JPS6413121U - - Google Patents

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JPS6413121U
JPS6413121U JP10610787U JP10610787U JPS6413121U JP S6413121 U JPS6413121 U JP S6413121U JP 10610787 U JP10610787 U JP 10610787U JP 10610787 U JP10610787 U JP 10610787U JP S6413121 U JPS6413121 U JP S6413121U
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JP
Japan
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tube
reaction
horizontal
semiconductor manufacturing
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JP10610787U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図〜第3図は一実施例を説明するもので、
第1図aは横型半導体製造装置の概略構成図、第
1図bはその右側面図、第1図cは蓋を取り外し
た右側面図、第2図a,bはウエハーローダアー
ム上のウエハーボート、ウエハーを示す図、第3
図は替蓋の正面図である。第4図は従来の横型半
導体製造装置の概略構成図である。 2……ウエハーボート、3……ウエハー、4…
…ヒータ、10……反応管、11……本体管、1
2……導入管、11a……ガス導入口、11b…
…ガス排気口、21……蓋、22……替蓋、11
0……開口、111……円形部、112……矩形
部。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 長手方向を水平方向として設置された反応管内
    に被処理物を載置収容し、反応管を高温に加熱し
    つつ管内に反応ガスを導入して前記被処理物の表
    面を処理するようにした横型半導体製造装装置に
    おいて、 前記反応管は、前記被処理物を載置収容し反応
    室を形成する水平方向に延在する本体管と、この
    本体管の長手方向端部に位置し本体管より垂直下
    方に拡がる副室を形成する導入管とから成り、こ
    の導入管の端部に前記被処理物の導出入用開放部
    を設けたことを特徴とする横型半導体製造装置。
JP10610787U 1987-07-10 1987-07-10 Pending JPS6413121U (ja)

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JP10610787U JPS6413121U (ja) 1987-07-10 1987-07-10

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JPS6413121U true JPS6413121U (ja) 1989-01-24

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ID=31339321

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