JPS59114535A - 感光性組成物、これから製造した感光性複写材料及び印刷版の製法 - Google Patents
感光性組成物、これから製造した感光性複写材料及び印刷版の製法Info
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- JPS59114535A JPS59114535A JP58225518A JP22551883A JPS59114535A JP S59114535 A JPS59114535 A JP S59114535A JP 58225518 A JP58225518 A JP 58225518A JP 22551883 A JP22551883 A JP 22551883A JP S59114535 A JPS59114535 A JP S59114535A
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- Japan
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- photosensitive
- polyvinylphenol
- compound
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/023—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0233—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、アルカリ水溶液中に可溶であり、水に不溶な
結合剤及び感光性化合物を含有する感光性組成物、支持
層及びこの組成物を有する感光層よりなる感光性複写材
料及び、露光、現像及び複写材料の加熱よシなる印刷版
の製法に関する。
結合剤及び感光性化合物を含有する感光性組成物、支持
層及びこの組成物を有する感光層よりなる感光性複写材
料及び、露光、現像及び複写材料の加熱よシなる印刷版
の製法に関する。
露光され現像さｎた複写材料の画像層の加熱又はベーキ
ングにより印刷版を製造する方法は例えば、英国特許第
１１５’ｌ１９’Ｊ号及び同第１１５４７４９号明細書
に記載さｎている。これらの方法においては、ポジテゾ
作用をし、有利Ｋｏ−キノンージアジドを含有するが又
はネガチブ作用をし、有利にｐ−キノン−ジアジドを含
有する感光性複写材料を、画像に応じて露光し、次いで
１８０℃より高い温度に、予めきれいに現像さｎた画像
背景がこの画像層の熱分解生成物により汚染されるよう
な時間又は温度に加熱している。引続き、画像背景を現
像液で１回以上処理することにより再びきれいにする。
ングにより印刷版を製造する方法は例えば、英国特許第
１１５’ｌ１９’Ｊ号及び同第１１５４７４９号明細書
に記載さｎている。これらの方法においては、ポジテゾ
作用をし、有利Ｋｏ−キノンージアジドを含有するが又
はネガチブ作用をし、有利にｐ−キノン−ジアジドを含
有する感光性複写材料を、画像に応じて露光し、次いで
１８０℃より高い温度に、予めきれいに現像さｎた画像
背景がこの画像層の熱分解生成物により汚染されるよう
な時間又は温度に加熱している。引続き、画像背景を現
像液で１回以上処理することにより再びきれいにする。
通例、加熱のために使用さｎる温度は２２０〜２４０℃
であり、加熱の時間は約５〜６０分である。この後処理
にょシ、印刷層の硬化が達成さｎ１従って、印刷数がか
なり拡大さｎる。
であり、加熱の時間は約５〜６０分である。この後処理
にょシ、印刷層の硬化が達成さｎ１従って、印刷数がか
なり拡大さｎる。
このベーキング温度が指示範囲の上限である場合には、
必要なベーキング時間は、もちろん相応して短かい。こ
の工程で比較的高い温度を使用することは不利であるこ
とが判明した。他方では、こ牡らの温度は、背景部分内
に比較的堅固に付着する沈殿を形成させ、こ九は、極め
て腐蝕性の溶液を用いてのみ除去することができ、印刷
ステンシルを侵す危険も存在する。更に、比較的高いベ
ーキング温度で又は比較的長いベーキング時間を用いる
と、通例用いられているアルミニウム製支持体が変形す
る危険があり、得ら扛る印刷版は損傷さｎ又は使用不能
になる危険がある。
必要なベーキング時間は、もちろん相応して短かい。こ
の工程で比較的高い温度を使用することは不利であるこ
とが判明した。他方では、こ牡らの温度は、背景部分内
に比較的堅固に付着する沈殿を形成させ、こ九は、極め
て腐蝕性の溶液を用いてのみ除去することができ、印刷
ステンシルを侵す危険も存在する。更に、比較的高いベ
ーキング温度で又は比較的長いベーキング時間を用いる
と、通例用いられているアルミニウム製支持体が変形す
る危険があり、得ら扛る印刷版は損傷さｎ又は使用不能
になる危険がある。
西ドイツ特許出願公Ｒ第２６２６４７３号明細書に記載
さｎているように、最初に記載の欠点は、ベーキングの
前に、背景面に水溶性有機物質又は無機塩の層を被覆す
ることによりさけることができ、この層は、ベーキング
の後に容易に洗浄除去することができる。しかしながら
、この支持体の変形をさけるためには、低い温度でベー
キングすることができることが望ましい。更に、水溶液
での中間処理の付加的工程をさけることができることも
望ましい。
さｎているように、最初に記載の欠点は、ベーキングの
前に、背景面に水溶性有機物質又は無機塩の層を被覆す
ることによりさけることができ、この層は、ベーキング
の後に容易に洗浄除去することができる。しかしながら
、この支持体の変形をさけるためには、低い温度でベー
キングすることができることが望ましい。更に、水溶液
での中間処理の付加的工程をさけることができることも
望ましい。
西ドイツ特許出願公開第３１０７１０９号明細書には、
リトグラフィ印刷版製造用の感光性組成物が記載さ九て
ぃて、ここではハロゲン化さｎたノボラックが結合剤と
して含有さｎている。この材料は、水性アルカリ現像液
、炭化水素溶剤及びアルコール含有湿し水に対して改良
さｎた抵抗性を有する。この公開明細書により製造Ｌ
タ現像すｆ’した印刷ステンシルノベーキンダの間の挙
動は、このノボラックの添加によって変えられない。
リトグラフィ印刷版製造用の感光性組成物が記載さ九て
ぃて、ここではハロゲン化さｎたノボラックが結合剤と
