JPH0677149B2 - 感光性混合物及び感光性複写材料 - Google Patents

感光性混合物及び感光性複写材料

Info

Publication number
JPH0677149B2
JPH0677149B2 JP63202040A JP20204088A JPH0677149B2 JP H0677149 B2 JPH0677149 B2 JP H0677149B2 JP 63202040 A JP63202040 A JP 63202040A JP 20204088 A JP20204088 A JP 20204088A JP H0677149 B2 JPH0677149 B2 JP H0677149B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive
coating
photosensitive mixture
mixture according
dye
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP63202040A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6481941A (en
Inventor
パウル・シユタールホーフエン
フリツツ・エルトマン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst AG filed Critical Hoechst AG
Publication of JPS6481941A publication Critical patent/JPS6481941A/ja
Publication of JPH0677149B2 publication Critical patent/JPH0677149B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/72Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、主としてナフトキノンジアジドスルホン酸エ
ステル、アルカリ性水溶液に可溶の樹脂結合剤及び塩を
形成する有機染料を含有する感光性混合物に関する。更
に本発明は、この混合物を用いて得られた複写材料に関
する。
従来の技術 既に、多くのポジの感光性材料が公知である。最も多く
使用され産業上利用されるのは1,2−ナフトキノンジア
ジドであり(Kosar:Light Sensitive Systems、Wiley出
版社、ニユーヨーク、1965年、第339〜353頁)、これは
多くの使用分野で、好ましくはノボラツク樹脂と組合せ
て複写塗膜及びフオートレジストとして使用される。最
近、更にポジの系が提案された:The Journal of Photog
raphic Science18(1971年)第88頁;ドイツ特許公開公
報第2150691号(米国特許第3849137号明細書に相応)及
びドイツ特許公開公報第2242106号(米国特許第3901710
号明細書に相応)。これらでは同じようにして、光分解
によつて得られた基によつてアルカリ性現像することが
でき、ポジの画像が得られる。
それ自体黄色である1,2−ナフトキノンジアジド塗膜
は、露光すると色があせて帯黄色の光分解生成物を形成
し、これによつて光(画像点)及び光分解生成物(非画
像点)で分解しない塗膜の部分が、視覚によつてかろう
じて区別されるのに過ぎない。実際にこれによつて、屡
々なかんずく露光する場合に、単一ネガ画像を何回も相
互に印刷板で投影するいわゆるくり返し複写、例えばラ
ベル印刷で不完全な複写が得られる。印刷板の画像点と
のコントラストは露光後に、特に複写室で感光性印刷板
を処理する間に必要な黄色の光の存在でみる場合に小さ
いので、例えば正確でスペースを節約する単一通過作業
を行なうことは極めて困難である。
この欠点は、適当な塩の形成が光化学反応の結果として
行われる場合には、感光性塗膜にpH2.5〜6.5で色を変え
る着色有機指示薬染料を添加し、均一に分配させて除去
することができることは公知である。
公知1,2−ナフトキノンジアジドを露光すると生じるイ
ンデンカルボン酸は、適当な画像の差異の点で最も不適
当である。この欠点を克服するためには、既に付加的に
