JPWO2005040047A1 - 還元水素水の製造方法とその製造装置 - Google Patents

還元水素水の製造方法とその製造装置 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2005040047A1
JPWO2005040047A1 JP2005515013A JP2005515013A JPWO2005040047A1 JP WO2005040047 A1 JPWO2005040047 A1 JP WO2005040047A1 JP 2005515013 A JP2005515013 A JP 2005515013A JP 2005515013 A JP2005515013 A JP 2005515013A JP WO2005040047 A1 JPWO2005040047 A1 JP WO2005040047A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
water
reduced hydrogen
hydrogen water
producing reduced
contact
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005515013A
Other languages
English (en)
Inventor
高橋 靖典
靖典 高橋
Original Assignee
アクア・エナジー株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by アクア・エナジー株式会社 filed Critical アクア・エナジー株式会社
Publication of JPWO2005040047A1 publication Critical patent/JPWO2005040047A1/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/48Treatment of water, waste water, or sewage with magnetic or electric fields
    • C02F1/481Treatment of water, waste water, or sewage with magnetic or electric fields using permanent magnets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/70Treatment of water, waste water, or sewage by reduction
    • C02F1/705Reduction by metals

Landscapes

  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Abstract

【目的】水素結合水すなわち還元水素水(イオン水)を、自然界の作用に頼ることなく人工的に製造できるようにすると共に、酸化還元電位が還元側(マイナス側)に大きい還元水素水の製造方法とその製造装置を提供することを目的とする。【解決手段】水2とニッケル触媒3とを接触させて触媒処理した後に、その水2aにマグネット4によって磁界内を通過させることによって還元水素水2aを製造する。この方法で製造することにより、酸化還元電位が還元側(マイナス側)に大きい還元水素水(イオン水)を製造することができる。【選択図】 図1

