JPH038532B2 - - Google Patents

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JPH038532B2
JPH038532B2 JP56088946A JP8894681A JPH038532B2 JP H038532 B2 JPH038532 B2 JP H038532B2 JP 56088946 A JP56088946 A JP 56088946A JP 8894681 A JP8894681 A JP 8894681A JP H038532 B2 JPH038532 B2 JP H038532B2
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JP
Japan
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layer
photosensitive
fluorinated
surfactant
pbw
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Reeman Peetaa
Mooru Deiitaa
Raisu Kuruto
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Hoechst AG
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Publication date
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Publication of JPH038532B2 publication Critical patent/JPH038532B2/ja
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
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    • G03F7/021Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0212Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds

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  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、感光複写材料、及び支持体に溶剤
中、有利に有機溶剤中に溶けている感光層成分の
溶液を塗布し、かつこの層を乾燥することからな
る感光複写材料の製造法に関する。
通常、多種多様の感光複写材料は、金属、プラ
スチツクフイルム、紙、繊維等からなる支持体を
層成分の溶液でできるけ平らに塗布し、次にこの
溶液をできるだけ均一な層形成を保証する条件下
で乾燥するような方法で製造される。
一般に使用されている層成分は、感光性又は光
導電性化合物又は該化合物の組合せ物、結合剤、
染料、顔料、可塑剤、充填剤、重合性化合物、安
定剤等からなる、該成分は、有機溶剤、場合によ
つては水又は水と有機溶剤との混合物に有利溶解
されている。
工業規模の塗布法及び連続的製造法では、異な
る揮発度を有する種々の溶剤の混合物が、実質的
に液状被膜相から乾燥層への連続的転位を得、か
つできるだけ乾燥の間の任意の崩壊を阻止するた
めに、実際に常用されている。多くの場合、この
ことは良好な溶解力を有する溶剤と非溶剤との組
合せ物によつて達成され;その際に蒸気圧及び成
分の揮発度は、非溶剤が乾燥法で蒸発される第1
の溶剤であるような方法で選択される。従つて、
適当な塗布適性を有する層が製造されるが、該層
はこれが無色でないならば“曇り”と呼称される
一定の不規則性をなお示す。
この“曇り”の用語は、約1〜10mmの範囲の直
径を有する明色ないしは暗色の色相の接触層範囲
の存を表わす、複写層を通しての断面の走査型電
子顕微鏡写真(SEM)は、色濃度の変化が層厚
の差に帰結しうることを示した。
なお液状の層は、ゲル相が乾燥法で達成される
まで、乾燥過程の層の界面張力の変化によつて惹
起される物質の渦動作用又は撹拌作用を受けてい
るものと思われる。溶剤の蒸発は、相互に互いに
強まりかつ周囲空気と接触している乾燥層の界面
張力を上昇させる2つのフアクターを生じる。一
面で、温度低下は、0.1mN/m/℃程度の界面
張力の上昇を導き;他面で、界面張力は、付加的
に溶液中に含有される被膜形成物質の濃度を増大
させることによつて上昇される。
より高い温度及びより低い界面張力を有する物
質は、余り濃厚でない溶液の下層中の数多い小さ
い膨張点から出発する場合、界面に侵入する。そ
の結果として、相応する中心が界面上に形成さ
れ、該中心により下方から昇つてくる液体は隣接
中心の拡張波の前面と出会うまで拡張する。この
層内部への液体撹拌の偏りにより、乱流が生じ
る。
この現象は、感光印刷版、殊に平版印刷版の製
造において特に著しく現われ、この場合には屡々
低い粘度の比較的高く稀釈した溶液が使用され
る。曇りを有しかつ不均一な厚さ及び色を有する
層が屡々得られ、このような層厚の不規則性は、
印刷効果、特にスクリーンレス・オフセツト印刷
用版に対して不利な作用を有する。この場合、こ
の版の表面構造は、グレー工程での刷りにおいて
現われる、すなわち均一なグレー範囲は印刷され
ない。
“リサーチ・デイスクロージヤー(Research
Disclosure)”、1976年、第145巻、第15頁、No.
14522の記載から、非イオン界面活性剤、すなわ
ちイソノニルフエノキシデカグリシドールと、ア
ニオン界面活性剤、すなわち硫酸ノニルフエノキ
シポリ(エチレンオキシ)エタノールのアンモニ
ウム塩との組合せ物を石版層に添加し、塗料溶液
の塗布能力を改善し、かつ良好なインキ適性を保
証することは、公知である。前記刊行物によれ
ば、1種類の界面活性剤だけでは所望の適性を生
じるには充分でなく;非イオン界面活性剤は、単
独で使用する場合、インキ受理性の悪化及び非画
線部の汚れを生じる。
西ドイツ国特許出願公開第2914558号明細書に
は、平版印刷版上での感光層の均一性を塗料溶液
に分子量少なくとも10000を有しかつ少なくとも
1個のフルオルアルキル基を有する重合体を添加
することによつて改善されている塗布法が開示さ
れている。該明細書中に記載されているように、
該高分子化合物の添加は、より均一な層厚を生じ
る。該明細書には、数の溶剤を個々にか又は混合
物で塗料溶液の製造に使用しうることが記載され
ているが、溶剤混合物が専ら実施例にそのつど使
用され、この場合該混合物は、1つの低沸点溶剤
及び1つの高沸点溶剤を含有する。
弗素化側鎖を有する高分子化合物の使用は、付
加的に、該重合体がもはや全ての常用の溶剤に可
溶でなく、したがつて溶剤の選択が限定されると
いう欠点を有する。
ところで、本発明の目的は、簡単な方法で、多
の溶剤を用いて製造することができ、必要な場合
には唯一つの溶剤からなる溶剤から製造すること
ができる高品で均一の感光層を塗布することがで
きる感光複写材料を得ることに関する。
本発明は、支持体と、化学線の露光下で現像液
中で溶解性が変化しかつ弗素化有機化合物0.01〜
