JPS60149132U - 半導体熱処理炉 - Google Patents
半導体熱処理炉Info
- Publication number
- JPS60149132U JPS60149132U JP3686784U JP3686784U JPS60149132U JP S60149132 U JPS60149132 U JP S60149132U JP 3686784 U JP3686784 U JP 3686784U JP 3686784 U JP3686784 U JP 3686784U JP S60149132 U JPS60149132 U JP S60149132U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat treatment
- semiconductor heat
- treatment furnace
- gas
- reaction tube
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図及び第2図は半導体熱処理炉の従来例を説明する
断面図、第3図は本考案の一実施例を説明する断面図、
第4図は従来例におけるガス濃度分布を説明する特性図
、第5図は従来例と本実施 −例におけるウェハ位置と
シート抵抗の関係を説明する特性図である。 主な図番の説明、31はヒータ、32は外壁、33は半
導体ウェハ、34はウェハ中ボート、35は排気口、3
6はガス注入口、37は保持具、3.8は内壁、39は
中間壁、41は吹き出し孔、−2は反応管である。
断面図、第3図は本考案の一実施例を説明する断面図、
第4図は従来例におけるガス濃度分布を説明する特性図
、第5図は従来例と本実施 −例におけるウェハ位置と
シート抵抗の関係を説明する特性図である。 主な図番の説明、31はヒータ、32は外壁、33は半
導体ウェハ、34はウェハ中ボート、35は排気口、3
6はガス注入口、37は保持具、3.8は内壁、39は
中間壁、41は吹き出し孔、−2は反応管である。
Claims (1)
- 半導体熱処理用反応管と該反応管内に設置された半導体
ウェハと所定のガスを流入させるガス注入口とを具備す
る半導体熱処理炉において、前記蓼応管の内側にガス通
路を設け、反応ガスをガス通路を通じて半導体熱処理用
反応管内に均一濃度分布となるよう供給することを特徴
とする半導体熱処理炉、。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3686784U JPS60149132U (ja) | 1984-03-14 | 1984-03-14 | 半導体熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3686784U JPS60149132U (ja) | 1984-03-14 | 1984-03-14 | 半導体熱処理炉 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60149132U true JPS60149132U (ja) | 1985-10-03 |
Family
ID=30542448
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3686784U Pending JPS60149132U (ja) | 1984-03-14 | 1984-03-14 | 半導体熱処理炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60149132U (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013182916A (ja) * | 2012-02-29 | 2013-09-12 | Mitsubishi Electric Corp | 熱拡散装置 |
JP2016163025A (ja) * | 2015-03-05 | 2016-09-05 | 三菱電機株式会社 | 半導体製造装置および半導体デバイスの製造方法 |
JP2018147942A (ja) * | 2017-03-02 | 2018-09-20 | 三菱電機株式会社 | 半導体ウェハの熱処理方法および太陽電池の製造方法 |
-
1984
- 1984-03-14 JP JP3686784U patent/JPS60149132U/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013182916A (ja) * | 2012-02-29 | 2013-09-12 | Mitsubishi Electric Corp | 熱拡散装置 |
JP2016163025A (ja) * | 2015-03-05 | 2016-09-05 | 三菱電機株式会社 | 半導体製造装置および半導体デバイスの製造方法 |
JP2018147942A (ja) * | 2017-03-02 | 2018-09-20 | 三菱電機株式会社 | 半導体ウェハの熱処理方法および太陽電池の製造方法 |
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