JPS61144645A - 感光性混合物、この混合物から製造される感光性記録材料および平版印刷版の製法 - Google Patents
感光性混合物、この混合物から製造される感光性記録材料および平版印刷版の製法Info
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- JPS61144645A JPS61144645A JP60278107A JP27810785A JPS61144645A JP S61144645 A JPS61144645 A JP S61144645A JP 60278107 A JP60278107 A JP 60278107A JP 27810785 A JP27810785 A JP 27810785A JP S61144645 A JPS61144645 A JP S61144645A
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- binder
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/023—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0233—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は平版印刷板の製造で使用するために殊に好適な
、ボジチブ作用性感光性混合物に関する。
、ボジチブ作用性感光性混合物に関する。
従来の技術
印刷板の製造において使用できる、ｌ、２−ナフトキノ
ンジアジドを主体とするポジチブ作用性感光性混合物は
以前から公知である。露光の際強酸を形成する化合物と
酸により分離できる化合物、たとえばアセタールおよび
オルトカルボン酸エステルから成る混合物は、また最近
同じ目的のたぬに、たとえば西ドイツ国特許出願公開第
２６１０８４２号および同第２７１８２５４号明細書に
記載されている。これらの混合物は有利に水に不溶で、
アルカリ性水溶液に可溶性のバインダー、特にノーラッ
クを含有する。
ンジアジドを主体とするポジチブ作用性感光性混合物は
以前から公知である。露光の際強酸を形成する化合物と
酸により分離できる化合物、たとえばアセタールおよび
オルトカルボン酸エステルから成る混合物は、また最近
同じ目的のたぬに、たとえば西ドイツ国特許出願公開第
２６１０８４２号および同第２７１８２５４号明細書に
記載されている。これらの混合物は有利に水に不溶で、
アルカリ性水溶液に可溶性のバインダー、特にノーラッ
クを含有する。
この種の感光性材料の露光および現像により得られる印
刷版は、現像された版が数分間にわたって２００〜２５
０℃の範囲の温度に加熱される場合、著しく大きなプリ
ント数を生じる。
刷版は、現像された版が数分間にわたって２００〜２５
０℃の範囲の温度に加熱される場合、著しく大きなプリ
ント数を生じる。
・マインダーとしてノゼラツクを含有する感光性層の場
合、この加熱処理は画像部分の分解生成物から成り、ア
ルカリ性溶液での処理によってのみ再び除去できる親油
性沈殿を非画像部分に生じる。
合、この加熱処理は画像部分の分解生成物から成り、ア
ルカリ性溶液での処理によってのみ再び除去できる親油
性沈殿を非画像部分に生じる。
ヨーロツ・ξ特許第１１１２７４号明細書により、この
欠点はバインダーとしてノ・ロゲン化ポリビニルフェノ
ールを用いることにより取＆）除かれる。この種のバイ
ンダーを含有する印刷版が加熱されるか焼き付けられる
場合、非画像部分で沈殿は形成されない。しかしこの版
はその画像ａｔｉ分がアルカリ性溶液、たとえば延長さ
れた期間にわたって作用する現像液または少量のアルカ
リ分を含有する湿し水に対し感性１あり、これらの溶液
により攻撃される。通常、これはプリント数の減少とし
て明らかに表われる。
欠点はバインダーとしてノ・ロゲン化ポリビニルフェノ
ールを用いることにより取＆）除かれる。この種のバイ
ンダーを含有する印刷版が加熱されるか焼き付けられる
場合、非画像部分で沈殿は形成されない。しかしこの版
はその画像ａｔｉ分がアルカリ性溶液、たとえば延長さ
れた期間にわたって作用する現像液または少量のアルカ
リ分を含有する湿し水に対し感性１あり、これらの溶液
により攻撃される。通常、これはプリント数の減少とし
て明らかに表われる。
西ドイツ国特許第２３２２２３０号明細書（＝米国特許
第３８６９２９２号明細書）からポリビニルフェノール
それ自体をアルカリ−可溶性バインダーとして使用する
ことは公知である。ノゼラックと比較して、ポリビニル
フェノールは特別な適用のために有利である。
第３８６９２９２号明細書）からポリビニルフェノール
それ自体をアルカリ−可溶性バインダーとして使用する
ことは公知である。ノゼラックと比較して、ポリビニル
フェノールは特別な適用のために有利である。
他のアルカリ可溶性ノぞインダーはネガチプー作用性感
光性材料の成分としてのみ公知である。
光性材料の成分としてのみ公知である。
ヨーロッパ特許第４８８７６号明細書には、たとえば、
ネガチブ作用印刷板の製造において使用するための、ジ
アゾニウム塩重縮合生成物およびポリマー、たとえばポ
リビニルアセタールから成る、スルホニルウレタン側基
を有する化合物が記載されている。この文献に記載され
たアルカリ−可溶性ポリマーは、これが水性アルカリ中
で溶性でありすぎ、このようにして製造された層が従っ
て不十分な現像液抵抗性を有し、わずかすぎるプリント
数を生じるので、ポジチブ作用層、たとえば１，２−キ
ノンジアジドを主体とする層中では使用１きないことが
判明した。
ネガチブ作用印刷板の製造において使用するための、ジ
アゾニウム塩重縮合生成物およびポリマー、たとえばポ
リビニルアセタールから成る、スルホニルウレタン側基
を有する化合物が記載されている。この文献に記載され
たアルカリ−可溶性ポリマーは、これが水性アルカリ中
で溶性でありすぎ、このようにして製造された層が従っ
