JPWO2004075337A1 - 誘電体共振器及び誘電体共振器の周波数調整方法並びに誘電体共振器を有する集積回路 - Google Patents
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Abstract
誘電体共振器(DR)を使用した発振器において、誘電体共振器(DR)と発振回路との結合の制御性と再現性を高くし、且つ、集積回路を小型化する。誘電体共振器(DR)1は誘電体基板2の両面にグランド導体層3a、3bを形成し、両導体層間をビアホール4aで接続することで構成される。グランド導体層3aの中央部のスロット5aと、スロット5aにより囲まれたパッチ6aから成る結合素子7aと誘電体共振器(DR)1とが結合する。パッチ6aと発振回路9上の伝送線路13aとはバンプ8を介して接続される。伝送線路13aは終端抵抗15aを介してグランドに接続される。発振回路MMIC9上において、伝送線路13aはトランジスタFET14のゲートに接続される。トランジスタFET14には正帰還をかける容量性の伝送線路13bが接続される。トランジスタFET14の出力は、整合回路16を介して出力用の伝送線路13cに接続される。発振回路9の出力用の伝送線路13cは、誘電体共振器(DR)1の基板端に形成された信号導体層11aとグランド導体層3aとから構成されるコプレーナ線路12aにバンプ接続される。
Description
本発明は、マイクロ波帯やミリ波帯で使用される誘電体共振器、その周波数調整方法およびその誘電体共振器を用いた集積回路に関するものである。
本発明に関する現時点での技術水準をより十分に説明する目的で、本願で引用され或いは特定される特許、特許出願、特許公報、科学論文等の全てを、ここに、参照することでそれらの全ての説明を組入れる。
マイクロ波帯やミリ波帯で使用される発振器においては、位相雑音、及び、周波数安定度を高めるために、誘電体共振器(DR)が使用される。図1は、一従来例による誘電体共振器を有する発振器(DRO)の構成を示す等価回路図である。負性抵抗を得るため、トランジスタFET14のソースには容量性のマイクロストリップ線路28bが接続される。トランジスタFET14のゲートから延びるマイクロストリップ線路28aは、円筒形のTE01δモードの誘電体共振器1と誘導性結合する。この時、結合度は、誘電体共振器1とマイクロストリップ線路28aとの距離により調整される。誘電体共振器1の共振周波数において、トランジスタFET14側からの電磁波は反射され、共振周波数以外では、終端抵抗15aに吸収される。従って、共振周波数において、大きな負性抵抗値を持つ。トランジスタFET14のドレインには、発振条件を満足するように設計した整合回路16(伝送線路とキャパシタにより構成)が接続される。トランジスタFET14のゲートバイアス17aは、〜数kΩの抵抗15bを介して、また、ドレインバイアス17bは、整合回路16を介して加えられる。また、誘電体共振器1と誘導性結合するマイクロストリップ線路28cの一端に接続されたバラクタダイオード20によって、共振周波数が微調整される。制御電圧17cをバラクタダイオード20に加えるため、バラクタダイオード20の一端には、動作周波数において低リアクタンスであるキャパシタ21aが、もう一端には、DC的にグランドに接続される〜数kΩの抵抗15cが接続される。このような構成では、誘電体共振器1の共振周波数は外形寸法で決まるため、高い加工精度が要求される。また、結合度は、誘電体共振器1とマイクロストリップ線路28aとの距離により調整されるため、誘電体共振器1の位置合わせに対して高い精度(〜0.1mm)が要求される。加えて、電磁界は共振器の外側にも拡がるため、パッケージに実装した際に発振周波数が変化し易いという課題がある。
そこで、誘電体共振器と伝送線路との接続構造として、特開平11−145709号公報には、図2に示す構造が提案されている。図2は、他の従来例による誘電体共振器と伝送線路との結合構造を示す分解斜視図である。誘電体共振器1は、誘電体基板30と導電体板29a、29bとから構成されている。誘電体基板30の上部と下部の両面には、円形状の対向する開口部を持つ導体層31a、31bが形成される。導体層31a上部には、薄膜形成技術により誘電体層32が形成される。更に、誘電体層32上部には、信号導体層33が形成される。このような構成では、誘電体基板30の開口部の形成された領域が、共振器として動作する。この特許文献1の場合も、図1の構成と同様に、結合度は、共振器と信号導体層33との距離によって調整されるが、薄膜形成技術を使用することで、信号導体層33の位置を高精度に制御できるため、結合度のばらつきは小さい。
しかしながら、上記特開平11−145709号公報の例では、円筒形の誘電体共振器に比べると、共振器外部への電磁界の拡がりは小さいが、上部、及び、下部方向へは同様に拡がるため、発振器を構成するその他の線路やトランジスタFET等を共振器から離して配置する必要があった。即ち上部、及び、下部には配置できない。その結果、回路が大きくなるという課題があった。また、電気的にシールドするため、図2に示すように、共振器部を覆う導電体板29a、29bが別途必要となる課題があった。
マイクロ波帯やミリ波帯で使用される発振器においては、位相雑音、及び、周波数安定度を高めるために、誘電体共振器(DR)が使用される。図1は、一従来例による誘電体共振器を有する発振器(DRO)の構成を示す等価回路図である。負性抵抗を得るため、トランジスタFET14のソースには容量性のマイクロストリップ線路28bが接続される。トランジスタFET14のゲートから延びるマイクロストリップ線路28aは、円筒形のTE01δモードの誘電体共振器1と誘導性結合する。この時、結合度は、誘電体共振器1とマイクロストリップ線路28aとの距離により調整される。誘電体共振器1の共振周波数において、トランジスタFET14側からの電磁波は反射され、共振周波数以外では、終端抵抗15aに吸収される。従って、共振周波数において、大きな負性抵抗値を持つ。トランジスタFET14のドレインには、発振条件を満足するように設計した整合回路16(伝送線路とキャパシタにより構成)が接続される。トランジスタFET14のゲートバイアス17aは、〜数kΩの抵抗15bを介して、また、ドレインバイアス17bは、整合回路16を介して加えられる。また、誘電体共振器1と誘導性結合するマイクロストリップ線路28cの一端に接続されたバラクタダイオード20によって、共振周波数が微調整される。制御電圧17cをバラクタダイオード20に加えるため、バラクタダイオード20の一端には、動作周波数において低リアクタンスであるキャパシタ21aが、もう一端には、DC的にグランドに接続される〜数kΩの抵抗15cが接続される。このような構成では、誘電体共振器1の共振周波数は外形寸法で決まるため、高い加工精度が要求される。また、結合度は、誘電体共振器1とマイクロストリップ線路28aとの距離により調整されるため、誘電体共振器1の位置合わせに対して高い精度(〜0.1mm)が要求される。加えて、電磁界は共振器の外側にも拡がるため、パッケージに実装した際に発振周波数が変化し易いという課題がある。
そこで、誘電体共振器と伝送線路との接続構造として、特開平11−145709号公報には、図2に示す構造が提案されている。図2は、他の従来例による誘電体共振器と伝送線路との結合構造を示す分解斜視図である。誘電体共振器1は、誘電体基板30と導電体板29a、29bとから構成されている。誘電体基板30の上部と下部の両面には、円形状の対向する開口部を持つ導体層31a、31bが形成される。導体層31a上部には、薄膜形成技術により誘電体層32が形成される。更に、誘電体層32上部には、信号導体層33が形成される。このような構成では、誘電体基板30の開口部の形成された領域が、共振器として動作する。この特許文献1の場合も、図1の構成と同様に、結合度は、共振器と信号導体層33との距離によって調整されるが、薄膜形成技術を使用することで、信号導体層33の位置を高精度に制御できるため、結合度のばらつきは小さい。
しかしながら、上記特開平11−145709号公報の例では、円筒形の誘電体共振器に比べると、共振器外部への電磁界の拡がりは小さいが、上部、及び、下部方向へは同様に拡がるため、発振器を構成するその他の線路やトランジスタFET等を共振器から離して配置する必要があった。即ち上部、及び、下部には配置できない。その結果、回路が大きくなるという課題があった。また、電気的にシールドするため、図2に示すように、共振器部を覆う導電体板29a、29bが別途必要となる課題があった。
本発明の目的は、前述したような問題のない誘電体共振器を提供することにある。
本発明の更なる目的は、前述したような問題のない誘電体共振器を有する集積回路を提供することにある。
本発明の第一の側面によれば、電磁波を閉じ込める三次元的広がりをもった有効共振領域を有する誘電体共振器であって、前記誘電体共振器は少なくとも1つの結合素子を含み、更に前記少なくとも1つの結合素子は、前記有効共振領域の周囲面の少なくとも一部に二次元的広がりをもって延在する少なくとも1つの導体面に形成した少なくとも1つのスロットと、前記少なくとも1つのスロットに隣接する少なくとも1つのパッチ導体領域とを含む誘電体共振器が提供される。
前記有効共振領域の内部は誘電体からなり、一方前記有効共振領域の周囲は、共振周波数における電磁波の波長の1/2を越える寸法の間隙を形成しないよう二次元的広がりをもって延在する導体構造体からなり、前記少なくとも1つの導体面は前記導体構造体の一部を構成することが好ましい。