Description

本発明は、還元水素水の製造方法とその製造装置に関するものである。
近年、体内での酸化作用によって発生する活性酸素の脅威は多くの人が知るところである。そして、今日では活性酸素を体内から除去するための方法も種々開発されており、それらの方法によって排除が試みられている。
また、研究が進むにつれ、活性酸素を体内から除去してくれる活性水素を含む水が自然界に存在することも判明した。この水は、これを飲用することによって体内に発生した活性酸素とその水に含まれる活性水素とが結び付き、無害な水(HO)となって体内から排出される。
しかして、上述の水は自然界の作用によって作られるものであり、また、その水が涌き出る所もフランス/ドイツ/メキシコと極めて遠方の地であり、且つ貴重な水であるため容易に入手することができないものであった。その水の酸化還元電位は−281mVであった。
このことから、本発明は水素結合水すなわち還元水素水(イオン水)を容易に製造することができ、且つ酸化還元電位が還元側(マイナス側)に大きい還元水素水の製造方法とその製造装置を提供することを目的とするものである。
本発明の要旨とするところは、水を水素化用触媒と接触させた後、その水を磁界内に通過させることを特徴とする還元水素水の製造方法である。
また、少なくとも、原材料の水と水素化用触媒とを接触させるための接触容器と、その接触容器から排出された水を磁界内に通過させるための磁気発生手段を備える磁気照射部からなることを特徴とする還元水素水の製造装置である。
本発明の還元水素水の製造方法と還元水素水の製造装置をさらに詳しく説明すると、水は蒸留水が望ましいが、普通の水道水でもよく、また、水素化用触媒と接触させる前に、適宜のフィルターを通過させてろ過するのがよい。そのフィルターの具体的な製品としては、東レ製造のトレビーノ(商標)が望ましい。
水素化用触媒としてはニッケル触媒のスポンジメタル触媒(一般にラネー触媒と呼ばれている)を用いるのが望ましく、特にスポンジニッケルからなるものがよい。そのスポンジニッケルの具体的な製品としては、日興リカ製造の粉末スポンジニッケルR−50またはR−20が望ましく、R−50が最も望ましい。
他の水素化用触媒としては、鶏等の卵の殻の粉末に水素を含ませたものまたは乾燥させたイチョウの葉の粉末に水素を含ませたものを用いてもよい。すなわち、卵の殻またはイチョウの葉を粉末にしてそれに水素を含ませて触媒にしたものである。
そして、水を水素化用触媒と接触させるのであるが、その接触とは、原材料の水と水素化用触媒とを触れさせることであり、その接触方法や接触形態も特に限定するものではない。接触の具体的な方法としては、適宜の容器に水と水素化用触媒を入れて接触させるようにしてもよい。その接触の際に攪拌してもよい。
その後、水素化用触媒と接触させた水を磁界内に通過させるのであるが、少なくとも磁気によって発生した磁界が水の中を通過するようにする。その磁界を発生させる方法や装置等も特に限定するものではないが照射する磁気は強い方がよい。また、磁界内を通過させる際、触媒が入ったままでもまた取り除いた後でもよい。
そして、還元水素水の製造装置の具体的な形態としては、少なくとも、原材料の水と水素化用触媒とを接触させるための接触容器と、その接触容器から排出された水を磁界内に通過させるための磁気発生手段を備える磁気照射部から構成する。
接触容器とは、原材料の水と水素化用触媒(日興リカ製造の粉末スポンジニッケルR−20)とを触れさせることによって触媒処理をするための容器であり、市販の適宜の素材からなるものを用いればよい。そして、容器に攪拌手段を設けてもよく、例えば、容器内に羽根を設けてその羽根をモーター等の駆動手段で回転させてもよい。勿論、市販の適宜な攪拌手段を用いてもよい。そして、水と接触させた触媒は適宜の手段(フィルター等)により、接触容器や磁気照射部あるいは完成水の排出口等の部位で水から取り除けばよい。
また、原材料となる水(水道水)を容器に注入する前にその水をフィルター(東レ製造のトレビーノ(商標))に通してから注入するようにしてもよい。
磁気発生手段とは、磁気を発生することができるもの全てを含むものであり、例えば、電気的(電磁石)あるいは適宜の構成の装置や永久磁石等が上げられる。
磁気照射部とは、触媒処理が終了した水を磁界内に通過させるために設けている装置の適宜の箇所(部位)であり、例えば、一定量の水を貯留可能な容器、また、水を所定の部位に案内(流す)するための導水路(例えば、磁気に影響が無いホース等)であってもよい。この時、容器の入口および/または出口、導水路の入口および/または出口および/または途中に触媒を取り除くフィルターを設けてもよく、例えば、東レ製造のトレビーノ(商標)がよい。
そして、磁気の照射は、触媒処理が終了した水が磁気発生手段から発生された磁界中を通過することができるようになっていればよいが、逆に、磁界が水の中を通るようになってもよい。
磁気照射部が導水路である場合、磁気発生手段はマグネットとするのがよく、そのマグネットをホース等の導水路に近接して配置するのがよい。近接とは、マグネットが導水路に接触状態での設置、また、適宜の隙間を開けての設置の両方を含むものである。
マグネットの配置形態も特に限定するものではないが、具体的には、導水路を挟んで一対に、且つそれぞれの異なる磁極を対向させて設けるのがよい。また、その一対のマグネットは、導水路の延設方向に対して複数対を並べて設けてもよく、その並んでいるそれぞれの磁極が互い違いになるように設けるのがよい。
マグネットも特に限定するものではなく好適なものを用いればよいが、望ましくは、高性能マグネットすなわち高BHMAXの永久磁石がよい。とりわけ本発明者が考案したYTマグネット(商標)が適している。また、BHMAX置が48MGOe以上あるものがよい。
