JPS642218B2 - - Google Patents
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- JPS642218B2 JPS642218B2 JP16017081A JP16017081A JPS642218B2 JP S642218 B2 JPS642218 B2 JP S642218B2 JP 16017081 A JP16017081 A JP 16017081A JP 16017081 A JP16017081 A JP 16017081A JP S642218 B2 JPS642218 B2 JP S642218B2
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- JP
- Japan
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- circuit
- standard
- pattern
- reduced
- standard pattern
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- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 12
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 12
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 7
- 238000013139 quantization Methods 0.000 description 7
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Character Discrimination (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はパターン検査方式に関する。
従来より、パターンの検査を自動的に行なうた
め、第１図に示すように欠陥のない標準パターン
Ａを用意し、検査対象となるパターンＢを撮像装
置にて捉え、２値化した後標準パターンＡと重ね
合せ、不一致となる部分を欠陥とする比較検査方
式がある。しかし、標準パターンＡと被検査パタ
ーンＢとの位置合せの誤差Ｃ、Ｄ、あるいは２値
化の際の量子化誤差Ｅによつても不一致が検出さ
れるので、第１図に示すように、標準パターンＡ
の境界部近傍に不感帯Ｇを設け、境界部近傍の不
一致を無視している。しかし、第１図に示すよう
に不感帯Ｇを設けることにより、真の欠陥Ｆまで
も無視され、パターン検査の方式としては問題が
ある。
め、第１図に示すように欠陥のない標準パターン
Ａを用意し、検査対象となるパターンＢを撮像装
置にて捉え、２値化した後標準パターンＡと重ね
合せ、不一致となる部分を欠陥とする比較検査方
式がある。しかし、標準パターンＡと被検査パタ
ーンＢとの位置合せの誤差Ｃ、Ｄ、あるいは２値
化の際の量子化誤差Ｅによつても不一致が検出さ
れるので、第１図に示すように、標準パターンＡ
の境界部近傍に不感帯Ｇを設け、境界部近傍の不
一致を無視している。しかし、第１図に示すよう
に不感帯Ｇを設けることにより、真の欠陥Ｆまで
も無視され、パターン検査の方式としては問題が
ある。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をな
くし、誤差によつて被検査パターンと標準パター
ンの大きさが異なり、しかも両者の間に位置ずれ
が生じても被検査パターンの境界に存在する上記
誤差より大き凹凸欠陥を確実に検出でき、更に被
検査パターンの内側及び外側に境界から１ビツト
でも離れて存在する弧立欠陥をも見逃すことなく
確実に検出できる有効なパターン検査方式を提供
するにある。
くし、誤差によつて被検査パターンと標準パター
ンの大きさが異なり、しかも両者の間に位置ずれ
が生じても被検査パターンの境界に存在する上記
誤差より大き凹凸欠陥を確実に検出でき、更に被
検査パターンの内側及び外側に境界から１ビツト
でも離れて存在する弧立欠陥をも見逃すことなく
確実に検出できる有効なパターン検査方式を提供
するにある。
即ち、本発明は上記目的を達成するために被検