10重量%、有利に0.05〜5重量%を含有する感光
層とからなる感光複写材料に基づいており、この
場合この弗素化有機化合物は……非イオン界面活
性剤である。」を「この弗素化有機界面活性剤は、
式: Rf(CO)r(OCnH2noOR 〔式中、 Rf2〜12個、有利に5〜8個の炭素原子を有
する弗素化アルキル基であり、 Rは水素原子又はRf(CO)r基であり、 mは2〜5の範囲内の整数であり、 nは4〜40の範囲内の整数であり、 rは零又は1である〕で示される化合物であ
り、該化合物は300〜3500の範囲内の分子量を有
する。
更に、本発明によれば、層成分を弗素化有機化
合物と一緒に溶剤に溶解し、この溶液を支持体に
塗布して均一な薄層を得、この層を、有利に高め
られた温度で溶剤を蒸発させることによつて乾燥
することからなる、支持体に感光性複写層を塗布
する方法が得られる。この方法は、式: Rf(CO)r(OCnH2noOR 〔式中、 Rfは2〜12個、有利に5〜8個の炭素原子を
有する弗素化アルキル基であり、 Rは水素原子又はRf(CO)r基であり、 mは2〜5の範囲内の整数であり、 nは4〜40の範囲内の整数であり、 rは零又は1である〕で示される300〜3500の
範囲内の分子量を有する化合物である。弗素化非
イオン界面活性剤0.005〜1重量%、有利に0.01
〜0.05重量%を塗料溶液に添加するという特徴を
有する。
rが0である場合、nは有利に4〜15、特に5
〜10の値を有する。rが1である場合、nは有利
に8〜35の範囲内の整数である。
この弗素化アルキル基Rfは、有利に次の組成
式を有する: CkF2k+1CqH2q 式中、kは2〜12の整数であり、qは零である
か又は1〜5の整数であり;qが零であり、rが
1である場合には、k+qの合計は12を越えな
い。
弗素化界面活性剤の分子量は、有利に450〜
2600の範囲内にある。
弗素化界面活性剤の作用は、本質的に使用され
る溶剤によつて左右されるが、層の溶解又は分散
成分、特に感光性物質の化学的性質及び組成は、
余り重要でない。
それぞれの層組成に対して適当な溶剤は、予備
試験によつて簡単に定めることができる。添加さ
れる界面活性剤は、前記範囲内の濃度で使用する
場合、空気に対してそれぞれの塗料溶液の界面張
力を1〜6mN/m減少させる。水に対する乾燥
層の界面張力は、界面活性剤の添加によつて2〜
10mN/m、有利に5〜8mN/m減少させなけ
ればならない。
弗素化界面活性剤は、その強力な界面活性作用
により塗料溶液の界面に集中する。殊に、極めて
高い界面張力を有する粗い支持体面において、こ
のことは、意外なことに該溶液の塗布傾向の減少
を導く。また、早期の乾燥過程における液相の拡
張及び改善された乾燥状態における被膜相上での
低濃縮物の拡張も、界面活性剤が界面に集中する
ことによつて充分に抑制されているものと思われ
る。従つて、乾燥の間液被膜の撹拌は恐らく強力
に抑制されているものと思われ、乾燥後に改され
た均一性を有する層が得られる。
しかし、数多くのよく知られた界面活性剤の中
で若干のものだけが、このプラスの作用を示す。
高弗素化基とポリエーテル鎖が1分子中で結合し
ていることは、本明細書中に記載された界面活性
剤の作用に対して決定的なことと見なされる。該
界面活性剤は、その顕著な界面活性及び比較的低
い分子量により、許容しうる程度に形成される層
の界面に集中するが、それは現像下での画像差に
も、現像液に不溶の画像部の親油性又は得られる
印刷版の印刷能力にも何らの影響を及ぼさない。
この溶液の塗布効率は、界面活性剤の溶解性の
他の判断基準及び塗料溶液中の界面活性剤濃度の
適当な範囲の測定法を改善せしめた。この塗布効
率は、該溶液の一定量を特殊な支持体に塗布し、
室温で乾燥した後に湿潤帯域の直径を測定するこ
とによつて簡単に測定される。使用される支持体
は、極めて均一な表面粗度を有する材料、例えば
電解処理により粗面化されたアルミニウムである
のが有利である、れというのも観察しうる作用
は、このような材料上で最も明瞭に現われ、最も
高度に確信をもつて再現しうるからである。
このような支持材料上で測定される界面活性剤
の塗布抑制作用に対する値は、全く異なる支持材
料(例えば、ポリエステルフイルム)上での該界
面活性剤の挙動に適用しうる良好な近似値を表わ
す。
塗料溶液の塗布効率は、前記弗素化界面活性剤
を該溶液に添加することによつて、湿潤帯域の直
径に対して40〜75%、有利に50〜70%減少する傾
向にある。
常用の支持材料、例えばアルミニウムを塗布す
る場合には、弗素化界面活性剤の極く少量(0.1
%未満)を、さらに高沸点溶剤を低沸点溶剤との
常用の混合物、例えばエチレングリコールモノメ
チルエーテル/テトラヒドロフラン又エチレング
リコールモノメチルエーテル/酢酸ブチル/テト
ラヒドロフラン中に溶解されている感光性又は光
導電性物質、場合によつては結合剤、染料及び他
の常用成分を含有する塗料溶液に添加するとして
も、むらのない色及び層厚を有する曇りのない光
学的に均一な複写層が得られる。こうして製造さ
れる複写層は、その塗布適性の点で現在普通に達
成しうる、殊にプレセンシタイズ平版印刷版の標
準品よりも卓越している。
工業界で公知の塗料溶液に適当な溶剤は、なか
んずくアルコール、エーテルアルコール、アミ
ド、塩素化炭化水素及びケトン、例えばエチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、エチレングリコールモ
ノイソプロピルエーテル、ジメチルホルムアミ
ド、ジアセトンアルコール、ブチロラクトン、二
塩化メチレン、ジクロルエタン又はブタノンであ
る。前記溶剤には、溶解すべき物質に対して必ず
しも可溶性である必要はない他の溶剤を混合する
ことができ;該溶剤の中でまず第1のエーテル及
びエステル、例えばジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、酢酸ブチル及びエチレングリコールメチル
エーテルアセテートが数えられる。
弗素化界面活性剤との組合せにおいて、グリコ
ールモノアルキルエーテル、例えばエチレングリ
コールモノメチルエーテル;脂肪族エステル、例
えば酢酸ブチル;環式ケトン、例えばシクロヘキ
サノン;環式エーテル、例えばテトラヒドロフラ
ン;又は塩素化炭化水素、例えばジクロルエタン
は、良好な溶解力を有する成分として特に好適で
あることが立証された。
高弗素化又は過弗素化アルコールのポリグリコ
ールエーテルは、グリコールモノエーテル中で特
に効果的である。この型の弗素化界面活性剤は、
水溶液中でさえも良好な作用を生じる。しかし、
一般には、有機溶剤が有利である。
特殊な弗素化界面活性剤を塗料溶液に添加する
ことによつて意外なことに、1種類の溶剤だけを
用いて実施し、今まで前記溶剤の組合せ物を用い
て製造することができたものよりも良好な性質を
示す層を得ることができる。単独の溶剤を再生及
び精製することが溶剤混合物の相当する方法より
も工業的に著しく簡単であることは、明白であ
る。殊に、高沸点成分と低沸点成分とからなる混
合物よも比較的高沸点の溶剤を排出空気から除去
する方が簡単である。
単独で使用される溶剤としては、前記の充分に
溶解せしめる化合物、特にグリコールモノエーテ
ルが好適である。該溶剤は、種々の物質に対して
良な溶解力により異なる型の複写層、例えばネガ
