JPS6397948A - 感光性混合物 - Google Patents

感光性混合物

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JPS6397948A
JPS6397948A JP62252624A JP25262487A JPS6397948A JP S6397948 A JPS6397948 A JP S6397948A JP 62252624 A JP62252624 A JP 62252624A JP 25262487 A JP25262487 A JP 25262487A JP S6397948 A JPS6397948 A JP S6397948A
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JP
Japan
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mixture
photosensitive
melamine
compound
etherified
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JP62252624A
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English (en)
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パウル・シユタールホーフエン
ハンスイエルク・ヴエー・フオルマン
アルベルト・グツヂ
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Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
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Publication date
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
    • GPHYSICS
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 腫業上の利用分野 本発明は、アルカリ性水溶液に可溶であり水に不溶性の
バインダ、感光性の1,2−キノンジアジr又は露光時
に酸を分離する化合物と酸によって分解され得る少なく
とも1個のC−0−C基を有する化合物との感光性混合
物及び熱的に架橋結合する化合物を本質的に含有する感
光性混合物に関する。同様に本発明はそれから製造され
る複写材料にも関する。
従来の技術 画像に対して露光された部分が現像液中に可溶となりか
つ非露光部分が不溶である感光性混合物は長い間知られ
て来た。このような材料を製造するためには、アルカリ
可溶性を与える基を有する樹脂、例えばフェノール性樹
脂を付加的に含有する感光性化合物としてのO−キノン
ジアジドを含有する層が主lこ実際に使用されている。
また酸によって分解され得る化合物を基礎とする感光性
混合物も知られている。それらは、酸によって分解され
得る化合物としてのオルトカルざン酸誘導体、モノマー
又はポリマーのアセタール、エノールエーテル又はアシ
ルイミノカルざネートを含有している。それらは酸を分
離する放射線感能性化合物乏しての主に有機ハロゲン化
合物、特にハロゲン化メチル基によって置換された8−
トリアジンを含有している。
アルカリ可溶性を与える基を有する樹脂もバインダとし
て使用される。また0−キノンジアジドを基礎とする通
例はボジチデに作用する複写材料は一定の順序の処理に
よって適当な添加剤の存在でネガチデに処理され得るこ
とも公知である。英国特許(()B −A )第208
2559号明細書は、0−キノンジアシド及び少なくと
も1種のレゾールよりなる感光性混合物がネがチプに作
用する複写材料として使用され得るような反転法を記載
している。米国特許(USPa−tent )第410
4070号明細書に相応する西ドイツ国出願公開公報(
()erman 0ffenle −gungschr
ift )第2529054号明細書は、添加剤として
ヒPロキシェチルイミダゾリンを含有する反転法のため
の1,2−キノンジアジVを基礎とするレジスト層を記
載している。2級又は6級アミンを有する同様の材料が
米国特許(US −A )第4196006号明細書に
記載されている。米国特許(tys Patent )
第4581321号明細書に相応する欧州特許機構公開
(European Published 5peci
ficati −on)第0133216号明細書には
、0−キノンジアジドを含有する複写層への添加剤とし
て、むしろポリマー反応における架橋結合剤として適用
されるヘキサメチロールメラミンエーテルを含有する反
転法を記載しており、米国特許(US Patent 
)第4576901号明細書に相応する欧州特許機構(
European PublishedSpecifi
cation )公開第0131258号明細書は、そ
の感光性材料が前記の塩基性又は酸性の添加剤のいかな
るものも必要としない反転法を記載している。
更に、1,2−キノンジアジドの代りに酸によって分解
され得る化合物を基礎とするボジチプーネガチプ反転法
が公知であり、例えば米国特許(US Patent 
)第4506006号明Ni8に相応する欧州特許機構
(European PualishedSpecif
ication )公開第0082463号明細書に記
載されている。
前記の反転法は、原則的に、画像への露光後に印刷板を
加熱し、冷却後に原画なしに再び再露光し、次いで水性
アルカリ性現像液を用いて現像する同じ処理工程順序を
有する。
更に露光及び現像後に得られる印刷ステンシルにおける
加熱又は焼付けによる1版製造のための方法が公・母で
ろる。通例、220〜250℃の温度が加熱において使
用され、加熱時間は約5〜10分間である。この処理後
の結果として、印刷層の強化及びその結果としての印刷
数における相当な増加が達成される。焼付は温度が前記
の範囲の上限にあるならば、当然比較的短かい焼付は時
間が必要である。この方法ではより高い温度の使用は不
利であることが判明した。
一方では、それは地の部分上に比較的に抵抗性のある沈
