JPS6388556A - プレセンシタイズド版板、および水なし平版印刷に適当な版面の製造法 - Google Patents

プレセンシタイズド版板、および水なし平版印刷に適当な版面の製造法

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JPS6388556A
JPS6388556A JP62208391A JP20839187A JPS6388556A JP S6388556 A JPS6388556 A JP S6388556A JP 62208391 A JP62208391 A JP 62208391A JP 20839187 A JP20839187 A JP 20839187A JP S6388556 A JPS6388556 A JP S6388556A
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JP62208391A
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ハインツ・ヘルマン
ハンス−ヨアヒム・シユロツサー
スザンネ・ビリノ
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Hoechst AG
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Hoechst AG
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0752Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、水なし平版印刷、特に水なしオフセット印刷
用のグレセンシタイズド版板(PS版板)、および該版
板tm光お↓び現像することにより版面を製造する方法
に関する。本発明の版板は、層支持体、放射線敏感層お
よびシリコーンゴムのインキ反発性外層を有する。
従来の技術 上述し友ように構成され几ポジ型まfcはネガ型の放射
線敏感層、特に感光層含有する版板は、たとえば米国@
、計第351g78号明細書により開示されている。ネ
ガ型のすなわち光硬化可能の感光性化合物としては、ジ
アゾニウム塩縮合生成物が使用される。露光され之版板
は、浴液を用いて視像され、これにより感光層の未露光
部は浴解され、シリコーンゴム層は膨潤される。dJM
性層部分上のシリコーンゴム部分は、こすることにより
除去することができる。得られる版面は、層支持体の裸
出部でインキ受容性でりり、なおノー支持体の未露光部
に存在するシリコーンゴム層は、インキ反発性である。
こうして版面は、露光に使用した透明画のネガ画像を印
刷する。ポジ型の感光性化合物としては、ジアゾニウム
塩とリンタングステン酸との不溶性沈殿生成物が使用さ
れる。この場合には、シリコーンゴム層を感光層に固着
させるために、感光層とシリコーンゴム層との間に、シ
アゾニウム塩/ホルムアルデヒド縮合物からなる中間層
が設けられる。この中間層は、シリコーンエラストマー
層がシリコーンゴム層に硬化される際の加熱により架橋
され、次いで所望の改善され九接漕をもたらす。
また、露光によシ可溶となる他の層が含まれている、水
なし平版印刷に適当な版板も公知でわる。実際に、これ
ら全ての版板は適当な接着#が必要である。
西ドイツ因時計出M公開第2943379号明細!(=
米国特許第4558522号明細書)によれば0−キノ
ンシアシトとノボ2ツクとからなる雇光層が使用され、
この層に接着促進アミノアルキル−アルコキシシランの
中間層が塗布される。
西ドイツ国特許出願公開第3045979号明細書(=
米国特許第4342820号明細書)には、特定のO−
キノンジアジド層とシリコーンゴムJ―との組み合わせ
か記載きれている。これらの層の間の接着を改善する之
めに、シリコーンまたはシランをこれらの層の1つに添
加するが、l之はこのタイプの化合物からなる接着層を
、2つの層の間に設けることができる。
特開昭57−60744号公報の思想によれば、改善さ
れた接着は、アミノシランおよびテトラ−インプロポキ
シチタンをシリコーン層に麻加するが、ま九は有機チタ
ン化合物からなる接庸層により達成さnる。
欧州t¥j許出願公開第0100938号E!A細簀に
、相応する盾の接Rを、短くてわずかな全体露光および
塩基、たとえは第一級アミン?用いる処理により改善す
る方法が記載されている。
付加的に、アミノシランおよび/ま之は有機チタン数基
からなる中間層を設けることができる。
欧州時計出願公開第154980号明細書に、0−キノ
ンシアシト感光層が付加的にカップリング成分を含有す
る、類似のps版板が記載されており、このカップリン
グ成分は九とえは現像に使用きれるよりな塩基性媒体中
で、未露光部分の非分解ジアゾ化合物とのカップリング
反応?受け、これにより難容のアゾ染料が形成される。
同時に、シリコーン層はカップリング反応の間に、よシ
強固にキノジジアジド層に固着される。付加的に、たと
えばアミノシランまたは有機チタン化合物の接漕層が、
前記のノーの間に存在していてもよい。
シアゾニウムtま7tはキノンジアシドを主体とする、
これら公知の水なしオフセット印刷用ネガ型版板は、比
較B9低い感光性を有する。しはしけ伎宥は、材料の蜆
雑な組成および付加的な処理工程により改善できるにす
ぎない。多くの楠今に、水不溶の極性有伎尚剤の混合物
が、これらの版板?現像するために必要である。若干の