このYTマグネットは、内層にCo−Fe−Yを用い、外層にFe−Nd−Bを用いた2重構造のマグネットである。
しかし、上述の条件を満たす限り如何なるマグネットでもよく、例えば、磁化後の減衰が少ないガラスボンド磁石等のマグネットを用いてもよい。
そして、製造装置での還元水素水の製造の際、接触容器に注入された水は接触容器を通過しさらに磁気照射部を通過して還元水素水となった水を収容する貯留容器等に流れていくのであるが、その水をどう流すかは装置の構成等を考慮して決定すればよい。例えば、高低差を利用することによって水が自然に接触容器と磁気照射部を通過して貯留容器等に流れるようにしたり、また、ポンプ等を利用して水を強制的に流すようにしてもよい。
従って、本発明の還元水素水の製造方法はニッケル触媒の作用によって水を水素(H2)と酸素(O2)とに分離し易くし、その水に磁気(電磁誘導)を当てることによってイオン化が増進する。この方法により製造される還元水素水は、酸化還元電位が還元側(マイナス側)に大きい還元水素水(イオン水)となって、その酸化還元電位は−800mVとなる。
本発明の本発明の還元水素水の製造方法とその製造装置は以上のように、水を水素化用触媒と接触させた後、その水を磁界内に通過させることによって製造することができ、従って、酸化還元電位が還元側(マイナス側)に大きい還元水素水(イオン水)を簡単な構造の装置で、且つ容易に製造することができる。
これにより、還元水素水の使用に際し、従来のような自然界の作用によって作られる貴重なものに頼ることもなく、さらには、その還元水素水の酸化還元電位より還元側(マイナス側)に極めて大きい還元水素水をいつでも、且つ誰もが利用することができる。
本発明に係わる還元水素水の製造方法の概略図 還元水素水の製造装置の一例を示す概略図 還元水素水の水素と活性酸素との結び付きの仕組みを示す図
符号の説明
1−容器,2−水,2a−還元水素水,2a1−還元水素水の水分子,2a2−酸素,2a3−水素,3−ニッケル触媒,4−マグネット,5−接触容器,6−導水路,7−注入管,8−フィルター,81−フィルター,9−攪拌羽根,10−モーター,11−ポンプ,12−貯留容器,13−活性酸素,14−水分子
本発明の還元水素水の製造方法とその製造装置を以下図面に従って説明すると、図1は、本発明に係わる還元水素水の製造方法の概略図である。
(a)図は、容器1に原材料の水2とニッケル触媒3を入れて触媒処理している所であり、ニッケル触媒の作用によって水を水素(H2)と酸素(O)とに分離し易くしている。
(b)図は、触媒処理した水2にマグネット4によって磁気を当てている所で、 容器1に原材料の水2とニッケル触媒3を入れて触媒処理している所であり、マグネット4の磁気(電磁誘導)によってイオン化が増進する。
(c)図は、完成した還元水素水2aである。
図2は、還元水素水の製造装置の一例を示す概略図であり、2は原材料の水、2aは製造された還元水素水、3はニッケル触媒、4は磁界内を通過させるためのマグネット、5は水2とニッケル触媒3を接触させるための接触容器、6は接触容器5から排出された水2を案内する導水路、7は原材料の水2の注入管、8は原材料の水2をろ過するためのフィルター、81はニッケル触媒3を濾すためのフィルター、9は攪拌羽根、10は攪拌羽根9の駆動用のモーター、11は水2を強制的に流すためのポンプ、12は製造された還元水素水2aを貯留しておくための貯留容器である。
先ず、注入管7を通りフィルター8でろ過された水2は接触容器5内に入り、そこで水2はニッケル触媒3と接触し、且つ攪拌羽根9によって攪拌されながら触媒処理(水を水素(H2)と酸素(O2)とに分離し易くする)される。
次に、水2は接触容器5に続く導水路6に入り、その導水路6に設置されているマグネット4の磁気(電磁誘導)によってイオン化が増進し、酸化還元電位が還元側(マイナス側)に大きい(−800mV)還元水素水2a(イオン水)となっていく。また、フィルター81によって水2と共に流れたニッケル触媒3が濾され回収される。そして、製造された還元水素水2aは貯留容器12に排出され貯留される。
図3は、還元水素水の水素と活性酸素との結び付きの仕組みを示す図であり、2a1は還元水素水の水分子、2a2は酸素、2a3は水素、13は活性酸素、14は水分子である。
(a)図は、結び付く水素を探して活発に運動している活性酸素13を示している。この活性酸素13は通常の酸素より電子が1つ多い不安定な状態であることから、電子の数を安定させようと体内の正常な細胞から電子を奪おうとする。電子を奪われた細胞はやがて死滅する。
(b)図は、還元水素水2aを摂取することで、活性酸素13によって還元水素水が抱えている水素2a3が引き剥がされている所を示している。
(c)図は、還元水素水の水分子2a1が抱えている水素2a3を引き剥がして水分子14(H2O)となった所を示している。
すなわち、活性酸素13は還元水素水の水分子2a1から水素2a3をもらって無害な水分子14となる。
表1は、水を触媒処理した際の水の水素含有量の測定値を示す。測定方法は、50℃に暖めた水1リットル中に触媒10gを入れて30分間攪拌し、その水中の水素濃度を、エイブル(株)製、気中・溶存水素測定装置(気中や水溶液中の水素濃度を連続測定する装置)を使用して測定した。
A:ニッケルラノー触媒 R−20 日興リカ製
B:卵の殻(粉末)の触媒 日興リカ製
C:イチョウの葉(粉末)の触媒 日興リカ製
Figure 2005040047
以上から明らかなとおり、本発明法の効果が確認された。