査パターンを撮像する撮像装置と、該撮像装置か
ら得られる映像信号を２値絵素化信号に変換する
２値化回路と、該２値化回路から得られる２値絵
素化信号から位置ずれ範囲内の被検査２値画像と
て切り出す局部領域抽出回路と、正常な標準パタ
ーンを記憶させた標準パターンメモリと、上記撮
像装置の走査に同期して上記標準パターンメモリ
から標準パターンを読みだして標準２値画像を切
り出して少なくとも縦及び横方向（例えば、右方
向、左方向、下方向、上方向、これらの組合せ方
向）に標準パターンを縮小して複数の縮小標準２
値画像を得る縮小回路と、該縮小回路から得られ
る標準２値画像及び複数の縮小標準２値画像の全
ての外周に、設定されたビツト幅の不感帯を形成
してその不感帯信号を発生する不感帯発生回路
と、上記縮小回路から得られる標準２値画像及び
複数の縮小標準２値画像の各々と上記局部領域抽
出回路により上記標準２値画像及び複数の縮小標
準２値画像に対して上記位置ずれビツト範囲内に
おいて左右、上下、及び斜め２方向にずらされた
被検査２値画像とを比較して不一致を抽出すると
共に上記不感帯発生回路から得られる各組合せの
不感帯信号によつて抽出された各組合せにおける
不一致を消去して全ての組合せにおいて上記被検
査パターンを含む領域に亘つて不一致が検出され
たときこの領域に欠陥が存在すると判定する論理
判定回路を備えたことを特徴パターン検査方式で
ある。
査パターンを撮像する撮像装置と、該撮像装置か
ら得られる映像信号を２値絵素化信号に変換する
２値化回路と、該２値化回路から得られる２値絵
素化信号から位置ずれ範囲内の被検査２値画像と
て切り出す局部領域抽出回路と、正常な標準パタ
ーンを記憶させた標準パターンメモリと、上記撮
像装置の走査に同期して上記標準パターンメモリ
から標準パターンを読みだして標準２値画像を切
り出して少なくとも縦及び横方向（例えば、右方
向、左方向、下方向、上方向、これらの組合せ方
向）に標準パターンを縮小して複数の縮小標準２
値画像を得る縮小回路と、該縮小回路から得られ
る標準２値画像及び複数の縮小標準２値画像の全
ての外周に、設定されたビツト幅の不感帯を形成
してその不感帯信号を発生する不感帯発生回路
と、上記縮小回路から得られる標準２値画像及び
複数の縮小標準２値画像の各々と上記局部領域抽
出回路により上記標準２値画像及び複数の縮小標
準２値画像に対して上記位置ずれビツト範囲内に
おいて左右、上下、及び斜め２方向にずらされた
被検査２値画像とを比較して不一致を抽出すると
共に上記不感帯発生回路から得られる各組合せの
不感帯信号によつて抽出された各組合せにおける
不一致を消去して全ての組合せにおいて上記被検
査パターンを含む領域に亘つて不一致が検出され
たときこの領域に欠陥が存在すると判定する論理
判定回路を備えたことを特徴パターン検査方式で
ある。
本発明の具体例を、２値化の量子化誤差は±１
絵素であり、標準パターンと被検査パターンの位
置ずれは±１絵素であるとして、以下に説明す
る。
絵素であり、標準パターンと被検査パターンの位
置ずれは±１絵素であるとして、以下に説明す
る。
第２図に本発明の全体構成のブロツク図を示
す。第２図において、１は検査対象を撮像する撮
像装置、２は２値化回路、３は標準パターンを記
憶するメモリ、４は標準パターンより各種の縮小
パターンを創成するパターン縮小回路、５はパタ
ーン縮小回路４で得られた縮小パターンの周辺に
不感帯を設ける不感帯発生回路である。７は上記
２値化回路２で得られた２値信号６を入力し、位
置ずれ許容範囲内の情報を抽出する局部領域抽出
回路、８はパターン縮小回路４、不感帯発生回路
５、局部領域抽出回路７の出力を入力し、欠陥判
定する判定回路である。
す。第２図において、１は検査対象を撮像する撮
像装置、２は２値化回路、３は標準パターンを記
憶するメモリ、４は標準パターンより各種の縮小
パターンを創成するパターン縮小回路、５はパタ
ーン縮小回路４で得られた縮小パターンの周辺に
不感帯を設ける不感帯発生回路である。７は上記
２値化回路２で得られた２値信号６を入力し、位
置ずれ許容範囲内の情報を抽出する局部領域抽出
回路、８はパターン縮小回路４、不感帯発生回路
５、局部領域抽出回路７の出力を入力し、欠陥判
定する判定回路である。
本発明において、各種の縮小パターンを創成す
るパターン縮小回路４と不感帯発生回路５の動作
