JPS645560B2 - - Google Patents
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- JPS645560B2 JPS645560B2 JP56021617A JP2161781A JPS645560B2 JP S645560 B2 JPS645560 B2 JP S645560B2 JP 56021617 A JP56021617 A JP 56021617A JP 2161781 A JP2161781 A JP 2161781A JP S645560 B2 JPS645560 B2 JP S645560B2
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/08—Damping; Neutralising or similar differentiation treatments for lithographic printing formes; Gumming or finishing solutions, fountain solutions, correction or deletion fluids, or on-press development
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
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- Coloring (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、印刷可能に現像された平版印刷版を
印刷に使用する前の保管中に空気の接近および汚
染から保護し、かつ同時にその版面の非画像部を
永久的に親水性にするために平版印刷版を保存す
る方法に関する。
印刷に使用する前の保管中に空気の接近および汚
染から保護し、かつ同時にその版面の非画像部を
永久的に親水性にするために平版印刷版を保存す
る方法に関する。
周知のように、印刷準備のできた平版印刷版は
長期的な保管に先立ちかかる保護処理を実施しな
ければならない。アラビヤゴム水溶性がかかる処
理できわめて広範に使用されているが、デキスト
リン溶液を使用することも知られている。
長期的な保管に先立ちかかる保護処理を実施しな
ければならない。アラビヤゴム水溶性がかかる処
理できわめて広範に使用されているが、デキスト
リン溶液を使用することも知られている。
西ドイツ国特許出願公開第2659754号公報には
この目的のためにポリビニルアルコール水溶液を
使用することが開示されている。
この目的のためにポリビニルアルコール水溶液を
使用することが開示されている。
更に西ドイツ国特許出願公開第2504594号公報
から印刷版の保存にカルボキシル基を含むアクリ
ルアミドポリマーを親水性にする作用を有する物
質として酸、特にリン酸と組合せて使用すること
が公知である。
から印刷版の保存にカルボキシル基を含むアクリ
ルアミドポリマーを親水性にする作用を有する物
質として酸、特にリン酸と組合せて使用すること
が公知である。
公知の保存剤によつて達成される効果は通常多
数の支持材料について十分である。しかしこの後
から設けられる保護膜は印刷過程においてよごれ
が生じるのを防ぐのに常には十分でない。印刷版
の場合にはその支持材料は陽極酸化されたアルミ
ニウムから成り、印刷版を保存処理を施こす前
に、現像によつて露出した支持体表面を例えばち
りやゴミの粒子によるまたは指紋による親油性よ
ごれを防ぐために特別な注意を一般に払わなけれ
ばならない。それというのも印刷膜または支持体
表面を侵さずにかかるよごれを除去するのは一般
に困難であるからである。この種のよごれは現像
と保存の間の時期に、しかしまた現像中にもある
いはワイプスン印刷版の製造の際にすらも容易に
版面に付着する。
数の支持材料について十分である。しかしこの後
から設けられる保護膜は印刷過程においてよごれ
が生じるのを防ぐのに常には十分でない。印刷版
の場合にはその支持材料は陽極酸化されたアルミ
ニウムから成り、印刷版を保存処理を施こす前
に、現像によつて露出した支持体表面を例えばち
りやゴミの粒子によるまたは指紋による親油性よ
ごれを防ぐために特別な注意を一般に払わなけれ
ばならない。それというのも印刷膜または支持体
表面を侵さずにかかるよごれを除去するのは一般
に困難であるからである。この種のよごれは現像
と保存の間の時期に、しかしまた現像中にもある
いはワイプスン印刷版の製造の際にすらも容易に
版面に付着する。
したがつて本発明の課題は、平版印刷版の非画
線部を後からの汚染から保護することができ、か
つ更に既に存在する小さな親油性よごれを板から
除去することを可能にする保存方法を提供するこ
とである。
線部を後からの汚染から保護することができ、か
つ更に既に存在する小さな親油性よごれを板から