て不十分な現像液抵抗性を有し、わずかすぎるプリント
数を生じるので、ポジチブ作用層、たとえば１，２−キ
ノンジアジドを主体とする層中では使用１きないことが
判明した。
発明が解決しようとする問題点
従って本発明の課覇は、高い現像液抵抗性を有し、多い
プリント数を生じ、工程中″ｌｕ像背景を汚すことなし
に現像後焼き付けることができる、平版印刷板の製造で
使用するために適した、ポ、クチプ作用性感光性混合物
を提供することである。
プリント数を生じ、工程中″ｌｕ像背景を汚すことなし
に現像後焼き付けることができる、平版印刷板の製造で
使用するために適した、ポ、クチプ作用性感光性混合物
を提供することである。
問題点を解決するための手段
本発明により、感光性化合物またはその可溶性が露光の
屍増大する化合物の感光性混合物および水に不溶であり
、水性アルカリに可溶性フある、スチレン誘導体のポリ
マーから成るバインダー１種を含有する、感光性混合物
が提供される。
屍増大する化合物の感光性混合物および水に不溶であり
、水性アルカリに可溶性フある、スチレン誘導体のポリ
マーから成るバインダー１種を含有する、感光性混合物
が提供される。
本発明による混合物は、バインダーがアルケニルスルホ
ニルアミノカルボニルオキシスチレンまたはシクロアル
ケニルスルホニルアミノカルボニルオキシスチレンの単
位から成るこトラ特徴とする。
ニルアミノカルボニルオキシスチレンまたはシクロアル
ケニルスルホニルアミノカルボニルオキシスチレンの単
位から成るこトラ特徴とする。
本発明はまた支持体および前記の組成の感光性混合物か
ら成る感光性層から構成される、感光性記録材料を提供
する。
ら成る感光性層から構成される、感光性記録材料を提供
する。
本発明により、さらに、前記の組成の感光性記録材料の
画像に応じた露光、感光性層の露光部分のアルカリ性現
像水溶液を用いる洗浄および現像および乾燥された印刷
版の１８０〜２５０℃の温度への、１〜２ｏ分間にわた
る加熱の工程から成る、平版印刷版の製法が提供される
。
画像に応じた露光、感光性層の露光部分のアルカリ性現
像水溶液を用いる洗浄および現像および乾燥された印刷
版の１８０〜２５０℃の温度への、１〜２ｏ分間にわた
る加熱の工程から成る、平版印刷版の製法が提供される
。
本発明による混合物で使用されるスルホニルウレタン基
を含有するスチレンポリマーは、ヒドロキシスチレン単
位を有するポリマーの、式： ％式％ 〔式中Ｒは少なくとも１つのオレフィン二重結合を有す
る脂肪族または環状脂肪族基である〕に相当するスルホ
ニルイソシアネートとの反応により製造する。基Ｒは一
般に２〜１２の炭素原子および１つのオレフィンの二重
結合を含有する。Ｒがアルケニル基を表わす場合、後者
は有利に２〜４の炭素原子を有し；適したシクロアルケ
ニル基は５〜８の炭素原子を有するようなもの１ある。
を含有するスチレンポリマーは、ヒドロキシスチレン単
位を有するポリマーの、式： ％式％ 〔式中Ｒは少なくとも１つのオレフィン二重結合を有す
る脂肪族または環状脂肪族基である〕に相当するスルホ
ニルイソシアネートとの反応により製造する。基Ｒは一
般に２〜１２の炭素原子および１つのオレフィンの二重
結合を含有する。Ｒがアルケニル基を表わす場合、後者
は有利に２〜４の炭素原子を有し；適したシクロアルケ
ニル基は５〜８の炭素原子を有するようなもの１ある。
例はビニル、プロペニル、アリル、１−ブテニル−（４
）−、シクロへグー３−エン−１−イル、シクロへグー
１−エニル、およびメチル−シクロへクー３−エン−１
−イル基である。プロペニルおよびシクロヘキセニル基
が殊に適している。
）−、シクロへグー３−エン−１−イル、シクロへグー
１−エニル、およびメチル−シクロへクー３−エン−１
−イル基である。プロペニルおよびシクロヘキセニル基
が殊に適している。
本発明による混合物中に含有されるポリマーは、出発ポ
リマー中にヒドロキシル基を有する、芳香族炭素原子に
架橋された部分 −０−ＣＱＮＨ−３Ｏ−Ｒ 〔式中窒素原子に結合されている水素原子は、カルボニ
ルおよびスルホニル基により、これが水性アルカリによ
りプロトンとして分離できるほど強く活性化されている
〕を含有し、それにより水性−アルカリ現像液中での現
像力が生じる。
リマー中にヒドロキシル基を有する、芳香族炭素原子に
架橋された部分 −０−ＣＱＮＨ−３Ｏ−Ｒ 〔式中窒素原子に結合されている水素原子は、カルボニ
ルおよびスルホニル基により、これが水性アルカリによ
りプロトンとして分離できるほど強く活性化されている
〕を含有し、それにより水性−アルカリ現像液中での現
像力が生じる。
本発明により使用されるバインダーを製造するために必
要なスルホニルイソシアネートは、ヨーロツノξ特許第
４８８７６号明細書および西ドイツ国特許第１２９７６
０１号明細書に記載されている。
要なスルホニルイソシアネートは、ヨーロツノξ特許第
４８８７６号明細書および西ドイツ国特許第１２９７６
０１号明細書に記載されている。
スルホニルイソシアネートをヒドロキシスチレン単位を
含有するポリマーと反応させ、反応は有利に２０〜４ｏ
０Ｃの温度で３〜４時間、不活性溶剤、たとえばジオキ
サンまたはテトラヒドロフラン中で進行する。芳香族ヒ
ドロキシル基に加えて、とｌ″ａａキシスチレン単位分
子量アルキルまたはアルコキシ基またはハロゲン原子の
ような他の置換基を含有できる。有利に反応は、ヒドロ
キシスチレン単位の全フェノール基がイソシアネートと
反応するような方法で行なう。反応生成物を分離するた
ぬに、反応の終了の際得られる澄明溶液を室扁で除々に
１０倍量の水に滴加する。方法中、反応生成物は無色、
無定形の、しかし容易にｅ過可能な材料の形で沈殿する
。生成物を有利上再び水に懸濁し、Ｐ別および乾燥する
。
含有するポリマーと反応させ、反応は有利に２０〜４ｏ
０Ｃの温度で３〜４時間、不活性溶剤、たとえばジオキ
サンまたはテトラヒドロフラン中で進行する。芳香族ヒ
ドロキシル基に加えて、とｌ″ａａキシスチレン単位分