1合に使用することのできる、水混和可能な溶剤と水と
の混合物の主部分は、有機溶剤からなる。こり制い溶剤
含量によシ、廃水および排気の過度の汚染11止するた
めの特別の予防処置を傅じねばならない。
ま之、光分解反応で酸を形成する化合物および酸によシ
分解される化合物を主体とするホゾ量感光性組成物、た
とえばオルトカルボン酸エステルおよびアセタールが、
開示されている。
これらの組成物は、たとえばその感光性が、ナフトキノ
ンジアジドI17のそれよりも署しぐ高く増大され′る
版板のための感光層の構造において使用することができ
る。このタイプの組成物は、たとえば西ドイツ山行針第
2610842号明a畜C=米国特許g4101323
号IN、MI−TiF)および同第2718254号明
11d1畳(=米11行計第4247611号明細誓〕
および欧ガイ特許出順会開第0022571号明細薔(
=米山待ff第4311782号明dfiF)に記載さ
れている。
発明か解決しようとする問題点 本発明の課題は、比較町Hしな公知の版板よりも高い感
光性を有し、生として水からなる現像溶成で処理するこ
とができ、かつ感光層に強固に固着される架倫シリコー
ンエラストマーWIを有する、水なしオフセット印刷に
適当なネガ型版板?提供することであつ九。
問題点を解決する定めの手段 かかる課題は本発明によれば、層支持体、露光に↓すo
Tt4性となる放射線敏感層、インキ反発性の架憫シリ
コーンエラストマー外層およびシリコーンエラストマー
外層の放!RIvi!敏感層への接層を改善する中間槽
含有する水なし平版印刷用23版板によシ解決される。
本発明による版板は、放射線敏感層が、王安成分として
、 a)酸によシ分解することのできる、少なくとも1個の
C−0−C結合を有する化合物b)照射の際に強酸を形
成する化合物、およびC)水不溶性結合剤 全含有し、かつ中間層か無定形ケイ酸からなることを%
鑓とする。
また、本発明によれば、水なし平版印刷用の版面の製造
法も提案され/)0 本発明の方法は、上述の構造および組成の平版印刷用p
s版板を、水混和可能な有機溶剤を含有する水溶液に凌
潰し、その後に露光部から感光層を、その上に設けられ
たシリコーンゴム/&と一緒にこすることにより、除去
することを%叡とする。
本発明による版板の中間層は、好ましくは、希ケイ酸ゾ
ルを放射祿賊感ノー待に感光層上に塗布し、塗布された
ゾルを乾燥することにより表透される。
この従漕層金使用しない場合、酸分解回層な材料?主体
とする感光ノー上に塗面さ扛るシリコ−ンゴム鳩の接着
は、全く不十分である。普通、ナフトキノンジアジF″
層に対して常用されるシラン、たとえばアミノアルキル
シランからなる接層層は、禾蕗先の酸分解口■龍な層と
シリコーン膚との間の接着の確実な改善を惹起すること
が見い出された。しかしながら、これらのシラン盾は、
版板の処理に不利な影響を及ぼすが、またはこれらの固
着効来は、画像によ勺露光された版板を現像しても屑足
しうる印桐ステンシルを傅ることかできない程に劣悪で
ある。
接層層を製造する九めに使用されるケイ酸ゾルは、普通
、5〜150nm、好ましくは20〜50 nmの間の
粒度を有するケイ酸粒子を含有する。水性ケイ酸ゾルは
、アルカリ性ま之は酸性のβ値で安定化されていてよい
。感光層の改善されfc湿れを達成するために、ゾルを
小葉の水浴性界面活性剤、tP!jVcアニオンま友は
非イオン界面活性剤と混合するのが有利である。適洛な
wJ貿は、たとえば長鎖アルカノ酸、アルキルスルホン
ハ、モノアルキルスルフェート、アルキルベンゼンスル
ホン酸、およびポリアルコキシフェノールエーテルのア
ルカリ金属塩でるる。界面活性剤それ自体は、強い接層
を妨げるので、これらの飯は好ましくはできるだけ少な
く保持するべきである。一般に、界面活性剤の有オリな
菫は、ゾルの固体含量に対して1〜15車蓋%の向を変
動する。
ケイ酸ゾルを少量、感光層中へ拡散させる場合、ケイ酸
層は特に良好に、感光層に結合する。
感光層が乾燥するにつれて浸透の深さは減少するので、
接着層は、感光層がはじめよりもさらに乾燥される前に
塗布すべきである。拡散は、ポジ型層を膨潤させる水混
和iT能な浴剤をケイ酸ゾルに添加することにより制御
することもできる。ケイ酸層の接層は、感光J―の表面
種を機械的砂目立て金相いるが、または顔料の添加によ
り増大することにより改善することもできる。
ケイ酸ゾルは、必要とされる界面活性剤および一場合に
より−水混和可能なM刑の他に、微粒の光塙剤金含有す
ることができる。
ケイ散層のN童は、約0.01からi、og/m2まで
の広い範囲内を変動することができる。0.1〜0.3
 g/ m2の範囲内が好ましい。
照射によi)可溶にされる層は、酸分解可能なC−0−
C結合を有する化合物として妹に単量体および重合体ア
セタール、単量体および重合体オルトカルボン酸エステ
ル、エノール−エーテルおよびN−アシルイミノカルボ
ネートを含有することができる。このタイプの混合物は
、欧州特計出顧第0006626号および同第0006
627号および前記の特許明細書中に記載されている。
重合体アセタールおよびオルトカルボン酸エステルが、
特に有利である。酸分解oT能な化合物の含量は、一般
に、層の不揮発性成分に対1−で2〜75重菫チ、好ま
しくは4〜60重量%である。
多数の公知な化合物および混合物、たとえばジアゾニウ
ム−、ホスホニウム−、スルホニウム−およびイツトニ
ウム塩、ハロゲン化会物、0−キノンジアシドスルホク