除去することを可能にする保存方法を提供するこ
とである。
本発明の目的は、平版印刷版を水溶性、膜形成
性高分子量の有機化合物と親水性にする作用を有
する酸との水溶液で処理し、次いで乾燥すること
により印刷可能な平版印刷版を保存する方法であ
る。
性高分子量の有機化合物と親水性にする作用を有
する酸との水溶液で処理し、次いで乾燥すること
により印刷可能な平版印刷版を保存する方法であ
る。
本発明によれば、有機ホスホン酸を親水性にす
る作用を有する酸として使用することより成る。
る作用を有する酸として使用することより成る。
本発明によれば、非画線部が保存処理を実施す
る前に既に親油性よごれによつてよごれている場
合にも印刷する際に清浄な、よごれのない地を得
ることを可能にする。
る前に既に親油性よごれによつてよごれている場
合にも印刷する際に清浄な、よごれのない地を得
ることを可能にする。
好適な有機ホスホン酸は芳香族、複素環式、脂
肪族および脂環式、低分子量のおよび高分子量の
ホスホン酸およびその誘導体である。
肪族および脂環式、低分子量のおよび高分子量の
ホスホン酸およびその誘導体である。
これらは例えばビニルホスホン酸、ポリビニル
ホスホン酸、2−ホスホノ−エタン−1−スルホ
ン酸、3,3−ジホスホノ−ピメリン酸、ビニル
ホスホン酸モノメチルエステル、4−クロルフエ
ニルホスホン酸、4−クロル−3−ニトロ−フエ
ニルホスホン酸、β−スチリルホスホン酸および
ビニルホスホン酸とアクリル酸および/または酢
酸ビニルとの水溶性コポリマーを包含する。これ
らの中でポリビニルホスホン酸が特に優れてい
る。
ホスホン酸、2−ホスホノ−エタン−1−スルホ
ン酸、3,3−ジホスホノ−ピメリン酸、ビニル
ホスホン酸モノメチルエステル、4−クロルフエ
ニルホスホン酸、4−クロル−3−ニトロ−フエ
ニルホスホン酸、β−スチリルホスホン酸および
ビニルホスホン酸とアクリル酸および/または酢
酸ビニルとの水溶性コポリマーを包含する。これ
らの中でポリビニルホスホン酸が特に優れてい
る。
保存溶液中のホスホン酸の濃度は通常0.05〜
10、有利に0.1〜5重量%である。
10、有利に0.1〜5重量%である。
水溶性、膜形成性、高分子量の有機化合物とし
ては平版印刷版の保存溶液の成分として常用であ
る、任意の物質が原則的に好適である。例えばア
ラビヤゴム、デキストリン及びポリビニルアルコ
ールが好適である。高分子量の化合物は一般に4
〜40、有利に5〜35重量%の濃度で存在する。
ては平版印刷版の保存溶液の成分として常用であ
る、任意の物質が原則的に好適である。例えばア
ラビヤゴム、デキストリン及びポリビニルアルコ
ールが好適である。高分子量の化合物は一般に4
〜40、有利に5〜35重量%の濃度で存在する。
保存溶液は印刷版に手で塗布するか、浴に漬け
るかまたは加工機でロール塗布、吹付け等によつ
て適用することができる。次いで印刷版を乾燥す
る。
るかまたは加工機でロール塗布、吹付け等によつ
て適用することができる。次いで印刷版を乾燥す
る。
一般に処理すべき印刷版の支持材料はアルミニ
ウムから成り、特に使用される、改良された表面
を有する、よく知られ、かつ優れた支持材料、例
えば機械的、化学的または電気化学的に粗面化さ
れ、かつ場合により珪酸アルカリ塩、ポリマーの
酸および当業界で公知の他の剤で処理されるアル
ミニウムから成る。本発明による溶液は特にその
支持体が陽酸化されたアルミニウムから成る印刷
版の処理に好適であり、その際酸化物皮膜も前記
の剤、例えば珪酸塩で前処理されていてよい。
ウムから成り、特に使用される、改良された表面
を有する、よく知られ、かつ優れた支持材料、例
えば機械的、化学的または電気化学的に粗面化さ
れ、かつ場合により珪酸アルカリ塩、ポリマーの
酸および当業界で公知の他の剤で処理されるアル
ミニウムから成る。本発明による溶液は特にその
支持体が陽酸化されたアルミニウムから成る印刷
版の処理に好適であり、その際酸化物皮膜も前記
の剤、例えば珪酸塩で前処理されていてよい。
印刷版の印刷画線部は任意の公知方法で製造す
ることができる。一般に感光膜を露光し、次いで
現像液で現像する。画線は電子写真法で帯電し、
露光し、トナーを適用し、かつ光導電層を固着す
ることによつて製作してもよい。いずれの場合に
も現像により露出された、親水性にされるべき支
持体表面の性質が印刷膜の性質および印刷膜の製
法よりも処理溶液の効果にとつて重要である。優
れた感光膜は平版印刷で常用されており、かつポ
ジチブに作用するまたはネガチブに作用するジア
ゾ化合物、アジド化合物、光架橋性ポリマーまた
は光重合性系をベースとするもの、また有機光導
電体および結合剤をベースとする光導電層であ
る。
ることができる。一般に感光膜を露光し、次いで
現像液で現像する。画線は電子写真法で帯電し、
露光し、トナーを適用し、かつ光導電層を固着す
ることによつて製作してもよい。いずれの場合に