特別の光化学的酸形成体を、ナフトキノンジアジドを含
有する複写塗膜に添加することが提案され、これによつ
て色変化が露光塗膜帯域で適当な染料の存在で行われ
る。放射すると十分なエネルギーの光又はエレクトロン
で酸を除去するかゝる放射に敏感な成分は、例えば一定
のジアゾニウム塩又はハロゲンを含有する光化学的化合
物及び塩化キノンジアジドスルホニルであった。適当な
ジアゾニウム塩は、ドイツ特許公開公報第2641099号及
び第2641100号公報(米国特許第4163672号明細書及び第
4160671号明細書に相応)に記載されており、その可溶
性有機塩の形で、通常複合酸、例えばテトラフルオル硼
酸又はヘキサフルオル燐酸との沈殿生成物として使用さ
れる。適当な塩化キノンジアジドスルホニルは、ドイツ
特許公開公報第2331377号(米国特許第3969118号明細書
に相応)に記載されている。この群からは、塩化1,2−
ナフトキノンジアジド−4−スルホニルが好ましい。ハ
ロゲンを有しハロゲン化水素酸を形成する放射に敏感な
化合物は、なかんずく光重合性物質の光化学フリーラジ
カル開始剤として公知のハロゲンを有する有機化合物、
例えば炭素原子又は芳香族環に1個以上のハロゲン原子
を有する化合物である。例は米国特許第3565624号、第3
515552号及び第3536489号明細書及びドイツ特許公開公
報第2243621号(米国特許第3954475号明細書に相応)に
記載されている。
感光性複写塗膜に添加しなければならない化合物群の光
化学的酸形成体によつて、一定の複写及び印刷の欠点が
生じる。画像の露光後に得られる画像のコントラストは
黄色の安全光で不適当であるか、又は複写塗膜の感光性
又は安全性は逆の影響をこうむる。
発明が解決しようとする課題 本発明の課題は、画像の露光後に、黄色の安全光でさえ
も塗膜の露光帯域と非露光帯域との鮮明にみえる色のコ
ントラストを有し、現像後に、一定の光化学的酸形成体
を複写塗膜に添加して惹起する感光性又は安定性に関す
る前記複写の欠点を有しないで、印刷スクリーンと塗膜
基体との鮮明なコントラストを有するポジの感光性混合
物を得ることである。
課題を解決するための手段 この課題は式: 〔式中Dは を表わし、R1は水素、NO2、それぞれ4個までの炭素原
子を有するアルキル又はアルコキシ、ハロゲン及び/又
は−O−SO2−Dを表わし、R2はトリハロアルキル基を
表わす〕の1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エス
テルを含有する感光性混合物によつて達成される。
好ましくは1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エス
テルは、R1は水素、NO2、それぞれ炭素原子1個又は2
個を有するアルキル又はアルコキシ、塩素及び/又は臭
素であり、R2はトリクロルメチルである前式の化合物に
相応する。
本発明による混合物中に存在する1,2−ナフトキノンジ
アジドは、公知方法と同じようにして基質構造物のフエ
ノール性ヒドロキシ基を、1,2−ナフトキノンジアジド
スルホン酸又はその反応性誘導体、例えば塩化スルホニ
ルを用いてエステル化して製造する。
相応する基質構造物、2−(ヒドロキシアリールエテニ
ル)−4,6−ビス−(トリハロメチル)−S−トリアジ
ンは、2,4−ビス−(トリハロメチル)−6−メチル−
5−トリアジンを、一定の芳香族ヒドロキシアルデヒド
と触媒としての酢酸ピペリジンの存在で縮合させて得ら
れる。
2,4−ビス−(トリハロメチル)−6−メチル−S−ト
リアジンは、最も有利には若林:Bulletin of the Chemi
al Society of Japan第42巻(1969年)、第2924〜2930
頁の方法で製造する。
感光性混合物中の本発明による1,2−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸エステルの濃度は、比較的広い範囲内で
変動してもよい。一般に割合は、感光性混合物の固体含
量の重量に対して1〜30重量%である。
更に、本発明による感光性混合物は水に不溶のポリマー
樹脂結合剤を含有する。この結合剤は使用する溶剤に可
溶であり、同じようにしてアルカリ性水溶液に可溶であ
るか又は少くとも膨潤する。