チブ活性又はポジチブ活性のジアゾ化合物を主体
とする層、光重合可能な層、光導電性層等に対し
て普遍的に使用することができる。本発明方法に
よれば、広範に異なる支持材料を有利に塗布する
こともできる。
印刷版の製造において得られた前記の一般的に
価値のある利点以外に、1種類の溶剤だけを使用
する場合には、弗素化界面活性剤の添加なしに溶
剤混合物から製造された材料と比較して、意外な
ことに、特別な、例えばグリコールモノエーテ
ル、例えばエチレングリコールモノメチルエーテ
ルを、プレセンシタイズ印刷版、特に平版印刷版
の製造に対する塗料溶液の唯一つの溶剤として使
用することによつて、複写挙動の利点を付加的に
達成することができる。
感光系の種類に応じて、次の利点が現われる:
露光下でのより良好なコントラスト、より短い現
像時間、現像液の減少した消費量、改善された現
像抵抗性、より高い感光性、より高い分解能及
び/又は減少したハレーシヨン傾向。印刷版の特
別な型において、これらの利点は、必ずしも全部
が同時に記載される訳ではなく、多少とも当該版
の型に応じて言明される。
弗素化界面活性剤を添加したグリコールエーテ
ルから塗布した平版印刷版と、界面活性剤の添加
なしに溶剤混合物から塗布した他の印刷版との間
の印刷挙動、例えばインキ受理性、保水性及び印
刷能力の長さの差は、必ずしも観察されない。
弗素化界面活性剤を用いて支持体に施こしうる
感光層は、性質及び組成の点で広範に変化するこ
とができる。この場合、使用される“感光層”の
用語は、感光性が予備処理、例えば静電荷を帯電
させることによつてのみ活性化される層、すなわ
ち電子写真層を包含することを補なつて解釈す
る。
この場合には、同様に2工程で製造される層、
例えばその後に感光性物質、例えば重クロム酸塩
又はジアゾ化合物の溶液で飽和又は含浸した後で
のみ感光性なる樹脂又は結合剤層も包含される。
この場合、本発明より添加される界面活性剤は、
第1工程で、すなわち層の実際の製造において使
用される。付加的には、工業的に製造される、例
えばプレセンシタイズ印刷版の層、及び感光性物
の使用者によつて施こされる層、すなわちフオト
レジスト層又はセルフコーチング印刷版の層も包
含される。更に、本発明は、可視線又は長波の紫
外線に対して鈍感であるが、高エネルギー放射
線、例えば電子線又はレーザー線に対して敏感な
電子複写層も包括する。本発明は、原理上、単一
で均一な構造及び層厚を有するのが重要な任意の
電子複写層に適用することができる。
当該感光系は、現像液の溶解性が露光又は照射
下だそのつど変化する全てのもの、すなわち光線
に暴露することによつて硬化される混合物(ネガ
チブ)及び光線に暴露することによつて可溶性に
なる混合物(ポジチブ)を包含する。更に、電子
写真系は、電荷画像、場合によつてはトーナー画
像まず製造し、次に浮彫り画像を形成させるため
に使用する目的で、例えば電荷画像又はトーナー
画像を転写するか又はトーナー画像で被われてな
い版の範囲を剥膜することによつて印刷版を製造
するのに適当である。
適当な感光性混合物は、なかんずくポジチブ活
性又はネガチブ活性のジアゾ化合物、例えばo−
キノンジアジド又はジアゾニウム塩重縮合生成物
を主体とするものである。該混合物は、屡々被膜
形成樹脂又は結合剤を含有る。西ドイツ国特許出
願公開第2331377号明細書、同第2547905号明細書
及び同第2828037号明細書には、前記種の適当な
ポジチブ活性層が開示されており、前記型のネガ
チブ活性層は、例えば米国特許第3867147号明細
書に記載されている。
また、酸分解可能なオルトカルボン酸基又はア
セタール基を含有する化合物と光分解酸供与体を
主体とするポジチブ活性混合物も、例えば西ドイ
ツ国特許第2610842号明細書及び西ドイツ国特許
出願公開第2718254号明細書及び同第2928636号明
細書に記載されているように適当である。
更に、エチレン性不飽和重合化合物、光重合開
始剤、及び場合によつて高分子量結合剤からなる
光重合可能な混合物を、例えば米国特許第
2760863号明細書、西ドイツ国特許第2027467号明
細書及び西ドイツ国特許出願公開第2064079号明
細書、同第2363806号明細書及び同第2822190号明
細書に記載されているように使用することもでき
る。
既述したように、無機光導電体又は有機光導電
体からなる光導電性物及び必要な場合には高分子
量結合剤も、例えば西ドイツ国特許第2322047号
明細書、同第1522497号明細書及び同第1811209号
明細書及び西ドイツ国特許出願公告第2726116号
明細書に開示されているように、使用することも
できる。
適当な支持体は、工業界で公知のもの、すなわ
ち金属、例えばアルミニウム、銅、クロムめつき
された銅又は黄銅、鋼及び類似の、例えば酢酸セ
ルロース又はポリエチレンテレフタレートからな
るプラスチツクシート、銅クラツド成形樹脂板等
である。
塗布は、ローラー塗、浸漬被覆、スロツトダイ
被覆、流延等によつて達成することができる。弗
素化界面活性剤のレベリング効果は、塗料溶液を
施こすために使用される方法によつて僅かに影響
されるにすぎないか又は殆んど影響されない。
所望の浮彫り画像は、公知方法で、画像に応じ
て露光又は照射し、非画像部を現像液、有利に現
像水溶液で洗浄除去することにより本発明によつ
て得られた塗布複写材料上に製造される。この現
像法の場合、層中に含まれている弗素化界面活性
剤は、可溶性層部と一緒に非画像部から完全に除
去され、したがつて該部に被われなかつた支持体
は、全く汚れ傾向を示さない。
前記の記載及び以下の実施の場合には、本発明
よる方法及び材料の適用に最も重要な分野である
平版印刷原図の製造を主に参照。本発明は、印刷
版の他の型、例えば凸版又は凹版印刷版の製造又
はフオトレジスト及び他の電子複写材料の製造も
有利に使用され、この場合には、均一の厚さ及び
不変の性質を有する感光又は放射線過敏層を施こ
すのに重要である。
本発明の優れた実施態様を次の実施例につき説
明する。実施例中、重量部(p.b.w.)及び容量部
(p.b.v.)は、g対cm3と同じ関係を有する。特に記
載しない限り、%及び重量比は重量単位を表わ
す。
例 1 電解処理により粗面化されかつ陽極酸化された
アルミニウムウエブにスロツトダイを用いて次の
溶液を塗布した: DIN53181により軟化範囲105℃〜120℃を有する
クレゾールホルムアルデヒドノボラツク
6.6p.b.w.、 ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−スルホ
ン酸−(4)の4−(2−フエニル−プロピ−2−イ
ル)−フエニルエステル 1.1p.b.w.、 2,2′−ビス−〔ナフトキノン−(1,2)−ジア
ジド−(2)−スルホニルオキシ−(5)−ジナフチル−
(1,1′)−メタン 0.6p.b.w.、 ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−スルホ
クロリド(4) 0.24p.b.w.、 クリスタルバイオレツト 0.08p.b.w.、 オキシエチレン単位とオキシプロピレン単位とか
らなるポリグリコール及びペルフルオルカルボン
酸のエステル化生成物 0.02p.b.w.、 エチレングリコールモノメチルエーテル4p.b.v.、
テトラヒドロフラン5p.b.v.及び酢酸ブチル1p.b.v.