積物の形成となり、それは比較的に攻撃性の溶液によっ
てのみきれいに除去することができ、その方法では印刷
ステンシルが攻撃されるという危険がある。他方では、
より高い焼付は温度又はより長い焼付は時間で、慣用の
アルミニウムコーティング支持体が変形しかつ得られる
版(t、ypeform)が損なわれる又は使用不可能
であるという危険がある。
最初lこ挙げた欠点は、英国特許(Br1t、1shP
atent )第1555233号明細書に相応する西
ドイツ国特許公開公報(C)erman 0ffenl
e −gungsschrift )第2626475
号明細書に記載されているように、焼付は後に容易に洗
い落すことができる水溶性の有機物質又は有機塩の層で
地部分を焼付は前に被覆することによって回避すること
ができる。しかしながらコーティング支持体の変形を予
防するために、より低い温度で焼付けることができるこ
とが望ましい。
米国特許(US Patent )第4387152号
明細書薯こ相応する西ドイツ国特許出願公開公報(Ge
rman Offenlegungsschrift 
)第5059926号明細書から、前記の種類の感光性
混合物が公知であり、これは感光性化合物及びアルカリ
可溶性のバインダに加えて、2〜4個のヒドロキシメチ
ル基を有するフェノール誘導体を含有する。焼付は温度
はフェノール誘導体を添加することによって230°C
以下に下げることができる。前記の材料は今までのとこ
ろまだ十分に満足ではない現像液抵抗及び貯蔵期間を有
する。
欧州特許機構(European Publlshed
 5peci −fication )公開第0111
2フ3感光性化合物及びアルカIJ of溶性バイ/ダ
1こ加えて、複写層の・暁付けも又容易にする熱的に架
橋結合する環状の酸アミPを含有する感光性混合物を記
載している。これの欠点は、特に高められた温度での比
較的に低い貯蔵期間であり、これは画像に露光した相応
する印刷板を現像することを困難lこする。
発明が解決しようとする問題点 本発明の目的は、1,2−キノンジアシドを基礎とする
か又は酸によって分解され得る化合物を基礎とするボジ
チプ及びネがチブに作用する感光性材料を提供するこ乏
であり、この材料は、同時に貯蔵期間を著しく低下させ
ることなくかつ技術的複写特性に不利に影響を及ぼすこ
となく、前記の欠点を持たずかつ従来よりも低い温度で
焼付けを可能にする。
問題点を解決するための手段 本発明は、アルカリ性水溶液に可溶である水4こ不溶性
のバインダ、感光性の1,2−キノンジアジド又は露光
時に酸を分離する化合物及び酸によって分解され得る少
なくとも1個のC−○−C基を有する化合物の感光性混
合物及び熱的に架橋結合する化合物を本質的に官有する
感光性混合物を基礎とする。
新規の混合物は、約500〜1500の範囲の分子量を
有する非硬化のアルキル−エーテル化メラミン−ホルム
アルデヒド樹脂が熱的に架橋結合する化合物としてその
中に存在するものである。
有利に、熱的に架橋結合する化合物は一般式:〔式中R
は(C1〜C4)アルキル基を表わしかつnは2〜6を
表わす〕の化合物である。
この場合には表示されているように、2〜6個のメラミ
ン分子がメチレン又はエーテル橋によって互いに結合さ
れかつトリアシフ環はまた任意に分配されたメチロール
及びアルコキシメチル基を官有することが推測される。
本発明による熱的に架橋結合する化合物の製造は、室温
で又は熱時に鉱酸溶液中でメラミンとホルムアルデヒド
との縮合により実施する。
反応を縮合生成物の完全な硬化が起らずかつ後者がなお
有機溶剤に可溶であるように調整する。
本発明によれば、低級アルコールでエーテル化されかつ
約1000の分子量を有するメラミン−ホルムアルデヒ
ド樹脂が有利である。これらの殆んどは良好に結晶する
ことができることで注目される。低級アルコールとして
は1〜4個の炭素原子を有するものを使用する。エーテ
ル化は強酸溶液中で室温で実施することができ、数分間
の反応時間が屡々適当である。しかじながら有利な方法
では、エーテル化は弱酸溶液中で使用するアルコールの
沸点でかつ水の共梯除去と共に実施する。本発明によれ
ば、ブタノールで又はメタノール及びインゾロパノール
でエーテル化された非可塑化メラミン−ホルムアルデヒ
ド樹脂が特に有利である。低級グリコール例えばブチル
グリコールもエーテル化成分として有利に使用すること
ができる。
適当な製法は、例えばホウベン−ウィル(Houben
−Weyl )著二″メト−プアーデア・オルがニツシ
エン・ヒエミー(Methoden derOrgan
ischen Chemie )”(+″メソッズ優オ
プ骨オルがニック・ケミストリー(Methods o
forganic Chemistry ) ” )、
14/2巻、668頁、例12及び14に詳説されてい
る。
本発明により使用される非硬化のアルキル−エーテル化
メラミン−ホルムアルデヒド樹脂は、熱の作用に対する
良好な耐性で注目される。
例えば本発明により複写層中で使用されるヒドロキシル
又はカルボキシル基を含有するバインダの存在で、本発
明により使用されるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂は
比較的に高い熱作用(180°C以上)で反応し、不溶
性で硬化された三次元架橋結合生成物を生成し、その複
写層は優れた摩耗抵抗を達成する。
新規の非硬化のアルキル−エーテル化メラミノーホルム
アルデヒド樹脂の使用時に、同じ目的のための感光性層
中で従来使用された熱的に架橋結合する化合物と比較し
て、一方では比較的に少量でも、実際に従来通例であっ
たよりも低い温度で複写層の焼付けを可能にさせるのに
十分であるという事実は、特に有利である。他方では、
配量が適当である場合には、複写層又は完成1版の焼付
は時間を実質的lこ短かくすることができる。
本発明により請求された混合物は、また、例えば架橋結
合をする化合物としてヘキサメチロール−メラミン−ヘ
キサメチルエーテル又はメチロール基を有するフェノー
ルを含有するものと比較して本質的により良好な貯蔵期
間で注目される。
本発明により感光性混合物中の熱的に架橋結合するアル
キル−エーテル化メラミン−ホルムアルデヒド樹脂の濃
度は、比較的広い範囲内で変化して良い。一般に、その
割合は感光性混合物の非揮発性成分の重量に対して0.