も現像により露出された、親水性にされるべき支
持体表面の性質が印刷膜の性質および印刷膜の製
法よりも処理溶液の効果にとつて重要である。優
れた感光膜は平版印刷で常用されており、かつポ
ジチブに作用するまたはネガチブに作用するジア
ゾ化合物、アジド化合物、光架橋性ポリマーまた
は光重合性系をベースとするもの、また有機光導
電体および結合剤をベースとする光導電層であ
る。
適当なポジチブに作用する感光層はo−キノン
ジアジ化物または光分解酸形成剤と酸分解性アセ
タール化合物またはオルトカルボン酸化合物の組
合せを感光成分として含有していてよい。かかる
膜は有利に水に不溶で、アルカリ性水溶液に可溶
である結合剤、例えばフエノール樹脂から成る。
好適な膜については西ドイツ国特許第938233号、
同第1195166号および同第2610842号明細書および
西ドイツ国特許出願公開第2331377号、同第
2742631号、同第2828037号、同第2718254号およ
び同第2928636号公報に記載されている。
ジアジ化物または光分解酸形成剤と酸分解性アセ
タール化合物またはオルトカルボン酸化合物の組
合せを感光成分として含有していてよい。かかる
膜は有利に水に不溶で、アルカリ性水溶液に可溶
である結合剤、例えばフエノール樹脂から成る。
好適な膜については西ドイツ国特許第938233号、
同第1195166号および同第2610842号明細書および
西ドイツ国特許出願公開第2331377号、同第
2742631号、同第2828037号、同第2718254号およ
び同第2928636号公報に記載されている。
優れたネガチブに作用する膜はジアゾニウム塩
縮合生成物、p−キノンジアジ化物または光重合
性混合物をベースとするものである。この種の好
適なものは次の刊行物に記載されている:西ドイ
ツ国特許第1104824号、同第1134093号、同第
1214086号および同第2027467号明細書および西ド
イツ国特許出願公開第2024244号、同第2034655
号、同第2739774号および同第2822887号公報。
縮合生成物、p−キノンジアジ化物または光重合
性混合物をベースとするものである。この種の好
適なものは次の刊行物に記載されている:西ドイ
ツ国特許第1104824号、同第1134093号、同第
1214086号および同第2027467号明細書および西ド
イツ国特許出願公開第2024244号、同第2034655
号、同第2739774号および同第2822887号公報。
光導電体として有利に有機光導電体が使用さ
れ、例えば西ドイツ国特許第1120875号明細書ま
たは西ドイツ国特許出願公告第2526720号公報に
記載されている種類のものである。光導電層中に
含まれる結合剤は有利に水に不溶であり、かつア
リカリ性水溶液に可溶である。カルボキシル基を
含むコポリマーが特に優れている。好適な電子写
真材料の製造およびこれらの材料の印刷版を作る
ための加工は前記の刊行物に記載されている。
れ、例えば西ドイツ国特許第1120875号明細書ま
たは西ドイツ国特許出願公告第2526720号公報に
記載されている種類のものである。光導電層中に
含まれる結合剤は有利に水に不溶であり、かつア
リカリ性水溶液に可溶である。カルボキシル基を
含むコポリマーが特に優れている。好適な電子写
真材料の製造およびこれらの材料の印刷版を作る
ための加工は前記の刊行物に記載されている。
次に実施例につき本発明を詳説する。例中の
「%」および「比」は他に記載がない場合には重
量単位を表わす。「重量部」と「容量部」はg対
mlと同り関係である。
「%」および「比」は他に記載がない場合には重
量単位を表わす。「重量部」と「容量部」はg対
mlと同り関係である。
例 1
電気化学的に粗面化され、かつ陽極処理された
アルミニウムシートを、テトラヒドロフラン43容
量部、エチレングリコールモノメチルエーテル35
容量部および酢酸ブチル9容量部中の ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−4−
スルホン酸−4−(α,α−ジメチル−ベンジル)
フエニルエステル 2.17重量部 2,2′−ジヒドロキシ−ジナフチル−(1,1′)−
メタン1モルとナフトキノン−(1,2)−ジアジ
ド−(2)−5−スルホン酸クロリド2モルのエステ
ル化生成物 1.02重量部 ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−4−ス
ルホン酸クロリド 0.37重量部 クリスタル・バイオレツト 0.10 〃 軟化点112〜118℃を有するクレゾール−ホルムア
ルデヒド−ノボラツク 9.90重量部 の溶液を塗布し、次いで乾した。得られる感光性
材料を21段の、濃度増分0.15を有する光学くさび
の下で第9段が完全に黒化するようにして露光し
た。材料を5%−メタ珪酸ナトリウム溶液で現像
した。
アルミニウムシートを、テトラヒドロフラン43容