からなる溶剤混合物 91.36p.b.w.。
この塗布したウエブを120℃までの温度でトン
ネル乾燥機を通過させることによつて乾燥した。
得られる層は、曇りの不規則性を有しない全く
均一な外観を有していた。塗布の小さい欠点は、
延長させた製造過程の範囲内で簡単に確認するこ
とができる。
印刷版をポジチブ原版の下で露光し、次の組成
を有する現像液を用いて現像した: メタ珪酸ナトリウム×9H2O 5.3p.b.w.、 燐酸三ナトリウム×12H2O 3.4p.b.w.、 (無水)燐酸二水素ナトリウム 0.3p.b.w.、 水 91.0p.b.w.。
得られた印刷版は、複写又は印刷の何らの欠点
も示さなかつた。
前記と同じ方法で、全くペルフルオルカルボン
酸エステルを含有しないが、その他は前記の塗料
溶液と同じ組成を有する溶液を塗布することによ
つて印刷版を製造した。
この場合、この複写層は、不規則な外観及び不
均一な色を有していた。該複写層は、大きさ及び
数の点でほぼ同等の明色帯域と暗色帯域を示し、
多少とも強く塗布方向に拡張していた。平均で約
3〜5個所の明色帯域と暗色帯域がそれぞれ表面
積1cm2中に確認することができた。このような層
の外観は、一般に“曇り”と呼称されている。
上記段落の記載のように製造された印刷版は、
本発明によつて製造された印刷版と同じ複写挙動
及び印刷挙動を有していた。
例 2 例1の方法を繰り返すが、この場合塗料溶液中
のペルフルオルカルボン酸エステルに式:
C7F15C2H4(OC2H456OHのフルオルアルキル
エーテル0.05p.b.w.を代用した。得られた印刷版
は、例1の版と同じ外観を有し、同じ複写挙動及
び印刷挙動を示した。
例 3 例1の方法を繰り返すが、塗料溶液において、
前記溶剤混合物を等量の唯一つの溶剤としてのエ
チレングリコールモノメチルエーテルに変えた。
得られた塗布量は、例1と同じであつた。
露光下でこうして製造された印刷版は、弗素化
界面活性剤は添加しないが、溶剤混合物を用いて
製造された、例1に記載の比較版と比較して顕著
に高い画像コントラスト、僅かに増大された感光
性及び減少されたハレーシヨン傾向を示した。
露光した印刷版を現像液の20%減少させた量で
現像した場合、現像時間は、前記の比較版と比較
して14%短縮することができた。
インキ受理性、保水性及び印刷能力の点で、比
較版との差は、観察することができなかつた。
エチレングリコールモノメチルエーテルの代り
に等量のシクロヘキサン、テトラヒドロフラン又
はジオキサンを唯一つの溶剤として使用する場合
には、塗布適性ならびに版の複写挙動及び印刷挙
動に関する限り、本質的に同じ結果が得られた。
例1に記載の弗素化界面活性剤を例2で使用し
た界面活性剤に代えた場合にも、実際に同じ結果
が得られた。
弗素化界面活性剤は完全に省略するが、その他
は同じ塗料溶液の場合に、許容できない塗布適性
を有する極めて曇つた不規則な複写層が生じた。
例 4 2,4−ジヒドロキシ−3,5−ジブロム−ベン
ゾフエノン1モル及びナフトキノン−(1,2)−
ジアジド−(2)−5−スルホン酸2モルのエステル
1.50p.b.w.、 フエノールOH基14%からなり、DIN53181によ
り軟化範囲110℃〜120℃を有するフエノールホル
ムアルデヒドノボラツク 5.20p.b.w.、 ポリビニルブチラル 0.20p.b.w.、 クリスタルバイオレツト 0.15p.b.w.、 スーダンイエローGGN(カラーインデツクス番号
11021) 0.08p.b.w.、 トリス−(β−クロルエチル)−ホスフエート
0.60p.b.w.、 エチレングリコールモノメチルエーテル40p.b.w.
とテトラヒドロフラン50p.b.v.とからなる溶剤混
合物 92.25p.b.w.中の例2に記載の弗素化界面活
性剤 0.02p.b.w.、 の溶液を、鋼製ブラシでブラツシングすることに
よつて粗面化されたアルミニウム箔に塗布し、次
いでこの塗膜を110℃までの温度でトンネル乾燥
機中で乾燥した。
こうして製造されたポジチブ活性のプレセンシ
タイズ平版印刷版は、極めて均一な感光層を有し
ていた。この版は、完全な複写挙動及び印刷挙動
を示した。
例2の弗素化界面活性剤を例1の界面活性剤の
代りに使用する場合には、比較しうる塗布適性及
び比較しうる処理特性を有する印刷版が得られ
た。
例 5 プレセンシタイズ印刷版を例4と同様に支持体
を塗布することによつて製造したが、この場合に
は、溶剤混合物を等量の唯一つの溶剤としてのエ
チレングリコールモノメチルエーテルに代えた。
得られた印刷版上の層は、例4で得られた層の性
質に相当した。
こうして製造された印刷版は、例4によるが、
弗素化界面活性剤の添加なしに製造された版と比
較してより簡単な現像可能性、画像部のより良好
な現像抵抗性、及び減少されたハレーシヨン傾向
の利点を示した。
印刷結果は、比較版を用いて得られたものにほ
ぼ相当した。
例 6 電解処理により粗面化されかつ陽極酸化された
アルミニウム板を、ポリビニルホスホン酸0.3重
量%が溶解されている60℃の水中に1分間浸漬
し;次に、該板を洗浄しかつ乾燥し、次いで次の
組成を有する溶液を塗布し、再び乾燥した: メシチレンスルホネートとして沈殿した、3−メ
トキシ−ジフエニルアミン−4−ジアゾニウムス
ルフエート1モルと、4,4−ビス−メトキシメ
チル−ジフエニルエーテル1モルとの重縮合生成
物 0.7p.b.w.、 85%燐酸 3.4p.b.w.、 分子量1000以下を有するエポキシ樹脂50gと、エ
チレングリコールモノメチルエーテル中の安息香
酸12.8gとを、ベンジルトリメチルアンモニウム
ヒドロキシドの存在下で反応させることによつて
得られた変性エポキシ樹脂微粉砕ヘリオゲンブル
ーG(カラーインデツクス番号74100)
0.44p.b.w.、 ポリエチレングリコール及びペルフルオルカルボ
ン酸のエステル化生成物 0.02p.b.w.、 エチレングリコールモノメチルエーテル
62.0p.b.w.、 テトラヒドロフラン 30.6p.b.w.及び エチレングリコールメチルエーテルアセテート
8.0p.b.w.。
得られた複写層は、弗素化界面活性剤は添加し
ないが、それ以外は同じ組成で製造された複写層
よりも著しく改善された平滑性及び均一な色を示
した。この印刷版は、比較版と同じ複写挙動及び
印刷挙動を有していた。2つの版を、 Na2SO4×10H2O 2.8p.b.w.、 MgSO4×7H2O 2.8p.b.w.、 (85%)オルト燐酸 0.9p.b.w.、 亜燐酸 0.08p.b.w.、 非イオン界面活性剤 1.6p.b.w.、 ベンジルアルコール 10.0p.b.w.、 n−プロパノール 20.0p.b.w.、 水 60.0p.b.w.、 を有する溶液で現像した。
例 7 本方法は、塗布のために溶剤混合物の代りにエ
チレングリコールモノメチルエーテルを唯一つの
溶剤として使用すること以外は例6と同様に実施
した。
得られた複写層は、高度の均質性ならびに均一
な層厚及び色を示した。弗素化界面活性剤を添加
しない、例6の溶剤混合物から製造された層と比
較して、この層は、より高い感光性及び改善され
た分解能を有していた。
弗素化界面活性剤を添加して製造された層に必
要とされる現像時間は、比較版に必要とされる現
像時間と比較して30%減少された。2つの版は、
同一の印刷挙動を示した。
例 8 水性研磨懸濁液を用いてブラツシングすること
によつて粗面化され、次いでポリビニルホスホン
