JPS60149132U - 半導体熱処理炉 - Google Patents

半導体熱処理炉

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Publication number
JPS60149132U
JPS60149132U JP3686784U JP3686784U JPS60149132U JP S60149132 U JPS60149132 U JP S60149132U JP 3686784 U JP3686784 U JP 3686784U JP 3686784 U JP3686784 U JP 3686784U JP S60149132 U JPS60149132 U JP S60149132U
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JP
Japan
Prior art keywords
heat treatment
semiconductor heat
treatment furnace
gas
reaction tube
Prior art date
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Pending
Application number
JP3686784U
Other languages
English (en)
Inventor
林 義宣
Original Assignee
三洋電機株式会社
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Filing date
Publication date
Application filed by 三洋電機株式会社 filed Critical 三洋電機株式会社
Priority to JP3686784U priority Critical patent/JPS60149132U/ja
Publication of JPS60149132U publication Critical patent/JPS60149132U/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は半導体熱処理炉の従来例を説明する
断面図、第3図は本考案の一実施例を説明する断面図、
第4図は従来例におけるガス濃度分布を説明する特性図
、第5図は従来例と本実施 −例におけるウェハ位置と
シート抵抗の関係を説明する特性図である。 主な図番の説明、31はヒータ、32は外壁、33は半
導体ウェハ、34はウェハ中ボート、35は排気口、3
6はガス注入口、37は保持具、3.8は内壁、39は
中間壁、41は吹き出し孔、−2は反応管である。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 半導体熱処理用反応管と該反応管内に設置された半導体
    ウェハと所定のガスを流入させるガス注入口とを具備す
    る半導体熱処理炉において、前記蓼応管の内側にガス通
    路を設け、反応ガスをガス通路を通じて半導体熱処理用
    反応管内に均一濃度分布となるよう供給することを特徴
    とする半導体熱処理炉、。
JP3686784U 1984-03-14 1984-03-14 半導体熱処理炉 Pending JPS60149132U (ja)

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JP3686784U JPS60149132U (ja) 1984-03-14 1984-03-14 半導体熱処理炉

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JP3686784U JPS60149132U (ja) 1984-03-14 1984-03-14 半導体熱処理炉

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JPS60149132U true JPS60149132U (ja) 1985-10-03

Family

ID=30542448

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JP3686784U Pending JPS60149132U (ja) 1984-03-14 1984-03-14 半導体熱処理炉

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013182916A (ja) * 2012-02-29 2013-09-12 Mitsubishi Electric Corp 熱拡散装置
JP2016163025A (ja) * 2015-03-05 2016-09-05 三菱電機株式会社 半導体製造装置および半導体デバイスの製造方法
JP2018147942A (ja) * 2017-03-02 2018-09-20 三菱電機株式会社 半導体ウェハの熱処理方法および太陽電池の製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013182916A (ja) * 2012-02-29 2013-09-12 Mitsubishi Electric Corp 熱拡散装置
JP2016163025A (ja) * 2015-03-05 2016-09-05 三菱電機株式会社 半導体製造装置および半導体デバイスの製造方法
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