更に、前記有効共振領域の周囲に延在する前記導体構造は、誘電体基板の第一の面上に延在する第一の導体層と、前記誘電体基板の第二の面上に延在する第二の導体層と、前記誘電体基板中に埋込まれた少なくとも1つの埋込導体とからなることが好ましい。
更に、前記少なくとも1つの埋込導体は、前記誘電体基板の平面でみて、環状に不連続的に延在する複数の埋込導体からなり、前記複数の埋込導体間の距離は前記波長の1/2以下であることが好ましい。
更に、前記複数の埋込導体は、前記第一及び第二の導体層間を接続するよう前記誘電体基板を貫通する複数のビアホール中に形成された複数のビアプラグであって、前記複数のビアプラグの間隔は前記波長の1/2以下であることが好ましい。
前記少なくとも1つの埋込導体は、前記誘電体基板の平面でみて、環状に連続的に延在する埋込導体で構成し得る。
前記少なくとも1つのスロットは、前記第一及び第二の導体層の少なくともいずれか一方に形成することが可能である。
前記少なくとも1つの導体面は前記第一の導体層からなり、前記第一の導体層上の前記少なくとも1つの結合素子が存在する領域に対し、前記誘電体基板の平面でみて対応する前記第二の導体層の領域に少なくとも1つの開口部を形成してもよい。前記少なくとも1つの開口部は、サイズが均一でない複数の開口部から構成してもよい。また、前記複数の開口部は同心円上に配置しても良い。前記少なくとも1つの開口部は、導電性材料で埋め込んでもよい。
前記スロットは前記パッチ導体領域を少なくとも部分的に囲むよう形成してもよい。前記スロットは前記パッチ導体領域を完全に囲むよう形成してもよい。
前記少なくとも1つの結合素子は、複数の結合素子から構成してもよい。前記複数の結合素子は、同一種類の複数の結合素子から構成してもよい。前記複数の結合素子は、異なる種類の複数の結合素子から構成してもよい。
前記誘電体共振器は、前記有効共振領域外に形成された少なくとも1つのコプレナー線路を更に含んでもよい。
前記誘電体共振器は前記有効共振領域内に形成された少なくとも1つのコプレナー線路を更に含んでもよい。
前記誘電体共振器は前記結合素子が形成された領域内に形成された少なくとも1つのコプレナー線路を更に含んでもよい。
前記誘電体共振器は、前記少なくとも1つのスロットに隣接するよう前記結合素子が存在する領域内に形成された少なくとも1つの信号導体層を更に含み、前記少なくとも1つの信号導体層は少なくとも1つのコプレナー線路を構成してもよい。前記少なくとも1つの信号導体層は、更に前記少なくとも1つのパッチ導体領域にも隣接してもよい。前記少なくとも1つの信号導体層は、更に前記少なくとも1つのパッチ導体領域と少なくとも部分的に重複してもよい。
前記少なくとも1つの結合素子は、少なくとも1つの導電性コンタクトを介して負性抵抗発生回路に接続されてもよい。前記導電性コンタクトは導電性バンプであってもよい。
本発明の第二の側面によれば、電磁波を閉じ込める三次元的広がりをもった有効共振領域を有する誘電体共振器であって、前記誘電体共振器は少なくとも1つの結合素子を含み、更に前記少なくとも1つの結合素子は、前記有効共振領域の周囲面の少なくとも一部に二次元的広がりをもって延在する少なくとも1つの導体面に形成した少なくとも1つのスロットと、前記少なくとも1つのスロットに隣接する少なくとも1つのパッチ導体領域とを含む誘電体共振器と、少なくとも1つの導電性コンタクトを介して前記少なくとも1つの結合素子に接続される少なくとも1つの負性抵抗発生回路とを含む集積回路が提供される。
前記導電性コンタクトは導電性バンプで構成し得る。
前記少なくとも1つの負性抵抗発生回路は第一の回路基板に形成されると共に前記少なくとも1つの導電性コンタクトに直接接する第一の伝送線路を含むよう構成し得る。
前記少なくとも1つの負性抵抗発生回路は更に前記第一の回路基板に形成されたバラクタダイオードを含み、前記少なくとも1つの結合素子は、第一の導電性コンタクトを介して前記第一の伝送線路に接続される第一の結合素子と、第二の導電性コンタクトを介して前記バラクタダイオードに接続される第二の結合素子とからなるよう構成し得る。
前記少なくとも1つの負性抵抗発生回路は、少なくとも1つの発振回路を含む能動素子を構成し得る。前記少なくとも1つの導電性コンタクトは前記第一の伝送線路の中央部に接続され、前記第一の伝送線路の第一の端部は前記能動素子に接続され、前記第一の伝送線路の第二の端部は終端抵抗に接続されるよう構成し得る。また、前記少なくとも1つの結合素子は、第一の導電性コンタクト及び前記第一の伝送線路を介して前記能動素子の出力側に接続される第一の結合素子と、第二の導電性コンタクト及び前記第一の伝送線路を介して終端抵抗に接続される第二の結合素子とからなるよう構成し得る。また、前記少なくとも1つの結合素子は、第一の導電性コンタクト及び前記第一の伝送線路を介して前記能動素子の出力側に接続される第一の結合素子と、第二の伝送線路を介して前記能動素子の出力側に接続される第二の結合素子とからなるよう構成し得る。
前記第一の伝送線路と前記第一の回路基板に形成された第三の伝送線路とが導電性のバンプを介して接続され得る。
前記第一の伝送線路と第二の回路基板に形成された第四の伝送線路とが導電性のバンプを介して接続され得る。
前記第二の回路基板には凹部が形成され、該凹部内には前記誘電体共振器に搭載された前記第一の回路基板が収容されるよう構成し得る。前記第二の回路基板及び前記誘電体共振器との間隙を封止する樹脂膜により前記第一の回路基板を前記第二の回路基板の凹部内で封止するよう構成し得る。
前記有効共振領域の内部は誘電体からなり、一方前記有効共振領域の周囲は、共振周波数における電磁波の波長の1/2を越える寸法の間隙を形成しないよう二次元的広がりをもって延在する導体構造体からなり、前記少なくとも1つの導体面は前記導体構造体の一部を構成するよう構成し得る。
前記有効共振領域の周囲に延在する前記導体構造は、誘電体基板の第一の面上に延在する第一の導体層と、前記誘電体基板の第二の面上に延在する第二の導体層と、前記誘電体基板中に埋込まれた少なくとも1つの埋込導体とからなるよう構成し得る。
前記少なくとも1つの埋込導体は、前記誘電体基板の平面でみて、環状に不連続的に延在する複数の埋込導体からなり、前記複数の埋込導体間の距離は前記波長の1/2以下であるよう構成し得る。
前記複数の埋込導体は、前記第一及び第二の導体層間を接続するよう前記誘電体基板を貫通する複数のビアホール中に形成された複数のビアプラグであって、前記複数のビアプラグの間隔は前記波長の1/2以下であるよう構成し得る。
本発明の第三の側面によれば、誘電体基板と、前記誘電体基板の第1の面上に形成された第1の導体層と、前記誘電体基板の第2の面上に形成された第2の導体層と、共振周波数における電磁波の波長の1/2以下の間隔で前記誘電体基板の平面でみて環状に不連続的に配置され且つ前記誘電体基板を貫通する複数のビアホールを埋め込む複数のビアプラグと、前記第1及び第2の導体層と前記複数の埋込導体とで画定され電磁波を閉じ込める三次元的広がりをもった有効共振領域と、前記有効共振領域内であって前記第1の導体層に形成した少なくとも1つの結合素子とを含み、更に、前記少なくとも1つの結合素子は、前記第1の導体層に形成した少なくとも1つのスロットと、前記少なくとも1つのスロットに隣接する少なくとも1つのパッチ導体領域とを含む誘電体共振器が提供される。
前記少なくとも1つの導体面は前記第一の導体層からなり、前記第一の導体層上の前記少なくとも1つの結合素子が存在する領域に対し、前記誘電体基板の平面でみて対応する前記第二の導体層の領域に少なくとも1つの開口部が形成されるよう構成し得る。前記少なくとも1つの開口部は、サイズが均一でない複数の開口部で構成し得る。前記複数の開口部は同心円上に配置し得る。前記少なくとも1つの開口部は、導電性材料により埋め込まれてもよい。
前記少なくとも1つの結合素子は、同一種類の複数の結合素子からなるよう構成し得る。
前記少なくとも1つの結合素子は、異なる種類の複数の結合素子からなるよう構成し得る。
前記有効共振領域外に形成された少なくとも1つのコプレナー線路を更に含むよう構成し得る。
前記誘電体共振器は前記有効共振領域内に形成された少なくとも1つのコプレナー線路を更に含むよう構成し得る。
前記誘電体共振器は前記結合素子が形成された領域内に形成された少なくとも1つのコプレナー線路を更に含むよう構成し得る。
前記誘電体共振器は、前記少なくとも1つのスロットに隣接するよう前記結合素子が存在する領域内に形成された少なくとも1つの信号導体層を更に含み、前記少なくとも1つの信号導体層は少なくとも1つのコプレナー線路を構成するよう構成し得る。前記少なくとも1つの信号導体層は、更に前記少なくとも1つのパッチ導体領域にも隣接するよう構成し得る。また、前記少なくとも1つの信号導体層は、更に前記少なくとも1つのパッチ導体領域と少なくとも部分的に重複するよう構成し得る。
前記少なくとも1つの結合素子は、少なくとも1つの導電性コンタクトを介して負性抵抗発生回路に接続されるよう構成し得る。前記導電性コンタクトは導電性バンプで構成し得る。
本発明の第四の側面によれば、誘電体基板と、前記誘電体基板の第1の面上に形成された第1の導体層と、前記誘電体基板の第2の面上に形成された第2の導体層と、共振周波数における電磁波の波長の1/2以下の間隔で前記誘電体基板の平面でみて環状に不連続的に配置され且つ前記誘電体基板を貫通する複数のビアホールを埋め込む複数のビアプラグと、前記第1及び第2の導体層と前記複数の埋込導体とで画定され電磁波を閉じ込める三次元的広がりをもった有効共振領域と、前記有効共振領域内であって前記第1の導体層に形成した少なくとも1つの結合素子とを含み、更に、前記少なくとも1つの結合素子は、前記第1の導体層に形成した少なくとも1つのスロットと、前記少なくとも1つのスロットに隣接する少なくとも1つのパッチ導体領域とを含む誘電体共振器と、第一の回路基板に形成されると共に導電性バンプを介して前記少なくとも1つの結合素子に接続される第一の伝送線路を含む発振回路とを含む集積回路が提供される。