Claims (13)

  1. 水を水素化用触媒と接触させた後、その水を磁界内に通過させることを特徴とする還元水素水の製造方法
  2. 前記水素化用触媒がニッケル触媒であることを特徴とする請求項1の還元水素水の製造方法
  3. 前記ニッケル触媒がスポンジニッケルであることを特徴とする請求項2の還元水素水の製造方法
  4. 前記水素化用触媒が卵の殻の粉末に水素を含ませたものであることを特徴とする請求項1の還元水素水の製造方法
  5. 前記水素化用触媒が乾燥させたイチョウの葉の粉末に水素を含ませたものであることを特徴とする請求項1の還元水素水の製造方法
  6. 少なくとも、原材料の水と水素化用触媒とを接触させるための接触容器と、その接触容器から排出された水を磁界内に通過させるための磁気発生手段を備える磁気照射部からなることを特徴とする還元水素水の製造装置
  7. 前記接触容器に攪拌手段が設けられていることを特徴とする請求項4の還元水素水の製造装置
  8. 前記磁気照射部が接触容器に接続された水の導水路であると共に、磁気発生手段がその導水路に近接して配置されたマグネットであることを特徴とする請求項4の還元水素水の製造装置
  9. 前記マグネットが導水路を挟んで一対に、且つ異なる磁極を対向させて設けられていることを特徴とする請求項6の還元水素水の製造装置
  10. 前記一対のマグネットが導水路の延設方向に対して適数設けられ、且つ磁極がそれぞれ互い違いになるように設けられていることを特徴とする請求項7の還元水素水の製造装置
  11. 前記マグネットが高BHMAXの永久磁石であることを特徴とする請求項6の還元水素水の製造装置
  12. 前記高BHMAXの永久磁石のBHMAX置が48MGOe以上であることを特徴とする請求項9の還元水素水の製造装置
  13. 前記接触容器の前段および/または後段にろ過フィルターが設けられていることを特徴とする請求項4の還元水素水の製造装置
JP2005515013A 2003-10-27 2004-10-27 還元水素水の製造方法とその製造装置 Pending JPWO2005040047A1 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003365839 2003-10-27
JP2003365839 2003-10-27
PCT/JP2004/015913 WO2005040047A1 (ja) 2003-10-27 2004-10-27 還元水素水の製造方法とその製造装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPWO2005040047A1 true JPWO2005040047A1 (ja) 2007-11-22

Family

ID=34510195

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005515013A Pending JPWO2005040047A1 (ja) 2003-10-27 2004-10-27 還元水素水の製造方法とその製造装置

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPWO2005040047A1 (ja)
WO (1) WO2005040047A1 (ja)