ロリドひよび有機釡橋/何恢ハロゲン組合せ物が、照射
の際に特に強酸を形成または脱離する放射線敏感成分と
して使用するのに′iM当である。
原則的に、ハロケ9ン化水素酸を形成するハロゲン含有
放射線敏感化合物として、光化学遊離基開始剤としても
公知な全ての有機ハロゲン化合物、たとえば1個の炭素
原子または芳香項に1個よシも多いハロ含有原子?有す
るようをものを使用することか可能である。これらの例
は、米国特許第3515552号明細書、同第3556
489号明細書および同第3779778号明a薔、西
ドイツ国特肝出願公告第2610842号明細曹および
西ドイツ国特針出願公開第2718259号明#1曹お
よび同第2243621号明細蒼中に記載されている。
また、開始剤の門も、開始剤の化学的性質および混合物
の組成によシ広ぐ変化することかできる。有利な結果−
1、全固形′@Vこ対して約0.1〜10ffiit%
(好tL<?″i0.2〜53ft%)全便用して侍ら
れる。
丁た混合物は、水に不音でかつ有機浴剤に可溶の亜合体
結合剤を含有する。有利には、露光された複写層用の現
像液としてアルカリ水浴液か使用さ扛るので、妹に水性
アルカリにoluかま定は少なくとも膨潤町nとである
ような結合剤か有利である。
水不溶性結合剤のタイプおよび址は、意図される使用に
応じてfえることができ、60〜90重情%、殊に55
〜85重量%の間の全固形物の含量が有利である。
フェノール樹脂、とりわけノボラックが、特に有利な結
合剤であると判明した。また、他のアルカリbJd性樹
脂、たとえば無水マレイン酸とスチレンとの共重合体、
酢酸ビニルとクロトン酸との共重合体、メタクリル酸メ
チルとメタクリル酸との共重合体等も、結合体としての
使用に適当である。さらに、染料またFi、微粒の顔料
を感光層に研加することができる。特にカルビノール塩
基の形のトリフェニルメタン染料が、好適であると判明
した。
一般に感光層は0.6〜:6g/m2の亜htを有し、
多くの場合に、約0.8〜1.8 g/ m2の層徂量
が有利である。
シリコーンエラストマー層は、接層層および感光層の成
分が、塗面条件下に実際に溶解しない無極性溶剤、たと
えば脂肪族または芳香族炭化水素中の溶液から塗布され
る。原則的に、湿し水なしのオフセット印植jを可能に
するために十分、インキ反発性である全てのシリコーン
エラストマーが、通尚である。本発明の範囲内で、1シ
リコーンエラストマー1とは、ノル(Noll)著の1
ヒエミー・ラント・テヒノロギー・デア・シリコーネ(
Chemie und Technologie de
rSilikone)[出版社ヒエミー(Verlag
Chemie)、1968年、第662頁〕による定義
に従い、大体において粉状の高分子ジオルガノポリシロ
キサンを表わし、これに対して用語□シリコーンゴム−
は架橋−または加硫生成物に対して用いられる。全ての
場合に、シリコーンエラストマーd液は、感光層に塗布
され、乾床され、次いで架慨される。
適当なシリコーンエラストマーは、たとえば西ドイツ国
特計出願公開第2350211号明細書、同第2557
871号明細薔および同第2359102号明細書中に
記載されているよりな即成分−および多成分タイプであ
る。
単成分シリコーンエラストマーは、たとえばアセチル−
、オキシム−、アルコキシ−またはアミノ末端基または
水素原子を含有するポリシロキサンを基礎とする。ポリ
シロキサンの残分は、主としてジメチルポリシロキサン
鎖からなる。
なた、メチル基は比較的小さな規模で、他のアルキル基
、ハロケ9ノアルキル基または置換−ま7′cは非置換
アリール基により代えられていてもよい。末端官能基は
、易加水分解性で、〃)っ湿分の作用下に数分間から数
時間までの時間に硬化する( RTV −1シリコーン
エラストマー)。
多成分シリコーンエラストマーは、付加または縮合によ
り架11rであってよい。付加−架橋5J能なタイプは
、一般に置換基としてアルケニル基ヲ有するポリシロキ
サンおよびシリコーンに結合した水素原子を有するポリ
シロキサンを含有する。これらのタイプは、50℃より
も高い温度で、白金p!Ji媒の存在で架橋される。こ
れらのタイプ0は、たとえは約100℃の高めた温度で
迅速に架橋するという利点を有する。他方において、こ
れらの糸の有効処理時間(ポットライフ)は、比較的に
短かぐてよい。
縮合により架橋oJ龍な混合物は、反応性木端基、たと
えばOH基およびアセトキシ基を有するゾオルガノボリ
シロキサンを含有する。これらは、反応性のシランまた
はオリゴシロキサン、たとえはアルコキシシランまたは
アセトキシシラン、または分子中に数個の5i−H基を
含有するシロキサンと、触媒たとえばジアルキルスズジ
アセテートのような有機スズ化合物の存在で架橋される
。また、これらの組合わせ物は、比較旧迅運に反応し、
したがって制限されたホットライフを有する。
縮合によシ架橋0]ロヒな多成分シリコーンエラストマ
ーは、特に有利に使用される。有利な架橋剤は、ケイ酸
層、ひいては感光層への最良の接着を保証するビニル−
トリアセトキシ−シランである。また、ビニル−トリア
セトキシ−シランは、感光層の可溶化反応を妨害しない
限シ、他の架橋剤との組合わせで使用することも可能で
りる。アルキル−トリアセトキシシラン不在の場合、十
分な接着はH含有シロキサンを使用して達成することも
できる。この場合に、接着は版板製造後のはじめの数日
間に明らかに改善され、したがってかかる版板は、これ