前記発振回路は更に前記第一の回路基板に形成されたバラクタダイオードを含み、前記少なくとも1つの結合素子は、第一の導電性バンプを介して前記第一の伝送線路に接続される第一の結合素子と、第二の導電性バンプを介して前記バラクタダイオードに接続される第二の結合素子とで構成し得る。前記第一の伝送線路の第一の端部は前記発振回路に接続され、前記第一の伝送線路の第二の端部は終端抵抗に接続されるよう構成し得る。
また、前記少なくとも1つの結合素子は、第一の導電性バンプ及び前記第一の伝送線路を介して前記発振回路の出力側に接続される第一の結合素子と、第二の導電性バンプ及び前記第一の伝送線路を介して終端抵抗に接続される第二の結合素子とで構成し得る。
また、前記少なくとも1つの結合素子は、第一の導電性バンプ及び前記第一の伝送線路を介して前記発振回路の出力側に接続される第一の結合素子と、第二の伝送線路を介して前記発振回路の出力側に接続される第二の結合素子とで構成し得る。
前記第一の伝送線路と前記第一の回路基板に形成された第三の伝送線路とが導電性のバンプを介して接続されるよう構成し得る。
前記第一の伝送線路と第二の回路基板に形成された第四の伝送線路とが導電性のバンプを介して接続されるよう構成し得る。
前記第二の回路基板には凹部が形成され、該凹部内には前記誘電体共振器に搭載された前記第一の回路基板が収容されるよう構成し得る。前記第二の回路基板及び前記誘電体共振器との間隙を封止する樹脂膜により前記第一の回路基板が前記第二の回路基板の凹部内で封止されるよう構成し得る。
本発明の更なる目的は、前述したような問題のない誘電体共振器を有する集積回路を提供することにある。
本発明の第一の側面によれば、電磁波を閉じ込める三次元的広がりをもった有効共振領域を有する誘電体共振器であって、前記誘電体共振器は少なくとも1つの結合素子を含み、更に前記少なくとも1つの結合素子は、前記有効共振領域の周囲面の少なくとも一部に二次元的広がりをもって延在する少なくとも1つの導体面に形成した少なくとも1つのスロットと、前記少なくとも1つのスロットに隣接する少なくとも1つのパッチ導体領域とを含む誘電体共振器が提供される。
前記有効共振領域の内部は誘電体からなり、一方前記有効共振領域の周囲は、共振周波数における電磁波の波長の1/2を越える寸法の間隙を形成しないよう二次元的広がりをもって延在する導体構造体からなり、前記少なくとも1つの導体面は前記導体構造体の一部を構成することが好ましい。
更に、前記有効共振領域の周囲に延在する前記導体構造は、誘電体基板の第一の面上に延在する第一の導体層と、前記誘電体基板の第二の面上に延在する第二の導体層と、前記誘電体基板中に埋込まれた少なくとも1つの埋込導体とからなることが好ましい。
更に、前記少なくとも1つの埋込導体は、前記誘電体基板の平面でみて、環状に不連続的に延在する複数の埋込導体からなり、前記複数の埋込導体間の距離は前記波長の1/2以下であることが好ましい。
更に、前記複数の埋込導体は、前記第一及び第二の導体層間を接続するよう前記誘電体基板を貫通する複数のビアホール中に形成された複数のビアプラグであって、前記複数のビアプラグの間隔は前記波長の1/2以下であることが好ましい。
前記少なくとも1つの埋込導体は、前記誘電体基板の平面でみて、環状に連続的に延在する埋込導体で構成し得る。
前記少なくとも1つのスロットは、前記第一及び第二の導体層の少なくともいずれか一方に形成することが可能である。
前記少なくとも1つの導体面は前記第一の導体層からなり、前記第一の導体層上の前記少なくとも1つの結合素子が存在する領域に対し、前記誘電体基板の平面でみて対応する前記第二の導体層の領域に少なくとも1つの開口部を形成してもよい。前記少なくとも1つの開口部は、サイズが均一でない複数の開口部から構成してもよい。また、前記複数の開口部は同心円上に配置しても良い。前記少なくとも1つの開口部は、導電性材料で埋め込んでもよい。
前記スロットは前記パッチ導体領域を少なくとも部分的に囲むよう形成してもよい。前記スロットは前記パッチ導体領域を完全に囲むよう形成してもよい。
前記少なくとも1つの結合素子は、複数の結合素子から構成してもよい。前記複数の結合素子は、同一種類の複数の結合素子から構成してもよい。前記複数の結合素子は、異なる種類の複数の結合素子から構成してもよい。
前記誘電体共振器は、前記有効共振領域外に形成された少なくとも1つのコプレナー線路を更に含んでもよい。
前記誘電体共振器は前記有効共振領域内に形成された少なくとも1つのコプレナー線路を更に含んでもよい。
前記誘電体共振器は前記結合素子が形成された領域内に形成された少なくとも1つのコプレナー線路を更に含んでもよい。
前記誘電体共振器は、前記少なくとも1つのスロットに隣接するよう前記結合素子が存在する領域内に形成された少なくとも1つの信号導体層を更に含み、前記少なくとも1つの信号導体層は少なくとも1つのコプレナー線路を構成してもよい。前記少なくとも1つの信号導体層は、更に前記少なくとも1つのパッチ導体領域にも隣接してもよい。前記少なくとも1つの信号導体層は、更に前記少なくとも1つのパッチ導体領域と少なくとも部分的に重複してもよい。
前記少なくとも1つの結合素子は、少なくとも1つの導電性コンタクトを介して負性抵抗発生回路に接続されてもよい。前記導電性コンタクトは導電性バンプであってもよい。
本発明の第二の側面によれば、電磁波を閉じ込める三次元的広がりをもった有効共振領域を有する誘電体共振器であって、前記誘電体共振器は少なくとも1つの結合素子を含み、更に前記少なくとも1つの結合素子は、前記有効共振領域の周囲面の少なくとも一部に二次元的広がりをもって延在する少なくとも1つの導体面に形成した少なくとも1つのスロットと、前記少なくとも1つのスロットに隣接する少なくとも1つのパッチ導体領域とを含む誘電体共振器と、少なくとも1つの導電性コンタクトを介して前記少なくとも1つの結合素子に接続される少なくとも1つの負性抵抗発生回路とを含む集積回路が提供される。
前記導電性コンタクトは導電性バンプで構成し得る。
前記少なくとも1つの負性抵抗発生回路は第一の回路基板に形成されると共に前記少なくとも1つの導電性コンタクトに直接接する第一の伝送線路を含むよう構成し得る。
前記少なくとも1つの負性抵抗発生回路は更に前記第一の回路基板に形成されたバラクタダイオードを含み、前記少なくとも1つの結合素子は、第一の導電性コンタクトを介して前記第一の伝送線路に接続される第一の結合素子と、第二の導電性コンタクトを介して前記バラクタダイオードに接続される第二の結合素子とからなるよう構成し得る。
前記少なくとも1つの負性抵抗発生回路は、少なくとも1つの発振回路を含む能動素子を構成し得る。前記少なくとも1つの導電性コンタクトは前記第一の伝送線路の中央部に接続され、前記第一の伝送線路の第一の端部は前記能動素子に接続され、前記第一の伝送線路の第二の端部は終端抵抗に接続されるよう構成し得る。また、前記少なくとも1つの結合素子は、第一の導電性コンタクト及び前記第一の伝送線路を介して前記能動素子の出力側に接続される第一の結合素子と、第二の導電性コンタクト及び前記第一の伝送線路を介して終端抵抗に接続される第二の結合素子とからなるよう構成し得る。また、前記少なくとも1つの結合素子は、第一の導電性コンタクト及び前記第一の伝送線路を介して前記能動素子の出力側に接続される第一の結合素子と、第二の伝送線路を介して前記能動素子の出力側に接続される第二の結合素子とからなるよう構成し得る。
前記第一の伝送線路と前記第一の回路基板に形成された第三の伝送線路とが導電性のバンプを介して接続され得る。
前記第一の伝送線路と第二の回路基板に形成された第四の伝送線路とが導電性のバンプを介して接続され得る。
前記第二の回路基板には凹部が形成され、該凹部内には前記誘電体共振器に搭載された前記第一の回路基板が収容されるよう構成し得る。前記第二の回路基板及び前記誘電体共振器との間隙を封止する樹脂膜により前記第一の回路基板を前記第二の回路基板の凹部内で封止するよう構成し得る。
前記有効共振領域の内部は誘電体からなり、一方前記有効共振領域の周囲は、共振周波数における電磁波の波長の1/2を越える寸法の間隙を形成しないよう二次元的広がりをもって延在する導体構造体からなり、前記少なくとも1つの導体面は前記導体構造体の一部を構成するよう構成し得る。
前記有効共振領域の周囲に延在する前記導体構造は、誘電体基板の第一の面上に延在する第一の導体層と、前記誘電体基板の第二の面上に延在する第二の導体層と、前記誘電体基板中に埋込まれた少なくとも1つの埋込導体とからなるよう構成し得る。
前記少なくとも1つの埋込導体は、前記誘電体基板の平面でみて、環状に不連続的に延在する複数の埋込導体からなり、前記複数の埋込導体間の距離は前記波長の1/2以下であるよう構成し得る。
前記複数の埋込導体は、前記第一及び第二の導体層間を接続するよう前記誘電体基板を貫通する複数のビアホール中に形成された複数のビアプラグであって、前記複数のビアプラグの間隔は前記波長の1/2以下であるよう構成し得る。