5〜5、有利に1.0〜6.0重量%である。
新規混合物のもう1つの重要な利点は、複写材料中に使
用する場合に、それが通例はボジチプに作用するが、稠
整した熱処理によってネがチプに作用するものとして使
用することもできることである。この目的のために、画
像への露光後に、コーティング支持体及び新規混合物よ
りなる感光性層よりなる材料をそれ以上の中間処理なし
に加熱する。加熱は照射、対流により、加熱面、例えば
ローラーとの接触により、又は不活性液体、例えば水を
含有する加熱浴中での浸fJ14こより実施することが
できる。温度は80〜150、有利に100〜160℃
であって良い。このような温度は、非露光部分の特性が
本質的に変性されることなく、混合物によって容する場
合には、一般に10秒間と10分間の間、(こ変換する
ために、感光性層を全体的に露光させる。再−露光は有
利に画像露光に使用したものと同じ光源を用いて実施す
ることができる。
再−露光後に、通例の現像液での現像を続け、最初の画
像露光中に光をあてられなかった層部蔵 分が洗い落とされる。新規混合物は、その貯7期間が高
められた温度でも良好であるが、画像部 に露光した層7分の硬化が加熱時に比較的に速かに起る
という利点を有する。
新規の複写材料は、通例ビジチプに作用する複写層から
ネがチプ複写を製造するのに加えて、有利な方法でライ
ンフィルム及びハーフトーンフィルム(写真植字)の組
合せた複写における種々の組合せの可能性も達成するこ
とを可能lこする。従って例えばネがチデの原画の下で
画像への第1の露光後直ちに、もう1つの線又はハーフ
トーン画像を、第1露光中に遮蔽物によって被覆した、
まだ光にあてられていない層部分にボジチプの原画を用
いることによって付加的に複写することができる。この
方法で露光した印刷板を次いでそれ以上の中間段階なし
に、完成した版を得ると共に、現像する。全く同一の印
刷板上にボジチプ及びネがチプフイルムの組合せ複写に
おける組合せ可能性の広い変化の結果として、時間及び
材料における著しい節約が達成される。
全てのボジチプ5こ作用する化合物、すなわち露光の結
果として水性アルカリ性現像液に可溶となるものは、新
規の感光性混合物中の感光性化合物として適当である。
これらは0−キノンジアジr及び光分解酸供与体及び酸
によって分解されつる化合物、例えばオルトカルボン酸
及びアセタール化合物の組合せを包含する。
新規の混合物及び方法は0−キノンジアジPを基礎とす
る感光性材料と結合して特に有利であり、それというの
も後者の印刷数が焼付けの結果として特に著しく増加す
るからである。
適当な材料は公知であり、例えば米国特許第42660
01号明細書に相応する西ドイツ国特許出願公開公報第
2828037号明a書に記載されている。1,2−ナ
フトキノン−2−ジアゾ♂−4−又は−5−スルホン酸
エステル又はアミドは、O−キノンシアシーとして有利
に使用される。それらのうち、エステル、特に5−スル
ホン酸のそれらは特に有利である。
O−キノノジアジド化合物の量は、混合物の非揮発性成
分に対して一般に6〜5、有利に7〜65重fチである
酸によって分解され得る化合物を基礎とする材料を、良
好な結果を伴ない焼付けしかつ新規の方法jζ使用する
こともできる。
この種類の複写材料は公知であり、例えば米国特許(U
S −A )第3779778号、同第4101326
号明細書及び米国特許(USPat、ent、 )第4
247611号明細書に相応する西ドイツ特許(Ger
man Patent )第2718254号明細書に
記載されている。
酸によって分解され得る化合物として、それらはオルト
カルボン酸誘導体、七ツマ−又はポリマーアセタール、
エノールエーテル又はアシルイミノカルヴネートを含有
する。分解して酸を分離する放射線感能性化合物として
、それらは主(こ有機ハロケ9)化合物、特にノ10′
FJ/化メチル基によって置換されたs −) ’)ア
ジンを包含する。
米国特許(US −A )第4101323号明細書に
記載されたオルトカルビン酸誘導体のうち、脂肪族ジオ
ールのビス−1,6−シオキサンー2−イルエーテルが
特に使用される。
米国特許(US Pat、ent )第4247611
号明細書に相応する西ドイツ特許(()erman P
at、e −nt)第2718254号明細書に記載さ
れたポリアセクールのうち、脂肪族アルデヒr及びジオ
ール単位を有するものが有利である。
感光性混合物中の酸によって分解され得る化合物の量的
割合は、混合物の非揮発性成分に対して一般に8〜65
、有利に14〜44重f%である。分解して酸を分離す
る化合物の量は0.1〜10、有利に0.2〜5重1t
t4である。
更に新規の感光性混合物は、新規の混合物のために使用
される溶剤中に溶け、かつ水性アルカリに可溶又は少な
くとも膨潤可能であるポリマーの、水に不溶性の樹脂様
バインダを含有する。
1.2−キノンジアジVを基礎とする多くのボジチプ複
写材料において好結果を立証したノボラック縮合樹脂は
、新規の混合物においても添加剤として特に有用である
ことが立証した。
それら、特にホルムアルデヒr縮合成分として置換され