して含有さｎている。この材料は、水性アルカリ現像液
、炭化水素溶剤及びアルコール含有湿し水に対して改良
さｎた抵抗性を有する。この公開明細書により製造Ｌ
タ現像すｆ’した印刷ステンシルノベーキンダの間の挙
動は、このノボラックの添加によって変えられない。
西ドイツ特許出願公開第２３２２２３０号明細書中には
、結合剤としてノボラックの代りに４１Ｊ ヒ＝ ルフ
ェノールを含有する感光性リトグラフィ印刷版が記載さ
れている。これを用いて製造さｎた印刷版は、特に高い
印刷数により優ｎてい、ると言える。ベーキングの後の
これら印刷版の挙動に関してはどこにも記載さｎてぃな
本発明の目的は、感光性組成物及びこｎから製造さ扛る
、リトグラフィ印刷版の製造に好適であり、露光及び現
像の後に、困難なく除去しうるベーキング残分が支持層
の画像のない部分上に残り、水溶性保護層の施与よりな
る中間処理工程を省略することができるような条件下で
ベーキングすることができる複写材料を得ることであっ
た。
、結合剤としてノボラックの代りに４１Ｊ ヒ＝ ルフ
ェノールを含有する感光性リトグラフィ印刷版が記載さ
れている。これを用いて製造さｎた印刷版は、特に高い
印刷数により優ｎてい、ると言える。ベーキングの後の
これら印刷版の挙動に関してはどこにも記載さｎてぃな
本発明の目的は、感光性組成物及びこｎから製造さ扛る
、リトグラフィ印刷版の製造に好適であり、露光及び現
像の後に、困難なく除去しうるベーキング残分が支持層
の画像のない部分上に残り、水溶性保護層の施与よりな
る中間処理工程を省略することができるような条件下で
ベーキングすることができる複写材料を得ることであっ
た。
本発明によ几ば、感光性化合物又はこれら化合物の感光
性配合物及び結合剤としての水中に不溶で、アルカリ水
溶液中に可溶のポリ、ビニルフェノールを含有していて
、露光時に、アルカリ水溶液液中でのその溶解性が変わ
る、感光性組成物が提案さ扛ている。本発明の組成物は
、ソノポリビニルフェノールが、ハロゲン化す扛ている
点で特徴を有する。
性配合物及び結合剤としての水中に不溶で、アルカリ水
溶液中に可溶のポリ、ビニルフェノールを含有していて
、露光時に、アルカリ水溶液液中でのその溶解性が変わ
る、感光性組成物が提案さ扛ている。本発明の組成物は
、ソノポリビニルフェノールが、ハロゲン化す扛ている
点で特徴を有する。
本発明によｎば、層支持体及び前記定義の組成の感光性
層よりなる感光性複写材料も提案さｎる。
層よりなる感光性複写材料も提案さｎる。
本発明によれば、更に、印刷版の製法も提案さｎており
、こｎは、層支持体及びそのアルカリ水溶液中での溶解
性が露光時に変わる感光性層よりなり、感光性化合物又
はこの化合物の感光性配合物、結合剤としての水中に不
溶で、アルカリ水溶液中に可溶のポリビニルフェノール
を含有していて、アルカリ水溶液中の溶解度が露光時に
変わる感光性複写材料を画像に応じて露光し、層の像の
ない部分を水性アルカリ現像液で洗浄し、次いで材料を
高めた温度に加熱して画像層を硬化させることよりなる
。
、こｎは、層支持体及びそのアルカリ水溶液中での溶解
性が露光時に変わる感光性層よりなり、感光性化合物又
はこの化合物の感光性配合物、結合剤としての水中に不
溶で、アルカリ水溶液中に可溶のポリビニルフェノール
を含有していて、アルカリ水溶液中の溶解度が露光時に
変わる感光性複写材料を画像に応じて露光し、層の像の
ない部分を水性アルカリ現像液で洗浄し、次いで材料を
高めた温度に加熱して画像層を硬化させることよりなる
。
本発明の方法は、ポリビニルフェノールがノ翫ロゲン化
されていることに特徴がある。
されていることに特徴がある。
使用さｎているハロゲン化さｎたビニルフェノールポリ
マーは、塩素化又は臭素化さｎた、特に臭素化さｎた。
マーは、塩素化又は臭素化さｎた、特に臭素化さｎた。
Ｎ ＩＪママ−有利である。ノ・ロゲン化さｎたホモポ
リマーは別として、ハロゲン化さｎたビニルフェノール
と他のビニル化合物例えばスチレン又はアリール酸エス
テルとのコポリマー也使用できる。一般に、ｐ−ビール
フェノールの２リマーも有利である。ハロゲン化さ九た
ポリビニルフェノールのハロゲン含分け、通例２０〜６
０重量％の間で、有利に４０〜５８重量％の間で変わる
。
リマーは別として、ハロゲン化さｎたビニルフェノール
と他のビニル化合物例えばスチレン又はアリール酸エス
テルとのコポリマー也使用できる。一般に、ｐ−ビール
フェノールの２リマーも有利である。ハロゲン化さ九た
ポリビニルフェノールのハロゲン含分け、通例２０〜６
０重量％の間で、有利に４０〜５８重量％の間で変わる
。
臭素化さｎたポリ−ｐ−ビニルフェノールは、公知方法
で、相応するｐ−ビニルフェノールポリマーを臭素化す
ることにより製造される。
で、相応するｐ−ビニルフェノールポリマーを臭素化す
ることにより製造される。
ポリビニルフェノールそのものは、カチオン性触媒の存
在で相応するモノマーの塊状重合、乳化重合又は溶液重
合により製造することができる しかしながら、とｎら
は適当な触媒例えばアゾジイソ酪酸ニトリルの存ｔｆの
遊離、ラジカル重合を用いて得ることもできる。
在で相応するモノマーの塊状重合、乳化重合又は溶液重
合により製造することができる しかしながら、とｎら
は適当な触媒例えばアゾジイソ酪酸ニトリルの存ｔｆの
遊離、ラジカル重合を用いて得ることもできる。
この種の重合法は、ジャーナル・オブ・ポリマー・サイ
エンス（Ｊｏｕｒｎａｌ ’Ｏ上ｐｏ１ｙｍθｒＳｃｉ
ｅｎｃｅ ） Ａ −１部、７巻（１９６９年）、２１
７５〜２１８４頁及び２４０５〜２４１０頁又はジャー
ナル・オブ・オルガニック・ケミスト リ イ （、Ｊ
ｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍ
ｉｓｔｒｙ ） ２４巻（１９５９年〕、１３４５
〜１３４７頁に記載さ扛ている。
エンス（Ｊｏｕｒｎａｌ ’Ｏ上ｐｏ１ｙｍθｒＳｃｉ
ｅｎｃｅ ） Ａ −１部、７巻（１９６９年）、２１
７５〜２１８４頁及び２４０５〜２４１０頁又はジャー
ナル・オブ・オルガニック・ケミスト リ イ （、Ｊ
ｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍ
ｉｓｔｒｙ ） ２４巻（１９５９年〕、１３４５