子量アルキルまたはアルコキシ基またはハロゲン原子の
ような他の置換基を含有できる。有利に反応は、ヒドロ
キシスチレン単位の全フェノール基がイソシアネートと
反応するような方法で行なう。反応生成物を分離するた
ぬに、反応の終了の際得られる澄明溶液を室扁で除々に
１０倍量の水に滴加する。方法中、反応生成物は無色、
無定形の、しかし容易にｅ過可能な材料の形で沈殿する
。生成物を有利上再び水に懸濁し、Ｐ別および乾燥する
。
出発ポリマーはｏ−ｌｍ−またはｐ−ヒドロキシスチレ
ンの、他のビニル化合物、たとえばスチレン、無水マレ
イン酸またはマンイン酸モノエステル、アクリルまたは
メタクリル酸エステルとのホモポリマーまたはコポリマ
ーである。所望により、アルカリ可溶性の度合いはコモ
ノマーの配分により調節ｔきる。一般にコボリマーはヒ
ドロキシスチレン単位中なくトも５０モル％を包含する
。３０００〜２００００の平均分子量（数平均分子量）
を有するポリマーを有利に使用するにもかかわらず、よ
り高いかより低い分子量のポリマーも使用にとって好適
である。
ンの、他のビニル化合物、たとえばスチレン、無水マレ
イン酸またはマンイン酸モノエステル、アクリルまたは
メタクリル酸エステルとのホモポリマーまたはコポリマ
ーである。所望により、アルカリ可溶性の度合いはコモ
ノマーの配分により調節ｔきる。一般にコボリマーはヒ
ドロキシスチレン単位中なくトも５０モル％を包含する
。３０００〜２００００の平均分子量（数平均分子量）
を有するポリマーを有利に使用するにもかかわらず、よ
り高いかより低い分子量のポリマーも使用にとって好適
である。
感光性混合物中ｔのスルホニルウレタン基含有ポリスチ
レン誘導体の濃度は、感光性系の性質およびその適用に
発じて広く変化できる。一般にこれは感光性混合物の非
揮発性成分の重量に対し、１０〜８０、有利に２０〜６
０重量％の配分で存在する。
レン誘導体の濃度は、感光性系の性質およびその適用に
発じて広く変化できる。一般にこれは感光性混合物の非
揮発性成分の重量に対し、１０〜８０、有利に２０〜６
０重量％の配分で存在する。
本発明の感光性混合物はさらに感光性化合物または化合
物の感光性混合物を含有する。好適な化合物はポジチプ
作用化合物、即ち、たとえば０−キノンジアジドおよび
光導電性酸供与体の混合物および酸により分離できる化
合物、たとえばオルトカルボン酸化合物およびアセター
ル化合物のような露光により可溶にされる化合物を包含
する。
物の感光性混合物を含有する。好適な化合物はポジチプ
作用化合物、即ち、たとえば０−キノンジアジドおよび
光導電性酸供与体の混合物および酸により分離できる化
合物、たとえばオルトカルボン酸化合物およびアセター
ル化合物のような露光により可溶にされる化合物を包含
する。
本発明の混合物および方法は、これらの材料のプリント
数が焼き付けることにより殊に大きく増大されるので、
Ｏ−キノンジアジドを主体とする感光性材料との結合で
殊に有利である。
数が焼き付けることにより殊に大きく増大されるので、
Ｏ−キノンジアジドを主体とする感光性材料との結合で
殊に有利である。
この種の好適な材料は公知であり、たとえば西ドイツ国
特許第９３８２３３号明細書および西ドイツ国特許出願
公開第２３３１３７７号、同第２５４７９０５号および
同第２８２８０３７号明細書に記載されている。適した
０−キノンジアジドはナフトキノン−（１，２）−ジア
ジド−（２）−４−スルホン酸またはナフトキノン−（
１，２）−ジアジド−（２）−５−スルホン酸のエステ
ルおよびアミドを包含する。これらのうち、エステル、
殊に５−スルホン酸のエステルが殊に適している。０−
キノンジアジド化合物は通常混合物の非揮発性成分に対
し５〜５０重量％、特に１０〜３０重量％の量で存在す
る。
特許第９３８２３３号明細書および西ドイツ国特許出願
公開第２３３１３７７号、同第２５４７９０５号および
同第２８２８０３７号明細書に記載されている。適した
０−キノンジアジドはナフトキノン−（１，２）−ジア
ジド−（２）−４−スルホン酸またはナフトキノン−（
１，２）−ジアジド−（２）−５−スルホン酸のエステ
ルおよびアミドを包含する。これらのうち、エステル、
殊に５−スルホン酸のエステルが殊に適している。０−
キノンジアジド化合物は通常混合物の非揮発性成分に対
し５〜５０重量％、特に１０〜３０重量％の量で存在す
る。
酸により分離できる化合物を主体とする材料はまた良好
に焼き付けられ、本発明による方法で使用される。この
種の記録材料は公知であり、たとえば米国特許第３７７
９７７８号およびＦｌ第４１０１３２３号明細書、西ド
イツ国特許第２７１８２５４号明細書および西ドイツ国
特許出願公開第２８２９５１２号、同第２８２９５１１
号および同第２９２８６３６号明細書に記載されている
。これらの材料は酸により分離できる化合物として、オ
ルトカルボン酸誘導体、モノマーまたはポリマーのアセ
タール、エノールエーテルまたはアシルイミノカルゼネ
ートを包含する。これらの材料中に含有される、放射線
感性、酸−形成性化合物は、ハロゲノメチル基により置
換された、有機ハロゲン化合物、殊にｓ−トリアジン、
２−トリクロロメチル−１，３，４−オキサ、フォール
またはトリクロロメチル−ベンゾイルメチレンはンゾチ
アプリンを含有する。
に焼き付けられ、本発明による方法で使用される。この
種の記録材料は公知であり、たとえば米国特許第３７７
９７７８号およびＦｌ第４１０１３２３号明細書、西ド
イツ国特許第２７１８２５４号明細書および西ドイツ国
特許出願公開第２８２９５１２号、同第２８２９５１１
号および同第２９２８６３６号明細書に記載されている
。これらの材料は酸により分離できる化合物として、オ
ルトカルボン酸誘導体、モノマーまたはポリマーのアセ
タール、エノールエーテルまたはアシルイミノカルゼネ
ートを包含する。これらの材料中に含有される、放射線
感性、酸−形成性化合物は、ハロゲノメチル基により置
換された、有機ハロゲン化合物、殊にｓ−トリアジン、
２−トリクロロメチル−１，３，４−オキサ、フォール