を第３図を用いて説明する。本具体例の場合、量
子化誤差は±１絵素であるので、１絵素の縮小を
する。第３図ａは標準パターンそのものであり、
その周辺の１絵素幅の斜線部が不感帯Ｇである。
第３図ｂは右方向に１絵素縮小したもので縮小部
分をドツトを入れて示している。以下同様に、第
３図ｃは左方向に１絵素縮小したもので、第３図
ｄは下方向に１絵素縮小したもので、第３図ｅは
上方向に１絵素縮小したもので、第３図ｆは左・
右両方向へ縮小したもので、第３図ｇは右下方向
へ縮小したもので、第３図ｈは右上方向に縮小し
たもので、第３図ｉは左下方向に縮小したもの
で、第３図ｊは左上方向に縮小したもので、第３
図ｋは上・下方向に縮小したもので、第３図ｌは
左・右・下３方向に縮小したもので、第３図ｍは
左・右・上３方向に縮小したもので、第３図ｎは
右・上・下３方向に縮小したもので、第３図ｏは
左・上・下３方向に縮小したもので、第３図ｐは
左・右・上・下４方向に縮小したものであり、す
べての場合とも、縮小した部分をドツトを入れて
示し、１絵素幅の不感帯Ｇを斜線部で示す。これ
ら第３図ａ〜ｐのパターンを用い、被検査パター
ンとの不一致を抽出するものとすれば、位置ずれ
がないならば、量子化誤差はａ〜ｐのうちの１つ
の不感帯に含まれることになる。よつて、第３図
ａ〜ｐのパターンを標準パターンより創成し、位
置ずれ許容範囲内で不一致検出を行えば、パター
ンの欠陥検査を行なうことができる。
るパターン縮小回路４と不感帯発生回路５の動作
を第３図を用いて説明する。本具体例の場合、量
子化誤差は±１絵素であるので、１絵素の縮小を
する。第３図ａは標準パターンそのものであり、
その周辺の１絵素幅の斜線部が不感帯Ｇである。
第３図ｂは右方向に１絵素縮小したもので縮小部
分をドツトを入れて示している。以下同様に、第
３図ｃは左方向に１絵素縮小したもので、第３図
ｄは下方向に１絵素縮小したもので、第３図ｅは
上方向に１絵素縮小したもので、第３図ｆは左・
右両方向へ縮小したもので、第３図ｇは右下方向
へ縮小したもので、第３図ｈは右上方向に縮小し
たもので、第３図ｉは左下方向に縮小したもの
で、第３図ｊは左上方向に縮小したもので、第３
図ｋは上・下方向に縮小したもので、第３図ｌは
左・右・下３方向に縮小したもので、第３図ｍは
左・右・上３方向に縮小したもので、第３図ｎは
右・上・下３方向に縮小したもので、第３図ｏは
左・上・下３方向に縮小したもので、第３図ｐは
左・右・上・下４方向に縮小したものであり、す
べての場合とも、縮小した部分をドツトを入れて
示し、１絵素幅の不感帯Ｇを斜線部で示す。これ
ら第３図ａ〜ｐのパターンを用い、被検査パター
ンとの不一致を抽出するものとすれば、位置ずれ
がないならば、量子化誤差はａ〜ｐのうちの１つ
の不感帯に含まれることになる。よつて、第３図
ａ〜ｐのパターンを標準パターンより創成し、位
置ずれ許容範囲内で不一致検出を行えば、パター
ンの欠陥検査を行なうことができる。
次にパターン縮小回路４の具体的構成を第４
図、第５図を用いて説明する。第４図において９
は標準パターン入力端子であり、標準パターンは
撮像装置１の走査に同期して、標準パターンメモ
リ３より出力されている。１０は撮像装置１の走
査線の長さに相当するシフトレジスタで構成され
るシフトレジスタ群であり、１１はシリアルイン
パラレルアウトのシフトレジスタであり、このよ
うな構成をとることにより、シフトレジスタ１１
には３×３の局部領域が遂次入力されていく。即
ちシフトレジスタ１１には標準２値画像が切り出
されることになる。３×３の局部領域をaij（ｉ、
ｊ＝１〜３）とすると、第５図に示すような構成
により、第３図ａ〜ｐの各パターンが第５図の出
力端子ａ〜ｐに出力される。第５図において、１
２は論理積回路である。即ち、第４図に示すシフ
トレジスタ１１に第５図に示す回路が接続され、
更にこの第５図に示す回路のａ〜ｐの16個の各出
力に各々第４図に示す後段のシフトレジスタ群１
０と後段のシフトレジスタ１１が16個接続されて
いる。
図、第５図を用いて説明する。第４図において９
は標準パターン入力端子であり、標準パターンは
撮像装置１の走査に同期して、標準パターンメモ
リ３より出力されている。１０は撮像装置１の走
査線の長さに相当するシフトレジスタで構成され
るシフトレジスタ群であり、１１はシリアルイン