たフェノール、例えばクレゾールを含有するより高度に
縮合された樹脂は、層の露光及び非露光部分の間で、現
像中に強い差異を促進させる。ノボラック樹脂の種類と
量は適用lこ依り変えても良い:有利に、総置体中のノ
ボラック割合は90〜50、特に有利に75〜60重量
%である。更lこ、他の多数の樹脂、有利にビニルポリ
マー、例えばポリビニルアセテート、ポリアクリレート
、ポリビニルエーテル、ポリビニルアセクール、ポリビ
ニルピロリドン及びそれらを基礎とするモノマーのコポ
リマーを同時に使用することもできる。前記の樹脂の最
も有利な割合は適用要求及び現像条件への影響に依り、
一般にアルカリ−可溶性樹脂の20重量%より多くない
特別な要求、例えば屈曲性、接着性、光沢、着色及び変
色等のために、この感光性混合物は、更にポリグリコー
ル、セルロース誘導体、例えばエチルセルロース、湿潤
剤、色料、接着助剤及び微分配の顔料、また必要な場合
に買吸収剤のような物質を少量で含有することもできる
その他のアルカリ可溶性バインダ又はアルカリ中で膨潤
可能なバインダとしては、天然樹脂、例えばセラック及
びコロホニウム及び合成樹脂、例えばスチレンと無水マ
レイン酸のコポリマー又はアクリル酸とメタクリル酸、
特にアクリル又はメタクリル酸エステルのコポリマーが
挙げられる。
また、本発明はコーティング支持体及びアルカリ性水溶
液に可溶である水に不溶のバインダ、感光性1,2−キ
ノンジアジV又は露光時に酸を分離する化合物及び酸に
よって分解され得る少なくとも1個のC−0−C基を有
する化合物の感光性混合物及び熱的lこ架橋結合する化
合物を本質的に含有する感光性層よりなる感光性複写材
料に関し、この場合約500〜1500の範囲の分子量
を有する非硬化のアルキル−エーテル化メラミン−ホル
ムアルデヒド樹脂が熱的に架橋結合する化合物として存
在する。
適当なコーティング支持体を被覆するために、混合物を
一般に溶剤に溶かす。溶剤の選択は意図するコーティン
グ法、層厚及び乾燥条件に適合させなければならない。
新規の混合物のために適合する溶剤はケトン、例えばメ
チルエチルケトン、塩素化された炭化水素、例えばトリ
クロロエチレン及び1,1.1−トリクロロエタン、ア
ルコール、例工ばn−プロパツール、エーテル、例えば
テトラヒドロフラン、アルコールエーテル、例エバエチ
レングリコールモノエチルエーテル及びエステル、例え
ば酢酸ブチルである。更に特別な目的のための溶剤、例
えばアセトニトリル、ジオキサン又はゾメチルホルムア
ミケを官有することもできる混合物を使用することも可
能である。原則的には、層成分と非可逆的に反応しない
全ての溶剤を使用することができる。
約10μm以下の層厚のためのコーティング支持体とし
て、大抵は金属製のものを使用する。
オフセット印刷版には、次のものを使用して良い:更l
こ例えばポリビニルホスホン酸、シリケフエートで化学
的に前処理されていてよい光沢−〇−ルがけされ、機械
的又は電気化学的に粗面仕上げされ、かつ陽極酸化され
ていてもよいアルミニウム及び更に最上位層としてCu
/Cr又は真鍮/Crを官有する複合−金属板。凸版印
刷版のために、この新規層は亜鉛又はマグネシウム板に
、ワン−ステージ・エツチング法のための市販の微品質
合金にも、かつエッチ可能なプラスチック、例えばポリ
オキシメチレンにも適用することができる。新規の層は
銅又はニッケル表面上でのその良好な接着及びエツチン
グ抵抗の結果として凹版又はスクリーン印刷版にも適当
である。新規の混合物はフォトレジストとして使用する
こともできる。
コーティング支持体のコーティングは、公知方法で、ス
ピニング、吹付け、浸漬、広幅−スロットジェットを用
いるローリング、ワイパー塗りによって又は流延機によ
り実施される。
画像に対する露光のために、常用の複写機、例えばチュ
ーブラランプ、キセノンフラッシュランプ、金属ハロゲ
ン化合物を塗布した水銀灯及びカーざンアーク灯を使用
することができる。
現像のためlこ使用され、かつ等縁付けされたアルカリ
度を有し、すなわち有利に10〜14であるーを有しか
つ少量の有機溶剤又は湿潤剤を含有しても良いアルカリ
水溶液は、光にさらされた複写層部分を除去し、従って
原画のボジチデ画像を製造する。
新規の混合物はコーティング支持体としてアルミニウム
を用いるノ版(t、ypeforms ) 、特にオフ
セット版の製造に有利に適用する。
現像後、版をそれ自体公知の方法で加熱する。
例えば英国特許(Br1tish Patent )第
1154749号明細書又は米国特許(USpaten
t )第4191570号明細書に相応する西Vイツ国
特許出願公開公報(c)ermanOffenlsgu
ngschrift )第2939785号明細書に詳
説されるように、焼付けにおけるそれまで常用の方法条
件に対照して、本発明により特許請求したメラミン−ホ
ルムアルデヒド樹脂を加えるならば、印刷数において前
と同じ増加が、しかし著しくより低い温度で又は実質的
により短かい時間内で達成することが可能である。
焼付は温度は約150〜240℃、有利ζこ180〜2
20℃の範囲で選択して良く、1〜12、有利に6〜5