またはトリクロロメチル−ベンゾイルメチレンはンゾチ
アプリンを含有する。
米国特許第４１０１３２３号明細書に記載されたオルト
カルダン酸誘導体の中で、脂肪族ジオールのビス−１，
３−ジオキサン−２−イル−エーテルが殊に使用される
。
カルダン酸誘導体の中で、脂肪族ジオールのビス−１，
３−ジオキサン−２−イル−エーテルが殊に使用される
。
西ドイツ国特許第２７１８２５４号明細書に記載された
ポリアセタールの中１１脂肪族アルデヒド単位およびジ
オール単位を有するものが適している。
ポリアセタールの中１１脂肪族アルデヒド単位およびジ
オール単位を有するものが適している。
他の非常に好適な混合物は西ドイツ国特許出願公開第２
９２８６３６号明細書に記載されている。この文献には
、主鎖中に反復オルトエステル基を有するポリマーのオ
ルトエステルが酸により分離できる化合物として記載さ
れている。これらの基は５〜６の現員を有する１、３−
ジオキサ−シクロアルカンの２−アルキルエーテルであ
る。アルキルエーテル基がエーテル酸素原子により中断
されていてよく、有利に隣接した環の５−位に接続され
る、反復１，３−ジオキチーシクロへキー２−イル−ア
ルキルエーテルを有するポリマーが殊に適している。
９２８６３６号明細書に記載されている。この文献には
、主鎖中に反復オルトエステル基を有するポリマーのオ
ルトエステルが酸により分離できる化合物として記載さ
れている。これらの基は５〜６の現員を有する１、３−
ジオキサ−シクロアルカンの２−アルキルエーテルであ
る。アルキルエーテル基がエーテル酸素原子により中断
されていてよく、有利に隣接した環の５−位に接続され
る、反復１，３−ジオキチーシクロへキー２−イル−ア
ルキルエーテルを有するポリマーが殊に適している。
感光性混合物中の、酸により分離できる化合物の定計配
分は一般に混合物の非揮発性成分に対し、８〜６５、有
利に１４〜４４重量％である。酸形成性化合物の定量は
０．１〜１０．有利に０．２〜５重量％である。
分は一般に混合物の非揮発性成分に対し、８〜６５、有
利に１４〜４４重量％である。酸形成性化合物の定量は
０．１〜１０．有利に０．２〜５重量％である。
スルホニルウレタン基を含有スルホリマーに加えて、多
数の他の樹脂、たとえばポリビニルアセテート、ポリア
クリレート、ポリビニルエーテル、ポリビニルアセター
ル、ポリビニルピロリドンのようなビニルポリマーおよ
びこれらの樹脂を基礎とするモノマーのコポリマーが本
発明による感光性混合物中で使用される。好適な樹脂は
ノゼラック、殊に置換フェノールおよびホルムアルデヒ
ドから得られる比較的高度に縮合された縮合生成物また
はフェノール誘導体オヨび４，４−ビス−メトキシメチ
ル−ジフェニルエーテルの縮合生成物である。これらの
樹脂の最も有利な配分は適用技術的要求および現像条件
への影響に依存し、通常スルホニルウレタン基を含有す
るポリマーの５０重量％を越えない。たわみ性、付着、
光沢、着色および色度その他の様な特別な要求を満たす
ために、感光性混合物はその上にたとえばポリグリコー
ル、エチルセルコースのようなセルロース誘導体、湿潤
剤、染料、接着助剤および細分された顔料、および所望
によりＵ■−吸収剤のような物質の少量を含有していて
よい。
数の他の樹脂、たとえばポリビニルアセテート、ポリア
クリレート、ポリビニルエーテル、ポリビニルアセター
ル、ポリビニルピロリドンのようなビニルポリマーおよ
びこれらの樹脂を基礎とするモノマーのコポリマーが本
発明による感光性混合物中で使用される。好適な樹脂は
ノゼラック、殊に置換フェノールおよびホルムアルデヒ
ドから得られる比較的高度に縮合された縮合生成物また
はフェノール誘導体オヨび４，４−ビス−メトキシメチ
ル−ジフェニルエーテルの縮合生成物である。これらの
樹脂の最も有利な配分は適用技術的要求および現像条件
への影響に依存し、通常スルホニルウレタン基を含有す
るポリマーの５０重量％を越えない。たわみ性、付着、
光沢、着色および色度その他の様な特別な要求を満たす
ために、感光性混合物はその上にたとえばポリグリコー
ル、エチルセルコースのようなセルロース誘導体、湿潤
剤、染料、接着助剤および細分された顔料、および所望
によりＵ■−吸収剤のような物質の少量を含有していて
よい。
好適な支持体の塗布のために、混合物を一般に溶剤中に
溶解する。溶剤の選択は予期された、塗布工程、層厚お
よび乾燥条件に合致すべきである。本発明による混合物
のために好適な溶剤はメチルエチルケトンのようなケト
ン；トリクロロエチレンおよび１，１．１−トリクロロ
エタンのような塩素化炭化水素；ｎ−プロパツールのよ
うなアルコール；テトラヒドロフランツＪ：つｆｘエー
テル；エチレングリコールモノエチルエーテルのような
アルコールエーテル；および酢酸ブチルのようなエステ
ルである。特別な目的のために、アセトニトリル、ノオ
キサンまたはジメチルホルムアミドのような溶剤も含有
できる、混合物を使用することもできる。原則的に、層
成分と不可逆的に反応しない全ての溶剤が使用できる。
溶解する。溶剤の選択は予期された、塗布工程、層厚お
よび乾燥条件に合致すべきである。本発明による混合物
のために好適な溶剤はメチルエチルケトンのようなケト
ン；トリクロロエチレンおよび１，１．１−トリクロロ
エタンのような塩素化炭化水素；ｎ−プロパツールのよ
うなアルコール；テトラヒドロフランツＪ：つｆｘエー
テル；エチレングリコールモノエチルエーテルのような
アルコールエーテル；および酢酸ブチルのようなエステ
ルである。特別な目的のために、アセトニトリル、ノオ
キサンまたはジメチルホルムアミドのような溶剤も含有
できる、混合物を使用することもできる。原則的に、層
成分と不可逆的に反応しない全ての溶剤が使用できる。
約１０μｍより少ない層厚のために使用される支持体は
、たいてい金属である。次のものがオフセット印刷板の
ために使用される：所望により陽極酸化され、それに加
えてまた、たとえば、ポリビニルホスホン酸、ケイ酸塩