〜１３４７頁に記載さ扛ている。
この感光性組成物中のハロゲン化さ几たポリビニルフェ
ノールの濃度は、感光性系の種類に応じて広く変動する
ことができる。一般に、そｎらの割合は、感光性組成物
の不揮発成分の重量に対して、１０〜９５重景％特に４
０〜８０重量％の間にある。。
ノールの濃度は、感光性系の種類に応じて広く変動する
ことができる。一般に、そｎらの割合は、感光性組成物
の不揮発成分の重量に対して、１０〜９５重景％特に４
０〜８０重量％の間にある。。
更に、本発明による感光性組成物は、感光性化合物又は
こｎら化合物の感光性配合物を含有する。特に、ボジテ
ブ作用化合物即ち、露光により可溶性になる化合物がこ
の目的に好適である。こｎには、０−キノン−ジアジド
及び光分解性酸供与体と酸で分解さｎうる化合物例えば
オルトカルゼン酸化合物及びア七タール化合物との配合
物が包含さｎる。ｐ−キノン−ジアジド及びジアゾニウ
ム塩重縮合生成物も、感光性化合物として好適である。
こｎら化合物の感光性配合物を含有する。特に、ボジテ
ブ作用化合物即ち、露光により可溶性になる化合物がこ
の目的に好適である。こｎには、０−キノン−ジアジド
及び光分解性酸供与体と酸で分解さｎうる化合物例えば
オルトカルゼン酸化合物及びア七タール化合物との配合
物が包含さｎる。ｐ−キノン−ジアジド及びジアゾニウ
ム塩重縮合生成物も、感光性化合物として好適である。
本発明による組成物及び方法は、０−キノンジアジドを
基礎とする感光性材料と組合せて使用する際に特別な利
点を有する そｎというのも、こｎを使用する際には、
得らｎる印刷の数がベーキングにより特にかなり増大さ
れうるからである。この型の好適な材料は公知であり、
例えば西ドイツ特許（１）Ｅ−０）第９３８２．３３号
及び西ドイツ特許出願公開（ＤＥ−Ａ）第２３３１３７
７号、同第２５４７９０５号及び同第２８２８０３７号
明細書中に記載されている。有利な０−キノン−ジアジ
ドは、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド（２）−Φ
−又は−５−スルホン酸エステル又はアミドである。
基礎とする感光性材料と組合せて使用する際に特別な利
点を有する そｎというのも、こｎを使用する際には、
得らｎる印刷の数がベーキングにより特にかなり増大さ
れうるからである。この型の好適な材料は公知であり、
例えば西ドイツ特許（１）Ｅ−０）第９３８２．３３号
及び西ドイツ特許出願公開（ＤＥ−Ａ）第２３３１３７
７号、同第２５４７９０５号及び同第２８２８０３７号
明細書中に記載されている。有利な０−キノン−ジアジ
ドは、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド（２）−Φ
−又は−５−スルホン酸エステル又はアミドである。
これらのうちで、エステル特に５−スルホン酸のそｎは
特に有利である。一般に、０−、キノン−ジアジド化合
物の量は、組成物の不揮発性成分に対して３〜５０重量
％特に７〜３５重量％である。
特に有利である。一般に、０−、キノン−ジアジド化合
物の量は、組成物の不揮発性成分に対して３〜５０重量
％特に７〜３５重量％である。
酸で分解できうる化合物を基礎とする材料は、良好な作
用効果を有してベーキングすることができ、本発明の方
法で使用することができるこの型の複写材料は公知であ
り、例えば米国特許（、ｕ ｓ −Ａ ）第３７７９７
７８号、同第４１０１３２３号、西ドイツ特許（ＤＥ−
０）第２７１８２５４号、西ドイツ特許出願公開（Ｄ、
Ｅ −Ａ ）第２８２９５１２号及び同第２８２９５１
１号明細書に記載されている。酸で分解しうる化合物と
して、これらは、オルト−カルどン酸誘導体モノマー又
はポリマー性のアセタール、エノールエーテル又はアシ
ルイミノカーゼネートを含有していてよい。線照射に敏
感で、酸を発生する化合物として、こ扛らは、有機ハロ
ゲン化合物特にハロゲノメチル基で置換さｎているＳ−
トリアジン又は２−トリクロルメチル−１，３，４−オ
キサジアゾールを含有していてよい。
用効果を有してベーキングすることができ、本発明の方
法で使用することができるこの型の複写材料は公知であ
り、例えば米国特許（、ｕ ｓ −Ａ ）第３７７９７
７８号、同第４１０１３２３号、西ドイツ特許（ＤＥ−
０）第２７１８２５４号、西ドイツ特許出願公開（Ｄ、
Ｅ −Ａ ）第２８２９５１２号及び同第２８２９５１
１号明細書に記載されている。酸で分解しうる化合物と
して、これらは、オルト−カルどン酸誘導体モノマー又
はポリマー性のアセタール、エノールエーテル又はアシ
ルイミノカーゼネートを含有していてよい。線照射に敏
感で、酸を発生する化合物として、こ扛らは、有機ハロ
ゲン化合物特にハロゲノメチル基で置換さｎているＳ−
トリアジン又は２−トリクロルメチル−１，３，４−オ
キサジアゾールを含有していてよい。
米国特許（ＵＳ−Ａ）第４１０１３２３号明細書中に記
載のオルト−カルダン酸誘導体のうちで、脂肪族ジオー
ルのビス−１，３−ジオキサン−２リイルエーテルが有
利に使用さｎる。
載のオルト−カルダン酸誘導体のうちで、脂肪族ジオー
ルのビス−１，３−ジオキサン−２リイルエーテルが有
利に使用さｎる。
西ドイツ特許（Ｄｘ−ａ）第２７１８２５４号明細書に
記載のポリアセクールのうちで、脂肪族アルデヒド単位
及びジオール単位を有するものが有利である。
記載のポリアセクールのうちで、脂肪族アルデヒド単位
及びジオール単位を有するものが有利である。
更に、非常に好適な混合物は西ドイツ特許出願公開（Ｄ
Ｅ−Ａ）Ｆ２９２＆６３６号明細書に記載さ扛ている。
Ｅ−Ａ）Ｆ２９２＆６３６号明細書に記載さ扛ている。
後者中には、主鎖中に繰返しオルトエステル基を有する
ポリマー性オルトエステルが、酸により分解さ几うる化
合物として記載さｎている。
ポリマー性オルトエステルが、酸により分解さ几うる化
合物として記載さｎている。
こ九らの群は、５又は６環員を有する１、３−ジオキサ
シクロアルカンの２−アルキルエーテルである。回帰性
１．３−、−、’オキサーシクロヘキシー２−イルアル
キルエーテル単位−ｆｒ：有スるポリマー（この中のア
ルキルエーテル基ハニーチル酸素原子により中断されて
いてよく、有利には、隣接環の５−位に結合している）
は特に有利である。