1,2−ナフトキノンジアジドを基質とする多くのポジの
複写材料で好結果であることが判明したノボラツク縮合
樹脂は、結合剤としても好ましいことが判明した。ノボ
ラツクは、付加的に公知方法でそのヒドロキシ基の或る
ものを、例えばクロル酢酸、イソシアネート、エポキシ
ド又は無水カルボン酸と反応させて変性してもよい。更
に使用することのできるアルカリ可溶性又はアルカリ膨
潤結合剤は、フエノール及びアルデヒド又はケトンを縮
合させて製造することのできるポリヒドロキシフエニル
樹脂、スチレンと無水マレイン酸とのコーポリマー、ポ
リビニルフエノール又はアクリル酸又はメタクリル酸の
コーポリマー、特にアクリル酸−又はメタクリル酸フエ
ニルのポリマー又はコーポリマーである。アルカリ可溶
性結合剤の系及び量は使用目的により変動してもよい;
全固体含量90〜39重量%、特に86〜55重量%を好ましく
使用する。
更に他の多くの樹脂、例えばエポキシ樹脂及びビニルポ
リマー、例えばポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸塩、ポ
リビニルアセタール、ポリビニルエーテル、ポリビニル
ピロリドン及びこれらを基質とするモノマーのコーポリ
マー及び水素添加又は1部分水素添加のコロホニウム誘
導体を使用することもできる。これらの樹脂の最も好ま
しい割合は、使用の必要条件、効果及び現像条件に左右
され、一般にアルカリ可溶性結合剤に対して50重量%以
下、好ましくは約2〜35重量%である。特別の必要条
件、例えば可撓性、付着、光沢及び色に対して、感光性
混合物は付加的に少量の他の物質、例えばポリグリコー
ル、セルロース誘導体、例えばエチルセルロース、湿潤
剤、染料、付着促進剤、微細な顔料及び必要により紫外
線吸収剤を含有していてもよい。
塩を形成する適当な有機染料は、特にトリフエニルメタ
ンを有する群からなる塩基性染料、即ちトリフエニルメ
タンからフエニル基をNH2、OH、HSO3又は他の基又は原
子に置換して誘導される染料、又はアジン、例えばフエ
ナジン、オキサジン又はアゾ染料からなる群から、又は
アントラキノンからなる群から誘導される染料である。
挙げられる例は、次のものである:クリスタル・バイオ
レツト(C.I.42555)、メチルバイオレツト2B(C.I.425
35)、マラシツト・グリーン(C.I.42000)、フシシン
(C.I.42510)、クリスタル・バイオレツト・カルビノ
ール・ベース(C.I.42555:1)、パラフシシン(C.I.425
00)、スーダン・ブルーG(C.I.61520)、アシラン・
ブリリアント・ブルー5B(C.I.42740)、アシラン・バ
イオレツトS4BN(C.I.42640)、アストラ・ダイヤモン
ド・グリーンGX(C.I.42040)、ロダミンB(C.I.4517
0)、サマロン・ブルーGSL(C.I.62500)、ビクトリア
・ブルーB(C.I.44045)、アリザリン・ダイレクト・
ブルー(C.I.62055)、ビクトリア・ピユア・ブルーBOD
(C.I.42595)、ブリリアント・グリーン(C.I.42040)
ナイル・ブルーBX(C.I.51185)、ニユトラル・レツド
(C.I.50040)及びロデユリン・ピユア・ブルー3G(C.
I.51004)、かつこ内の数字は染料を同定するための“C
olour Index"第3版(1971年、ロンドン)の第5巻で使
用される“構成数”である。
露光塗膜の所望画像の色のコントラストは、その中に存
在する染料が赤色、青色又は緑色の場合に最も明らかで
ある。かゝる染料が、特に本発明によつて使用される。
更に本発明は、塗膜基体と本発明による混合物を含有す
る感光層とから製造した複写材料に関する。
適当な塗膜基体を塗布するためには、一般に感光性混合
物を溶剤に溶解する。溶剤の選択は塗布法、塗膜の厚さ
及び乾燥条件に適していなければならない。本発明によ
る混合物の適当な溶剤は、ケトン、例えばメチルエチル
ケトン、塩化炭化水素、例えばトリクロルエチレン及び
1,1,1−トリクロルエタン、アルコール、例えばn−プ
ロパノール、エーテル、例えばテトラヒドロフラン、ア
ルコールエーテル、例えばエチレングリコールモノアル
キルエーテル及びエステル、例えば酢酸ブチルである。
更に特定の目的には、付加的にアセトニトリル、ジオキ