、ヘキサフルオロジルコニウム酸塩、加水分解されたテ
トラエチルオルトケイ酸塩またはリン酸塩を用いて化学
的に前処理された、ミル仕上げされた、機械的または電
気化学的に粗面化されたアルミニウム。
、たいてい金属である。次のものがオフセット印刷板の
ために使用される：所望により陽極酸化され、それに加
えてまた、たとえば、ポリビニルホスホン酸、ケイ酸塩
、ヘキサフルオロジルコニウム酸塩、加水分解されたテ
トラエチルオルトケイ酸塩またはリン酸塩を用いて化学
的に前処理された、ミル仕上げされた、機械的または電
気化学的に粗面化されたアルミニウム。
支持材料の塗布は自体公知の方法で、ローラーまたはス
ロットダイ、ブレード塗布または塗布機適用を伴う回転
塗布、噴霧、浸漬により行なう。
ロットダイ、ブレード塗布または塗布機適用を伴う回転
塗布、噴霧、浸漬により行なう。
露光のために、技術的に通常の光源を使用する。電子線
またはレーザーを用いる照射も画像の製造のために可能
である。
またはレーザーを用いる照射も画像の製造のために可能
である。
段階をつけられたアルカリ性を有する、即ち有利に１０
〜１４のｐＨを有し、有機溶剤または湿潤剤の少量も含
有する、記録材料を現像するために使用されるアルカリ
性水溶液は、光により照射された記録材料の部分を除去
し、このようにして原図の？フチ１画像を生じる。
〜１４のｐＨを有し、有機溶剤または湿潤剤の少量も含
有する、記録材料を現像するために使用されるアルカリ
性水溶液は、光により照射された記録材料の部分を除去
し、このようにして原図の？フチ１画像を生じる。
本発明による感光性混合物の好適な使用は、支持体とし
て金属、殊にアルミニウムを用いる印刷版、殊にオフセ
ット印刷版の製造である。
て金属、殊にアルミニウムを用いる印刷版、殊にオフセ
ット印刷版の製造である。
現像後、印刷版を公知方法で加熱する。焼付は温度は約
１８０〜２５０℃１殊に２００〜２４０℃であってよく
、１〜２０分、特に５〜１０分の加熱時間が通常所望で
ある。支持体相別がより高温で安定である場合、より高
い温度で焼付け、相当してより短い加熱時間を選択する
こともできる。
１８０〜２５０℃１殊に２００〜２４０℃であってよく
、１〜２０分、特に５〜１０分の加熱時間が通常所望で
ある。支持体相別がより高温で安定である場合、より高
い温度で焼付け、相当してより短い加熱時間を選択する
こともできる。
本発明による混合物およびそれにより製造される感光性
記録材料は、７全に現像された印刷版の焼イ４け後叉持
体の非−画像部分に実際焼付は残分を残留しないという
利点を有する。
記録材料は、７全に現像された印刷版の焼イ４け後叉持
体の非−画像部分に実際焼付は残分を残留しないという
利点を有する。
それゆえ、焼付は前に水溶性保護層の付加的な適用また
は現像溶液を用いる処理による残分の引続く除去を省く
ことができる。
は現像溶液を用いる処理による残分の引続く除去を省く
ことができる。
本発明の混合物は、またプリント配線および同様の製品
用の基盤の製造でも使用される。これは高い実際の光感
度、画像部分と非画像部分の間の明確な差異、高い解像
力、大きいプリント数、前記の通常の塗布溶剤中での他
の成分との良好な相溶性および有機溶剤不含の水性現像
液中での容易な、かぶりのない現像力を生じる。
用の基盤の製造でも使用される。これは高い実際の光感
度、画像部分と非画像部分の間の明確な差異、高い解像
力、大きいプリント数、前記の通常の塗布溶剤中での他
の成分との良好な相溶性および有機溶剤不含の水性現像
液中での容易な、かぶりのない現像力を生じる。
本発明を次の実施例につき詳述し、例中重量部（ｐ、ｂ
、ｗ、）および容量部（ｏ、ｂ、ｖ、）はｇ対ｃｍの比
を表わす。別記しないかぎりパーセンテージは重量％で
アル。
、ｗ、）および容量部（ｏ、ｂ、ｖ、）はｇ対ｃｍの比
を表わす。別記しないかぎりパーセンテージは重量％で
アル。
実施例
例１
８０００の平均分子量を有し、５１．６重量％の臭素含
量を有する臭素化プリーｐ−ヒドロキシスチレン１２３
ｐ、ｂ、ｗ ヲ無水テトラヒドロフラフ２００ｍノに
溶解した。この溶液に、攪拌シながらプσにニルスルホ
ニルイソシアネート（ＰＳ ｌ ）９２ｐ、ｂ、ｗ、を
滴加し、反応温度を工程中途々に高めた。ＰＳ１添加の
終了後、室温で１時間攪拌し、反応溶液をその後一時間
連続的攪拌で、還流下に沸騰した。その後反応溶液を冷
却し、できるかぎり細かい噴流の形で、強力に攪拌しな
がら氷水約７０００ ｐ、ｂ、ｖ。
量を有する臭素化プリーｐ−ヒドロキシスチレン１２３
ｐ、ｂ、ｗ ヲ無水テトラヒドロフラフ２００ｍノに
溶解した。この溶液に、攪拌シながらプσにニルスルホ
ニルイソシアネート（ＰＳ ｌ ）９２ｐ、ｂ、ｗ、を
滴加し、反応温度を工程中途々に高めた。ＰＳ１添加の
終了後、室温で１時間攪拌し、反応溶液をその後一時間
連続的攪拌で、還流下に沸騰した。その後反応溶液を冷
却し、できるかぎり細かい噴流の形で、強力に攪拌しな
がら氷水約７０００ ｐ、ｂ、ｖ。
に注いだ。その後さらに１時間攪拌した。反応生成物を
沈降させ、上澄み液をデカントし、生成物を吸引濾過し
た。乾燥後、ポリマーの反応生成物は８０〜１０００Ｃ
の溶融範囲を有した。
沈降させ、上澄み液をデカントし、生成物を吸引濾過し
た。乾燥後、ポリマーの反応生成物は８０〜１０００Ｃ
の溶融範囲を有した。
電気化学的に粗面化され、陽極酸化されたアルミニウム
板を次の溶液で塗布した： エチレングリコールモノメチルエーテル４Ｑｐ、ｂ、ｗ
、および テトラヒドロフラン ５Ｑｐ、ｂ、ｗ、 中の２
．３．４−トリヒドロキシベンゾフェノン１モルおよび ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−（２）−５−ス
ルホン酸クロリド ３モルから得られるエステル化生成
物 １６８０ｐ、ｂ、ｗ。
板を次の溶液で塗布した： エチレングリコールモノメチルエーテル４Ｑｐ、ｂ、ｗ
、および テトラヒドロフラン ５Ｑｐ、ｂ、ｗ、 中の２