本発明の第三の側面によれば、誘電体基板と、前記誘電体基板の第1の面上に形成された第1の導体層と、前記誘電体基板の第2の面上に形成された第2の導体層と、共振周波数における電磁波の波長の1/2以下の間隔で前記誘電体基板の平面でみて環状に不連続的に配置され且つ前記誘電体基板を貫通する複数のビアホールを埋め込む複数のビアプラグと、前記第1及び第2の導体層と前記複数の埋込導体とで画定され電磁波を閉じ込める三次元的広がりをもった有効共振領域と、前記有効共振領域内であって前記第1の導体層に形成した少なくとも1つの結合素子とを含み、更に、前記少なくとも1つの結合素子は、前記第1の導体層に形成した少なくとも1つのスロットと、前記少なくとも1つのスロットに隣接する少なくとも1つのパッチ導体領域とを含む誘電体共振器が提供される。
前記少なくとも1つの導体面は前記第一の導体層からなり、前記第一の導体層上の前記少なくとも1つの結合素子が存在する領域に対し、前記誘電体基板の平面でみて対応する前記第二の導体層の領域に少なくとも1つの開口部が形成されるよう構成し得る。前記少なくとも1つの開口部は、サイズが均一でない複数の開口部で構成し得る。前記複数の開口部は同心円上に配置し得る。前記少なくとも1つの開口部は、導電性材料により埋め込まれてもよい。
前記少なくとも1つの結合素子は、同一種類の複数の結合素子からなるよう構成し得る。
前記少なくとも1つの結合素子は、異なる種類の複数の結合素子からなるよう構成し得る。
前記有効共振領域外に形成された少なくとも1つのコプレナー線路を更に含むよう構成し得る。
前記誘電体共振器は前記有効共振領域内に形成された少なくとも1つのコプレナー線路を更に含むよう構成し得る。
前記誘電体共振器は前記結合素子が形成された領域内に形成された少なくとも1つのコプレナー線路を更に含むよう構成し得る。
前記誘電体共振器は、前記少なくとも1つのスロットに隣接するよう前記結合素子が存在する領域内に形成された少なくとも1つの信号導体層を更に含み、前記少なくとも1つの信号導体層は少なくとも1つのコプレナー線路を構成するよう構成し得る。前記少なくとも1つの信号導体層は、更に前記少なくとも1つのパッチ導体領域にも隣接するよう構成し得る。また、前記少なくとも1つの信号導体層は、更に前記少なくとも1つのパッチ導体領域と少なくとも部分的に重複するよう構成し得る。
前記少なくとも1つの結合素子は、少なくとも1つの導電性コンタクトを介して負性抵抗発生回路に接続されるよう構成し得る。前記導電性コンタクトは導電性バンプで構成し得る。
本発明の第四の側面によれば、誘電体基板と、前記誘電体基板の第1の面上に形成された第1の導体層と、前記誘電体基板の第2の面上に形成された第2の導体層と、共振周波数における電磁波の波長の1/2以下の間隔で前記誘電体基板の平面でみて環状に不連続的に配置され且つ前記誘電体基板を貫通する複数のビアホールを埋め込む複数のビアプラグと、前記第1及び第2の導体層と前記複数の埋込導体とで画定され電磁波を閉じ込める三次元的広がりをもった有効共振領域と、前記有効共振領域内であって前記第1の導体層に形成した少なくとも1つの結合素子とを含み、更に、前記少なくとも1つの結合素子は、前記第1の導体層に形成した少なくとも1つのスロットと、前記少なくとも1つのスロットに隣接する少なくとも1つのパッチ導体領域とを含む誘電体共振器と、第一の回路基板に形成されると共に導電性バンプを介して前記少なくとも1つの結合素子に接続される第一の伝送線路を含む発振回路とを含む集積回路が提供される。
前記発振回路は更に前記第一の回路基板に形成されたバラクタダイオードを含み、前記少なくとも1つの結合素子は、第一の導電性バンプを介して前記第一の伝送線路に接続される第一の結合素子と、第二の導電性バンプを介して前記バラクタダイオードに接続される第二の結合素子とで構成し得る。前記第一の伝送線路の第一の端部は前記発振回路に接続され、前記第一の伝送線路の第二の端部は終端抵抗に接続されるよう構成し得る。
また、前記少なくとも1つの結合素子は、第一の導電性バンプ及び前記第一の伝送線路を介して前記発振回路の出力側に接続される第一の結合素子と、第二の導電性バンプ及び前記第一の伝送線路を介して終端抵抗に接続される第二の結合素子とで構成し得る。
また、前記少なくとも1つの結合素子は、第一の導電性バンプ及び前記第一の伝送線路を介して前記発振回路の出力側に接続される第一の結合素子と、第二の伝送線路を介して前記発振回路の出力側に接続される第二の結合素子とで構成し得る。
前記第一の伝送線路と前記第一の回路基板に形成された第三の伝送線路とが導電性のバンプを介して接続されるよう構成し得る。
前記第一の伝送線路と第二の回路基板に形成された第四の伝送線路とが導電性のバンプを介して接続されるよう構成し得る。
前記第二の回路基板には凹部が形成され、該凹部内には前記誘電体共振器に搭載された前記第一の回路基板が収容されるよう構成し得る。前記第二の回路基板及び前記誘電体共振器との間隙を封止する樹脂膜により前記第一の回路基板が前記第二の回路基板の凹部内で封止されるよう構成し得る。
図1は、一従来例による誘電体共振器を有する発振器(DRO)の構成を示す等価回路図である。
図2は、他の従来例による誘電体共振器と伝送線路との結合構造を示す分解斜視図である。
図3Aは、本発明による実施の形態1の第一構成例における誘電体共振器を示す斜視図である。
図3Bは、図3Aの一点鎖線A−A’における誘電体共振器を有する発振器(DRO)を示す縦断面図である。
図3Cは、図3Aの誘電体共振器を有する発振器(DRO)の等価回路図である。
図4Aは、本発明による実施の形態1の第二構成例における共振器部を示す平面図である。
図4Bは、図4Aの誘電体共振器を有する発振器(DRO)の等価回路図である。
図5は、本発明による実施の形態1の第三構成例における共振器部を示す平面図である。
図6Aは、本発明による実施の形態2の第一構成例における誘電体共振器を示す平面図である。
図6Bは、図6Aの誘電体共振器を有する発振器(DRO)の等価回路図である。
図7Aは、本発明による実施の形態3の第一構成例における誘電体共振器を示す平面図である。
図7Bは、図7Aの誘電体共振器を有する発振器(DRO)の等価回路図である。
図8は、本発明による実施の形態3の第二構成例における誘電体共振器を示す平面図である。
図9は、本発明による実施の形態4の第一構成例における誘電体共振器を有する発振器(DRO)を示す縦断面図である。
図10は、本発明による実施の形態4の第二構成例における誘電体共振器を有する発振器(DRO)を示す縦断面図である。
図11Aは、本発明による実施の形態5の第一構成例における誘電体共振器を示す斜視図である。
図11Bは、図11Aの一点鎖線B−B’におけるフリップチップ実装した誘電体共振器を有する発振器(DRO)を示す縦断面図である。
図12Aは、本発明による誘電体共振器に形成した開口の数に対する共振周波数の変化の計算結果を示す図である。
図12Bは、本発明による誘電体共振器に形成した開口の数に対する無負荷Qの変化の計算結果を示す図である。
発明を実施の形態
次に、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
<実施の形態1>
図3Aは、本発明による実施の形態1の第一構成例における誘電体共振器を示す斜視図である。図3Bは、図3Aの一点鎖線A−A’における誘電体共振器を有する発振器(DRO)を示す縦断面図である。図3Cは、図3Aの誘電体共振器を有する発振器(DRO)の等価回路図である。誘電体共振器1は誘電体基板2の両面にグランド導体層3a、3bを形成し、両導体層間を環状に配列されたビアホール4a内を充填するプラグ導体4bで接続することで構成される。ビアホール4aの間隔は、ビアホール間からの漏洩を抑制するために、誘電体基板内の波長の1/2以下、できれば1/4以下が望ましい。このビアホール及びグランド導体層3a、3bに囲まれた領域を有効共振領域と呼ぶことにする。ここで、誘電体共振器1は、基底動作で、TE110モード共振器となる。グランド導体層3aの中央部のスロット5aと、スロット5aにより囲まれたパッチ6aから成る結合素子7aと誘電体共振器1とは誘導性結合する。結合度は、スロット5aの幅、パッチ6aのサイズ、パッチ6aを形成する位置によって調整される。結合素子7aはリソグラフィ等を使用して形成するため、結合度の制御性は高い。本実施の形態では、電磁波は、ほぼ誘電体基板2の有効共振領域内に閉じこめられている。従って、共振器の特性に影響を与えることなく、図3Bに示すように、共振器上部に発振回路9をフリップチップ実装でき、小型化できる。
次に、本実施の形態の誘電体共振器を有する発振器(DRO)について説明する。パッチ6aと発振回路9上の伝送線路13aとはバンプ8を介して接続される。具体的には、フリップチップ実装が行われる。伝送線路13aは終端抵抗15aを介してグランドに接続される。このため、共振周波数のみが反射され、その他の周波数の電磁波は終端抵抗15aにより吸収される。発振回路MMIC9上において、伝送線路13aは能動素子であるトランジスタFET14のゲートに接続される。トランジスタFET14には、負性抵抗を得るために、正帰還をかける容量性の伝送線路13bが接続される。トランジスタFET14のドレインは、伝送線路とキャパシタから成る整合回路16を介して出力用の伝送線路13cに接続される。トランジスタFET14のゲートバイアス17aは、〜数kΩの抵抗15bを介して、また、ドレインバイアス17bは、整合回路16を介して加えられる。発振回路9の出力用の伝送線路13cは、誘電体共振器1の基板端に形成された信号導体層11aとスロット10aを挟んで配置されたグランド導体層3aとから構成されるコプレーナ線路12aにバンプ接続される。これにより、コプレーナ線路12aから発振器(DRO)の信号が出力される。このように、本実施の形態の構成では、出力用のコプレーナ線路12aは、スルーホール列4aで囲まれた誘電体基板の有効共振領域の外側の領域に設けられている。このため、共振器上において、開口部は結合素子7aのみにあり、開口部の電磁界の乱れによる共振器のQの低下を最小限にできる。