らをさらに処理する前に、数日間貯蔵しなければならな
い。
架橋剤または架橋剤の混合物の一度は、それぞれ普通、
ポリシロキサンの菫の1〜20%、好ましくは2〜15
チである。触媒のtは、ポリシロキサンの量の約2〜1
0!童%の1i31を変動する。
シリコーンエラストマーノーヲ塗布した後に、シリコー
ンエラストマーを公知の5法で湿分の作用によるが、ま
たは至温ま之は篩めた温度で独力で架偏させることによ
り、大体において有機浴剤に不溶のシリコーンゴムが得
られる。完成し几シリコーンゴム層は一般に1g/nx
2から20g/m2まで、好ましくは2 g/ m2か
ら6 、V / m2までのN量を有する。
非付着性シリコーンゴム層は、化学反応によシケイ酸層
に固層されると思われる。縮合反応は、ケイ酸粒子の表
面上に存在するヒドロキシル基と高分子の非架橋シリコ
ーンエラストマーのヒドロキシル基との間で行われると
推定される。
有利な多成分シリコーンエラストマーは、このシリコー
ンニジストマーを用いて製造された版板が、湿し水なし
の印刷において、常用の単成分シリコーンエラストマー
を用いて製造されたものより著しく低い汚れ1頃向を示
すという利点を有する。また、硬化シリコーンゴムの表
面の」引掻性は、有利なタイプの化合物の場合に、高め
られる。
使用される層支持体は、多くの場合に金橋である。以下
のものが、オフセット印刷版板のために使用することが
できる二光沢圧延され、機械的または電気化学的に粗面
化され、場合によi)陽極酸化されたアルミニウムで、
このアルミニウムは、さらにたとえばポリホスホン酸ビ
ニル、ケイ酸塩、リン酸塩、ヘキサフルオロジルコン酸
塩ま之は加水分解テトラエチルオルトケイ酸塩を用いて
化学的に前処理されていてもよい。他の適当な金属は、
鋼およびクロムである。
慣用の平版印刷版板とは異なシ、支持体表面が親水性で
ある必要はないので、有利には銅、黄M″または他の親
油性金属を支持体表面として使用することも6■能であ
る。支持体表面は、永久親油性被覆、たとえば接着促進
層を備えることもできる。同様に、プラスチックシート
、たとえばポリエステル−、ポリカルボネート−、ポリ
イミド−ま之は酢酸セルロースシートを使用することも
でき、これらの表面は必要であれば印刷インキによる湿
潤性を改善するために前処理されていてもよい。本発明
の目的のためには必すしも#混注である必要のない紙の
公知な版板支持体を使用することも可能でるる。また、
ゴム弾性支持体材料も適当であり;かかる支持体は、ダ
イレクト平版印刷における印刷をも可能にする。
本発明による材料から製造される版面の場合、さもなく
は常用の版面とは異なり、支持体材料はインキ保持材料
として使用される。露光および現像後に随所に残るシリ
コーンゴム層は、画像背景として使用され、かつ乾燥し
た状Q Tインキ反発作用を有する。この場合に、印刷
のためには、油を主体とする慣用の印刷インキも水なし
オフセット印刷および通常のオフセット印刷のために開
発されたよりな市場で入手5I能の親水性の脣妹印刷イ
ンキも、使用することかできる。常用の層支持体表面、
たとえば砂目立てIたは1場極酸化されたアルミニウム
の多くは、著しく親水性なので、有オリには親水性の印
刷インキが使用きれる。
本発明による版板は、公知の方法で製造される。さしり
たシ、版板支持体は通常どおシ感光償料浴液で塗布され
る。層の初期乾燥後に、界面活性剤含有希ケイ酸ゾルが
塗布される。乾燥されたケイ酸層に、随意に架橋剤およ
び触媒を含有するポリシロキサン溶液が塗布され、この
JwIは乾燥され、かつ室温で数時間、貯蔵するか(R
TV −1エラストマー)またはたとえば1分間に10
0〜120°Cで僅かに加熱し、その後に暗所で室温で
数時間貯蔵する( RTV −2エラストマー)ことに
よl)架橋される。
ネガ原画を通して露光し、かつ現像することにより、2
8版からすぐ印刷できる平版印刷用版面が得られる。露
光のためには、水銀灯、炭粱アーク灯、メタルハライド
ランプ、キセノンランプ、白熱チューブ、レーデ−装置
、電子ビームおよび他の公知の嬉光装fi1を使用する
ことかできる。放射線敏感層の酸形成化合物が、可視光
itたは紫外線に敏感でなく、むしろ高エネルギー放射
源、たとえばX腺″または倣粒子放JR+Yil11に
敏感である場合、適当な放射線源が使用される。現像の
間、非付層性シリコーンゴム層は、現像浴液によシ紡潤
され、放射線敏感層の露光部が溶解される。感光層の溶
解した照射部分の上方に存仕する#潤きれたシリコーン
ゴム層部は、軟賀材料たとえば木綿、薄葉紙またはスポ
ンジゴムと用いてこすることにより取勺除かれ、版板支
持体の表面が裸出される。裸出された表面は、容易にイ
ンキを受理し、残ったシリコーン層はインキ反発性であ
る。現像された版のインキ着けは、印刷機の内部または
外部で実施することができる。
通白な境保液は、一方では、非付着膚の強い膨潤を惹起
し、かつこの層に迅速に浸透し、また感光層の露光部分
を完全に現像することかできねばならない。他方におい
てこれらの現11mは未露光部分を攻撃してはならない
。良好な結果は、水町俗性浴剤と、場合によシ塩基、塩
基性塩、アンモニアまたはアミンの付加によ9弱アルカ
リ性にされた水との混合物を用いて達成される。適当な
水溶性浴剤は、低級アルコール、グリコール、グリコー
ルエーテル、ケトンおよび環状エーテルである。50優
よシも多い水含蓋および8〜90間のPHを有する弱ア
ルカリ性イソプロパツール/水混合物が有利である。