酸水溶液を用いて処理したアルミニウム支持体
に、次の組成を有する溶液を塗布した: 例6に記載のジアゾニウム塩縮合生成物
0.6p.b.w.、 (85%)燐酸 0.06p.b.w.、 ポリビニルホルマール(分子量30000、ヒドロキ
シ基7%、アセテート基20〜27%) 1.7p.b.w.、 エチレングリコールモノメチルエチルアセテート
中の銅フタロシアニン願料(カラーインデツクス
番号74160)の分散液 2.7p.b.w.、 例6に記載の弗素化界面活性剤 0.02p.b.w.、 エチレングリコールモノメチルエーテル
95p.b.w.。
複写層は、優れた均一性を示した。
画像に応じて露光した後、該層は、弗素化界面
活性剤の添加なしにエチレングリコールモノメチ
ルエーテル50重量部、テトラヒドロフラン40重量
部及び酢酸ブチル10重量部の溶剤混合物から製造
された相当する層よりも簡単に現像することがで
きた。該層を次の組成を有する溶液で現像した: MgSO4×7H2 5.7p.b.w.、 n−プロパノール 25.5p.b.w.、 エチレングリコールモノ−n−ブチル−エステル
1.1p.b.w.、 アルキル−ポリエトキシ−エタノール
0.7p.b.w.及び 水 67.0p.b.w.。
例 9 例8に記載の塗料溶液を、電解処理により粗面
化されかつ陽極酸化された、ポリビニルホスホン
酸水溶液で後処理されたアルミニウム支持体に塗
布した。
塗膜の乾燥の乾燥後に得られたプレセンシタイ
ズ平版印刷版は、高い塗布適性及び付加的に僅か
に高い感光性を示し;該印刷版は、弗素化界面活
性剤の添加なしにエチレングリコールモノメチル
エーテル50p.b.w.、テトラヒドロフラン40p.b.w.
及び酢酸ブチル10p.b.w.からなる溶剤混合物を塗
布した版と比較して、微細画線部のより完全な現
像を生ぜしめる場合には、顕著に短い現像時間を
必要とした。
本実施例において、エチレングリコールモノメ
チルエーテルを唯一つの溶剤として使用されるシ
クロヘキサン、テトラヒドロフラン、ジオキサン
又はジクロルエタンにそのつど代えた場合には、
本質的に同じ結果が達成された。
例 10 電解処理により粗面化されかつ陽極酸化され
た、ポリビニルホスホン酸水溶液で後処理された
アルミニウム板に次の組成を有する溶液を塗布し
た: 例6に記載のジアゾニウム化合物 1p.b.w.、 例8のポリビニルホルマール 0.5p.b.w.、 例2に記載のペルフルオルアルキルエーテル
0.03p.b.w.、 エチレングリコールモノメチルエーテル
98.5p.b.w.。
乾燥後に得られたプレセンシタイズ平版印刷版
を、画像に応じてアルゴンレーザー線を用いて10
ワツトの出力で照射した。次の組成を有する溶液
を現像のために使用した: 硫酸マグネシウム 6.0p.b.w.、 脂肪族アルコールポリグリコールエーテル
0.7p.b.w.、 水 65.0p.b.w.及び n−プロパノール 32.0p.b.w.。
比較のために、ペルフルオルアルキルエーテル
を添加することなしにテトラヒドロフラン40容量
部とエチレングリコールモノメチルエーテル60容
量部とからなる溶剤混合物からの同じ層成分を支
持体に施こした。この版上の層は、著しく不良な
適性を示し、顕著に長い露光時間を必要とした。
唯一つの溶剤としてのエチレングリコールモノ
メチルエーテルを弗素化界面活性剤を添加するこ
となしに塗布した場合には、層密度の著しい変動
を示す極めて曇つた層が得られた。
例 11 2,5−ビス−(4′−ジエチルアミノフエニル)−
1,3,4−オキサジアゾール 10p.b.w.、 平均分子量20000及び酸価180を有するスチレン無
水マレイン酸との共重合体 10p.b.w.、 ローダミンFB(カラーインデツクス番号45170)
0.02p.b.w.、 ならびにエチレングリコールモノメチルエーテル
3.00p.b.w.中の 例6に記載の弗素化界面活性剤 0.02p.b.w.、 の溶液を、電解処理により粗面化され、陽極酸化
されかつポリビニルホスホン酸で処理されたアル
ミニウム箔に塗布した。如何なる露出構造も有し
ない極めて均一な光導電層が溶剤の蒸発後に形成
された。
この層に暗室内でコロナ放電を用いて約400V
の陰電荷を帯電した。次に、この帯電した版材を
画像に応じて製版用カメラ中で露光し、ペンタエ
リトリツト樹脂7.5gの溶液中の硫酸マグネシウム
3.0gを沸騰範囲185℃〜210℃を有するイソパラフ
イン混合物1200ml中に分散させることによつて得
られた電子写真用懸濁現像液を用いて現像した。
若干過剰の現像液を除去し、この版を、 メタ珪酸ナトリウム×9H2O 35p.b.w.、 グリセロール 140p.b.w.、 エチレングリコール 550p.b.w.及び エタノール 140p.b.w.、 の溶液中に60秒間浸漬した。
更に、この版を強力な水流で洗浄し、したがつ
てトーナーによつて被覆されてない光導電層の任
意の部分を除去した。次に、この版を印刷のため
に用意した。
使用した界面活性剤は、非イオノゲン物であつ
たので、電子写真層の帯電性及び露光下のままの
電荷の漏れは、調節されなかつた。
処理特性及び印刷挙動に関する限り、改善され
た塗布適性を有する版は、弗素化界面活性剤が添
加されてないテトラヒドロフラン3重量部、エチ
レングリコールモノメチルエーテル2重量部及び
酢酸ブチル1重量部の溶剤混合物から塗布した比
較版と異ならなかつた。
同じ方法ではあるが、弗素化界面活性剤は添加
せず、唯一つの溶剤としてのエチレングリコール
モノメチルエーテルを用いて製造された他の版
は、肉眼でも確認しうるしわ構造を示した。
例 12 例6に記載のジアゾニウム塩縮合生成物
10p.b.w.、 2,4−ジニトロ−6−クロルベンゼンジアゾニ
ウム塩と2−メトキシ−5−アセチルアミノ−N
−ヒドロキシエチル−N−シアノエチルアニリン
とからなるアゾ染料 4p.b.w.、 メタニルイエロー(カラーインデツクス番号
13065) 1p.b.w.、 (85%)燐酸 2p.b.w.ならびに エチレングリコールモノメチルエーテル
970p.b.w.中の 例6に記載の弗素化界面活性剤 0.02p.b.w.、 の溶液を、電解処理により粗面化されかつ陽極酸
化されたアルミニウム箔に塗布した。曇りのない
均一層が得られた。
例 13 酢酸ビニル、エチレン及び塩化ビニルの三元共重
合体の50%強水性分散液 28p.b.w.、 3:1エチレングリコール/水混合物中の銅フタ
ロシアニン(カラーインデツクス番号74160)の
32%強分散液 4p.b.w.、 例6に記載のジアゾニウム塩縮合生成物
4p.b.w.、 メタニルイエロー 0.3p.b.w.、 (85%)燐酸 0.2p.b.w.ならびに エチレングリコールモノメチルエーテル
970p.b.w.中の 例6に記載の弗素化界面活性剤 0.02p.b.w.、 の溶液を、電解処理により粗面化されかつ陽極酸
化されたアルミニウム板に施こした。得られた複
写層には、曇りがなかつた。しかし、塗料溶液に
おいて弗素化界面活性剤を省略する場合には、得
られた層は、著しい曇りを有し、不均一な厚さを
有していた。
例 14 スルホン酸メタンとして沈殿した。3−メトキシ
−ジフエニルアミン−4−ジアゾニウム塩1モル
と4,4−ビス−メトキシジフエニルエーテル1
モルとの重縮合生成物 10p.b.w.、 エチレングリコール/水の3:1混合物中の無金
属有機顔料ピグメントグリーン7(カラーインデ
