JPS62160537U - - Google Patents

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JPS62160537U
JPS62160537U JP492486U JP492486U JPS62160537U JP S62160537 U JPS62160537 U JP S62160537U JP 492486 U JP492486 U JP 492486U JP 492486 U JP492486 U JP 492486U JP S62160537 U JPS62160537 U JP S62160537U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の実施例の概要を示す縦断面図
、第2図は従来の縦形半導体熱処理炉の一例の概
要を示す縦断面図である。 F……加熱炉、1……炉体、2……ヒータ、8
……ボート、W……半導体基板、10……外部石
英管、12……内部石英管、12a……ガス吸気
孔、13……ガス通路、15……ガス供給口、1
6……ガス供給管、16a……ガス噴出孔、17
……ガス排出口。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 下端側が開放された炉体の内壁にヒータを備え
    た縦形の加熱炉と、熱処理すべき複数の半導体基
    板を上下に所定の間隔をおいて重ねて保持するボ
    ートと、前記加熱炉と前記ボートとの垂直方向の
    関係位置を相対的に変化させて前記ボートを前記
    加熱炉の下方から該加熱炉内に出し入れする駆動
    機構とを備え、前記ボートが挿入された前記加熱
    炉内に所要のガス又は空気を供給して廃気を炉外
    に排出するようにした縦形半導体熱処理装置にお
    いて、 上端側が閉鎖されていて前記炉体の内側に配設
    された外部石英管と、 該外部石英管よりも小径で側壁の一方の所定部
    分に縦方向に並設された複数のガス吸気孔を備え
    下端側が開放されて前記外部石英管の内側に配設
    され下端側より前記ボートが管内に挿入される内
    部石英管と、 前記両石英管の管壁間に形成されて前記ガス吸
    気孔からの吸出ガスを前記管壁に沿つて流下させ
    るガス通路と、 該ガス通路の下端側に設けられたガス排出口と
    、 前記内部石英管内に挿入された前記ボートを間
    にして該内部石英管の前記ガス吸気孔が設けられ
    た側壁部分に対向するように該内部石英管内に縦
    向きに配設されたガス供給管とを具備し、 該ガス供給管には前記ボート上の各半導体基板
    の面に平行に前記ガス又は空気を流すように所定
    の間隔で複数のガス噴出孔が並設されていること
    を特徴とする縦形半導体熱処理装置。
JP1986004924U 1986-01-17 1986-01-17 縦形半導体熱処理装置 Expired - Lifetime JP2513315Y2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01134911A (ja) * 1987-11-20 1989-05-26 Tel Sagami Ltd 縦形気相成長装置
JPH0261068A (ja) * 1988-08-26 1990-03-01 Tel Sagami Ltd 縦型熱処理装置
JPH0297014A (ja) * 1988-10-03 1990-04-09 Tel Sagami Ltd 熱処理装置及びそのチューブ取付方法並びにそれに用いる治具
CN113957540A (zh) * 2021-11-01 2022-01-21 中国电子科技集团公司第四十八研究所 一种适用于碲镉汞材料的热处理装置

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