パラレルアウトのシフトレジスタであり、このよ
うな構成をとることにより、シフトレジスタ１１
には３×３の局部領域が遂次入力されていく。即
ちシフトレジスタ１１には標準２値画像が切り出
されることになる。３×３の局部領域をaij（ｉ、
ｊ＝１〜３）とすると、第５図に示すような構成
により、第３図ａ〜ｐの各パターンが第５図の出
力端子ａ〜ｐに出力される。第５図において、１
２は論理積回路である。即ち、第４図に示すシフ
トレジスタ１１に第５図に示す回路が接続され、
更にこの第５図に示す回路のａ〜ｐの16個の各出
力に各々第４図に示す後段のシフトレジスタ群１
０と後段のシフトレジスタ１１が16個接続されて
いる。
第５図において出力されるａ〜ｐの16個のパタ
ーンに対し、不感帯を発生するには、第４図にお
いて出力ａ〜ｐの各出力を第４図の標準パターン
９の代りに入力し、３×３の局部領域を切出した
後、第６図に示す構成により実施できる。後段の
シフトレジスタ１１に切出される３×３の領域を
aij′（ｉ、ｊ＝１〜３）とし、１３を否定回路、１
４を論理和回路、１５を論理積回路とすることに
より、論理積回路１５の出力には第３図に示した
不感帯が出力される。論理積回１５の出力はａ〜
ｐの16個の入力に対し16個あるので、それらを
Ck（ｋ＝１〜16）とし、Ckに対応する16個の
a22′をdk′（ｋ＝１〜16）とする。
ーンに対し、不感帯を発生するには、第４図にお
いて出力ａ〜ｐの各出力を第４図の標準パターン
９の代りに入力し、３×３の局部領域を切出した
後、第６図に示す構成により実施できる。後段の
シフトレジスタ１１に切出される３×３の領域を
aij′（ｉ、ｊ＝１〜３）とし、１３を否定回路、１
４を論理和回路、１５を論理積回路とすることに
より、論理積回路１５の出力には第３図に示した
不感帯が出力される。論理積回１５の出力はａ〜
ｐの16個の入力に対し16個あるので、それらを
Ck（ｋ＝１〜16）とし、Ckに対応する16個の
a22′をdk′（ｋ＝１〜16）とする。
次に２値信号６より位置ずれ許容範囲内の情報
を抽出するため局部領域抽出回路７と判定回路８
について説明する。局部領域抽出回路７の具体的
構成を第７図に示す。第７図において１６は走査
線の長さに対応するシフトレジスタで構成される
シフトレジスタ群であり、１７はシリアルインパ
ラレルアウトのシフトレジスタであり、このよう
な構成をとると、標準パターンdk′（ｋ＝１〜16）
と位置ずれがないときの２値信号はシフトレジス
タ１７の「b22」で示される位置にある。即ち、
第７図に示すようにシフトレジスタ群１６の最も
上に記載されたシフトレジスタとシフトレジスタ
１７の左端に記載された１ビツトの絵素は位置ず
れがないとき標準パターンの絵素dk′と「b22」
の絵素とを対応させるためのものである。よつて
本例では±１絵素の位置ずれを考えているので
bij（ｉ、ｊ＝１〜３）に、dk′（ｋ＝１〜16）に対
応する２値信号が存在する。
を抽出するため局部領域抽出回路７と判定回路８
について説明する。局部領域抽出回路７の具体的
構成を第７図に示す。第７図において１６は走査
線の長さに対応するシフトレジスタで構成される
シフトレジスタ群であり、１７はシリアルインパ
ラレルアウトのシフトレジスタであり、このよう
な構成をとると、標準パターンdk′（ｋ＝１〜16）
と位置ずれがないときの２値信号はシフトレジス
タ１７の「b22」で示される位置にある。即ち、
第７図に示すようにシフトレジスタ群１６の最も
上に記載されたシフトレジスタとシフトレジスタ
１７の左端に記載された１ビツトの絵素は位置ず
れがないとき標準パターンの絵素dk′と「b22」
の絵素とを対応させるためのものである。よつて
本例では±１絵素の位置ずれを考えているので
bij（ｉ、ｊ＝１〜３）に、dk′（ｋ＝１〜16）に対
応する２値信号が存在する。
本具体例において、位置ずれが画面全体で均一
であり、かつ量子化誤差の発生する方向も同じと
すると、判定回路８は第８図、第９図のように構
成できる。第８図において、１８は排他的論理和
回路であり、dk′（ｋ＝１〜16）とbij（ｉ、ｊ＝１
〜３）を入力としている。１９はCkを入力とす
る否定回路であり、排他的論理和回路１８、否定
回路１９の出力は論理積回路２０に入力される。
このようにすると、標準パターンdk′（ｋ＝１〜