シクロアルカンの２−アルキルエーテルである。回帰性
１．３−、−、’オキサーシクロヘキシー２−イルアル
キルエーテル単位−ｆｒ：有スるポリマー（この中のア
ルキルエーテル基ハニーチル酸素原子により中断されて
いてよく、有利には、隣接環の５−位に結合している）
は特に有利である。
感光性組成物中の酸で分解できる化合物の量比は、一般
に、この組成物の不揮発性成分に対して８〜６５重量％
有利に１４〜４４重量％である。酸を生じる化合物の量
は、０．１〜ｌＯ重量％有利に０．２〜５重量％である
。
に、この組成物の不揮発性成分に対して８〜６５重量％
有利に１４〜４４重量％である。酸を生じる化合物の量
は、０．１〜ｌＯ重量％有利に０．２〜５重量％である
。
ハロゲン化されたポリビニルフェノールに加えて、多く
の他の樹脂が本発明の感光性組成物中で使用することが
でき、ビニルポリマー例えば酢酸ポリビニル、ポリアク
リレート、ポリビニルエーテル、ポリビニルアセタール
、ポリビニルピロリドン及びその基礎となっているモノ
マーのコポリマーが有利である。更に、アルカリ溶液中
で可溶の又は膨潤性の好適な結合剤は、天然樹脂例えば
シェラツク及びコロホニイ及び合成樹脂例えばスチレン
と無水マレイン酸トのコポリマー殊にノミラックである
。こｎら樹脂の最も有利な割合は、工業的要求及び現像
条件上への影響に依り決まシ、一般に、ハロゲン化さｎ
たポリビニルフェノールの６０重量％を越えない。特別
な要求例えば柔軟性、接着性、゛光沢、色、変色等の要
求に適合させるために、感光性系は、付加的にポリグリ
コール、セルロース誘導体、例えばエチルセルロース、
界面活性剤、染料、付着促進剤及び細分さｎた顔料及び
ＵＶ−吸収剤等の物質を必要に応じて、含有していても
よい。
の他の樹脂が本発明の感光性組成物中で使用することが
でき、ビニルポリマー例えば酢酸ポリビニル、ポリアク
リレート、ポリビニルエーテル、ポリビニルアセタール
、ポリビニルピロリドン及びその基礎となっているモノ
マーのコポリマーが有利である。更に、アルカリ溶液中
で可溶の又は膨潤性の好適な結合剤は、天然樹脂例えば
シェラツク及びコロホニイ及び合成樹脂例えばスチレン
と無水マレイン酸トのコポリマー殊にノミラックである
。こｎら樹脂の最も有利な割合は、工業的要求及び現像
条件上への影響に依り決まシ、一般に、ハロゲン化さｎ
たポリビニルフェノールの６０重量％を越えない。特別
な要求例えば柔軟性、接着性、゛光沢、色、変色等の要
求に適合させるために、感光性系は、付加的にポリグリ
コール、セルロース誘導体、例えばエチルセルロース、
界面活性剤、染料、付着促進剤及び細分さｎた顔料及び
ＵＶ−吸収剤等の物質を必要に応じて、含有していても
よい。
好適な支持材をコーティングするために、この組成物を
一般に溶剤中に溶かす。溶剤の選択は、当面のコーティ
ング法、層厚及び乾燥条件に合わせるべきである。本発
明による組成物に対する好適な溶剤は、ケトン類、例え
ばメチルエチルケトン、塩素化さｎた炭化水素例えばト
リクロルエチレン及び１．１．１−トリクロルエタン、
アルコールｆＲ例エバｎ−プロノミノール、エーテル類
例えばテトラヒドロフラン、アルコールエーテル類例え
ば酢酸ブチルであ、る。特別な目的のために付加的溶剤
例えばアセトニトリル、ジオキサン又はジメチルホルム
アミド含有していてよい組成物を使用することもできる
。原則として、とｎらすべての溶剤は、層成分と不可逆
的に反応しないすべての溶剤を使用することができる。
一般に溶剤中に溶かす。溶剤の選択は、当面のコーティ
ング法、層厚及び乾燥条件に合わせるべきである。本発
明による組成物に対する好適な溶剤は、ケトン類、例え
ばメチルエチルケトン、塩素化さｎた炭化水素例えばト
リクロルエチレン及び１．１．１−トリクロルエタン、
アルコールｆＲ例エバｎ−プロノミノール、エーテル類
例えばテトラヒドロフラン、アルコールエーテル類例え
ば酢酸ブチルであ、る。特別な目的のために付加的溶剤
例えばアセトニトリル、ジオキサン又はジメチルホルム
アミド含有していてよい組成物を使用することもできる
。原則として、とｎらすべての溶剤は、層成分と不可逆
的に反応しないすべての溶剤を使用することができる。
約１０μより薄い層厚に対して使用される支持材は大抵
の場合に金属である。次のものは、オフセット印刷版を
得るために使用できる：輝圧延され、機械的又は電気化
学的に粗面化さｎたアルミニウム（こｎは、必要に応じ
て、陰極酸化さ扛、付加的に、例えば、３５ ＩＪビニ
ルホスホン酸、珪酸塩、ヘキサフルオルジルコネート、
加水分解さｎたテトラエテルオルトシリケート又は燐酸
塩で化学的に前処理されていてよい）Ｏ支持材のコーテ
ィングは、スピン−コーティング、スプレー、ディッピ
ング、ローラーによる公知方法で、スロット−ダイ、ナ
イフ−スプレーディング又はコーター・アプリケーショ
ンを用いて実施する。
の場合に金属である。次のものは、オフセット印刷版を
得るために使用できる：輝圧延され、機械的又は電気化
学的に粗面化さｎたアルミニウム（こｎは、必要に応じ
て、陰極酸化さ扛、付加的に、例えば、３５ ＩＪビニ
ルホスホン酸、珪酸塩、ヘキサフルオルジルコネート、
加水分解さｎたテトラエテルオルトシリケート又は燐酸
塩で化学的に前処理されていてよい）Ｏ支持材のコーテ
ィングは、スピン−コーティング、スプレー、ディッピ
ング、ローラーによる公知方法で、スロット−ダイ、ナ
イフ−スプレーディング又はコーター・アプリケーショ
ンを用いて実施する。
工業的に慣用の光源が露光のために使用さｎる。電子又
はレーザーでの照射は、画像を作るためのもう１つの可
能性である。
はレーザーでの照射は、画像を作るためのもう１つの可
能性である。
現像に用いられ、累進的アルカリ度を有する即ち、１０
〜１４の間のｐＨ 値を有し、少量の有機溶剤又は界面
活性剤を含有していてもよいアルカリ水溶液は、光によ
り照らされた複写層の部分を除去し、従って、オリジナ
ルのボジチブ像を形成する。ネガテゾ層は、同様な現像
剤を用いて現像することができる。
〜１４の間のｐＨ 値を有し、少量の有機溶剤又は界面
活性剤を含有していてもよいアルカリ水溶液は、光によ
り照らされた複写層の部分を除去し、従って、オリジナ
ルのボジチブ像を形成する。ネガテゾ層は、同様な現像
剤を用いて現像することができる。