ツクス番号74260)の47%強分散液 5p.b.w.、 エトキシル化オクチルフエノール 5p.b.w.、 (85%)燐酸 3p.b.w.ならびに 水 680p.b.w.中の 例2に記載のフルオルアルキルエーテル
0.02p.b.w.、 の溶液を、電解処理により粗面化されかつ陽極酸
化されたアルミニウム板に施こし、これを乾燥し
た。得られた複写層は極めて平らであり、むらの
ない色を示した。しかし、フルオルアルキルエー
テルを添加することなしに同じ塗料溶液を同一の
支持材料に施こした場合には、得られる複写層
は、著しく汚染されていた。
例 15 平均分子量40000及び酸価60〜115を有するメタク
リル酸メチルとメタクリル酸との共重合
14p.b.w.、 1,1,1−トリメチロールエタントリアクリレ
ート 14p.b.w.、 1,6−ビス−ヒドロキシエトキシ−ヘキサン
2p.b.w.、 9−(p−ヒドロキシ−フエニル)−アクリジン
0.5p.b.w.、ならびに エチレングリコールモノメチルエーテル
130p.b.w.、中の 例1で使用した弗素化界面活性剤 0.2p.b.w.、 の溶液を、電解処理により粗面化されかつ陽極酸
化されたアルミニウム箔に施こし、これを乾燥し
た。
得られた光重合性複写層は、曇りを含まず、完
全に均一であつた。
この層を5KWのキセノン灯の点光源を用いて
原図の下で1分間露光した。次に、この層に、 メタ珪酸ナトリウム×9H2O 15p.b.w.、 ポリグリコール6000 3p.b.w.、 レブリン酸 0.6p.b.w.、ならびに 水 1000p.b.w.中の 水酸化ストロンチウム×8H2O 0.3p.b.w.、 からなる現像液を1分間塗布し、したがつて層の
未露光部を除去した。現像し、引続き水で洗浄
し、1%強燐酸で定着し、かつ黒色脂肪インキで
インキ付けした。
弗素化界面活性剤は添加せず、唯一つの溶剤と
してのエチレングリコールモノメチルエーテルを
使用して製造された同じ塗料組成物を使用した場
合には、得られる複写層は、曇つており、不均一
であつた。
同様に、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル70容量部とエチレングリコールモノブチルエー
テル30容量部との混合物を塗料溶剤として使用す
る場合にも、曇つた複写層が得られた。この層
は、界面活性剤を含有する層と比較してより長い
露光時間を必要とした。
例 16 2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパン−ジ
オールのビス−(5−エチル−5−ブチル−1,
3−ジオキサン−2−イル)−エーテル
25p.b.w.、 例1で使用したクレゾールホルムアルデヒドノボ
ラツク 71p.b.w.、 2−(アセナフチ−5−イル)−4,6−ビス−ト
リクロルメチル−s−トリアジン 3p.b.w.、 クリスタルバイオレツト塩基 0.7p.b.w.ならびに エチレングリコールモノメチルエーテル
900p.b.w.中の 例1に記載の弗素化界面活性剤 0.02p.b.w.、 の溶液を、電解処理により粗面化されかつ陽極酸
化されたアルミニウム箔に塗布し、これを乾燥し
た。得られたポジチブ活性の複写層は、曇りを有
さず、高い塗布適性を示した。
この版を常法で原図の下で露光し、次いで例1
に記載の現像液を用いて現像した。
前記のオルトエステル誘導体を、例えば西ドイ
ツ国特許出願公開第2610842号明細書に記載され
ていような他のオルトカルボン酸エステルに代え
た場合又は西ドイツ国特許出願公開第2718254号
明細書に記載されているようなポリアセタールを
使用した場合にも、同じ結果が得られた。
例 17 2,3,4−トリヒドロキシベンゾフエノン1モ
ルとナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−5
−スルホン酸3モルとのエステル 2p.b.w.、 ザポンフアストブルーHFL(カラーインデツクス
番号74350) 3p.b.w.、 スーダンブル.(カラーインデツクス番号
61554S) 1p.b.w.ならびに エチレングリコールモノメチルエーテル30容量
部、メチルエチルケトン20容量部及び(85%)酢
酸ブチル10容量部からなる混合物 94p.b.w.中の 例6に記載の弗素化界面活性剤 0.02p.b.w.、 の溶液をポリエステルフイルムに塗布した。この
フイルム上に得られた塗膜は、完全に曇りを有さ
ず、むらのない色を示した。このフイルムは、色
修正用フイルムとして使用することができた。
しかし、弗素化界面活性剤の添加なしの相当す
る塗料溶液を同じ支持体に塗布した場合、得られ
る層は、色濃度の著しい変化を示した。
例 18 ポジチブ活性の乾燥耐食膜を製造するために、 例1によるノボラツク 11.15p.b.w.、 分子量10000を有する酢酸ビニル/クロトン酸共
重合体(95:5) 2.79p.b.w.、 メタクリル酸n−ヘキシル/メタクリル酸メチ
ル/メタクリル酸5:1:2部からなりかつ酸価
158を有する共重合体 4.18p.b.w.、 エポキシ当量190を有するエポキシ樹脂
2.79p.b.w.、 4,4−ビス−(4−ヒドロキシ−フエニル)−吉
草酸−3−メトキシ−ブチルエステルのビス−ナ
フトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−スルホン
酸−5−エステル 2.32p.b.w.、 ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−スルホ
クロリド−(4) 0.45p.b.w.、 例1に記載の弗素化界面活性剤 0.02p.b.w.、 ならびに エチレングリコールモノエチルエーテル
48.34p.b.w.及び メチルエチルケトン 27.90p.b.w.中の クリスタルバイオレツト 0.06p.b.w.、 からなる溶液を製造した。
この溶液を、トリクロル酢酸10%、ポリビニル
アルコール1%及び界面活性剤0.1%の水溶液で
予備処理された、厚さ約25μmのポリエステルフ
イルムに塗布し、次いで乾燥した。得られた塗膜
は、極めて均一であつた。
前記溶剤混合物を、塗布適性に影響を及ぼすこ
となしいエチレングリコールモノメチルエーテル
76.24重量部に代えた。
更に、厚さ約20μmの耐食膜層に、ほこり及び
掻ききずから該層を保護するために、ポリエチレ
ン保護膜を設けた。
回路板を製造するためには、保護膜をポジチブ
活性の乾燥耐食膜から剥離し、次に市の貼合せ機
を使用して絶縁材料からなる支持体に貼合せた厚
さ約35μmの透明な銅箔に被膜を施こした。必要
な場合には、支持被膜を剥離し、再び乾燥し、常
用の露光装置を用いて3分間露光し、次の組成: NaOH 0.6p.b.w.、 Na2SiO3×5H2O 0.5p.b.w.、 n−ブタノール 1.0p.b.w.及び 水 97.9p.b.w.、 の現像液を用いて約2分間噴霧現像した後、画像
の分布の点で優れた耐食層を得た。この耐食層
は、エツチング処理で常用の条件、例えばFeCl3
を使用することに対してだけでなく、スル−ホー
ルプリント回路の製造で使用される、殊に銅、ニ
ツケル及び金を用いて連続的に電気めつきする場
合の電気めつき溶液に対しても抵抗性を示した。
例 19 4,4−ビス−(4−ヒドロキシ−フエニル)−吉
草酸メチルエステルのビス−ナフトキノン−(1,
2)−ジアジド−(2)−スルホン酸−(5)−エステル