16）と不一致となる２値信号を位置ずれ許容範囲
内で抽出することができる。本発明では論理積回
路２０の出力をｋを１〜16まで用意し、すなわ
ち、ｉ、ｊの変化も考えると144個の出力を求め
る。144個の各信号は信号ごとに設けたＲ−Ｓ型
フリツプフロツプ２１に入力する。そして、144
個のＲ−Ｓ型フリツプフロツプ２１の出力２２
は、第９図に示すように論理積回路２３に入力さ
れる。このようにすると、dk′（ｋ＝１〜16）と一
致する２値信号が全くないとき、論理積回路２３
より欠陥有の出力信号２４を出力することができ
る。
であり、かつ量子化誤差の発生する方向も同じと
すると、判定回路８は第８図、第９図のように構
成できる。第８図において、１８は排他的論理和
回路であり、dk′（ｋ＝１〜16）とbij（ｉ、ｊ＝１
〜３）を入力としている。１９はCkを入力とす
る否定回路であり、排他的論理和回路１８、否定
回路１９の出力は論理積回路２０に入力される。
このようにすると、標準パターンdk′（ｋ＝１〜
16）と不一致となる２値信号を位置ずれ許容範囲
内で抽出することができる。本発明では論理積回
路２０の出力をｋを１〜16まで用意し、すなわ
ち、ｉ、ｊの変化も考えると144個の出力を求め
る。144個の各信号は信号ごとに設けたＲ−Ｓ型
フリツプフロツプ２１に入力する。そして、144
個のＲ−Ｓ型フリツプフロツプ２１の出力２２
は、第９図に示すように論理積回路２３に入力さ
れる。このようにすると、dk′（ｋ＝１〜16）と一
致する２値信号が全くないとき、論理積回路２３
より欠陥有の出力信号２４を出力することができ
る。
また、本具体例では位置ずれ量、量子化誤差発
生の方向は１画面内で均一としているが、均一で
ない場合にも、均一と考えられる小領域に１画面
を分割して、上述の判定を行えば欠陥判定を行な
うことができる。
生の方向は１画面内で均一としているが、均一で
ない場合にも、均一と考えられる小領域に１画面
を分割して、上述の判定を行えば欠陥判定を行な
うことができる。
本発明により従来技術の問題点が解決でき、即
ち、結像倍率の誤差や量子化誤差によつて被検査
パターンと標準パターンの大きさが異なり、しか
も両者の間に位置ずれが生じても被検査パターン
の境界に存在する上記誤差より大きな凹凸欠陥を
確実に検出でき、更に被検査パターンの内側及び
外側に境界から１ビツトでも離れて存在する弧立
欠陥をも見逃すことなく確実に検出でき、著しく
性能のすぐれたパターン検査が可能になり、その
工業的価値は非常に大なるものがある。
ち、結像倍率の誤差や量子化誤差によつて被検査
パターンと標準パターンの大きさが異なり、しか
も両者の間に位置ずれが生じても被検査パターン
の境界に存在する上記誤差より大きな凹凸欠陥を
確実に検出でき、更に被検査パターンの内側及び
外側に境界から１ビツトでも離れて存在する弧立
欠陥をも見逃すことなく確実に検出でき、著しく
性能のすぐれたパターン検査が可能になり、その
工業的価値は非常に大なるものがある。
第１図は従来技術の問題点を説明するためのパ
ターン図、第２図は本発明の一実施例を示す全体
構成図、第３図は本発明における標準パターンと
その変形例のパターン図、第４図乃至第９図は本
発明の各構成例を示すもので、第４図は局部領域
切出し方式例を示すブロツク図、第５図は標準パ
ターン縮小方法例を示すブロツク図、第６図は不
感帯発生法例を示すブロツク図、第７図は２値信
号を位置ずれ許容範囲内で抽出する方法例を示す
ブロツク図、第８図及び第９図は判定回路の構成
例を示すブロツク図である。 １：撮像装置、２：２値化回路、３：標準パタ
ーンメモリ、４：パターン縮小回路、５：不感帯
発生回路、７：局部領域抽出回路、８：判定回
路。
ターン図、第２図は本発明の一実施例を示す全体
構成図、第３図は本発明における標準パターンと
その変形例のパターン図、第４図乃至第９図は本
発明の各構成例を示すもので、第４図は局部領域
切出し方式例を示すブロツク図、第５図は標準パ
ターン縮小方法例を示すブロツク図、第６図は不
感帯発生法例を示すブロツク図、第７図は２値信
号を位置ずれ許容範囲内で抽出する方法例を示す
ブロツク図、第８図及び第９図は判定回路の構成
例を示すブロツク図である。 １：撮像装置、２：２値化回路、３：標準パタ
ーンメモリ、４：パターン縮小回路、５：不感帯
発生回路、７：局部領域抽出回路、８：判定回