．３．４−トリヒドロキシベンゾフェノン１モルおよび ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−（２）−５−ス
ルホン酸クロリド ３モルから得られるエステル化生成
物 １６８０ｐ、ｂ、ｗ。
前記のバインダー ４００ ｐ、ｂ 、ｗ、、
ナフトキノン−（１、２）−ジアジド−（２）−生−ス
ルホン酸クロリド ０．１５ ｐ、ｂ、ｗ、、および クリスタルバイオレット ０．０７ ｐ、ｂ 、ｗ、
。
ナフトキノン−（１、２）−ジアジド−（２）−生−ス
ルホン酸クロリド ０．１５ ｐ、ｂ、ｗ、、および クリスタルバイオレット ０．０７ ｐ、ｂ 、ｗ、
。
約２．５ ｇ ／ｎ”１２の層重量を有する、このよう
に製造された予備感光材料を透明なボジチブ原図下に画
像に応じて露光し、その後メタケイ酸ナトリウム九水塩
の０．２５％濃度の水溶液で現像する。光により照射さ
れた記録層の部分を現像により除去し、非露光画像部分
が支持体上に残留し、そこで原図に相当する印刷ステン
シルを得た。オフセット印刷機を用いて、この方法で製
造された印刷版から１００，０００の完全なプリントを
得ることができた。
に製造された予備感光材料を透明なボジチブ原図下に画
像に応じて露光し、その後メタケイ酸ナトリウム九水塩
の０．２５％濃度の水溶液で現像する。光により照射さ
れた記録層の部分を現像により除去し、非露光画像部分
が支持体上に残留し、そこで原図に相当する印刷ステン
シルを得た。オフセット印刷機を用いて、この方法で製
造された印刷版から１００，０００の完全なプリントを
得ることができた。
ＶＡＪ １により製造される縮合生成物が塗布溶液でポ
リ−ｐ−ビニルフェノール（ｌＶＩＷ５３００）に置き
１ゆえられる場合、このようにして製造された感光性印
刷板は露光後透明な原図により、他の点では同じ条件下
にもはや現像できず、即ち元により照射された記録層の
部分でさえも支持体上に残留する。
リ−ｐ−ビニルフェノール（ｌＶＩＷ５３００）に置き
１ゆえられる場合、このようにして製造された感光性印
刷板は露光後透明な原図により、他の点では同じ条件下
にもはや現像できず、即ち元により照射された記録層の
部分でさえも支持体上に残留する。
プリント数を増加し、印刷ステ／シルを強化するために
、印刷版を熱処理にかけた。この目的のために、現像お
よび乾燥された印刷版を２３０’Ｃで５分間焼成炉で加
熱した。オーブン中での印刷版の加熱により、印刷ステ
ンシルを強化しおよび層を化学薬品、たとえば修正液に
対し抵抗性にし、およびアセトン、アルコール、トルエ
ンまたはキシレンのような有機溶剤に不溶にした。
、印刷版を熱処理にかけた。この目的のために、現像お
よび乾燥された印刷版を２３０’Ｃで５分間焼成炉で加
熱した。オーブン中での印刷版の加熱により、印刷ステ
ンシルを強化しおよび層を化学薬品、たとえば修正液に
対し抵抗性にし、およびアセトン、アルコール、トルエ
ンまたはキシレンのような有機溶剤に不溶にした。
加熱処理後、印刷ステンシルを水の存在で油性の印刷イ
ンキでインキ付けした。工程中、印刷ステンシルのみが
インキを受容し、一方印刷版の非−画像部分はインキを
はじいた。オフセット印刷機で、２５０，０００の完全
なプリントを製造した。
ンキでインキ付けした。工程中、印刷ステンシルのみが
インキを受容し、一方印刷版の非−画像部分はインキを
はじいた。オフセット印刷機で、２５０，０００の完全
なプリントを製造した。
例１で使用される臭素化ポリ−Φ−（ゾロペニルスルホ
ニルアミノカルゼニルオキシ）−スチレンが回置のクレ
ゾール−ホルムアルデヒドノボラックに置き換えられ、
現像された印刷版がその他は同じ条件下に２３０’Ｃで
焼き付けられる場合、本発明による印刷版とは反対に、
油性インキを用いるインキ付けの際、非画像部分に、再
び除去できないひどい汚れが形成する。
ニルアミノカルゼニルオキシ）−スチレンが回置のクレ
ゾール−ホルムアルデヒドノボラックに置き換えられ、
現像された印刷版がその他は同じ条件下に２３０’Ｃで
焼き付けられる場合、本発明による印刷版とは反対に、
油性インキを用いるインキ付けの際、非画像部分に、再
び除去できないひどい汚れが形成する。
次列で同様の結果を生じる塗布溶液をさらに詳述する。
別記しないかぎり、この塗布溶液を用いて得られる印刷
板の製造および処理は、例１に記載された条件に一致す
る。
板の製造および処理は、例１に記載された条件に一致す
る。
例２
電気化学的に粗面化されたおよび陽極酸化されたアルミ
ニウム板を、 エチレングリコールモノメチルエーテル４０ ｐ、ｂ９
ｗ。
ニウム板を、 エチレングリコールモノメチルエーテル４０ ｐ、ｂ９
ｗ。
およびテトラヒドロフラン
５Ｑｐ、ｂ、ｗ、中の
２．３．４−ｈリヒドロキシベンｙン＼ｘメゾフェノン
１モル １℃℃〜＼へ＼翫＼およびナフト
キノン−（１，２） 一ジアジドー（２）−５−スルホ ン酸クロリド ３モルから得られ るエステル化生成物 １．６０ ｐ、ｂ、ｗ
・例１で示されたポリマーのバインダー ４、ｏｏｐ、ｂ、Ｗ。
１モル １℃℃〜＼へ＼翫＼およびナフト
キノン−（１，２） 一ジアジドー（２）−５−スルホ ン酸クロリド ３モルから得られ るエステル化生成物 １．６０ ｐ、ｂ、ｗ
・例１で示されたポリマーのバインダー ４、ｏｏｐ、ｂ、Ｗ。
１０５〜１２０℃の軟化点を有する
クレゾール−ホルムアルデヒドノ
ボラック ２．００ｐ、ｂ、ｗナフトキノン
−（１，２）−シアノド− （２）−４−スルホン酸クロリド０ ．１５ ｐ、ｂ、ｗ。
−（１，２）−シアノド− （２）−４−スルホン酸クロリド０ ．１５ ｐ、ｂ、ｗ。
およびクリスタル・マイオレット
００７ ｐ、ｂ、ｗ。
の溶液で塗布した。
材料を例１に記載されたようにさらに処理し、ポジチブ
原図に相当する印刷ステンシルを得た。
原図に相当する印刷ステンシルを得た。
ｌＪ ３
電気化学的に粗面化され、陽極酸化されたアルミニウム
板を エチレングリコールモノメチルエーテル４０ ｐ、ｂ
、ｗ、 および テトラヒドロフラン ４０ ｐ、ｂ 、ｗ、 中のト