本発明による感光性組成物の有利な用途は、印刷版特に
支持材としてアルミニウムを用いるオフセット印刷版の
製造である。
支持材としてアルミニウムを用いるオフセット印刷版の
製造である。
現像の後に、印刷版を自体公知の方法で加熱する。選択
される（−゛キング温度は約１８０〜２４０℃有利に、
２００〜２４０℃であってよく、加熱時間は、１〜２０
分有利に５〜１０分が通例必要である。支持材が高温で
安定であるなら、２４０℃より高い温度でベーキングし
、相応して短かい加熱時間を選択することーもできる。
される（−゛キング温度は約１８０〜２４０℃有利に、
２００〜２４０℃であってよく、加熱時間は、１〜２０
分有利に５〜１０分が通例必要である。支持材が高温で
安定であるなら、２４０℃より高い温度でベーキングし
、相応して短かい加熱時間を選択することーもできる。
本発明の組成物及びこ扛から製造された感光性複写材料
は、ベーキングの後に、支持材の画像（７） ナイ部分
上にベーキングによる残分が残らない事実により顕著で
ある。従って、もはや、ベーキングの前に付加的な水溶
性保護層を施こすか又は引続く現像剤での処理により残
分を除く必要はない 公知のハロゲン化されたノボラックを用いても、公知の
ハロゲン化されていないノボラックを用いても、この利
点は達成されない。ハロゲン化すｆｌていないポリビニ
ルフェノール結合剤と比較して、結合剤としてのハロゲ
ン化さ扛たポリビニルフェノールの使用によるもう１つ
の利点ハ、ベーキングされていない印刷ステンシルの、
助剤（例えば通例複写の間に、又は印刷時に使用さｎる
ある種の炭化水素溶液又はアルコール含有湿し水〕に対
する著るしく改良さｎた抵抗にある。
は、ベーキングの後に、支持材の画像（７） ナイ部分
上にベーキングによる残分が残らない事実により顕著で
ある。従って、もはや、ベーキングの前に付加的な水溶
性保護層を施こすか又は引続く現像剤での処理により残
分を除く必要はない 公知のハロゲン化されたノボラックを用いても、公知の
ハロゲン化されていないノボラックを用いても、この利
点は達成されない。ハロゲン化すｆｌていないポリビニ
ルフェノール結合剤と比較して、結合剤としてのハロゲ
ン化さ扛たポリビニルフェノールの使用によるもう１つ
の利点ハ、ベーキングされていない印刷ステンシルの、
助剤（例えば通例複写の間に、又は印刷時に使用さｎる
ある種の炭化水素溶液又はアルコール含有湿し水〕に対
する著るしく改良さｎた抵抗にある。
次の実施例につき、本発明をより詳細に説明する。ここ
で重量部及び容量部は、そ扛ぞｎ「ｇ」及び「ｄ」と同
じ関係を有する。他に記載のないかぎり、「％」は「重
量％」である。
で重量部及び容量部は、そ扛ぞｎ「ｇ」及び「ｄ」と同
じ関係を有する。他に記載のないかぎり、「％」は「重
量％」である。
例１
電気化学的に粗面化さｎ陰極酸化さｎたアルミニウム板
を次の溶液： ２、 ３． ４−トリヒドロキシ−ベンゾフェノン１モ
ルとナフトキノン−（ １．２）−ジアジド−（２）−
５−スルホン酸クロリド３モルとから得たエステル化生
成物 １．５０重量部 融点範囲１９０〜２２０℃を有し、臭素含分約５０％及
び平均分子量ａｏｏｏを有すル臭素化されたポリ−ｐ−
ビニルフェノール ６．００重量部 ２−（４−エトキシ−ナフチ−１−イル）−４，６−ビ
ス−トリクロルメチル−６−トリアジン ０．１６重量部 クリスタル・バイオレット ０．０７重量部を エチレングリコールモノメチルエーテル４０．００重量
部 及び テトラヒドロフラン ５０、ｏｏ重ｉ部
中に溶かした溶液でコーティングした。
を次の溶液： ２、 ３． ４−トリヒドロキシ−ベンゾフェノン１モ
ルとナフトキノン−（ １．２）−ジアジド−（２）−
５−スルホン酸クロリド３モルとから得たエステル化生
成物 １．５０重量部 融点範囲１９０〜２２０℃を有し、臭素含分約５０％及
び平均分子量ａｏｏｏを有すル臭素化されたポリ−ｐ−
ビニルフェノール ６．００重量部 ２−（４−エトキシ−ナフチ−１−イル）−４，６−ビ
ス−トリクロルメチル−６−トリアジン ０．１６重量部 クリスタル・バイオレット ０．０７重量部を エチレングリコールモノメチルエーテル４０．００重量
部 及び テトラヒドロフラン ５０、ｏｏ重ｉ部
中に溶かした溶液でコーティングした。
感光性複写層の適用の前に、陰極酸化された支持材を０
．１重量％濃度のポリビニルホスホン酸の水溶液で処理
した。
．１重量％濃度のポリビニルホスホン酸の水溶液で処理
した。
こうして製造したプレセンシタイズされた材料（これは
、２．０ｇ／７ｉの層重量を有する）を透明ボジチブオ
リジナルの下で画像に応じて露光し、引続き、メタ珪酸
ナトリウム・９Ｈ２０の０、５％濃度水溶液を用いて現
像させた。
、２．０ｇ／７ｉの層重量を有する）を透明ボジチブオ
リジナルの下で画像に応じて露光し、引続き、メタ珪酸
ナトリウム・９Ｈ２０の０、５％濃度水溶液を用いて現
像させた。
この複写層の部分（こｎは、光で照射された）を現像に
より除去し、露光されなかった画像部分は支持材上に残
り、オリジナルに相応する印刷ステンシルが得うレル。
より除去し、露光されなかった画像部分は支持材上に残
り、オリジナルに相応する印刷ステンシルが得うレル。
オフセット印刷時に、こうして得た印刷版から完全な印
刷物１０００００部を得ることができた。
刷物１０００００部を得ることができた。
印刷部数を拡大するために、かつ印刷ステンシルを硬化
するために、印刷版を熱処理に供した。この目的のため
に、現像後の乾燥された印刷版をベーキング炉内で２３
０℃で５分間加熱した。 ゛ 炉内での印刷版の加熱の結果として、印刷ステンシルは
硬化さｎ１層は化学品例えば修正液に対して抵抗を示す
ようになり、従って、有機溶剤例えばアセトン、アルコ
ール、トルエ＞又はキシレン中に不溶である。
するために、印刷版を熱処理に供した。この目的のため
に、現像後の乾燥された印刷版をベーキング炉内で２３
０℃で５分間加熱した。 ゛ 炉内での印刷版の加熱の結果として、印刷ステンシルは
硬化さｎ１層は化学品例えば修正液に対して抵抗を示す
ようになり、従って、有機溶剤例えばアセトン、アルコ
ール、トルエ＞又はキシレン中に不溶である。
加熱工程の後に、この印刷ステンシルは、水の存在で、
脂肪性インキで、直ちに里人ｎすることができ、印刷版
の付加的後処理は必要でない。２５００００枚の完全な