路。
Claims (1)
- １ 被検査パターンを撮像する撮像装置と、該撮
像装置から得られる映像信号を２値絵素化信号に
変換する２値化回路と、該２値化回路から得られ
る２値絵素化信号から位置ずれ範囲内の被検査２
値画像として切り出す局部領域抽出回路と、正常
な標準パターンを記憶させた標準パターンメモリ
と、上記撮像装置の走査に同期して上記標準パタ
ーンメモリから標準パターンを読みだして標準２
値画像を切り出して少なくとも縦及び横方向に標
準パターンを縮小して複数の縮小標準２値画像を
得る縮小回路と、該縮小回路から得られる標準２
値画像及び複数の縮小標準２値画像の全ての外周
に、設定されたビツト幅の不感帯を形成してその
不感帯信号を発生する不感帯発生回路と、上記縮
小回路から得られる標準２値画像及び複数の縮小
標準２値画像の各々と上記局部領域抽出回路によ
り上記標準２値画像及び複数の縮小標準２値画像
の各々に対して上記位置ずれビツト範囲内におい
て左右、上下、及び斜め２方向にずらされた被検
査２値画像とを比較して不一致を抽出すると共に
上記不感帯発生回路から得られる各組合せの不感
帯信号によつてこれら抽出された各組合せにおけ
る不一致を消去して全ての組合せにおいて上記被
検査パターンを含む領域に亘つて不一致が検出さ
れたときこの領域に欠陥が存在すると判定する論
理判定回路を備えたことを特徴パターン検査方
式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16017081A JPS5861448A (ja) | 1981-10-09 | 1981-10-09 | パタ−ン検査方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16017081A JPS5861448A (ja) | 1981-10-09 | 1981-10-09 | パタ−ン検査方式 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5861448A JPS5861448A (ja) | 1983-04-12 |
| JPS642218B2 true JPS642218B2 (ja) | 1989-01-17 |
Family
ID=15709362
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16017081A Granted JPS5861448A (ja) | 1981-10-09 | 1981-10-09 | パタ−ン検査方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5861448A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61251705A (ja) * | 1985-04-30 | 1986-11-08 | Sumitomo Metal Ind Ltd | パタ−ン検査方法及び装置 |
| JPS62249037A (ja) * | 1986-04-21 | 1987-10-30 | Shigumatsukusu Kk | 物体認識装置 |
| JP2597370B2 (ja) * | 1987-10-14 | 1997-04-02 | 株式会社ヒューテック | シート状被検材の有意差検出方法 |
| JP2835269B2 (ja) * | 1993-10-21 | 1998-12-14 | アジアエレクトロニクス株式会社 | 画像認識装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5368847A (en) * | 1976-12-01 | 1978-06-19 | Hitachi Ltd | Automatic appearance inspecting device |
-
1981
- 1981-10-09 JP JP16017081A patent/JPS5861448A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5861448A (ja) | 1983-04-12 |
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