インキ反発性の非画嶽部は、現像によシ裸出されたイン
キ受容性支持体表面よシも数廂だけ高い。これらの高さ
差は、インキのローラー塗布の間、凹みに印刷インキ?
充填することにより補うことができる。インキを乾燥し
た後に、インキ受容性表面とインキ反発性表面とは、同
一平面上に存在する。
次に、本発明による版板の有利な実施態様を例示する。
別記しない限り、チ値および量比はM敬に関するもので
ある。ps版板は、黄色光機工に製造および処理され友
実施例 例  1 ブタノン80g中の クレゾール/ホルムアルデヒドノボラック(融点105
〜120℃)4゜Og、 トリエチレングリコールと2−エチル−ブチルアルデヒ
ドとのポリアセタール1.2.!i’。
2−スチルベニル−4,6−ビス−トリクロロメチル−
S−トリアジン0.2gおよびクリスタルバイオレット
塩& 0.032 gからなる溶成を、ブラッシングに
より砂目型てされたアルミニウム箔ヒ、約(5Q r、
p、mで回転塗布し、熱空気を用いて初めて乾燥した(
完全乾燥層のM量1.17!/m2)。凝固した(し7
かしなお若干の浴剤を含有する)後に直ちに、層に 脱イオン水97y1 約10の−および25〜3 Q nmの粒度金イjする
60%のアニオンケイ酸ゾル3gおよびジインブチル−
ナフタレンスルホン市ナトリウム0.07 g からなる溶欣金回転塗布した。回転塗布は、回転数15
 Or、p、mで実施した。2つの層が乾保した佼に、
次の溶液を約6 Q r、p、rnでの回転塗布により
壁布した: 脂肪麩炭化水素混合物(沸点範囲113〜1420C)
 84 g、 トルエン中のジヒドロキシ−ポリジメチルシロキサンの
66%のgiC粘225℃テ9000〜15000mP
a、s ) 15g、ビニル−トリアセトキシシラン0
.7 、Vおよびジブチルスズジアセテート0.3 g
増を乾燥し、かつ乾燥キャビネット中で、110℃で1
分間加熱することにより加硫した。
生じるps版板を、14011ニア7+の距離で配置さ
れ75 kw−メタルハライドランプを使用して、ネガ
原板を通して15秒間露光し、次いで現像液中に75秒
間浸し、その後に軟質の木綿パッドでこす9、これによ
りg元部7))ら6つの贋金てを除去した。使用した現
像液は、 脱イオン水71.722%、 インプロパツール28.252%、 n−ブタノール0.022チ、 NaOHO−015%および Na2SiO3X  9H200−011%から構成さ
れてい友。
版面は、給湿装置か除去された小型オフセット印刷機中
で市楊で入手できる水なしオフセットインキで、簡単に
インキ層けすることができた。版面から、きれいな印刷
物が得られた。
例  2 次の感光性塗料浴液?使用した点を除いて、例1を繰り
返した: ブタノン80y1 クレゾール/ホルムアルデヒドノボラック(融点105
〜120°C)4g、 例1のポリアセタール0゜2fi1 2−(4−エトキシ−ナフト−1−イル)−4゜6−ピ
スートリクロロメチルーS−ト、リアジン0.2gおよ
び クリスタルバイオレット塩基0.03 g。
現像された版面は、きれいで鮮明な印刷″’1g217
&:提供し比。
例  6 次の感光性塗料溶液を使用し次点を除いて、例1を株シ
返した: ブタノン80y1 クレゾール/ホルムアルデヒドノボラック(融点105
〜120℃)4J1 オルlA’酸メチルエステルと2−エチル−2−ヒドロ
キシメチル−4−オキシ−1,8−オクタンジオールと
の貞縮合物肌6g、 2−アセナフト−5−イル−4,6−ビス−トリクロロ
メチル−S−)リアジン0.2gおよびクリスタルバイ
オレット0.05 、!i’。
水なしオフセット印刷インキを、ローラを用いて、現像
された版面に塗布し、インキが乾燥した埃に、版面を小
型オフセット印刷機に挿入した。惟めてきnいて鮮明な
印刷物が得られた。
例  4 ブラッシングによシ砂目立てされたアルミニウム涌に、
さしあたり例2の塗料浴液を壁布し、次に例1L、/)
ケイはゾルを層布した。その上に次■組成を有する非付
庸層を、回転道布によシ設けた: 例1の炭化水素混合物84.V。
例1のジヒドロキシ−ポリジメチルシロキサン溶液15
g、 ビニル−トリアセトキシシラン0.35 g、メタクリ
ロイルオキシプロピル−トリメトキシ−シラン0.35
 、!i’および ジブチルスズジアセテートアルデ 処理は、例1に記載し九と同様に実施し几。
5000よシも多い極めてきれいな印刷物が得られ九。
例  5 メタクリロイル芽キシプロピルートリメトキシシランの
代わシにテトラエチル−オルトシリケートを使用した点
を除いて、例4を繰り返した。版面からき減いな印41
iIJ物が得られた。
例  6 例2を、ポリシロキサン層中で、ビニル−トリアセトキ
シシランわずか0.2 g(0,7Fの代わり)を使用
することにより変更した。版板は簡単に現象することが
でき友。版面は極めてきれいな印刷物を提供し7た。
例  7 伺2に記載したと同様に、ブラッシングにより砂目型て
ちれたアルミニウム箔に、感光層およびケイ歌J―を塗
布した。この材料に、空気の作用下に自己架橋するアミ
ンタイプのポリシロキサンのトルエン中の75チの溶液
(粘度約9000mPa、s)1重1部と、例1に記載
した炭化水素混合物4重量部とからなる混合物を、乾燥
後に約5 、@ / m2の層重量が生じるよりに塗布
した。版板を環境空気中で数時間貯蔵することにより、
シリコーン層の架橋を達成した。
版面は、例1に記載したと同様に製造した。
小型オフセット印刷機で、汚れのない鮮明な印刷物が得