図4Aは、本発明による実施の形態1の第二構成例における共振器部を示す平面図である。図4Bは、図4Aの誘電体共振器を有する発振器(DRO)の等価回路図である。結合素子は、図4Aに示すように、パッチ6bに信号導体層18aとスロット5bを挟んで配置されたグランド導体層3aとから成るコプレーナ線路19を2つ接続した結合素子7bであってもよい。この場合には、図4Bに示すように、結合素子7bがトランジスタFET14のゲートに接続された伝送線路13aに対してシリーズに接続される。そのため、インダクタンス成分を持つバンプを介してシャントに接続される場合(結合素子7a)に比べて、大きい結合度を得易い。更に、結合素子7bには、コプレーナ線路19が接続されているため、発振回路MMIC9を誘電体共振器1に実装する前に、オンウェハ評価しやすい利点がある。
図5は、本発明による実施の形態1の第三構成例における共振器部を示す平面図である。結合素子は、図5に示すように、グランド導体層3aにスロット5cを形成することによりパッチ6cを設けて構成した結合素子7cであってもよい。パッチ6cには、グランド導体層3aと共にコプレーナ線路を構成する信号導体層18bが接続されていてもよい。この結合素子7cの場合には、全周波数で反射となるため、不要な周波数での発振が起こらないように注意する必要があるが、終端抵抗15aが不要になる。
ここでは、TE110モード共振器の場合を示したが、もちろんTE210モード等の高次モードを用いた共振器でもよい。
<実施の形態2>
図6Aは、本発明による実施の形態2の第一構成例における誘電体共振器を示す平面図である。図6Bは、図6Aの誘電体共振器を有する発振器(DRO)の等価回路図である。本発明の実施の形態2として、誘電体共振器を有する発振器(DRO)の周波数を電気的に調整できる構成を示す。グランド導体層3a上に、2つの結合素子7d、7eを形成する。結合素子7dは、トランジスタFET14のゲートから延びる伝送線路13aに接続され、結合素子7eは、発振回路MMIC9上に形成されたバラクタダイオード20に接続される。バラクタダイオード20に制御電圧17cを加えるために、結合素子7e側を〜数kΩの抵抗15cを介してDC的にグランドに接続する。また、結合素子7eと反対側には、動作周波数において低リアクタンスなキャパシタ21aを接続する。制御電圧17cを変化させることにより、バラクタダイオード20の容量が変化し、共振器の共振周波数(発振周波数)を調整することができる。結合素子7eとバラクタダイオード20との間には伝送線路を介在させることができる。また、ここでは、バラクタダイオード20との結合素子として、結合素子7eを用いた例を示したが、結合素子7cを用いてもよい。この場合には、バラクタダイオード20の結合素子7c側はグランド電位となるため、抵抗15cが不要になる利点がある。もちろん、結合素子7dの代わりに結合素子7bの構成をとってもよい。
<実施の形態3>
図7Aは、本発明による実施の形態3の第一構成例における誘電体共振器を示す平面図である。図7Bは、図7Aの誘電体共振器を有する発振器(DRO)の等価回路図である。発振回路9の出力は、DCバイアスをカットする動作周波数において低リアクタンスなキャパシタ21bを介して、グランド導体層3aにスロット5dを形成することにより構成した結合素子7fに接続される。更に、グランド導体層3aには、スロット5eを形成することにより結合素子7gが設けられる。結合素子7gは、共振器の内側と外側を跨いで、信号導体層11bとスロット10bを挟んで配置されたグランド導体層3aとから成るコプレーナ線路12bと接続される。この時、誘電体共振器1は、共振周波数のみを出力させ、共振周波数以外を反射させる。本実施の形態の構成では、発振回路9部の構成は基本的な発振器の構成となり、回路設計が容易になる。
図8は、本発明による実施の形態3の第二構成例における誘電体共振器を示す平面図である。出力用のコプレーナ線路は、図8に示すように2つ設けられていてもよい。この場合には、誘電体共振器1に結合素子7hを介して入力された信号は、一部が結合素子7iを介してコプレーナ線路12cに出力され、残りが結合素子7jを介してコプレーナ線路12dに出力される。このように、誘電体共振器1が2分配の機能を持ち、例えば、ヘテロダイン方式の場合には、送信機、及び、受信機の局部発振器用の信号源として使用できる。ここでは、2分配の例を示したが、結合素子の数を増やすことにより、3分配以上の多分配もできる。
<実施の形態4>
図9は、本発明による実施の形態4の第一構成例における誘電体共振器を有する発振器(DRO)を示す縦断面図である。電磁波は誘電体共振器1内にほぼ完全に閉じこめられるため、発振回路9がフリップチップ実装された誘電体共振器1を、更に、図9に示すようなパッケージなどの実装基板22にフリップチップ実装しても、発振周波数は変化しないことが期待される。実装基板22には、窪み23が形成され、この窪み23内に発振回路9が内蔵される。実装基板22の裏面にはグランド導体層3dが、表面には信号導体層24を除いた部分にグランド導体層3cが形成される。誘電体共振器1上のコプレーナ線路12aは、バンプ8によって、実装基板22上の信号導体層24とグランド導体層3cとから成るコプレーナ線路に接続される。グランド導体層3cと3dとは、窪み23の外周に沿って配列された、ビアホール4cに埋設されたプラグ導体4dで接続される。これにより、発振回路9が内蔵された窪み23内は電磁的にシールドされる。
図10は、本発明による実施の形態4の第二構成例における誘電体共振器を有する発振器(DRO)を示す縦断面図である。図10に示すように、誘電体共振器1の外周部を熱硬化性の樹脂25等で補強してもよい。本発明の構成では、実装基板22には窪み23が設けられているため、樹脂25を外周部に塗布した場合でも、発振回路MMIC9部には樹脂25が入り込みにくい。そのため、樹脂25を使用することによる発振特性の変化がほとんど無いことが期待できる。
<実施の形態5>
図11Aは、本発明による実施の形態5の第一構成例における誘電体共振器を示す斜視図である。図11Bは、図11Aの一点鎖線B−B’におけるフリップチップ実装した誘電体共振器を有する発振器(DRO)を示す縦断面図である。誘電体共振器1を実装基板22にフリップチップ実装した場合、誘電体共振器1の裏面は空気層に面する。図11Aに示すように、誘電体基板1裏面のグランド導体層3bに複数の開口26を形成する。この開口26を導電ペースト27aやボンディングワイヤ27b等を使用して埋めていくことで、誘電体共振器1の共振周波数を調整することができる。
図12Aは、本発明による誘電体共振器に形成した開口の数に対する共振周波数の変化の計算結果を示す図である。38GHz帯共振器において、開口26の数を変化させた時の共振周波数の変化を計算した結果を示す。開口26の個数を変えることで、段階的に共振周波数を調整できることが分かる。共振器の中心に対して、同心円状に開口を配置すると、同心円上の開口については、1個当たりの共振周波数の調整量がほぼ同じになり、調整が容易になる。また、開口26のサイズを変えることで、1個当たりの共振周波数の調整量を変えることができる。複数のサイズを形成した場合には、1個当たりの調整量が異なる開口ができ、共振周波数の微調整が可能となる。
図12Bは、本発明による誘電体共振器に形成した開口の数に対する無負荷Qの変化の計算結果を示す図である。図12Aの場合における無負荷Qの計算結果を示すが、特に劣化は見られない。ここでは、開口26を前もって形成しておき、1個ずつ埋めていく例を示したが、例えば、レーザを使用して、開口26を順次形成し共振周波数を調整してもよい。
以上好ましい実施の形態について説明したが、本発明はこれら実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱することのない範囲内において適宜の変更が可能なものである。実施の形態では、能動素子として、電界効果型トランジスタFETの例を示したが、バイポーラトランジスタ等を用いてもよい。また、基板両面のグランド導体層3a、3b;3c、3dを接続するのに、プラグ導体4b、4dを用いるのに代え、プレーテッドスルーホールのようなビアホール内壁面のみに導体層が形成された構造を用いることができる。
本発明によれば、誘電体共振器上部のグランド導体層にスロットを形成することにより構成した結合素子に発振回路をフリップチップ接続することにより、誘電体共振器を使用した発振器において、結合の制御性と再現性を高くすることができ、且つ、回路を小型化することができる。また、結合素子の反対のグランド導体層に複数のサイズの異なる開口を形成する実施の形態によれば、その数を調整することにより、精度の高い周波数調整が可能となる。
本発明によれば、負性抵抗発生回路の一例としての発振回路に誘電体共振器を接続したが、発振回路に限らず負性抵抗を発生させる回路であれば本発明の誘電体共振器を接続することで本発明の効果が得られる。また、負性抵抗発生回路と誘電体共振器とを接続する手段としてバンプを例に挙げたが、配線のように距離のあるものはあまり好ましくないが、必ずしもバンプに限定する必要はなく導電性コンタクトとして作用するものであればよい。
図2は、他の従来例による誘電体共振器と伝送線路との結合構造を示す分解斜視図である。
図3Aは、本発明による実施の形態1の第一構成例における誘電体共振器を示す斜視図である。
図3Bは、図3Aの一点鎖線A−A’における誘電体共振器を有する発振器(DRO)を示す縦断面図である。