印刷がオフセット印刷法で得ることができた。
脂肪性インキで、直ちに里人ｎすることができ、印刷版
の付加的後処理は必要でない。２５００００枚の完全な
印刷がオフセット印刷法で得ることができた。
本発明の方法のハロゲン化さｎたポリビニルフェノール
が、ハロゲン化されていないポリビニルフェノール結合
剤の上に感光性組成物を有する利点は、例１において、
臭素化されたポリ−ｐ−ビニルフェノールが相応する臭
素化さ九ていないボＩＪ −ｐ−ビニルフェノールで代
よる際に明白になる。例１によって製造さｎた印刷剤例
えばアセトン中に不溶である場合に、結合剤として臭素
化されていないポＩＪ −ｐ−ビニルフェノールを含有
する相応する印刷版の印刷ス蜀１ テンシルは、輸液で溶かされ、１０分のベーキング時間
の後でも、層は、他は同じ試験条件下でアセトン中に可
溶のまま残る。
が、ハロゲン化されていないポリビニルフェノール結合
剤の上に感光性組成物を有する利点は、例１において、
臭素化されたポリ−ｐ−ビニルフェノールが相応する臭
素化さ九ていないボＩＪ −ｐ−ビニルフェノールで代
よる際に明白になる。例１によって製造さｎた印刷剤例
えばアセトン中に不溶である場合に、結合剤として臭素
化されていないポＩＪ −ｐ−ビニルフェノールを含有
する相応する印刷版の印刷ス蜀１ テンシルは、輸液で溶かされ、１０分のベーキング時間
の後でも、層は、他は同じ試験条件下でアセトン中に可
溶のまま残る。
ベーキングの前にも、例１に依る印刷ステンシルは、印
刷で用いら汎る助剤例えば湿し水、ローラークリーニン
グ剤又は版洗浄溶液に対して優れた抵抗を示す。例１に
より製造した印刷ステンシルは、５０％濃度のイソプロ
ノミノール溶液の５分間作用の後に可視的に侵されては
おらず、燐酸での酸性を示し、結合剤としてポリーｐ−
ビールフェノール茶含有する相応する印刷ステンシルは
１５秒の後に支持材から引離さｎる。
刷で用いら汎る助剤例えば湿し水、ローラークリーニン
グ剤又は版洗浄溶液に対して優れた抵抗を示す。例１に
より製造した印刷ステンシルは、５０％濃度のイソプロ
ノミノール溶液の５分間作用の後に可視的に侵されては
おらず、燐酸での酸性を示し、結合剤としてポリーｐ−
ビールフェノール茶含有する相応する印刷ステンシルは
１５秒の後に支持材から引離さｎる。
例１中で、臭素化さｎたポリ−ｐ−ビニルフェノールを
西ドイツ特許出願公開第３１０７１０９号明細書に記載
のように、同量のクレゾール−ホルムアルデヒドノボラ
ック又は、臭素台分３９％の臭素化さｎたクレゾールー
ホルムアルデヒ１ノゼラックで代え、現像さｎた印刷版
を他は同じで２３０℃でベーキングし、次いで、結合剤
としてポリ−ｐ−ビニルブロムフェノールを含有する相
応する印刷版とはちがって、脂肪性インクでの里人ｎの
際の画像のない部分に強い曇り現象が現わｎｌこｎはも
はや除くことができない。
西ドイツ特許出願公開第３１０７１０９号明細書に記載
のように、同量のクレゾール−ホルムアルデヒドノボラ
ック又は、臭素台分３９％の臭素化さｎたクレゾールー
ホルムアルデヒ１ノゼラックで代え、現像さｎた印刷版
を他は同じで２３０℃でベーキングし、次いで、結合剤
としてポリ−ｐ−ビニルブロムフェノールを含有する相
応する印刷版とはちがって、脂肪性インクでの里人ｎの
際の画像のない部分に強い曇り現象が現わｎｌこｎはも
はや除くことができない。
次の例で、同様な結果が得られた他の溶液を記載する。
他に記載のないかぎり、この溶液を用いて得た印刷版の
製造及び処理は、例１に記載の条件に相応する。
製造及び処理は、例１に記載の条件に相応する。
例２
電気化学的に粗面化さ扛、陰極酸化されたアルミニウム
版（この表面は、ポリビニルホスホン酸の水溶液で処理
した）に、 ２．３．４−トリヒドロキシ−ベンゾフェノン１モルと
ナフトキノン−（１，２） −−ｊアジ）’−（’２）
−５−スルホン酸クロリド３モルとから得たエステル化
生成物 １゜５０重量部 例１の臭素化さ扛たポリ−ｐ−ビニルフェノール
舎、００重量部軟化点１
０５〜１２０℃を有するクレゾールーホルムアルデヒｒ
ノゼラツク ２．００重量部 ２−（アセナフチ−５−イル）−牛、６−ビス−トリク
ロルメチル−Ｓ−トリアジン０．１６重量部 及び クリスタル・バイオレット ○、ｏ７重ｉ部を エチレングリコールモノメチルエーテル４０．００重量
部 及び テトラヒドロフラン ５０．００重量部
中に溶かした溶液でコーティングシタ。
版（この表面は、ポリビニルホスホン酸の水溶液で処理
した）に、 ２．３．４−トリヒドロキシ−ベンゾフェノン１モルと
ナフトキノン−（１，２） −−ｊアジ）’−（’２）
−５−スルホン酸クロリド３モルとから得たエステル化
生成物 １゜５０重量部 例１の臭素化さ扛たポリ−ｐ−ビニルフェノール
舎、００重量部軟化点１
０５〜１２０℃を有するクレゾールーホルムアルデヒｒ
ノゼラツク ２．００重量部 ２−（アセナフチ−５−イル）−牛、６−ビス−トリク
ロルメチル−Ｓ−トリアジン０．１６重量部 及び クリスタル・バイオレット ○、ｏ７重ｉ部を エチレングリコールモノメチルエーテル４０．００重量
部 及び テトラヒドロフラン ５０．００重量部
中に溶かした溶液でコーティングシタ。
この印刷版を透明ボジチプオリジナルを通して露光し、
１％濃度のメタ珪酸ナトリウム水溶液で現像した。
１％濃度のメタ珪酸ナトリウム水溶液で現像した。
例３
電気化学的に粗面化さｎ陰極酸化されたアルミニウム版
に、 ト、ルエン中の、７，７−ビス−ヒドロキシメチルー５
−オキサ−ノナン−（１）−オール及びトリメチルオル
トオルメートから製造したポリオルト−エステルの５０
％濃度溶液 ２
．４０重量部２−（４−エトキシ−ナラチー１−イル）
−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン ０．２０重量部 例１の臭素化さ几たポリビニルフェノール５．００重量
部 及び クリスタル・バイオレット塩基 ０．０３５重量部 を エチレングリコールモノメチルエーテル３０．００重量
部 及び テトラヒドロフラン ４０．００重量部
中に溶かした溶液でコーティングした。
に、 ト、ルエン中の、７，７−ビス−ヒドロキシメチルー５
−オキサ−ノナン−（１）−オール及びトリメチルオル
トオルメートから製造したポリオルト−エステルの５０