Citations (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6252102A (ja) * 1984-03-20 1987-03-06 フロイト エル・カ−デイナル 水素発生のための改良方法
JPH01164009A (ja) * 1987-12-21 1989-06-28 Tdk Corp 永久磁石
JPH06251918A (ja) * 1993-02-22 1994-09-09 Tdk Corp 磁石およびその製造方法ならびにボンディッド磁石
JPH0774009A (ja) * 1993-06-14 1995-03-17 Yasunori Takahashi フェライト成形体の製造法
JPH07106110A (ja) * 1993-10-06 1995-04-21 Yasunori Takahashi ボンド磁石製造用粉末組成物、磁気異方性永久磁石及び磁気異方性永久磁石の製造法
JPH07235439A (ja) * 1994-01-12 1995-09-05 Kawasaki Teitoku Kk 希土類・鉄・ボロン系燒結磁石又はボンド磁石の製造法
JPH07240308A (ja) * 1995-01-27 1995-09-12 Toshiba Corp 希土類鉄系永久磁石
JPH07272913A (ja) * 1994-03-30 1995-10-20 Kawasaki Teitoku Kk 永久磁石原料、その製造法及び永久磁石
JPH0856632A (ja) * 1994-08-23 1996-03-05 Kumamoto Pref Gov 食品等の還元性水素水とその製造方法並びに製造装置
JPH08197066A (ja) * 1994-11-25 1996-08-06 Toshimitsu Hattori 磁化水製造装置
JPH08203715A (ja) * 1995-01-30 1996-08-09 Takahashi Yoshiaki 永久磁石原料及びその製造法
JPH09306767A (ja) * 1996-05-13 1997-11-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 異方性永久磁石の製造方法
JPH10314751A (ja) * 1997-05-15 1998-12-02 Nippon Koken Kk 水活性装置
JP2000325962A (ja) * 1999-05-19 2000-11-28 Teruo Kobayashi 流体の磁気的改質装置
JP2002086153A (ja) * 2000-09-14 2002-03-26 Tadashi Mochizai 水の活性化方法及びそのための装置
JP2002126746A (ja) * 2000-10-30 2002-05-08 Kuniharu Kawamura 水の磁気処理器
JP2002126762A (ja) * 2000-10-20 2002-05-08 Nippon Giken Hokuetsu Kk 水の改質方法
JP2002282864A (ja) * 2001-01-17 2002-10-02 Aqua Medical:Kk 水道管の水質改善装置
JP2003136060A (ja) * 2001-10-31 2003-05-13 Get:Kk 還元水の製造装置
JP2004149851A (ja) * 2002-10-30 2004-05-27 Dowa Mining Co Ltd 永久磁石合金
JP2005268538A (ja) * 2004-03-18 2005-09-29 Neomax Co Ltd 焼結型希土類永久磁石およびその製造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001179256A (ja) * 1999-12-22 2001-07-03 Risuisha:Kk 電圧可逆方式電解水生成器
KR100726057B1 (ko) * 2001-06-29 2007-06-08 미즈 가부시키가이샤 항산화방법 및 항산화 기능수