量部、エチレングリコールモノメチルエーテル35
容量部および酢酸ブチル9容量部中の ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−4−
スルホン酸−4−(α,α−ジメチル−ベンジル)
フエニルエステル 2.17重量部 2,2′−ジヒドロキシ−ジナフチル−(1,1′)−
メタン1モルとナフトキノン−(1,2)−ジアジ
ド−(2)−5−スルホン酸クロリド2モルのエステ
ル化生成物 1.02重量部 ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−4−ス
ルホン酸クロリド 0.37重量部 クリスタル・バイオレツト 0.10 〃 軟化点112〜118℃を有するクレゾール−ホルムア
ルデヒド−ノボラツク 9.90重量部 の溶液を塗布し、次いで乾した。得られる感光性
材料を21段の、濃度増分0.15を有する光学くさび
の下で第9段が完全に黒化するようにして露光し
た。材料を5%−メタ珪酸ナトリウム溶液で現像
した。
次いで板を水261重量部中の、20℃の4%−水
溶液中で粘度4mPa−sおよび残留アセチル含
量10.7%を有するポリビニルアルコール16重量部 黄色デキストリン(水に完全に可溶。4%−水溶
液中でオズワルズ粘度2.80(20℃);PH2.8)
14重量部 ポリビニルホスホン酸 9 〃 の溶液でワイプし、かつ乾かした。こうして設け
られた膜は約1g/m2の重量を有していた。印刷
機で使用する際に、この印刷版は乾燥した板上に
親油性よごれが予め存在していた場合にもよごれ
のない刷りを与えた。
溶液中で粘度4mPa−sおよび残留アセチル含
量10.7%を有するポリビニルアルコール16重量部 黄色デキストリン(水に完全に可溶。4%−水溶
液中でオズワルズ粘度2.80(20℃);PH2.8)
14重量部 ポリビニルホスホン酸 9 〃 の溶液でワイプし、かつ乾かした。こうして設け
られた膜は約1g/m2の重量を有していた。印刷
機で使用する際に、この印刷版は乾燥した板上に
親油性よごれが予め存在していた場合にもよごれ
のない刷りを与えた。
例 2
研磨剤懸濁液を用いてブラツシングすることに
より粗面化したアルミニウムシートを1分間60℃
の水中のポリビニルホスホン酸0.3%の浴に漬け
た。乾燥後シートを、エチレングリコールモノメ
チルエーテル60.0重量部、テトラヒドロフラン
20.0重量部、ジメチルホルムアミド10.0重量部お
よび酢酸ブチル10.0重量部中の 85%−リン酸中で3−メトキシ−ジフエニルアミ
ン−4−ジアゾニウムスルフエート1モルと4,
4′−ビス−メトキシメチルジフエニルエーテル1
モルとから製造され、メシチレンスルホネートと
して単離された重縮合生成物 0.7重量部 85%−リン酸 3.4 〃 融点70℃およびエポキシ当量459を有するエポ
キシ樹脂をエチレングリコール中で塩化水素酸と
反応させて得られる反応生成物(西ドイツ国特許
出願公開第2034654号公報) 3.0重量部 の溶液で塗布し、次いで乾かした。得られる感光
材料を像に応じて露光し、かつ水65重量部および
n−プロパノール35容量部中のMgSO4・7H2O
6.5重量部 非イオン性湿潤剤(脂肪性アルコール−(C12〜
C14)−ポリグリコールエーテル) 0.7重量部 の溶液で現像した。
より粗面化したアルミニウムシートを1分間60℃
の水中のポリビニルホスホン酸0.3%の浴に漬け
た。乾燥後シートを、エチレングリコールモノメ
チルエーテル60.0重量部、テトラヒドロフラン
20.0重量部、ジメチルホルムアミド10.0重量部お
よび酢酸ブチル10.0重量部中の 85%−リン酸中で3−メトキシ−ジフエニルアミ
ン−4−ジアゾニウムスルフエート1モルと4,
4′−ビス−メトキシメチルジフエニルエーテル1
モルとから製造され、メシチレンスルホネートと
して単離された重縮合生成物 0.7重量部 85%−リン酸 3.4 〃 融点70℃およびエポキシ当量459を有するエポ
キシ樹脂をエチレングリコール中で塩化水素酸と
反応させて得られる反応生成物(西ドイツ国特許
出願公開第2034654号公報) 3.0重量部 の溶液で塗布し、次いで乾かした。得られる感光
材料を像に応じて露光し、かつ水65重量部および
n−プロパノール35容量部中のMgSO4・7H2O
6.5重量部 非イオン性湿潤剤(脂肪性アルコール−(C12〜
C14)−ポリグリコールエーテル) 0.7重量部 の溶液で現像した。
次いでこの仕上げ板を水80重量部中のアラビア
ゴム 15重量部 ビニルスルホン酸 5 〃 の溶液でワイプし、かつ乾かした。板を湿つた、
清浄ではない手で取扱つた場合にもよごれのない
刷りが得られた。
ゴム 15重量部 ビニルスルホン酸 5 〃 の溶液でワイプし、かつ乾かした。板を湿つた、
清浄ではない手で取扱つた場合にもよごれのない
刷りが得られた。