分間の加熱時間が通例必要である。
コーティング支持体がより高い温度に耐えるならば勿論
240℃以上のより高い温度で焼付ることも、従ってよ
り短かい加熱時間を選択することも可能である。
画像の現像後に露光したコーティング支持体又は少なく
とも容易にするために薄模形成物質の水溶液を用いて加
熱の前に公知方法で処理することもできる。この処理は
新規方法において使用することもできるが、絶対的に必
要ではない。特に、有利な低い焼付は温度を使用するな
く らば、コーティング支持体の地の部分上に全を付着物が
形成されないか又は容易に除去可能な付着物が主に形成
される。従って有利な方法では、この段階を省くことが
可能である。
前記の温度への7版の加熱の結果として、複厚層の強化
及びその結果として印刷数における著しい増加が達成さ
れる。本発明による熱的に架橋結合するメラミ/−ホル
ムアルデヒr樹脂の存在で焼付は温度又は焼付は時間を
実質的に減らすことができ、これは手動及び自動法につ
いて両方ともかなりの時間の節約になる。更Iこ、より
高い焼付温度の場合又はより長い焼付は時間の場合に存
在する、通常使用するアルミニウムコーティング支持体
は変形し、かつ得られる版が損害され又は使用不可能で
ある危険が除かれる。
本発明を次の実施例につき詳説し、例中重量部(pw 
)及び容量部(pv )はm3に対するyの比である。
他の記載のない限り、パーセントは重量パーセントであ
る。
実施例 例1: 電気化学的に粗面化仕上げしかつ陽極酸化されたアルミ
ニウム板を次の溶液で被覆した:エチレングリコールモ
ノメチルエーテル40 pw及び テトラヒドロフラン      50 pv中の2.3
.4−トリヒrロキシベンデフェノン1モル及び1,2
−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸りロリ
)’   1.40 pw軟化点127〜145℃を有
するクレゾール−ホルムアルデヒドノボラック 7.6
0 pwl、2−ナフトキノン−2−シアジー−4−ス
ルホン酸りロリ)’        CJ、50 pw
非町塑化ブチル化メラミン樹脂 (ウラメックス(Uramex■)13.600 スカ
l’(Scado )0.20 T)W及び クリスタルバイオレット   0−05 pw 。
感光性複写層の適用前に、陽極酸化されたコーティング
支持体をポリ−ニルホスホン酸0.1重量%の水溶液で
処理した。
この方法で製造した、約3.0 ji / m2の1′
6を量を有するブリセンジタイズド材料を透明なボジチ
プ原画の下で画像に応じて露光し、次いで次の溶液で現
像した: 水            93.00 pw 中の珪
酸ナトリウム・9水和物  7.00 pv水酸化スト
ロンチウム・8水和物 0.02 pwレビュリン[(
levulinicacid)   0.03pw0現
像の結果とじζ、光にあてられた複写層部分は除去され
かつコーティング支持体上の非露光画像部分はあとに残
され、原画に相応する印刷ステンシルが得られる。
印刷数を増すためlこかつ印刷ステンシルを強化するた
めに、同様の方法で製造した版を熱処理した。この目的
のために、乾燥した版を現像後に焼付炉中で200°C
で5分間加熱した。
炉中での加熱の結果として、印刷ステンシルの強化が起
こり、かつ層は化学薬品に対して抵抗性となりかつその
結果、有機溶剤、例えばアセトン、アルコール、ジメチ
ルホルムアミP1トルエン又はキシレンlこ不溶性とな
った。オフセット印刷機で400000枚の満足する複
写を得た。
焼付時間及び焼付温度の条件の関係を次の表に示す。
本発明による熱的lこ架橋結合するメラミン樹脂の添加
を例1で省くならば、焼付後及び他の点では同一の実験
条件で、たったの200000枚の印刷数が得られる。
更に印刷ステンシルは有機溶剤に可溶のままでかつ調整
剤に対して耐性でもない。
感光性層に対する一定の添加剤は、極めて屡屡技術的複
写特性lこ不利に影響しうるので、感光性層中の本発明
により使用される化合物の比較的少量でも版を短時間で
焼付し、その結果印刷画像部分を摩耗抵抗及び化学薬品
抵抗性にするために十分であることは本発明の著しい利
点である。
例1で本発明(こより使用されるブチル化メラミン−ホ
ルムアルデヒド樹脂を欧州特許機構公開(Europe
an Published 5pecificatio
n )第0111273号明細書に依り解明されたモノ
マーのへキサメチロールメラミン−ヘキサメチルエーテ
ル同量に代え、かつこの版を同じ実験条件下で焼付ける
ならば、焼付は印刷画像はなお一定の化学薬品によって
著しく侵され、かつ画像部分はなお溶剤、例えばアセト
ン又はアルコールに可溶である。この実験結果は、印刷
画像部分が欧州特許機構公開(European Pu
b−11shed 5pecification )第
0111273号明細書に依り使用される化合物の存在
でなお完全には硬化されないことを示している。焼付温
度を約30’C上昇させた後又は感光性層中のへキサメ
チロールメラミン−ヘキサメチルエーテルの量を少なく