ルエン中の、７，７−ビス−ヒド ロキシメチルー５−オキサ−ノナン −（１）−オールおよびトリメチル オルトギ酸塩から製造されるポリオ ルトエステルの５０％濃度の水溶液 ２．４０ｐ、ｂ、ｗ。
板を エチレングリコールモノメチルエーテル４０ ｐ、ｂ
、ｗ、 および テトラヒドロフラン ４０ ｐ、ｂ 、ｗ、 中のト
ルエン中の、７，７−ビス−ヒド ロキシメチルー５−オキサ−ノナン −（１）−オールおよびトリメチル オルトギ酸塩から製造されるポリオ ルトエステルの５０％濃度の水溶液 ２．４０ｐ、ｂ、ｗ。
２−（４−エトキシ−ナフト−１−
イル）−４，６−ビス−トリクロロ
−メチル−Ｓ−トリアジン
０．２３ ｐ、ｂ、ｗ。
例１１で示されたバインダー
３．５０ ｐ、ｂ、ｗ。
クリスタルバイオレットペース
０．０６ ｐ、ｂ 、ｗ。
の溶液で塗布した。
このようにして製造された印刷版を１１０ｃｍの距離で
配置された５ＫＷ金にハロゲン化物ランプ下に１５秒間
露光し、その後メタケイ酸ナトリウムの０．５％濃度の
水溶液で現像した。
配置された５ＫＷ金にハロゲン化物ランプ下に１５秒間
露光し、その後メタケイ酸ナトリウムの０．５％濃度の
水溶液で現像した。
例牛
１００００の平均分子量および１７０〜１８５℃の溶融
範囲を有するポリ−ｐ−ヒドロキシスチレン６０ ｐ
、ｂ 、ｗ、ヲプロベニルスルホニルイソシアネート７
５ｐ、ｂ、ｗ、と例１に記載したように反応させた。１
１５〜１３５℃の溶融範囲を有する黄土色の縮合生成物
を得た。
範囲を有するポリ−ｐ−ヒドロキシスチレン６０ ｐ
、ｂ 、ｗ、ヲプロベニルスルホニルイソシアネート７
５ｐ、ｂ、ｗ、と例１に記載したように反応させた。１
１５〜１３５℃の溶融範囲を有する黄土色の縮合生成物
を得た。
その表面がポリビニルホスホン酸の水溶液で処理された
、゛電気化学的に粗面化され、陽極酸化されたアルミニ
ウム板を エチレングリコールモノメチルエーテル４０ｐ、ｂ、ｗ
。
、゛電気化学的に粗面化され、陽極酸化されたアルミニ
ウム板を エチレングリコールモノメチルエーテル４０ｐ、ｂ、ｗ
。
およびテトラヒドロフラン
５０ ｐ、ｂ、ｗ、 中の
２．３’、４−トリヒドロキシベンゾ
フェノン １モルおよびナフトキノ
ン−（１，２）−ジアジド−（２）
−５−スルホン酸クロリド ３モル
から得られるエステル化生成物
１．６０ｐ、ｂｌｗ。
前記の反応生成物 ６．○Ｑｐ、ｂ、ｗ。
２−（アセナフト−５−イル）−４゜
６−ピスートリグロローメチルーＳ−
ト リ ア ン〉 ン
０．１ ６ ｐ、ｂ、ｗ。
０．１ ６ ｐ、ｂ、ｗ。
クリスタルバイオレット
０．０７ｐ、ｂ、ｗ。
の溶液を塗布した。
得られた印刷板を例１で記載したようにさらに加工した
。
。
例１５
その表面がポリビニルホスホン酸の水溶液で処理された
、電気化学的番こ粗面化および陽極酸化されたアルミニ
ウム板ヲ、 エチレングリコールモノメチルエーテル４０ ｐ、ｂ、
ｗ。
、電気化学的番こ粗面化および陽極酸化されたアルミニ
ウム板ヲ、 エチレングリコールモノメチルエーテル４０ ｐ、ｂ、
ｗ。
およびテトラヒドロフラン
５０ｐ、ｂ、ｗ、中の
２．３．４−トリヒドロギシベンゾ
フエノン １モルおよびナフトキノ
ン−（１，２）−ジアジド−（２）
−５−スルホン酸りσリド ３モル
から得られるエステル化生成物
１．５０ ｐ、ｂ、ｗ。
例１で示されたバインダー
５．００ ｐ、ｂ、ｗ。
ナフトキノン−（１，２）−ノアシ
ト−（２）−４−スルホン酸クロリ
ド
０．２ ０ ｐ、ｂ、ｗ。
０．２ ０ ｐ、ｂ、ｗ。
クリスタルバイオレット
０．０７ｐ、ｂ、ｗ。
メタンスルホン酸の存在で、１，２
−シメトキシエタン中２−メチルレ
ゾルシノール ３モルおよび壬、４
−ビス−（メトキシメチル）−ジフ
二二ルエーテル ２モルカラ製造す
れ、７０〜１００℃の溶融範囲を有す
る縮合生成物 １．００ ｐ、ｂ、ｗ・・の溶液
で塗布した。
で塗布した。
透明なポジチプ原図下の露光後、印刷版をメタケイ酸ナ
トリウム九水塩の０．５％濃度の水溶液を現像した。こ
のようにして得られた印刷版からＬＯＯＯＯＯの良好な
プリントを製造した。
トリウム九水塩の０．５％濃度の水溶液を現像した。こ
のようにして得られた印刷版からＬＯＯＯＯＯの良好な
プリントを製造した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、感光性化合物またはその溶解性が露光の際に増加す
る化合物の感光性混合物および水に不溶で、水性アルカ
リに可溶性である、スチレン誘導体のポリマーから成る
バインダーを含有する感光性混合物において、バインダ
ーはアルケニルスルホニルアミノカルボニルオキシスチ
レンまたはシクロアルケニルスルホニルアミノカルボニ
ルオキシスチレンの単位よりなることを特徴とする、感
光性混合物。 ２、感光性化合物が１，２−キノンジアジドよりなる、
特許請求の範囲第１項記載の感光性混合物。 ３、化合物の感光性組成物が、露光の際に強酸を形成す
る化合物および酸により分離できるＣ−Ｏ−Ｃ結合少な
くとも１つを有する化合物から成る、特許請求の範囲第
１項記載の感光性組成物。 ４、酸により分離できる、少なくとも１つのＣ−Ｏ−Ｃ
結合を有する化合物は、少なくとも１種のオルトカルボ
ン酸エステル基またはアセタール基を有する反復単位よ
りなる、特許請求の範囲第３項記載の感光性混合物。 ５、アルケニルスルホニルアミノカルボニルオキシ基ま
たはシクロアルケニルスルホニルアミノカルボニルオキ
シ基がスチレン核の４−位にある、特許請求の範囲第１
項記載の感光性混合物。 ６、非揮発性成分に対して１０〜８０重量％のバインダ
ーよりなる特許請求の範囲第１項記載の感光性混合物。 ７、支持体及び感光性化合物またはその溶解性が露光の
際に増加する化合物の感光性混合物および水に不溶で、
水性アルカリに可溶性である、スチレン誘導体のポリマ
ーから成るバインダーを含有する感光性層から成る、感
光性記録材料において、バインダーはアルケニルスルホ
ニルアミノカルボニルオキシスチレンまたはシクロアル
