電空レギュレータがエアシリンダ21にエアーを供給する。テストカットの状況をみた後に、オペレータが切り込み圧力を再度設定してもよい。
切り込み深さが設定されると、Z軸モータ13が切り込み深さの分さらに回転し、移動台4が切り込み深さ分ヘッド6にさらに接近する。この状態でエアシリンダ21を作動させると、カッタ2が切り込み深さ分ワーク1内に入り込む。
カッタ2からワーク1に加わる圧力は、ワーク1から水平方向に離れた位置に設けられるロードセルで測定される。ロードセル上にカッタ2を移動させた後、カッタ2をロードセルに接触させ、ロードセルでカッタ2の先端にかかる圧力を測定する。なお、ロッド21bの先端に設けたスイッチ22の替わりにロードセルを使用すると、ロードセルにゼロ点を検知する機能とカッタ2からワーク1に加わる圧力を測定する機能を兼用させることができる。
切込み深さ、切込み圧力、水平方向のカッタの軌跡の設定が終了したら、実際にカッタ2でワーク1にスクライブ線を刻み付ける作業を始める。スクライブ線の刻み付け作業は、カッタ2をワーク1から水平方向にずらした位置に移動させ、その後、カッタ2をワーク1に向かって移動させ、カッタ2をワーク1に乗り上げさせて、ワーク1の端からスクライブ線を刻み付ける方法と、カッタ2をワーク1の表面に直接接触させ、その位置からカッタ2を水平方向に移動させてスクライブ線を刻み付ける方法とがある。前者の刻み付け方法では、切込み深さには、乗り上げ前の値と乗り上げ後の値が設定される。ワーク1の水平方向の外側にあるカッタ2がワーク1に向かって移動しているときは、乗り上げ前の切込み深さが設定され、カッタ2がテーブル7から浮いた状態で移動する。カッタ2がワーク1に乗り上げたら、乗り上げ後の切込み深さが設定され、所定の切込み深さ分カッタ2をワーク1に食い込ませる。アクチュエータ28に高周波電界等をかけて周期的に振動させながら、カッタ2をワーク1の表面に沿って移動させると、ワーク1の表層部に垂直クラックが伝播したスクライブ線が刻み付けられる。後者の刻み付け方法では、切込み深さは乗り上げ後の値のみが設定される。そして、所定の切込み深さ分カッタ2をワーク1に食い込ませ、アクチュエータ28に高周波電界等をかけて周期的に振動させながらカッタ2をワーク1の表面に沿って移動させる。
加工が終了すると、Z軸モータ13が移動台4及びヘッド6を上昇させる。ヘッド6の上昇高さは位置センサ37によって定められる。スクライブ線が刻み付けられたワーク1は、ワークテーブル7から取り外され、図示しないブレーカによりスクライブ線に沿って切断される。薄いワークを切断する場合には、ワークの表面にスクライブ線を刻み付けるだけでワークの裏面まで達する垂直クラックが形成されることがあるので、このブレーク工程が省略されることもある。
従来のダイシングカッタによる半導体ウェーハの切断においては、回転刃でさいの目状に半導体ウェーハを切断する際、半導体ウェーハに熱が発生したり、体積除去によって細かい粉が発生したりするという問題があった。本実施形態のように、スクライブ線を刻み付けた後、切断するという方法を採用すると、熱が発生することもなく、また細かい粉も発生することがない。さらに、熱が発生することがないので、冷却液を用いることなく、ドライ状態での加工も可能になる。
なお本件発明は、上記実施形態に限られることなく、その要旨を変更しないで種々の実施形態に具現化できる。例えば、共通軌道レール8を長さ方向に分割し、第1ないし第3の移動ブロックのそれぞれに対応して、第1ないし第3の軌道レールを設けてもよい。また、第3の移動ブロック11の替わりに、ボールスプラインでホルダ30が振動するのを案内してもよい。この場合ホルダ30は軸状に形成されることになる。カッタ2を振動させることのないタイプのスクライブ装置にあっては、勿論第3の移動ブロック11は不要になる。さらに、複数本同時にスクライブ線を形成する場合には、一つのスクライブ装置に複数のヘッドが設けられることもある。
本明細書は、2005年3月23日出願の特願2005−084998に基づく。この内容はすべてここに含めておく。

Claims (5)

  1. ワークにスクライブ線を刻み付けるスクライブ装置であって、
    ワークの表面に平行に移動可能なベースと、
    前記ベースに対して上昇・下降する移動台と、
    下端に前記ワークにスクライブ線を刻み付けるためのカッタが設けられ、前記移動台と共に上昇・下降するヘッドと、
    前記移動台が上昇・下降するのを案内する第1の直動ガイドと、
    前記ヘッドが上昇・下降するのを案内する第2の直動ガイドと、を備え、
    前記移動台及び前記ヘッドの下降中に、前記カッタが前記ワークに接触して前記ヘッドの下降が停止しても、前記移動台が僅かに下降するのを許容することを特徴とするスクライブ装置。
  2. ワークにスクライブ線を刻み付けるスクライブ装置であって、
    ワークの表面に平行に移動可能なベースと、
    前記ベースに対して上昇・下降する移動台と、
    下端に前記ワークにスクライブ線を刻み付けるためのカッタが設けられ、前記移動台と共に上昇・下降するヘッドと、
    前記ベースに設けられる共通軌道レールと、
    前記共通軌道レールにスライド可能に配置され、前記移動台が上昇・下降するのを案内する第1の移動ブロックと、
    前記共通軌道レールにスライド可能に配置され、前記ヘッドが上昇・下降するのを案内する第2の移動ブロックと、を備え、
    前記移動台及び前記ヘッドの下降中に、前記カッタが前記ワークに接触して前記ヘッドの下降が停止しても、前記移動台が僅かに下降するのを許容することを特徴とするスクライブ装置。
  3. 前記ヘッドは、
    前記第2の移動ブロックに取り付けられるヘッド本体と、
    前記カッタを保持するホルダと、
    前記ヘッド本体に収容され、前記ホルダを振動させるアクチュエータと、を有し、
    前記スクライブ装置はさらに、
    前記共通軌道レール上にスライド可能に配置され、前記ホルダが振動するのを案内する第3の移動ブロックを備えることを特徴とする請求項2に記載のスクライブ装置。
  4. 前記スクライブ装置はさらに、
    前記カッタから前記ワークに加わる圧力を調節するエアシリンダを備え、
    前記移動台に前記エアシリンダのシリンダ本体が取り付けられ、
    前記ヘッドに前記シリンダ本体から伸縮するロッドが連結されることを特徴とする請求項2又は3に記載のスクライブ装置。
  5. 前記スクライブ装置はさらに、
    前記移動台と前記ヘッドとの間に掛け渡され、前記ヘッドの自重を低減するばねを備えることを特徴とする請求項2ないし4いずれかに記載のスクライブ装置。
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