％濃度溶液 ２
．４０重量部２−（４−エトキシ−ナラチー１−イル）
−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン ０．２０重量部 例１の臭素化さ几たポリビニルフェノール５．００重量
部 及び クリスタル・バイオレット塩基 ０．０３５重量部 を エチレングリコールモノメチルエーテル３０．００重量
部 及び テトラヒドロフラン ４０．００重量部
中に溶かした溶液でコーティングした。
こうして製造した印刷版を画像に応じて、１１０ｃＩｎ
の間隔で、５’ＫＷ ハロゲン化金属灯のもとて２０秒
間露光し、引続き、例１の現像液を用いて現像した。
の間隔で、５’ＫＷ ハロゲン化金属灯のもとて２０秒
間露光し、引続き、例１の現像液を用いて現像した。
例４
電気化学的に粗面化さｎ１陰極酸化されたアルミニウム
版を、 トリエチレングリコールと２−エテルブチルアルデヒド
とから製造したポリアセタール
０．５５重量部２−（４−エト
キシ−ナフチ−１−イル〕−４，６−ピスートリクロル
メチルーＳ−トリアジン ０．１０重量部 例１の臭素化さｎたポリ−ｐ−ビニルフェノール １．５０重量部 軟化点１０５〜１２′Ｏ℃を有するクレゾールーホルム
アルデヒドノｌラック ０．５０重量部 及び クリスタル・バイオレット ０．０１６重量部を エチレンダリコールモノエチルエーテル２０．００重量
部 及び テトラヒドロフラン ２０．００重量部
中に溶かした溶液でコーティングした。
版を、 トリエチレングリコールと２−エテルブチルアルデヒド
とから製造したポリアセタール
０．５５重量部２−（４−エト
キシ−ナフチ−１−イル〕−４，６−ピスートリクロル
メチルーＳ−トリアジン ０．１０重量部 例１の臭素化さｎたポリ−ｐ−ビニルフェノール １．５０重量部 軟化点１０５〜１２′Ｏ℃を有するクレゾールーホルム
アルデヒドノｌラック ０．５０重量部 及び クリスタル・バイオレット ０．０１６重量部を エチレンダリコールモノエチルエーテル２０．００重量
部 及び テトラヒドロフラン ２０．００重量部
中に溶かした溶液でコーティングした。
こうして製造した印刷版を、１１ＯｃＩｎの間隔、５Ｋ
Ｗ ハロゲン化金属灯のもとで、画像に応じて露光し、
引続きメタ珪酸ナトリウムの１メ濃反水溶液で現像させ
た。
Ｗ ハロゲン化金属灯のもとで、画像に応じて露光し、
引続きメタ珪酸ナトリウムの１メ濃反水溶液で現像させ
た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、感光性化合物又はこの化合物の感光性配合物を含有
し、結合剤として、水中に不溶性モあるが、アルカリ水
溶液中に可溶のポリビニルフェノールを含有していて、
アルカリ水溶液中の溶解度が露光時に変わる感光性組成
物ニオいテ、ポリビニルフェノールはハ、ロゲン化さ扛
ていることを特徴とする、感光性組成物。 ２、 ポリビニルフェノールは臭素化さｎている、特許
請求の範囲第１項記載の組成物。 ３、ポリビニルフェノールは、ｐ−ビニルフェノールの
ポリマーである、特許請求の範囲第１項記載の感光性組
成物。 牛、 ハロゲン化されたポリビニルフェノールの量比は
、組成物の不揮発性成分に対して１゜〜９５重量％であ
る、特許請求の範囲第１項記載の感光性組成物。 ５、 ハロゲン化すれたポリビニルフェノールは２ｏ〜
６０重量％のハロゲン含有率を有する、特許請求の範囲
第１項記載の感光性組成物６、感光性化合物は、１．２
−キノンジアジドである、特許請求の範囲第１項記載の
感光性ａ）露光時に酸を生じる化合物及び ｂ）酸により分解さ几るＣ−０−Ｃ結合少なくとも１個
を有する化合物 の混合物である、特許請求の範囲第１項記載の感光性組
成−物。 ８、支持層及び感光層よりなり、感光性化合物又はこ牡
ら化合物の感光性配合物、結合剤としての水中に不溶で
アルカリ水溶液中に可溶性のポリビニルフェノールを含
有していて、アルカリ水溶液中のその溶解性が露光時に
変わる、感光性複写材料において、ポリビニルアルコー
ルはハロゲン化さ肛ていること全特徴とする、感光性複
写材料。 ９、支持層及び感光層よりなり、感光性化合物又はこれ
ら化合物の感光性配合物、結合剤としての水中に不溶で
あるがアルカリ水溶液中に可溶であるポリビニルフエ／
−ルを含有していて、アルカリ水溶液中のその溶解性が
露光時に変わる感光性複写材料を、画像に応じて露光し
、層の像のない部分を水性アルカリ現像液で洗浄し、材
料を高めた温度に加熱して画像層を硬化させることによ
って印刷版を製造する方法において、ポリビニルフェノ
ールはハロゲン化さｔたポリビニルフェノールであるこ
とを特徴とする、印刷版の製法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE32461062 | 1982-12-13 | ||
| DE19823246106 DE3246106A1 (de) | 1982-12-13 | 1982-12-13 | Lichtempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zur herstellung einer druckform aus dem kopiermaterial |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59114535A true JPS59114535A (ja) | 1984-07-02 |
Family
ID=6180546
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58225518A Pending JPS59114535A (ja) | 1982-12-13 | 1983-12-01 | 感光性組成物、これから製造した感光性複写材料及び印刷版の製法 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0111274B1 (ja) |
| JP (1) | JPS59114535A (ja) |
| AU (1) | AU571190B2 (ja) |
| BR (1) | BR8306803A (ja) |
| CA (1) | CA1254787A (ja) |