図3Cは、図3Aの誘電体共振器を有する発振器(DRO)の等価回路図である。
図4Aは、本発明による実施の形態1の第二構成例における共振器部を示す平面図である。
図4Bは、図4Aの誘電体共振器を有する発振器(DRO)の等価回路図である。
図5は、本発明による実施の形態1の第三構成例における共振器部を示す平面図である。
図6Aは、本発明による実施の形態2の第一構成例における誘電体共振器を示す平面図である。
図6Bは、図6Aの誘電体共振器を有する発振器(DRO)の等価回路図である。
図7Aは、本発明による実施の形態3の第一構成例における誘電体共振器を示す平面図である。
図7Bは、図7Aの誘電体共振器を有する発振器(DRO)の等価回路図である。
図8は、本発明による実施の形態3の第二構成例における誘電体共振器を示す平面図である。
図9は、本発明による実施の形態4の第一構成例における誘電体共振器を有する発振器(DRO)を示す縦断面図である。
図10は、本発明による実施の形態4の第二構成例における誘電体共振器を有する発振器(DRO)を示す縦断面図である。
図11Aは、本発明による実施の形態5の第一構成例における誘電体共振器を示す斜視図である。
図11Bは、図11Aの一点鎖線B−B’におけるフリップチップ実装した誘電体共振器を有する発振器(DRO)を示す縦断面図である。
図12Aは、本発明による誘電体共振器に形成した開口の数に対する共振周波数の変化の計算結果を示す図である。
図12Bは、本発明による誘電体共振器に形成した開口の数に対する無負荷Qの変化の計算結果を示す図である。
発明を実施の形態
次に、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
<実施の形態1>
図3Aは、本発明による実施の形態1の第一構成例における誘電体共振器を示す斜視図である。図3Bは、図3Aの一点鎖線A−A’における誘電体共振器を有する発振器(DRO)を示す縦断面図である。図3Cは、図3Aの誘電体共振器を有する発振器(DRO)の等価回路図である。誘電体共振器1は誘電体基板2の両面にグランド導体層3a、3bを形成し、両導体層間を環状に配列されたビアホール4a内を充填するプラグ導体4bで接続することで構成される。ビアホール4aの間隔は、ビアホール間からの漏洩を抑制するために、誘電体基板内の波長の1/2以下、できれば1/4以下が望ましい。このビアホール及びグランド導体層3a、3bに囲まれた領域を有効共振領域と呼ぶことにする。ここで、誘電体共振器1は、基底動作で、TE110モード共振器となる。グランド導体層3aの中央部のスロット5aと、スロット5aにより囲まれたパッチ6aから成る結合素子7aと誘電体共振器1とは誘導性結合する。結合度は、スロット5aの幅、パッチ6aのサイズ、パッチ6aを形成する位置によって調整される。結合素子7aはリソグラフィ等を使用して形成するため、結合度の制御性は高い。本実施の形態では、電磁波は、ほぼ誘電体基板2の有効共振領域内に閉じこめられている。従って、共振器の特性に影響を与えることなく、図3Bに示すように、共振器上部に発振回路9をフリップチップ実装でき、小型化できる。
次に、本実施の形態の誘電体共振器を有する発振器(DRO)について説明する。パッチ6aと発振回路9上の伝送線路13aとはバンプ8を介して接続される。具体的には、フリップチップ実装が行われる。伝送線路13aは終端抵抗15aを介してグランドに接続される。このため、共振周波数のみが反射され、その他の周波数の電磁波は終端抵抗15aにより吸収される。発振回路MMIC9上において、伝送線路13aは能動素子であるトランジスタFET14のゲートに接続される。トランジスタFET14には、負性抵抗を得るために、正帰還をかける容量性の伝送線路13bが接続される。トランジスタFET14のドレインは、伝送線路とキャパシタから成る整合回路16を介して出力用の伝送線路13cに接続される。トランジスタFET14のゲートバイアス17aは、〜数kΩの抵抗15bを介して、また、ドレインバイアス17bは、整合回路16を介して加えられる。発振回路9の出力用の伝送線路13cは、誘電体共振器1の基板端に形成された信号導体層11aとスロット10aを挟んで配置されたグランド導体層3aとから構成されるコプレーナ線路12aにバンプ接続される。これにより、コプレーナ線路12aから発振器(DRO)の信号が出力される。このように、本実施の形態の構成では、出力用のコプレーナ線路12aは、スルーホール列4aで囲まれた誘電体基板の有効共振領域の外側の領域に設けられている。このため、共振器上において、開口部は結合素子7aのみにあり、開口部の電磁界の乱れによる共振器のQの低下を最小限にできる。
図4Aは、本発明による実施の形態1の第二構成例における共振器部を示す平面図である。図4Bは、図4Aの誘電体共振器を有する発振器(DRO)の等価回路図である。結合素子は、図4Aに示すように、パッチ6bに信号導体層18aとスロット5bを挟んで配置されたグランド導体層3aとから成るコプレーナ線路19を2つ接続した結合素子7bであってもよい。この場合には、図4Bに示すように、結合素子7bがトランジスタFET14のゲートに接続された伝送線路13aに対してシリーズに接続される。そのため、インダクタンス成分を持つバンプを介してシャントに接続される場合(結合素子7a)に比べて、大きい結合度を得易い。更に、結合素子7bには、コプレーナ線路19が接続されているため、発振回路MMIC9を誘電体共振器1に実装する前に、オンウェハ評価しやすい利点がある。
図5は、本発明による実施の形態1の第三構成例における共振器部を示す平面図である。結合素子は、図5に示すように、グランド導体層3aにスロット5cを形成することによりパッチ6cを設けて構成した結合素子7cであってもよい。パッチ6cには、グランド導体層3aと共にコプレーナ線路を構成する信号導体層18bが接続されていてもよい。この結合素子7cの場合には、全周波数で反射となるため、不要な周波数での発振が起こらないように注意する必要があるが、終端抵抗15aが不要になる。
ここでは、TE110モード共振器の場合を示したが、もちろんTE210モード等の高次モードを用いた共振器でもよい。
<実施の形態2>
図6Aは、本発明による実施の形態2の第一構成例における誘電体共振器を示す平面図である。図6Bは、図6Aの誘電体共振器を有する発振器(DRO)の等価回路図である。本発明の実施の形態2として、誘電体共振器を有する発振器(DRO)の周波数を電気的に調整できる構成を示す。グランド導体層3a上に、2つの結合素子7d、7eを形成する。結合素子7dは、トランジスタFET14のゲートから延びる伝送線路13aに接続され、結合素子7eは、発振回路MMIC9上に形成されたバラクタダイオード20に接続される。バラクタダイオード20に制御電圧17cを加えるために、結合素子7e側を〜数kΩの抵抗15cを介してDC的にグランドに接続する。また、結合素子7eと反対側には、動作周波数において低リアクタンスなキャパシタ21aを接続する。制御電圧17cを変化させることにより、バラクタダイオード20の容量が変化し、共振器の共振周波数(発振周波数)を調整することができる。結合素子7eとバラクタダイオード20との間には伝送線路を介在させることができる。また、ここでは、バラクタダイオード20との結合素子として、結合素子7eを用いた例を示したが、結合素子7cを用いてもよい。この場合には、バラクタダイオード20の結合素子7c側はグランド電位となるため、抵抗15cが不要になる利点がある。もちろん、結合素子7dの代わりに結合素子7bの構成をとってもよい。
<実施の形態3>
図7Aは、本発明による実施の形態3の第一構成例における誘電体共振器を示す平面図である。図7Bは、図7Aの誘電体共振器を有する発振器(DRO)の等価回路図である。発振回路9の出力は、DCバイアスをカットする動作周波数において低リアクタンスなキャパシタ21bを介して、グランド導体層3aにスロット5dを形成することにより構成した結合素子7fに接続される。更に、グランド導体層3aには、スロット5eを形成することにより結合素子7gが設けられる。結合素子7gは、共振器の内側と外側を跨いで、信号導体層11bとスロット10bを挟んで配置されたグランド導体層3aとから成るコプレーナ線路12bと接続される。この時、誘電体共振器1は、共振周波数のみを出力させ、共振周波数以外を反射させる。本実施の形態の構成では、発振回路9部の構成は基本的な発振器の構成となり、回路設計が容易になる。
図8は、本発明による実施の形態3の第二構成例における誘電体共振器を示す平面図である。出力用のコプレーナ線路は、図8に示すように2つ設けられていてもよい。この場合には、誘電体共振器1に結合素子7hを介して入力された信号は、一部が結合素子7iを介してコプレーナ線路12cに出力され、残りが結合素子7jを介してコプレーナ線路12dに出力される。このように、誘電体共振器1が2分配の機能を持ち、例えば、ヘテロダイン方式の場合には、送信機、及び、受信機の局部発振器用の信号源として使用できる。ここでは、2分配の例を示したが、結合素子の数を増やすことにより、3分配以上の多分配もできる。
<実施の形態4>
図9は、本発明による実施の形態4の第一構成例における誘電体共振器を有する発振器(DRO)を示す縦断面図である。電磁波は誘電体共振器1内にほぼ完全に閉じこめられるため、発振回路9がフリップチップ実装された誘電体共振器1を、更に、図9に示すようなパッケージなどの実装基板22にフリップチップ実装しても、発振周波数は変化しないことが期待される。実装基板22には、窪み23が形成され、この窪み23内に発振回路9が内蔵される。実装基板22の裏面にはグランド導体層3dが、表面には信号導体層24を除いた部分にグランド導体層3cが形成される。誘電体共振器1上のコプレーナ線路12aは、バンプ8によって、実装基板22上の信号導体層24とグランド導体層3cとから成るコプレーナ線路に接続される。グランド導体層3cと3dとは、窪み23の外周に沿って配列された、ビアホール4cに埋設されたプラグ導体4dで接続される。これにより、発振回路9が内蔵された窪み23内は電磁的にシールドされる。