電気化学的に粗面化され、かつ陽極酸化された
アルミニウムから成り、他の点では前記のように
して処理された支持材料を使用した場合にも同様
の結果が得られた。
アルミニウムから成り、他の点では前記のように
して処理された支持材料を使用した場合にも同様
の結果が得られた。
例 3
テトラヒドロフラン510重量部、エチレングリ
コールモノメチルエーテル330重量部および酢酸
ブチル150重量部中の 2−ビニル−4−(2′−クロルフエニル)−5−
(4″−ジエチルアミノフエニル)−オキサゾール
40重量部 平均分子量20000および酸価180を有するスチレン
と無水マレイン酸のコポリマー 47重量部 塩化ゴム 10 〃 ローダミンFB(カラ−インダクスC.I.45170)
0.2重量部 の溶液を電気化学的に粗面化され、かつ陽極酸化
されたアルミニウムから成る、厚さ300μmの支
持体に適用し、かつ乾かして重量5g/m2を有す
る均一な光導電層が得られた。
コールモノメチルエーテル330重量部および酢酸
ブチル150重量部中の 2−ビニル−4−(2′−クロルフエニル)−5−
(4″−ジエチルアミノフエニル)−オキサゾール
40重量部 平均分子量20000および酸価180を有するスチレン
と無水マレイン酸のコポリマー 47重量部 塩化ゴム 10 〃 ローダミンFB(カラ−インダクスC.I.45170)
0.2重量部 の溶液を電気化学的に粗面化され、かつ陽極酸化
されたアルミニウムから成る、厚さ300μmの支
持体に適用し、かつ乾かして重量5g/m2を有す
る均一な光導電層が得られた。
板をコロナにより約−450Vに帯電し、かつ各
500Wの市販のランプ8個を用いてリプロカメラ
で25秒間露光した。
500Wの市販のランプ8個を用いてリプロカメラ
で25秒間露光した。
得られた潜像を
n−ブチルメタクリレート35%とスチレン65%の
コポリマー 18重量部 カーボンブラツク願料 2 〃 から成るトナー粉末で現像し、かつトナー像を短
時間約170〜180℃に加熱することにより定着させ
た。非画線部の光導電層は ジエチレングリコールモノエチルエーテル
12重量部 n−プロパノール 10 〃 メタ珪酸ナトリウム 9水和物 1.4 〃 水 46.6 〃 の溶液で処理することにより除き、かつ水ですす
いだ。
コポリマー 18重量部 カーボンブラツク願料 2 〃 から成るトナー粉末で現像し、かつトナー像を短
時間約170〜180℃に加熱することにより定着させ
た。非画線部の光導電層は ジエチレングリコールモノエチルエーテル
12重量部 n−プロパノール 10 〃 メタ珪酸ナトリウム 9水和物 1.4 〃 水 46.6 〃 の溶液で処理することにより除き、かつ水ですす
いだ。
ドクターブレードで拭つた後、板を保存処理の
ために水85.7重量部中の タピオカデキストリン 10重量部 グリセリン 1 〃 リン酸(85%) 0.3 〃 n−オクチル硫酸ナトリウム 2.5 〃 ポリビニルリン酸 0.5 〃 の溶液で均一に塗布し、かつ乾かした。
ために水85.7重量部中の タピオカデキストリン 10重量部 グリセリン 1 〃 リン酸(85%) 0.3 〃 n−オクチル硫酸ナトリウム 2.5 〃 ポリビニルリン酸 0.5 〃 の溶液で均一に塗布し、かつ乾かした。
こうして得られた印刷版は、保存処理前または
後に非画線部が指紋その他で汚れた場合にもよご
れのない刷りを与えた。
後に非画線部が指紋その他で汚れた場合にもよご
れのない刷りを与えた。
ポリビニルホスホン酸0.5重量部の代わりに3,
3−ジホスホノ−ピメリン酸5重量部を保存溶液
中で使用した場合にも同様の結果が得られた。
3−ジホスホノ−ピメリン酸5重量部を保存溶液
中で使用した場合にも同様の結果が得られた。
例 4
電解的に粗面化し、かつ陽極処理したアルミニ
ウムシートに次の溶液: 遊離のOH基をアクリル酸でエステル化したポリ
エステル(バイエル社のデスモフエン(De−
smophen) 850) 1.4重量部 平均分子量60000および酸価93.7を有する、メチ
ルメタクリレートとメタクリル酸のコポリマー
1.4重量部 9−フエニルアクリジン 0.1 〃 1,6−ジヒドロキシエトキシヘキサン
0.2 〃 スプラノール・ブルーGL(C.I.50335) 0.02 〃 エチレングリコールモノメチルエーテル
13.0 〃 を塗布し、次いで乾かした。
ウムシートに次の溶液: 遊離のOH基をアクリル酸でエステル化したポリ
エステル(バイエル社のデスモフエン(De−
smophen) 850) 1.4重量部 平均分子量60000および酸価93.7を有する、メチ
ルメタクリレートとメタクリル酸のコポリマー
1.4重量部 9−フエニルアクリジン 0.1 〃 1,6−ジヒドロキシエトキシヘキサン
0.2 〃 スプラノール・ブルーGL(C.I.50335) 0.02 〃 エチレングリコールモノメチルエーテル
13.0 〃 を塗布し、次いで乾かした。