とも6倍に増加した後にのみ例1におけるような相応し
て硬化された印刷層が得られる。しかしながらこのよう
な;−中の高い割合は、種々の特性例えば感光性又は露
光後の画像コノトラストが不利に影響されつるという不
利な点を有する。
先に提案した感光性層中の熱的に架橋結合する化合物に
比較して本発明のもう1つの本質的な利点は、相応する
層の比較的に艮好な熱安定性であり、これは一般に室温
での版の良好な貯蔵期間を示す。本発明により特許請求
された複写材料の良好な熱安定性は、例1により製造さ
れた版を高めた温度、例えば100°Cで貯蔵し、次い
で透明なボジチプ原画下で露光しかつ現像するならば、
特に明らかになる。例えば欧州特許機構公開(Euro
pean Published 5pecifica−
t、ion )第0111273号明細書により製造さ
れた、その感光性層中にヘキサメチロールメラミン−ヘ
キサメチルエーテルを含有する版を例1に依り100℃
で貯蔵するならば、1時間の貯蔵後に続いて画像に対し
て露光した1版は、もはや現像仕上げできず、無画像部
分中に霧状物を示す。このことは、無画像部分でさえも
親油性となってしまい、従って油状インキを塗るならば
印刷ステンシルばかりでなく板表面の非画像部分もイン
キを受理することを意味する。
これに比較して、この例で本発明に依り製造された版は
、100°Cで6時間貯蔵した後でさえも、画像への露
光後になお満足に現像しかつ製版することができる。
例2: 電気化学的に粗面化仕上げしかつ陽極酸化されたアルミ
ニウム板を次の溶液で被覆した:エチレングリコールモ
ノメチルエーテル50.000 pw及び テトラヒrロフラン   70.000 pw 中の4
−(2−フェニルプロア°−2−イル)フェノール1モ
ル及び1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スル
ホン酸クロリド1モルのエステル化生成物      
 1.400 pw溶融範囲127〜145℃を有する
クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック 7.600
 pwメタノール及びイソブタノールでエーテル化した
非可塑化メラミン−ホルムアルデヒド樹脂(平均分子量
約1000)  0.10100p、4−ビス−トリク
ロロメチル−6−p−スチルベニル−8−トリアジン 
0.080pvr 及びクリスタルバイオレット   
0.080 pw 。
感光性複写層を適用する前に、陽極酸化されたアルミニ
ウム支持体を、米国特許 第4153461号明細書に相応する西ドイツ国特許第
1621468号明細書に記載されているようなポリビ
ニルホスホン酸の水溶液で処理した。この方法で製造し
た、層重量的2.6/タ珪酸すl−IJウムの4チ水溶
液で現像した。現像の結果として、光が当った感光性層
部分は除去され、非露光の画像部分はコーティング支持
体上に残り、原画に相応する印刷ステンシルが得られる
。印刷準備の整ったボジチプ版がインキ塗布によって得
られた。
同じプリセンシタイズr記録材料の他の見本をネガチプ
版として製版した。この目的のために、見本をネガチブ
原画下に露光し、120℃で2分間加熱し、次いで原画
なしで画像への露光における時間と同じ時間再−露光し
た。同じ現像液中同じ時間現像して、原画の逆画像を製
造した。
他の製版可能性は、写真植字プロセスによるすでに画像
に露光した版上の線画又はハーフトーン原画の連続複写
である。この目的のために、例11こ依り製造した版を
先ずネがチプ原画下で画像ρこ応じて露光し、次いで1
20℃で2分間加熱し、かつ次いで未だ光にあたってい
ない層部分において透明陽画下で再び露光する。この方
法で1回以上露光した版をそれ以上の中間段階なしtこ
現像する。完成1版が得られる。
例6: 電気化学的に粗面化仕上げかつ陽極酸化されたアルミニ
ウム板を次の溶液で被覆しかつ乾燥した: メラミン         90.00 pw 中の7
.7−ピスヒVロキシメチルー5−オキサ−1−ノナノ
ール及びトリメチルオルトホルメートから製造されたト
ルエン中のポリオルトエステルの50チ溶液     
 2.80 pw2−(4−エトキシナフチ−1−イル
)−4゜6−ビストリクロロ−メチルー8−トリアジン
0.25 pw 例1に記載したノビラック  5.50 pw例1に記
載したメラミン−ホルムアルデヒド樹脂       
      0.20 pw及びクリスタルバイオレッ
ト   0.04 pw 0裂遺した版を110cmI
ILの間隔で10秒間金、属ハロゲン化物灯sKw下で
画像に応じて露光し、次いで例1に記載した現像液で現
像した。
200℃で5分間の焼付は時間は印刷ステンシルを強化
するのに十分であった。メラミンーホルムアルヂヒP樹
脂を添加することなしに、印刷ステンシルの比較可能な
化学薬品に抵抗及び摩耗抵抗を達成するためには、焼付
けを240 ’Cで実施しなければならなかった。米国
特許第4247611号明細曹に相応する西rイツ国特
許公開公報第2718254号明細書に記載したような
ポリアセクールを、記載したオルトエステル誘導体の代