Patent Citations (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6252102A (ja) * 1984-03-20 1987-03-06 フロイト エル・カ−デイナル 水素発生のための改良方法
JPH01164009A (ja) * 1987-12-21 1989-06-28 Tdk Corp 永久磁石
JPH06251918A (ja) * 1993-02-22 1994-09-09 Tdk Corp 磁石およびその製造方法ならびにボンディッド磁石
JPH0774009A (ja) * 1993-06-14 1995-03-17 Yasunori Takahashi フェライト成形体の製造法
JPH07106110A (ja) * 1993-10-06 1995-04-21 Yasunori Takahashi ボンド磁石製造用粉末組成物、磁気異方性永久磁石及び磁気異方性永久磁石の製造法
JPH07235439A (ja) * 1994-01-12 1995-09-05 Kawasaki Teitoku Kk 希土類・鉄・ボロン系燒結磁石又はボンド磁石の製造法
JPH07272913A (ja) * 1994-03-30 1995-10-20 Kawasaki Teitoku Kk 永久磁石原料、その製造法及び永久磁石
JPH0856632A (ja) * 1994-08-23 1996-03-05 Kumamoto Pref Gov 食品等の還元性水素水とその製造方法並びに製造装置
JPH08197066A (ja) * 1994-11-25 1996-08-06 Toshimitsu Hattori 磁化水製造装置
JPH07240308A (ja) * 1995-01-27 1995-09-12 Toshiba Corp 希土類鉄系永久磁石
JPH08203715A (ja) * 1995-01-30 1996-08-09 Takahashi Yoshiaki 永久磁石原料及びその製造法
JPH09306767A (ja) * 1996-05-13 1997-11-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 異方性永久磁石の製造方法
JPH10314751A (ja) * 1997-05-15 1998-12-02 Nippon Koken Kk 水活性装置
JP2000325962A (ja) * 1999-05-19 2000-11-28 Teruo Kobayashi 流体の磁気的改質装置
JP2002086153A (ja) * 2000-09-14 2002-03-26 Tadashi Mochizai 水の活性化方法及びそのための装置
JP2002126762A (ja) * 2000-10-20 2002-05-08 Nippon Giken Hokuetsu Kk 水の改質方法
JP2002126746A (ja) * 2000-10-30 2002-05-08 Kuniharu Kawamura 水の磁気処理器
JP2002282864A (ja) * 2001-01-17 2002-10-02 Aqua Medical:Kk 水道管の水質改善装置
JP2003136060A (ja) * 2001-10-31 2003-05-13 Get:Kk 還元水の製造装置
JP2004149851A (ja) * 2002-10-30 2004-05-27 Dowa Mining Co Ltd 永久磁石合金
JP2005268538A (ja) * 2004-03-18 2005-09-29 Neomax Co Ltd 焼結型希土類永久磁石およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2005040047A1 (ja) 2005-05-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4004523B1 (ja) 透析液調製用水およびそれを用いた透析液、透析液の製造方法ならびに透析装置
CN103506065B (zh) 一种壳-核结构磁性重金属吸附剂及其制备方法
CN107324448B (zh) 碱性化学镍废水中镍的选择分离与综合回收方法
CN105731624A (zh) 一种利用非均相类Fenton反应催化氧化处理反渗透浓水的方法
JP3389079B2 (ja) 水の活性化方法及びそのための装置
JP5145305B2 (ja) 電気式脱イオン水製造装置
TWI241987B (en) Water activating method and apparatus therefor
CN205856210U (zh) 一种纳滤‑电吸附‑反渗透去除高浓度含盐废水的装置
JP2001524029A (ja) イオン交換材料の電気化学的処理
JP2013094693A (ja) 溶存水素濃度を高めた水素水の製造装置および該水素水の製造方法
JP2006289289A (ja) 活性水素水の製造方法とその製造装置
JPWO2005040047A1 (ja) 還元水素水の製造方法とその製造装置
CN103601267A (zh) 一种去除餐饮废水中氨氮的装置
JPH07308590A (ja) セシウム分離用イオン交換体の製造および再生方法
TW202216608A (zh) 過氧化氫之去除方法及去除裝置、以及純水製造裝置
JP2012096203A (ja) 電解酸素マイクロナノバブル水生成器
JP2004130251A (ja) 水の活性化方法および活性化装置
JP2006136810A (ja) 機能水製造装置
KR200412554Y1 (ko) 자화 육각수 은물 생성기
CN205187953U (zh) 磁化水质过滤器
CN110745901A (zh) 一种低浓度重金属铬(vi)的深度净化方法
CN203333353U (zh) 一种水中阴离子富集系统
JP4441636B2 (ja) 放射性金属の回収方法及びその装置
CN216584569U (zh) 一种双极膜电辅助去离子系统及净水机
JPS6316091A (ja) 活水製造装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071016

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101214

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20110412