この光重合性膜を像にしたがつて露光し、かつ
水1000重量部中の メタ珪酸ナトリウム 15重量部 ポリグリコール6000 3 〃 リブリン酸 0.6 〃 水酸化ストロンチウム 8水和物 0.3 〃 の溶液で現像した。
水1000重量部中の メタ珪酸ナトリウム 15重量部 ポリグリコール6000 3 〃 リブリン酸 0.6 〃 水酸化ストロンチウム 8水和物 0.3 〃 の溶液で現像した。
次いで例1に記載された保存溶液をこの仕上げ
印刷版に適用し、かつ乾かした。この場合にも良
好な結果が得られた。
印刷版に適用し、かつ乾かした。この場合にも良
好な結果が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 平版印刷版を水溶性、膜形成性、高分子量の
有機化合物と親水性にする作用を有する酸との水
溶液で処理し、かつこれを乾燥することにより、
印刷準備のできた平版印刷版を保存するための方
法において、有機ホスホン酸を親水性にする作用
を有する酸として使用することを特徴とする、平
版印刷版を保存する方法。 2 有機ホスホン酸がポリビニルホスホン酸から
成る、特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 有機ホスホン酸を0.05〜10重量%の濃度で使
用する、特許請求の範囲第1項記載の方法。 4 水溶性、高分子量の有機化合物がアラビヤゴ
ム、デキストリンまたはポリビニルアルコールか
ら成る、特許請求の範囲第1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19803006094 DE3006094A1 (de) | 1980-02-19 | 1980-02-19 | Verfahren zum konservieren von flachdruckformen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS56133193A JPS56133193A (en) | 1981-10-19 |
JPS645560B2 true JPS645560B2 (ja) | 1989-01-31 |
Family
ID=6094949
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2161781A Granted JPS56133193A (en) | 1980-02-19 | 1981-02-18 | Method of preserving flat board printing block |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4349391A (ja) |
EP (1) | EP0034324B1 (ja) |
JP (1) | JPS56133193A (ja) |
AT (1) | ATE9562T1 (ja) |
AU (1) | AU533379B2 (ja) |
BR (1) | BR8100972A (ja) |
CA (1) | CA1161702A (ja) |
DE (2) | DE3006094A1 (ja) |
ZA (1) | ZA811043B (ja) |
Families Citing this family (15)
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---|---|---|---|---|
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DE3418111A1 (de) * | 1984-05-16 | 1985-11-21 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur nachbehandlung von aluminiumoxidschichten mit phosphoroxo-anionen enthaltenden waessrigen loesungen und deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplattentraegern |
JPS61189996A (ja) * | 1985-02-18 | 1986-08-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用版面保護剤 |
JPS621882A (ja) * | 1985-06-26 | 1987-01-07 | Nippon Light Metal Co Ltd | アルミニウム材用耐食親水性皮膜形成材 |
JPH0633008B2 (ja) * | 1985-07-10 | 1994-05-02 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版用版面保護剤 |