ケニルスルホニルアミノカルボニルオキシスチレンの単
位よりなることを特徴とする、感光性記録材料。 ８、平版印刷版の製法において、支持体および感光性化
合物またはその溶解性が露光の際に増加する化合物の感
光性混合物および水に不溶で、水性アルカリに可溶性で
ある、スチレン誘導体のポリマーから成るバインダーを
含有する感光性層から成る感光性記録材料の画像に応じ
て露光し、感光性層の露光部分を 水性−アルカリ性現像液を用いて洗浄し、かつ現像およ
び乾燥された印刷版を１８０〜２５０℃で、１〜２０分
間にわたり加熱する工程から成ることを特徴とする、平
版印刷版の製法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3445276.1 | 1984-12-12 | ||
| DE19843445276 DE3445276A1 (de) | 1984-12-12 | 1984-12-12 | Strahlungsempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung einer flachdruckform |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61144645A true JPS61144645A (ja) | 1986-07-02 |
Family
ID=6252560
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60278107A Pending JPS61144645A (ja) | 1984-12-12 | 1985-12-12 | 感光性混合物、この混合物から製造される感光性記録材料および平版印刷版の製法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4717640A (ja) |
| EP (1) | EP0184804B1 (ja) |
| JP (1) | JPS61144645A (ja) |
| DE (2) | DE3445276A1 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01227142A (ja) * | 1988-03-08 | 1989-09-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
| JPH01231043A (ja) * | 1988-03-11 | 1989-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPH01250945A (ja) * | 1988-03-30 | 1989-10-05 | Sumitomo Chem Co Ltd | ポジ型レジスト組成物 |
| JPH0239154A (ja) * | 1988-07-29 | 1990-02-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
| JPH02156241A (ja) * | 1988-12-08 | 1990-06-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPH02157762A (ja) * | 1988-12-09 | 1990-06-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPH02167550A (ja) * | 1988-12-21 | 1990-06-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPH02213847A (ja) * | 1989-02-15 | 1990-08-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
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|---|---|---|---|---|
| JPH0727208B2 (ja) * | 1987-04-20 | 1995-03-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
| DE3821585A1 (de) * | 1987-09-13 | 1989-03-23 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial fuer hochenergetische strahlung |
| JPH0769605B2 (ja) * | 1988-02-25 | 1995-07-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
| DE3938788A1 (de) * | 1989-11-23 | 1991-05-29 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung einer negativ arbeitenden lichtempfindlichen druckform |
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|---|---|
| DE3445276A1 (de) | 1986-06-19 |
| EP0184804A2 (de) | 1986-06-18 |
| DE3585214D1 (de) | 1992-02-27 |
| EP0184804B1 (de) | 1992-01-15 |
| US4717640A (en) | 1988-01-05 |
| EP0184804A3 (en) | 1987-12-23 |
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