図10は、本発明による実施の形態4の第二構成例における誘電体共振器を有する発振器(DRO)を示す縦断面図である。図10に示すように、誘電体共振器1の外周部を熱硬化性の樹脂25等で補強してもよい。本発明の構成では、実装基板22には窪み23が設けられているため、樹脂25を外周部に塗布した場合でも、発振回路MMIC9部には樹脂25が入り込みにくい。そのため、樹脂25を使用することによる発振特性の変化がほとんど無いことが期待できる。
<実施の形態5>
図11Aは、本発明による実施の形態5の第一構成例における誘電体共振器を示す斜視図である。図11Bは、図11Aの一点鎖線B−B’におけるフリップチップ実装した誘電体共振器を有する発振器(DRO)を示す縦断面図である。誘電体共振器1を実装基板22にフリップチップ実装した場合、誘電体共振器1の裏面は空気層に面する。図11Aに示すように、誘電体基板1裏面のグランド導体層3bに複数の開口26を形成する。この開口26を導電ペースト27aやボンディングワイヤ27b等を使用して埋めていくことで、誘電体共振器1の共振周波数を調整することができる。
図12Aは、本発明による誘電体共振器に形成した開口の数に対する共振周波数の変化の計算結果を示す図である。38GHz帯共振器において、開口26の数を変化させた時の共振周波数の変化を計算した結果を示す。開口26の個数を変えることで、段階的に共振周波数を調整できることが分かる。共振器の中心に対して、同心円状に開口を配置すると、同心円上の開口については、1個当たりの共振周波数の調整量がほぼ同じになり、調整が容易になる。また、開口26のサイズを変えることで、1個当たりの共振周波数の調整量を変えることができる。複数のサイズを形成した場合には、1個当たりの調整量が異なる開口ができ、共振周波数の微調整が可能となる。
図12Bは、本発明による誘電体共振器に形成した開口の数に対する無負荷Qの変化の計算結果を示す図である。図12Aの場合における無負荷Qの計算結果を示すが、特に劣化は見られない。ここでは、開口26を前もって形成しておき、1個ずつ埋めていく例を示したが、例えば、レーザを使用して、開口26を順次形成し共振周波数を調整してもよい。
以上好ましい実施の形態について説明したが、本発明はこれら実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱することのない範囲内において適宜の変更が可能なものである。実施の形態では、能動素子として、電界効果型トランジスタFETの例を示したが、バイポーラトランジスタ等を用いてもよい。また、基板両面のグランド導体層3a、3b;3c、3dを接続するのに、プラグ導体4b、4dを用いるのに代え、プレーテッドスルーホールのようなビアホール内壁面のみに導体層が形成された構造を用いることができる。
本発明によれば、誘電体共振器上部のグランド導体層にスロットを形成することにより構成した結合素子に発振回路をフリップチップ接続することにより、誘電体共振器を使用した発振器において、結合の制御性と再現性を高くすることができ、且つ、回路を小型化することができる。また、結合素子の反対のグランド導体層に複数のサイズの異なる開口を形成する実施の形態によれば、その数を調整することにより、精度の高い周波数調整が可能となる。
本発明によれば、負性抵抗発生回路の一例としての発振回路に誘電体共振器を接続したが、発振回路に限らず負性抵抗を発生させる回路であれば本発明の誘電体共振器を接続することで本発明の効果が得られる。また、負性抵抗発生回路と誘電体共振器とを接続する手段としてバンプを例に挙げたが、配線のように距離のあるものはあまり好ましくないが、必ずしもバンプに限定する必要はなく導電性コンタクトとして作用するものであればよい。
本発明は、マイクロ波帯やミリ波帯で使用される誘電体共振器、その周波数調整方法およびその誘電体共振器を用いた集積回路に関するものであれば、あらゆるものに適用することが可能であり、その利用の可能性において何ら限定するものではない。
幾つかの好適な実施の形態及び実施例に関連付けして本発明を説明したが、これら実施の形態及び実施例は単に実例を挙げて発明を説明するためのものであって、限定することを意味するものではないことが理解できる。本明細書を読んだ後であれば、当業者にとって等価な構成要素や技術による数多くの変更および置換が容易であることが明白であるが、このような変更および置換は、添付の請求項の真の範囲及び精神に該当するものであることは明白である。
幾つかの好適な実施の形態及び実施例に関連付けして本発明を説明したが、これら実施の形態及び実施例は単に実例を挙げて発明を説明するためのものであって、限定することを意味するものではないことが理解できる。本明細書を読んだ後であれば、当業者にとって等価な構成要素や技術による数多くの変更および置換が容易であることが明白であるが、このような変更および置換は、添付の請求項の真の範囲及び精神に該当するものであることは明白である。
Claims (64)
- 電磁波を閉じ込める三次元的広がりをもった有効共振領域を有する誘電体共振器であって、前記誘電体共振器は少なくとも1つの結合素子を含み、更に前記少なくとも1つの結合素子は、前記有効共振領域の周囲面の少なくとも一部に二次元的広がりをもって延在する少なくとも1つの導体面に形成した少なくとも1つのスロットと、前記少なくとも1つのスロットに隣接する少なくとも1つのパッチ導体領域とを含む誘電体共振器。
- 前記有効共振領域の内部は誘電体からなり、一方前記有効共振領域の周囲は、共振周波数における電磁波の波長の1/2を越える寸法の間隙を形成しないよう二次元的広がりをもって延在する導体構造体からなり、前記少なくとも1つの導体面は前記導体構造体の一部を構成する請求項1に記載の誘電体共振器。
- 前記有効共振領域の周囲に延在する前記導体構造は、誘電体基板の第一の面上に延在する第一の導体層と、前記誘電体基板の第二の面上に延在する第二の導体層と、前記誘電体基板中に埋込まれた少なくとも1つの埋込導体とからなる請求項2に記載の誘電体共振器。
- 前記少なくとも1つの埋込導体は、前記誘電体基板の平面でみて、環状に不連続的に延在する複数の埋込導体からなり、前記複数の埋込導体間の距離は前記波長の1/2以下である請求項3に記載の誘電体共振器。
- 前記複数の埋込導体は、前記第一及び第二の導体層間を接続するよう前記誘電体基板を貫通する複数のビアホール中に形成された複数のビアプラグであって、前記複数のビアプラグの間隔は前記波長の1/2以下である請求項4に記載の誘電体共振器。
- 前記少なくとも1つの埋込導体は、前記誘電体基板の平面でみて、環状に連続的に延在する埋込導体からなる請求項3に記載の誘電体共振器。
- 前記少なくとも1つのスロットは、前記第一及び第二の導体層の少なくともいずれか一方に形成される請求項3に記載の誘電体共振器。
- 前記少なくとも1つの導体面は前記第一の導体層からなり、前記第一の導体層上の前記少なくとも1つの結合素子が存在する領域に対し、前記誘電体基板の平面でみて対応する前記第二の導体層の領域に少なくとも1つの開口部が形成されている請求項3に記載の誘電体共振器。
- 前記少なくとも1つの開口部は、サイズが均一でない複数の開口部からなる請求項8に記載の誘電体共振器。
- 前記複数の開口部は同心円上に配置されている請求項9に記載の誘電体共振器。
- 前記少なくとも1つの開口部は、導電性材料により埋め込まれている請求項8に記載の誘電体共振器。
- 前記スロットは前記パッチ導体領域を少なくとも部分的に囲む請求項1に記載の誘電体共振器。
- 前記スロットは前記パッチ導体領域を完全に囲む請求項12に記載の誘電体共振器。
- 前記少なくとも1つの結合素子は、複数の結合素子からなる請求項1に記載の誘電体共振器。
- 前記複数の結合素子は、同一種類の複数の結合素子からなる請求項14に記載の誘電体共振器。
- 前記複数の結合素子は、異なる種類の複数の結合素子からなる請求項14に記載の誘電体共振器。
- 前記有効共振領域外に形成された少なくとも1つのコプレナー線路を更に含む請求項1に記載の誘電体共振器。
- 前記誘電体共振器は前記有効共振領域内に形成された少なくとも1つのコプレナー線路を更に含む請求項1に記載の誘電体共振器。
- 前記誘電体共振器は前記結合素子が形成された領域内に形成された少なくとも1つのコプレナー線路を更に含む請求項17に記載の誘電体共振器。
- 前記誘電体共振器は、前記少なくとも1つのスロットに隣接するよう前記結合素子が存在する領域内に形成された少なくとも1つの信号導体層を更に含み、前記少なくとも1つの信号導体層は少なくとも1つのコプレナー線路を構成する請求項18に記載の誘電体共振器。
- 前記少なくとも1つの信号導体層は、更に前記少なくとも1つのパッチ導体領域にも隣接している請求項20に記載の誘電体共振器。
- 前記少なくとも1つの信号導体層は、更に前記少なくとも1つのパッチ導体領域と少なくとも部分的に重複している請求項20に記載の誘電体共振器。
- 前記少なくとも1つの結合素子は、少なくとも1つの導電性コンタクトを介して負性抵抗発生回路に接続される請求項1に記載の誘電体共振器。
- 前記導電性コンタクトは導電性バンプからなる請求項23に記載の誘電体共振器。