3.0p.b.w.、 例4によるフエノールホルムアルデヒドノボラツ
ク 21.0p.b.w.、 例18の酢酸ビニル/クロトン酸共重合体
3.0p.b.w.、 エポキシ樹脂(エポキシ当量約450)3.0p.b.w.、 スーダンブル(カラーインデツクス番号ソルベ
ントブル−35) 0.4p.b.w.ならびに エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト 49.6p.b.w.、 エチレングリコールモノメチルエーテル
10.0p.b.w.及び 酢酸ブチル 10.0p.b.w.中か又は エチレングリコールモノメチルエーテル
69.6p.b.w.中の 例1に記載の弗素化界面活性剤 0.02p.b.w.、 の溶液は、回路板、グラビア印刷シリンダの製造
に及び蝕刻又はニツケル型ステンシルに使用する
のに適当なポジチブ活性の耐食性感光組成物を生
じた。
例 20 酸価202を有するメタクリル酸メチル、メタクリ
ル酸n−ヘキシル及びメタクリル酸(25:125:
30)の三元共重合体 2.8p.b.w.、 2,2,4−トリメチル−ヘキサメチレンジイソ
シアネート1モルメタクリル酸ヒドロキシエチル
2モルとを反応させることによつて得られた反応
生成物 2.8p.b.w.、 例1に記載の弗素化界面活性剤 0.005p.b.w.、 ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル
0.5p.b.w.、 トリス−〔4−(3−メチル−フエニルアミノ)−
フエニル〕−メチルアセテート 0.03p.b.w.ならびに エチレングリコールモノエチルエーテル
12p.b.w.中の 9−フエニル−アクリジン 0.025p.b.w.、 の溶液を、(フアン乾燥機を用いて8分間、次い
で乾燥炉中で100℃で3分間)乾燥した後に25μm
の層厚が得られるような方法で厚さ25μmのポリ
エチレンテレフタレートフイルムに回転塗布し
た。この層は、極めて均一な厚さを有し、如何な
る変色も示さなかつた。この乾燥耐食膜を例18の
記載のように絶縁樹脂の銅−クラツド板に貼合
せ、次にこれを露光した。2分間の乾燥後、原図
のくつきりと現像された画像が得られた。現像抵
抗性及び腐食抵抗性は、優れていた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 支持体と、化学線の露光下で現像液中で溶解
    性が変化かつ弗素化有機界面活性剤0.01〜10重量
    %を含有する感光層とからなる感光複写材料にお
    いて、該弗素化有機界面活性剤が式: Rf(CO)r(OCnH2noOR 〔式中、 Rfは2〜12個、有利に5〜8個の炭素原子を
    有する弗素化アルキル基であり、 Rは水素原子又はRf(CO)r基であり、 mは2〜5の範囲内の整数であり、 nは4〜40の範囲内の整数であり、 rは零又は1である〕で示される化合物であ
    り、該化合物が300〜3500の範囲内の分子量を有
    することを特徴とする、感光複写材料。 2 層成分を含有する塗料溶液の支持体に対する
    塗布効率が第1に界面活性剤の添加によつて40〜
    75%減少されている程度の量の弗素化界面活性剤
    からなる、特許請求の範囲第1項記載の感光複写
    材料。 3 水に対する感光層の界面張力が界面活性剤を
    含まない層と比較して2〜12mN/m減少されて
    いる程度の量の弗素化界面活性剤からなる、特許
    請求の範囲第1項記載の感光複写材料。 4 感光層の溶解性が露光することによつて増大
    されている、特許請求の範囲第1項記載の感光複
    写材料。 5 感光層が感光性化合物としてのo−キノンジ
    アジドを含有する、特許請求の範囲第4項記載の
    感光複写材料。 6 感光層の溶解性が露光することによつて減少
    されている、特許請求の範囲第1項記載の感光複
    写材料。 7 層が感光性化合物としてのジアゾニウム塩重
    縮合生成物を含有する、特許請求の範囲第6項記
    載の感光複写材料。 8 感光層が光重合可能な層である、特許請求の
    範囲第6項記載の感光複写材料。 9 層成分を弗素化有機界面活性剤と一緒に溶剤
    に溶解し、この溶液を塗布して支持体上に薄層を
    形成させ、次いで溶剤を蒸発させることによつて
    乾燥することにより、支持体に感光性複写層を塗
    布する方法において、式: Rf(CO)r(OCnH2noOR 〔式中、 Rfは2〜12個、有利に5〜8個の炭素原子を
    有する弗素化アルキル基であり、 Rは水素原子又はRf(CO)r基であり、 mは2〜5の範囲内の整数であり、 nは4〜40の範囲内の整数であり、 rは零又は1である〕で示される300〜3500の
    範囲内の分子量を有する化合物である弗素化非イ
    オン界面活性剤0.005〜1重量%を塗料溶液に添
    加することを特徴とする、支持体に感光性複写層
    を塗布する方法。 10 弗素化界面活性剤を支持体に対する塗料溶
    液の塗布効率が第1に40〜75%減少されている程
    度の量で添加する、特許請求の範囲第9項記載の
    方法。 11 層成分を実質的に単独の有機溶剤に溶解す
    る、特許請求の範囲第9項記載の方法。
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Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57178242A (en) * 1981-04-27 1982-11-02 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive lithographic plate
JPS59137943A (ja) * 1983-01-28 1984-08-08 W R Gureesu:Kk 感光性樹脂組成物
JPS59138454A (ja) * 1983-01-28 1984-08-08 W R Gureesu:Kk 樹脂版用表面処理剤
JPS59155836A (ja) * 1983-02-24 1984-09-05 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性組成物
US4661436A (en) * 1983-06-17 1987-04-28 Petrarch System, Inc. Process of forming high contrast resist pattern in positive photoagent material using alkalai developer with fluorocarbon surfactant
JPS6074621A (ja) * 1983-09-30 1985-04-26 Fujitsu Ltd 半導体装置の製造方法
JPS60125841A (ja) * 1983-12-12 1985-07-05 Mitsubishi Chem Ind Ltd ポジ型フオトレジスト組成物
DE3582697D1 (de) * 1984-06-07 1991-06-06 Hoechst Ag Positiv arbeitende strahlungsempfindliche beschichtungsloesung.