りに使用すると、同様の結果を得た。
例4: 電気化学的に粗面化仕上げしかつ陽極酸化し、その表面
をポリビニルホスホン酸の水溶液で処理されたアルミニ
ウム板を次の溶液で被覆した:エチレングリコールモノ
メチルエーテル60.00 pw及び テトラヒドロフラン    60.00 pw 中の2
.3.4−トリヒドロキシベンゾフェノン1モル及び1
,2−ナフトキノン−2−ジアジシー4−スルりン酸ク
ロリr3モルのエステル化生成物          
 1.50 pw例1に記載したノボラック  s、o
 o pw平均分子量約1000を有するメタノール及
びブチルグリコールでエーテル化した非可塑化メラミン
−ホルムアルデヒド樹脂(ヘキスト社(!(OECH8
T Afl ) 製のマプレナール(Maprenal
■))0.20 pW 1.2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホン酸
りロリl&       0.20 pWクリスタルバ
イオレット   0.07 pw 020℃で5分間の
焼付は時間は版を強化するのに十分であった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、アルカリ性水溶液に可溶である水に不溶性のバイン
    ダ、感光性1,2−キノン−ジアジド又は露光時に酸を
    分離する化合物と酸によつて分解され得る少なくとも1
    個のC−O−C基を有する化合物との感光性混合物及び
    熱的に架橋結合する化合物を本質的に含有し、この場合
    、約500〜1500の範囲にある分子量を有する非硬
    化のアルキル−エーテル化メラミン−ホルムアルデヒド
    樹脂が熱的に架橋結合する化合物として存在することを
    特徴とする感光性混合物。 2、熱的に架橋結合する化合物は、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Rは(C_1〜C_4)アルキル基を表わしかつ
    nは2〜6を表わす〕の化合物である、特許請求の範囲
    第1項記載の混合物。 3、熱的に架橋結合する化合物は混合物の乾燥重量に対
    して約0.5〜5重量%の量で存在する、特許請求の範
    囲第1項記載の混合物。 4、低級アルコールでエーテル化されかつ分子量約10
    00を有するメラミン−ホルムアルデヒド樹脂が熱的に
    架橋結合する化合物として存在する、特許請求の範囲第
    1項又は第2項に記載の混合物。 5、熱的に架橋結合する化合物はブタノール又はイソブ
    タノールでエーテル化された非可塑化メラミン−ホルム
    アルデヒド樹脂である、特許請求の範囲第1項から第4
    項までのいずれか1項に記載の混合物。 6、熱的に架橋する化合物はメタノール及びイソプロパ
    ノールでエーテル化された非可塑化メラミン−ホルムア
    ルデヒド樹脂である、特許請求の範囲第1項、第2項又
    は第3項のいずれか1項に記載の混合物。 7、熱的に架橋結合する化合物はメタノール及びブチル
    グリコールでエーテル化された非可塑化メラミン−ホル
    ムアルデヒドである、特許請求の範囲第1項記載の混合
    物。 8、ノボラックがバインダとして存在する、特許請求の
    範囲第1項記載の混合物。 9、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン及び1
    ,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホン酸ク
    ロリド又は−5−スルホン酸クロリドのエステル化生成
    物が1,2−キノンジアジドとして存在する、特許請求
    の範囲第1項記載の混合物。 10、4−(2−フェニルプロピ−2−イル)フェノー
    ル及び1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スル
    ホン酸クロリドのエステル化生成物が1,2−キノンジ
    アジドとして存在する、特許請求の範囲第1項記載の混
    合物。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04163552A (ja) * 1990-10-29 1992-06-09 Toyo Gosei Kogyo Kk 感光性着色樹脂組成物
JPH04178648A (ja) * 1990-11-14 1992-06-25 Dainippon Printing Co Ltd Ps版用またはホログラム記録材料用光硬化性組成物
JPH05224421A (ja) * 1991-09-26 1993-09-03 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 塩基性で現像しうるネガチブフォトレジストおよびその使用
JPH0643637A (ja) * 1992-07-23 1994-02-18 Sumitomo Chem Co Ltd パターンの保持方法