られ九。
例  8 空気中湿分の作用下に架橋するもう1つのポリシロキサ
ンを使用し定点を除いて、例7を繰p返(−た。感光層
に接層促進塗料を設けた後に、次の混合換金回転塗布し
友二 例1の脂肪族炭化水素60チ、充填剤および約1500
 mPa、sの粘度を有するアミンタイプのポリシロキ
サン金含有する透明分散f112.5.1?および、J
:、記の炭化水素混合物87.5 g。
層は、2.2g/rrL2の乾燥重量を治していた。
この層は、環境空気中で数時間貯蔵する間、架橋した。
現像した版板から、きれいで鮮明な印刷物が得られ几。
例  ? 機械的に砂目型てされたアルミニウノ・箔に、例2に記
載したと同様の塗料溶液を塗布1−た。
不完全に乾燥された層に、次の組成を有するd液を回転
塗布した: 脱イオン水97.0 g、 約6.9のPklを有する60条のカチオンケイ酸ゾル
3.0gおよび n−ノニルフェノール−ポリグリコールエーテル0.0
4g。
乾燥されたケイ酸層に、例1に記載したと同僚のシリコ
ーンエラストマーを塗布し九。
版板を、例1に記載し九と同様に露光および現像する際
に露光部からシリコーンゴムノーだけが除去されたので
、その下部に存在するインキ受容性複写層か補出した。
露光された版板は、小型オフセット印刷機で多数の鮮明
できれいな印刷物を製造した。
例10(比較例) 例1に記載したケイ酸ゾルの代わりに、113〜142
℃の沸点範囲を有する、脂肪族炭化水素混合物中のビニ
ルトリアセトキシシランの6俤の溶液?使用して、接層
促進中間層を製造した点を除いて、例1を繰り返した。
画像によシバ光された版板を現像する1祭に、露光部だ
けが溶解したのでなく、層への顕著な攻撃は、未露光部
でも認められた。シリコーンゴム増の不十分な接盾によ
シ、この方法で製造され九版面は、損われ九画称都を示
した。
例11(比較例) 例1に記載したケイ酸ゾルの代わりに、113〜142
℃の那点@囲を有する、脂肪族炭化水素混合物中の3−
(2−アミノエチルアミノ)−ゾロピル−トリメトキシ
シランの6%の溶液を使用した点を除いて、例1を操り
返した。版板の画像による露光は、複写層中に浴解度差
を全く惹起せず、したがって画像を現像するのは不可能
でめった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、層支持体、露光により可溶となる放射線敏感層、イ
    ンキ反発性の架橋シリコーンエラストマー外層およびシ
    リコーンエラストマー外層の放射線敏感層への接着を改
    善する中間層を有する、水なし平版印刷用プレセンシタ
    イズド版板において、放射線敏感層が、主要成分として a)酸により分解することのできる、少なくとも1個の
    C−O−C結合を有する化合物、b)照射の際に、強酸
    を形成する化合物、および c)水不溶性結合剤 を含有し、かつ中間層が無定形ケイ酸からなることを特
    徴とする水なし平版印刷用プレセンシタイズド版板。 2、中間層が、水性ケイ酸ゾルの塗布および乾燥により
    製造される特許請求の範囲第1項記載の版板。 3、ケイ酸ゾルが、水溶性界面活性剤を含有する特許請
    求の範囲第2項記載の版板。 4、中間層が、0.01〜1g/ m^2の面積比重量
    を有する特許請求の範囲第1項記載の版板。 5、少なくとも1個の、酸分解可能なC−O−C結合を
    有する化合物が、オルトカルボン酸誘導体、アセタール
    、エノールエーテルまたはN−アシルイミノカルボネー
    トである特許請求の範囲第1項記載の版板。 6、水不溶性結合剤は、アルカリ水浴液に可溶である特
    許請求の範囲第1項記載の版板。 7、結合剤が、ノボラックである特許請求の範囲第6項
    記載の版板。 8、シリコーンエラストマーが、室温で架橋することの
    できる2成分エラストマーである特許請求の範囲第1項
    記載の版板。 9、シリコーンエラストマーが、架橋剤としてアルケニ
    ル−トリアセトキシシランを含有する特許請求の範囲第
    8項記載の版板。 10、シリコーンゴム層が、1〜20g/m^2の面積
    比重量を有する特許請求の範囲第1項記載の版板。 11、層支持体、露光により可溶となる放射線敏感層、
    インキ反発性の架橋シリコーンエラストマー外層および
    シリコーンエラストマー外層の放射線敏感層への接着を
    改善する中間層を有する水なし印刷用プレセンシタイズ
    ド版板を露光および現像することにより水なし平版印刷
    に適当な版面を製造する方法において、平版印刷用プレ
    センシタイズド版板を画像により露光し、次いで水混和
    可能な有機溶剤を含有する溶液に浸し、その後に露光部
    から感光層を露光部上に存在するシリコーンゴム層部分
    と一緒にこすることにより除去することを特徴とする水
    なし平版印刷に適当な版面の製造法。 12、水浴液が、アルカリ性である特許請求の範囲第1
    1項記載の方法。 13、水溶液が、少なくとも50%の水を含有する特許
    請求の範囲第11項記載の方法。
JP62208391A 1986-08-23 1987-08-24 プレセンシタイズド版板、および水なし平版印刷に適当な版面の製造法 Pending JPS6388556A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03213862A (ja) * 1990-01-18 1991-09-19 Konica Corp 水なし平版印刷版用原版の現像液