- 電磁波を閉じ込める三次元的広がりをもった有効共振領域を有する誘電体共振器であって、前記誘電体共振器は少なくとも1つの結合素子を含み、更に前記少なくとも1つの結合素子は、前記有効共振領域の周囲面の少なくとも一部に二次元的広がりをもって延在する少なくとも1つの導体面に形成した少なくとも1つのスロットと、前記少なくとも1つのスロットに隣接する少なくとも1つのパッチ導体領域とを含む誘電体共振器と、
少なくとも1つの導電性コンタクトを介して前記少なくとも1つの結合素子に接続される少なくとも1つの負性抵抗発生回路とを含む集積回路。 - 前記導電性コンタクトは導電性バンプからなる請求項25に記載の集積回路。
- 前記少なくとも1つの負性抵抗発生回路は第一の回路基板に形成されると共に前記少なくとも1つの導電性コンタクトに直接接する第一の伝送線路を含む請求項25に記載の集積回路。
- 前記少なくとも1つの負性抵抗発生回路は更に前記第一の回路基板に形成されたバラクタダイオードを含み、前記少なくとも1つの結合素子は、第一の導電性コンタクトを介して前記第一の伝送線路に接続される第一の結合素子と、第二の導電性コンタクトを介して前記バラクタダイオードに接続される第二の結合素子とからなる請求項27に記載の集積回路。
- 前記少なくとも1つの負性抵抗発生回路は、少なくとも1つの発振回路を含む能動素子を構成する請求項27に記載の集積回路。
- 前記少なくとも1つの導電性コンタクトは前記第一の伝送線路の中央部に接続され、前記第一の伝送線路の第一の端部は前記能動素子に接続され、前記第一の伝送線路の第二の端部は終端抵抗に接続される請求項29に記載の集積回路。
- 前記少なくとも1つの結合素子は、第一の導電性コンタクト及び前記第一の伝送線路を介して前記能動素子の出力側に接続される第一の結合素子と、第二の導電性コンタクト及び前記第一の伝送線路を介して終端抵抗に接続される第二の結合素子とからなる請求項29に記載の集積回路。
- 前記少なくとも1つの結合素子は、第一の導電性コンタクト及び前記第一の伝送線路を介して前記能動素子の出力側に接続される第一の結合素子と、第二の伝送線路を介して前記能動素子の出力側に接続される第二の結合素子とからなる請求項29に記載の集積回路。
- 前記第一の伝送線路と前記第一の回路基板に形成された第三の伝送線路とが導電性のバンプを介して接続されている請求項27に記載の集積回路。
- 前記第一の伝送線路と第二の回路基板に形成された第四の伝送線路とが導電性のバンプを介して接続されている請求項27に記載の集積回路。
- 前記第二の回路基板には凹部が形成され、該凹部内には前記誘電体共振器に搭載された前記第一の回路基板が収容されている請求項34に記載の集積回路。
- 前記第二の回路基板及び前記誘電体共振器との間隙を封止する樹脂膜により前記第一の回路基板が前記第二の回路基板の凹部内で封止されている請求項35に記載の集積回路。
- 前記有効共振領域の内部は誘電体からなり、一方前記有効共振領域の周囲は、共振周波数における電磁波の波長の1/2を越える寸法の間隙を形成しないよう二次元的広がりをもって延在する導体構造体からなり、前記少なくとも1つの導体面は前記導体構造体の一部を構成する請求項25に記載の集積回路。
- 前記有効共振領域の周囲に延在する前記導体構造は、誘電体基板の第一の面上に延在する第一の導体層と、前記誘電体基板の第二の面上に延在する第二の導体層と、前記誘電体基板中に埋込まれた少なくとも1つの埋込導体とからなる請求項37に記載の集積回路。
- 前記少なくとも1つの埋込導体は、前記誘電体基板の平面でみて、環状に不連続的に延在する複数の埋込導体からなり、前記複数の埋込導体間の距離は前記波長の1/2以下である請求項38に記載の集積回路。
- 前記複数の埋込導体は、前記第一及び第二の導体層間を接続するよう前記誘電体基板を貫通する複数のビアホール中に形成された複数のビアプラグであって、前記複数のビアプラグの間隔は前記波長の1/2以下である請求項39に記載の誘電体共振器。
- 誘電体基板と、前記誘電体基板の第1の面上に形成された第1の導体層と、前記誘電体基板の第2の面上に形成された第2の導体層と、共振周波数における電磁波の波長の1/2以下の間隔で前記誘電体基板の平面でみて環状に不連続的に配置され且つ前記誘電体基板を貫通する複数のビアホールを埋め込む複数のビアプラグと、前記第1及び第2の導体層と前記複数の埋込導体とで画定され電磁波を閉じ込める三次元的広がりをもった有効共振領域と、前記有効共振領域内であって前記第1の導体層に形成した少なくとも1つの結合素子とを含み、
更に、前記少なくとも1つの結合素子は、前記第1の導体層に形成した少なくとも1つのスロットと、前記少なくとも1つのスロットに隣接する少なくとも1つのパッチ導体領域とを含む誘電体共振器。 - 前記少なくとも1つの導体面は前記第一の導体層からなり、前記第一の導体層上の前記少なくとも1つの結合素子が存在する領域に対し、前記誘電体基板の平面でみて対応する前記第二の導体層の領域に少なくとも1つの開口部が形成されている請求項41に記載の誘電体共振器。
- 前記少なくとも1つの開口部は、サイズが均一でない複数の開口部からなる請求項42に記載の誘電体共振器。
- 前記複数の開口部は同心円上に配置されている請求項43に記載の誘電体共振器。
- 前記少なくとも1つの開口部は、導電性材料により埋め込まれている請求項43に記載の誘電体共振器。
- 前記少なくとも1つの結合素子は、同一種類の複数の結合素子からなる請求項41に記載の誘電体共振器。
- 前記少なくとも1つの結合素子は、異なる種類の複数の結合素子からなる請求項41に記載の誘電体共振器。
- 前記有効共振領域外に形成された少なくとも1つのコプレナー線路を更に含む請求項41に記載の誘電体共振器。
- 前記誘電体共振器は前記有効共振領域内に形成された少なくとも1つのコプレナー線路を更に含む請求項41に記載の誘電体共振器。
- 前記誘電体共振器は前記結合素子が形成された領域内に形成された少なくとも1つのコプレナー線路を更に含む請求項41に記載の誘電体共振器。
- 前記誘電体共振器は、前記少なくとも1つのスロットに隣接するよう前記結合素子が存在する領域内に形成された少なくとも1つの信号導体層を更に含み、前記少なくとも1つの信号導体層は少なくとも1つのコプレナー線路を構成する請求項41に記載の誘電体共振器。
- 前記少なくとも1つの信号導体層は、更に前記少なくとも1つのパッチ導体領域にも隣接している請求項51に記載の誘電体共振器。
- 前記少なくとも1つの信号導体層は、更に前記少なくとも1つのパッチ導体領域と少なくとも部分的に重複している請求項51に記載の誘電体共振器。
- 前記少なくとも1つの結合素子は、少なくとも1つの導電性コンタクトを介して負性抵抗発生回路に接続される請求項41に記載の誘電体共振器。
- 前記導電性コンタクトは導電性バンプからなる請求項54に記載の誘電体共振器。
- 誘電体基板と、前記誘電体基板の第1の面上に形成された第1の導体層と、前記誘電体基板の第2の面上に形成された第2の導体層と、共振周波数における電磁波の波長の1/2以下の間隔で前記誘電体基板の平面でみて環状に不連続的に配置され且つ前記誘電体基板を貫通する複数のビアホールを埋め込む複数のビアプラグと、前記第1及び第2の導体層と前記複数の埋込導体とで画定され電磁波を閉じ込める三次元的広がりをもった有効共振領域と、前記有効共振領域内であって前記第1の導体層に形成した少なくとも1つの結合素子とを含み、更に、前記少なくとも1つの結合素子は、前記第1の導体層に形成した少なくとも1つのスロットと、前記少なくとも1つのスロットに隣接する少なくとも1つのパッチ導体領域とを含む誘電体共振器と、
第一の回路基板に形成されると共に導電性バンプを介して前記少なくとも1つの結合素子に接続される第一の伝送線路を含む発振回路とを含む集積回路。 - 前記発振回路は更に前記第一の回路基板に形成されたバラクタダイオードを含み、前記少なくとも1つの結合素子は、第一の導電性バンプを介して前記第一の伝送線路に接続される第一の結合素子と、第二の導電性バンプを介して前記バラクタダイオードに接続される第二の結合素子とからなる請求項56に記載の集積回路。
- 前記第一の伝送線路の第一の端部は前記発振回路に接続され、前記第一の伝送線路の第二の端部は終端抵抗に接続される請求項57に記載の集積回路。
- 前記少なくとも1つの結合素子は、第一の導電性バンプ及び前記第一の伝送線路を介して前記発振回路の出力側に接続される第一の結合素子と、第二の導電性バンプ及び前記第一の伝送線路を介して終端抵抗に接続される第二の結合素子とからなる請求項57に記載の集積回路。
- 前記少なくとも1つの結合素子は、第一の導電性バンプ及び前記第一の伝送線路を介して前記発振回路の出力側に接続される第一の結合素子と、第二の伝送線路を介して前記発振回路の出力側に接続される第二の結合素子とからなる請求項57に記載の集積回路。
- 前記第一の伝送線路と前記第一の回路基板に形成された第三の伝送線路とが導電性のバンプを介して接続されている請求項57に記載の集積回路。
- 前記第一の伝送線路と第二の回路基板に形成された第四の伝送線路とが導電性のバンプを介して接続されている請求項57に記載の集積回路。
- 前記第二の回路基板には凹部が形成され、該凹部内には前記誘電体共振器に搭載された前記第一の回路基板が収容されている請求項62に記載の集積回路。
- 前記第二の回路基板及び前記誘電体共振器との間隙を封止する樹脂膜により前記第一の回路基板が前記第二の回路基板の凹部内で封止されている請求項63に記載の集積回路。
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