JPH07120914A (ja) * 1993-10-21 1995-05-12 Hoechst Japan Ltd ポジ型ホトレジスト組成物
US6445789B1 (en) 1997-02-10 2002-09-03 Nec Corporation Telephone having hand-set to be used also as voice input/output device for personal computer

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4414897A1 (de) * 1994-04-28 1995-11-02 Hoechst Ag Aromatische Diazoniumsalze und deren Verwendung in strahlungsempfindlichen Gemischen
US7470500B2 (en) 2005-07-19 2008-12-30 Az Electronic Materials Usa Corp. Organic bottom antireflective polymer compositions
DE102010009852A1 (de) 2010-03-02 2011-09-08 Kalle Gmbh Antimikrobiell ausgerüstete Folien, Schwämme und Schwammtücher

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA774047A (en) * 1963-12-09 1967-12-19 Shipley Company Light-sensitive material and process for the development thereof
DE3246037A1 (de) * 1982-12-09 1984-06-14 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zur herstellung einer druckform aus dem kopiermaterial
DE3325022A1 (de) * 1983-07-11 1985-01-24 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur herstellung negativer kopien mittels eines materials auf basis von 1,2-chinondiaziden
DE3584316D1 (de) * 1984-06-01 1991-11-14 Rohm & Haas Lichtempfindliche beschichtungszusammensetzung, aus diesem hergestellte thermisch stabile beschichtungen und verfahren zur herstellung von thermisch stabilen polymerbildern.

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04163552A (ja) * 1990-10-29 1992-06-09 Toyo Gosei Kogyo Kk 感光性着色樹脂組成物
JPH04178648A (ja) * 1990-11-14 1992-06-25 Dainippon Printing Co Ltd Ps版用またはホログラム記録材料用光硬化性組成物
JPH05224421A (ja) * 1991-09-26 1993-09-03 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 塩基性で現像しうるネガチブフォトレジストおよびその使用
JPH0643637A (ja) * 1992-07-23 1994-02-18 Sumitomo Chem Co Ltd パターンの保持方法
JPH07120914A (ja) * 1993-10-21 1995-05-12 Hoechst Japan Ltd ポジ型ホトレジスト組成物
US6445789B1 (en) 1997-02-10 2002-09-03 Nec Corporation Telephone having hand-set to be used also as voice input/output device for personal computer

Also Published As

Publication number Publication date
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EP0263434A2 (de) 1988-04-13
DE3789593D1 (de) 1994-05-19
DE3634371A1 (de) 1988-04-21

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