US5955238A (en) * 1996-03-08 1999-09-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Waterless planographic printing plate and method of plate making using the same

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3730213A1 (de) * 1987-09-09 1989-03-30 Hoechst Ag Vorsensibilisierte druckplatte fuer den wasserlosen flachdruck und verfahren zu ihrer herstellung
US5212048A (en) * 1990-11-21 1993-05-18 Presstek, Inc. Silicone coating formulations and planographic printing plates made therewith
JP2956387B2 (ja) * 1992-05-25 1999-10-04 三菱電機株式会社 レジスト被覆膜材料、その形成方法とそれを用いたパターン形成方法および半導体装置
US5378580A (en) * 1992-06-05 1995-01-03 Agfa-Gevaert, N.V. Heat mode recording material and method for producing driographic printing plates
AU674518B2 (en) * 1992-07-20 1997-01-02 Presstek, Inc. Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus
US5440987A (en) * 1994-01-21 1995-08-15 Presstek, Inc. Laser imaged seamless lithographic printing members and method of making
DE69512113T2 (de) * 1994-03-14 2000-05-25 Kodak Polychrome Graphics Llc Strahlungsempfindliche Zusammensetzung, enthaltend ein Resolharz, ein Novolakharz, einen Infrarotabsorber und ein Triazin, und seine Verwendung in lithographischen Druckplatten
US5493971A (en) * 1994-04-13 1996-02-27 Presstek, Inc. Laser-imageable printing members and methods for wet lithographic printing
US5570636A (en) * 1995-05-04 1996-11-05 Presstek, Inc. Laser-imageable lithographic printing members with dimensionally stable base supports
US5632204A (en) * 1995-07-27 1997-05-27 Presstek, Inc. Thin-metal lithographic printing members with integral reflective layers
JPH09132657A (ja) * 1995-09-04 1997-05-20 Canon Inc 基材の表面処理方法及び該方法を用いたインクジェット記録ヘッドの製造方法
US5919600A (en) * 1997-09-03 1999-07-06 Kodak Polychrome Graphics, Llc Thermal waterless lithographic printing plate
US6045963A (en) * 1998-03-17 2000-04-04 Kodak Polychrome Graphics Llc Negative-working dry planographic printing plate
US6555283B1 (en) 2000-06-07 2003-04-29 Kodak Polychrome Graphics Llc Imageable element and waterless printing plate
US6656661B2 (en) 2001-04-04 2003-12-02 Kodak Polychrome Graphics, Llc Waterless imageable element with crosslinked silicone layer
DE50210051D1 (de) * 2001-11-22 2007-06-06 Koenig & Bauer Ag Verfahren zum Betrieb eines Druckwerkes
US20040225079A1 (en) * 2003-05-05 2004-11-11 Analytical Services And Materials Inc. Erosion-resistant silicone coatings
