JPH01171028U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH01171028U JPH01171028U JP6737488U JP6737488U JPH01171028U JP H01171028 U JPH01171028 U JP H01171028U JP 6737488 U JP6737488 U JP 6737488U JP 6737488 U JP6737488 U JP 6737488U JP H01171028 U JPH01171028 U JP H01171028U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core tube
- furnace core
- boat
- heat treatment
- entrance
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims 2
Description
第１図は本考案に係る熱処理装置の一実施例を
示す概略縦断面図、第２図は同じく熱処理中の概
略縦断面図、第３図及び第４図は大気巻込防止装
キヤツプの変形例を示す縦断面図である。第５図
は従来の熱処理装置の一具体例を示す概略縦断面
図、第６図は従来の別の熱処理装置の縦断面図、
第７図は同じく熱処理中の縦断面図である。 １……炉芯管、１ａ……供給口、１ｂ……出入
口、２……熱処理ガス、３……ヒータ、８……ボ
ート、９……保持部材、１０……キヤツプ、１１
，１２，１３……大気巻込防止キヤツプ。
示す概略縦断面図、第２図は同じく熱処理中の概
略縦断面図、第３図及び第４図は大気巻込防止装
キヤツプの変形例を示す縦断面図である。第５図
は従来の熱処理装置の一具体例を示す概略縦断面
図、第６図は従来の別の熱処理装置の縦断面図、
第７図は同じく熱処理中の縦断面図である。 １……炉芯管、１ａ……供給口、１ｂ……出入
口、２……熱処理ガス、３……ヒータ、８……ボ
ート、９……保持部材、１０……キヤツプ、１１
，１２，１３……大気巻込防止キヤツプ。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 ヒータにて加熱される炉芯管と、複数の半導体
ウエーハを所定間隔で整列保持するボートと、ボ
ートを支承して炉芯管の出入口より炉芯管内に無
接触で搬入、搬出する保持部材とを具備し、上記
炉芯管のガス供給口より熱処理ガスを導入し、上
記半導体ウエーハを熱処理する装置において、 上記ボートの炉芯管内への搬入時に炉芯管のボ
ート出入口付近を閉止する大気巻込防止キヤツプ
を、上記保持部材に着脱自在に嵌装したことを特
徴とする熱処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6737488U JPH01171028U (ja) | 1988-05-20 | 1988-05-20 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6737488U JPH01171028U (ja) | 1988-05-20 | 1988-05-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01171028U true JPH01171028U (ja) | 1989-12-04 |
Family
ID=31292747
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6737488U Pending JPH01171028U (ja) | 1988-05-20 | 1988-05-20 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01171028U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005276875A (ja) * | 2004-03-23 | 2005-10-06 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | シリコン単結晶ウェーハの製造方法及びシリコン単結晶ウェーハ |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS632316A (ja) * | 1986-06-23 | 1988-01-07 | Hitachi Ltd | 処理装置 |
-
1988
- 1988-05-20 JP JP6737488U patent/JPH01171028U/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS632316A (ja) * | 1986-06-23 | 1988-01-07 | Hitachi Ltd | 処理装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005276875A (ja) * | 2004-03-23 | 2005-10-06 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | シリコン単結晶ウェーハの製造方法及びシリコン単結晶ウェーハ |