| DE (2) | DE3246106A1 (ja) |
| ES (1) | ES8503863A1 (ja) |
| FI (1) | FI834528A (ja) |
| ZA (1) | ZA839215B (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL8500320A (nl) * | 1985-02-06 | 1986-09-01 | Philips Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een inrichting en inrichting vervaardigd met de werkwijze. |
| DE3821585A1 (de) * | 1987-09-13 | 1989-03-23 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial fuer hochenergetische strahlung |
| US4812522A (en) * | 1987-12-04 | 1989-03-14 | Shell Oil Company | Molecularly miscible blends of polyketone with polyvinyl phenol |
| US5100768A (en) * | 1989-05-09 | 1992-03-31 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Photosensitive composition |
| DE4106356A1 (de) * | 1991-02-28 | 1992-09-03 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliche polymere mit naphthochinon-2-diazid-4-sulfonyl-gruppen und deren verwendung in einem positiv arbeitenden aufzeichnungsmaterial |
| AU2001288865A1 (en) * | 2000-09-08 | 2002-03-22 | Shipley Company, L.L.C. | Polymers and photoresist compositions comprising electronegative groups |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6053301B2 (ja) * | 1979-08-31 | 1985-11-25 | 冨士薬品工業株式会社 | ポジ型感光性組成物 |
| JPS5730829A (en) * | 1980-08-01 | 1982-02-19 | Hitachi Ltd | Micropattern formation method |
| DE3100077A1 (de) * | 1981-01-03 | 1982-08-05 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch, das einen naphthochinondiazidsulfonsaeureester enthaelt, und verfahren zur herstellung des naphthochinondiazidsulfonsaeureesters |
| DE3127754A1 (de) * | 1981-07-14 | 1983-02-03 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
| DD206518A3 (de) * | 1981-08-10 | 1984-01-25 | Akad Wissenschaften Ddr | Verfahren zur herstellung von mikrostrukturen |
| DE3246037A1 (de) * | 1982-12-09 | 1984-06-14 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zur herstellung einer druckform aus dem kopiermaterial |
-
1982
- 1982-12-13 DE DE19823246106 patent/DE3246106A1/de not_active Withdrawn
-
1983
- 1983-12-01 JP JP58225518A patent/JPS59114535A/ja active Pending
- 1983-12-02 EP EP83112142A patent/EP0111274B1/de not_active Expired
- 1983-12-02 DE DE8383112142T patent/DE3379079D1/de not_active Expired
- 1983-12-07 AU AU22169/83A patent/AU571190B2/en not_active Ceased
- 1983-12-09 FI FI834528A patent/FI834528A/fi not_active Application Discontinuation
- 1983-12-09 CA CA000442945A patent/CA1254787A/en not_active Expired
- 1983-12-12 ZA ZA839215A patent/ZA839215B/xx unknown
- 1983-12-12 ES ES527970A patent/ES8503863A1/es not_active Expired
- 1983-12-12 BR BR8306803A patent/BR8306803A/pt not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU2216983A (en) | 1984-06-21 |
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