US7033673B2 (en) * 2003-07-25 2006-04-25 Analytical Services & Materials, Inc. Erosion-resistant silicone coatings for protection of fluid-handling parts

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE540601A (ja) * 1950-12-06
US3181461A (en) * 1963-05-23 1965-05-04 Howard A Fromson Photographic plate
US3511178A (en) * 1967-01-06 1970-05-12 Minnesota Mining & Mfg Printing plate and method
US4054094A (en) * 1972-08-25 1977-10-18 E. I. Du Pont De Nemours And Company Laser production of lithographic printing plates
CH621416A5 (ja) * 1975-03-27 1981-01-30 Hoechst Ag
DE2718254C3 (de) * 1977-04-25 1980-04-10 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Strahlungsempfindliche Kopiermasse
SU742859A1 (ru) * 1977-11-28 1980-06-25 Ленинградский Ордена Трудового Красного Знамени Технологический Институт Им.Ленсовета Светочувствительный формный материал
JPS5555344A (en) * 1978-10-20 1980-04-23 Toray Ind Inc Lithographic printing plate
GB2034911B (en) * 1978-10-26 1983-02-09 Toray Industries Dry planographic printing plate
DE2928636A1 (de) * 1979-07-16 1981-02-12 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches gemisch und verfahren zur herstellung von reliefbildern
US4326020A (en) * 1980-09-10 1982-04-20 Polychrome Corporation Method of making positive acting diazo lithographic printing plate
US4342820A (en) * 1980-12-10 1982-08-03 Toray Industries, Inc. Dry planographic printing plate and preparation thereof
JPS5824149A (ja) * 1981-08-06 1983-02-14 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷用感光材料
US4376814A (en) * 1982-03-18 1983-03-15 American Hoechst Corporation Ceramic deposition on aluminum
JPS5917552A (ja) * 1982-07-21 1984-01-28 Toray Ind Inc 画像形成用積層体の処理方法
JPS60192948A (ja) * 1984-03-14 1985-10-01 Fuji Photo Film Co Ltd 湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版および製版方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03213862A (ja) * 1990-01-18 1991-09-19 Konica Corp 水なし平版印刷版用原版の現像液
US5955238A (en) * 1996-03-08 1999-09-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Waterless planographic printing plate and method of plate making using the same

Also Published As

Publication number Publication date
EP0257505A3 (de) 1989-02-01
DE3628720A1 (de) 1988-02-25
US4842990A (en) 1989-06-27
EP0257505A2 (de) 1988-03-02

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