DE3421448A1 (de) * 1984-06-08 1985-12-12 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Perfluoralkylgruppen aufweisende polymere, sie enthaltende reproduktionsschichten und deren verwendung fuer den wasserlosen offsetdruck
JPS61226745A (ja) * 1985-03-30 1986-10-08 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 半導体集積回路製造用のスピンコート用レジスト組成物
JPS61226746A (ja) * 1985-03-30 1986-10-08 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 半導体集積回路製造用のスピンコート用レジスト組成物
JPH081517B2 (ja) * 1985-04-25 1996-01-10 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JPH0721626B2 (ja) * 1985-08-10 1995-03-08 日本合成ゴム株式会社 半導体微細加工用レジスト組成物
JPH083630B2 (ja) * 1986-01-23 1996-01-17 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
US4845008A (en) * 1986-02-20 1989-07-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive positive working, o-guinone diazide presensitized plate with mixed solvent
JPH06105351B2 (ja) * 1986-03-27 1994-12-21 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPH0762761B2 (ja) * 1986-03-28 1995-07-05 富士写真フイルム株式会社 画像形成材料
JPH0743501B2 (ja) * 1986-04-24 1995-05-15 富士写真フイルム株式会社 ポジ型感光性平版印刷版
US4869982A (en) * 1987-04-30 1989-09-26 X-Solve, Inc. Electrophotographic photoreceptor containing a toner release material
JPH06105350B2 (ja) * 1987-07-13 1994-12-21 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用感光性組成物
US5079122A (en) * 1990-07-03 1992-01-07 Xerox Corporation Toner compositions with charge enhancing additives
JP2828572B2 (ja) * 1993-02-08 1998-11-25 信越化学工業株式会社 ジフェノール酸第三級ブチルエステル誘導体及びそれを含有するポジ型レジスト材料
JPH0728230A (ja) * 1993-07-07 1995-01-31 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 感放射線性レジスト組成物
US5403437A (en) * 1993-11-05 1995-04-04 Texas Instruments Incorporated Fluorosurfactant in photoresist for amorphous "Teflon" patterning
US6147010A (en) * 1996-11-14 2000-11-14 Micron Technology, Inc. Solvent prewet and method to dispense the solvent prewet
CN102977359B (zh) * 2012-11-19 2014-08-06 京东方科技集团股份有限公司 含氟聚合物、制备方法及其用途、颜料分散液及制备方法
CN111308866B (zh) * 2020-04-01 2023-08-22 烟台核晶陶瓷新材料有限公司 一种用于坩埚检测的显影溶液及其制备方法和使用方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54135004A (en) * 1978-04-10 1979-10-19 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive flat printing plate

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1215861A (en) * 1967-02-09 1970-12-16 Minnesota Mining & Mfg Cleanable stain-resistant fabrics or fibers and polymers therefor
US3759711A (en) * 1970-09-16 1973-09-18 Eastman Kodak Co Er compositions and elements nitrogen linked apperding quinone diazide light sensitive vinyl polym
US3790382A (en) * 1971-04-16 1974-02-05 Minnesota Mining & Mfg Fluorinated polyamide-diazo resin coating composition
US3779768A (en) * 1971-08-26 1973-12-18 Xidex Corp Fluorocarbon surfactants for vesicular films
US3868254A (en) * 1972-11-29 1975-02-25 Gaf Corp Positive working quinone diazide lithographic plate compositions and articles having non-ionic surfactants
GB1436961A (en) * 1973-01-05 1976-05-26 Ici Ltd Photographic assemblies
US4225663A (en) * 1974-08-26 1980-09-30 Minnesota Mining And Manufacturing Company Driographic printing plate
GB1523762A (en) * 1975-02-25 1978-09-06 Oce Van Der Grinten Nv Photocopying materials
DE2805680C2 (de) * 1977-03-01 1982-05-27 Bexford Ltd., London Aufzeichnungsmaterialien für das Vesikularverfahren und Verfahren zur Erhöhung der Lichtempfindlichkeit solcher Aufzeichnungsmaterialien
US4125650A (en) * 1977-08-08 1978-11-14 International Business Machines Corporation Resist image hardening process
US4228232A (en) * 1979-02-27 1980-10-14 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photopolymerizable composition containing ethylenically unsaturated oligomers
US4339525A (en) * 1979-06-18 1982-07-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Color proofing system using dot-etchable photopolymerizable elements

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54135004A (en) * 1978-04-10 1979-10-19 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive flat printing plate

Also Published As

Publication number Publication date
DE3175028D1 (en) 1986-09-04
US4487823A (en) 1984-12-11
AU541512B2 (en) 1985-01-10
CA1170888A (en) 1984-07-17
BR8103762A (pt) 1982-03-02
JPS5740249A (en) 1982-03-05
EP0042105A1 (de) 1981-12-23
DE3022362A1 (de) 1981-12-24
ATE21177T1 (de) 1986-08-15
AU7162781A (en) 1981-12-24
EP0042105B1 (de) 1986-07-30
ZA813970B (en) 1982-06-30

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