JPS6219494A (ja) * | 1985-07-18 | 1987-01-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用支持体 |
DE3538703A1 (de) * | 1985-10-31 | 1987-05-07 | Hoechst Ag | Befeuchtungsloesung fuer den offsetdruck |
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US4783395A (en) * | 1987-02-17 | 1988-11-08 | Hoechst Celanese Corporation | Desensitizing solution for lithographic printing plates |
JP2577928B2 (ja) * | 1987-08-25 | 1997-02-05 | 岡本化学工業株式会社 | 平版印刷用感脂化保護剤 |
US4880555A (en) * | 1988-09-15 | 1989-11-14 | Hoechst Celanese Corporation | Enzyme hydrolyzed maltodextrin containing finisher/preserver/cleaner composition for lithographic printing plates |
JP3107939B2 (ja) * | 1993-01-26 | 2000-11-13 | 三菱製紙株式会社 | 平版印刷版用給湿液組成物 |
US5714302A (en) * | 1993-01-26 | 1998-02-03 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Method of printing with using lithographic printing plate made by silver complex diffusion transfer process and using dampening composition containing nonionic surface active agent |
US6854391B2 (en) | 2002-06-10 | 2005-02-15 | Flint Ink Corporation | Lithographic printing method and materials |
EP1600820A1 (en) * | 2004-05-27 | 2005-11-30 | Konica Minolta Opto, Inc. | Method for processing light sensitive planographic printing plate material |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL273144A (ja) * | 1961-01-13 | |||
DE2211553C3 (de) * | 1972-03-10 | 1978-04-20 | Henkel Kgaa, 4000 Duesseldorf | Verfahren zum Verdichten von anodischen Oxidschichten auf Aluminium und Aluminiumlegierungen |
GB1495522A (en) * | 1974-02-04 | 1977-12-21 | Vickers Ltd | Lithographic desensitising compositions |
CA1090189A (en) * | 1976-05-03 | 1980-11-25 | American Hoechst Corporation | Lithographic plate finisher comprising a solvent phase and an aqueous phase containing tapioca dextrin |
DE2855393A1 (de) * | 1978-12-21 | 1980-07-03 | Hoechst Ag | Verfahren zum herstellen von flachdruckformen |
US4213887A (en) * | 1979-07-16 | 1980-07-22 | American Hoechst Corporation | Lithographic plate finisher |
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1980
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