サン又はジメチルホルムアミドのような溶剤を含有して
いてもよい混合物を使用することができる。原則として
塗膜成分と反応しないすべての溶剤を使用することがで
きる。グリコールの部分エーテル、特にエチレングリコ
ールモノメチルエーテル及びプロピレングリコールメチ
ルエーテルが特に好ましい。
10μm以下の塗膜の厚さに使用する塗膜基体は、通常金
属である。オフセツト印刷板には、次のものを使用する
ことができる:機械的及び/又は電気化学的に粗面に
し、場合により陽極処理し、付加的に化学的に、例えば
ポリビニルホスホン酸、硅酸テトラエチルで予処理した
ミル仕上げのアルミニウム。
塗膜基体は、公知方法で回転塗布、スプレー、浸漬、フ
ラツトフイルムダイスによるローリング、ナイフ塗布又
はフロー・コーターを用いて塗布する。露光は、産業で
常用の光源を用いて行なう。
好ましくはpH10〜14を有するアルカリ度のアルカリ性水
溶液を使用する。この溶液は少量の有機溶剤又は湿潤剤
を含有していてもよい。
ポジの印刷版を製造するためには、感光性材料をポジの
原図下に画像と一緒に露光し、続いてアルカリ性現像剤
を用いて現像する。常用の光源、例えば螢光管、パルス
キセノンランプ、金属ハロゲン化物ドープ塗布水銀蒸気
ランプ又はカーボンアークランプを使用する。
適当な塗膜基材を使用し、フイルム原図下で露光した後
に、本発明により1,2−ナフトキノンジアジドを用いて
製造した複写塗膜によつて、露光塗膜帯域と及び非露光
塗膜帯域とのすぐれた画像のコントラストが得られる。
このコントラストは、黄色の光ではつきりと見える。現
像後に色は保持され、得られた印刷スクリーンは塗膜基
体から明らかに区別される。
本発明によつて得られた感光性混合物の利点は、使用し
た感光性性化合物は1,2−ナフトキノンジアジドであ
り、これは実際に大きい感光性を有するだけではなく、
なかんずくナフトキノンジアジドから生じるインデンカ
ルボン酸の外に、更に露光する際に存在するトリハロア
ルキル基から酸が形成し、比較的大きい酸増強フアクタ
ーが得られ、これは塗膜に使用した指示剤染料の著しい
色変化に寄与し、最後にこの色変化によつて露光後にす
ぐれた画像のコントラストが得られることである。本発
明による1,2−ナフトキノンジアジドは、場合により更
に酸供与体として感光性調合物に添加することができる
ことも有利である。露光部分を現像によつて除去した後
に、同じようにして大きいコントラストで着色したスク
リーンは、露光原図に相応してみることができる。現像
後に複写し、除去するか又は修正したフイルムの縁及び
整合クロスは、更に明りようになる。
それ故、目にみえるようにするために、複写したフイル
ムの縁の着色は省略することができる。本発明による感
光性混合物のもう1つの利点は、本発明による1,2−ナ
フトキノンジアジドの露光で生じた比較的強い酸のため
に、もはや付加的に複写塗膜に、一般に複写の間に一定
の欠点、例えば複写塗膜又は印刷板の感光性又は保存性
の損傷をもたらす特別の光分解酸形成体を添加すること
は不必要なことである。
実施例 例1 電気化学によつて粗面にした陽極処理のアルミニウムプ
レートに、 2−(4−ヒドロキシフエニルエテニル)− 1.400PW 4,6−ビス−(トリクロルメチル)−S− (重量部) トリアジン1モルと塩化1,2−ナフトキノ ン−2−ジアジド−5−スルホニル1モルと のエステル化生成物 軟化点127〜145℃を有するクレゾール 6.600PW /ホルムアルデヒドノボラツク クリスタル・バイオレツト(トリフエニルメ 0.070PW タン染料) エチレングリコールモノメチルエーテル 0.400PW テトラヒドロフラン 60.00PW の溶液を塗布した。
感光性複写塗膜を使用する前に、陽極処理基体を、ポリ
ビニルホステン酸の0.1重量%の水溶液で処理した。
このようにして得られた塗膜重量約2.30g/m2を有する感
光性複写材料は、著しく濃い青色の複写塗膜を有してい
た。透明なポジの原図下で、500Wの金属ハロゲン化物ラ
ンプを使用してランプの距離103cmで55サイクルで露光
した後に、塗膜の非露光帯域は濃青色の色であつたが、
塗膜の露光帯域はやゝ着色〜無色であるのに過ぎなかつ
た。それ故、原図の画像は大きいコントラストが明らか
であり、細部のすべては黄色の照明でさえもはつきりと
見えた。
印刷版を製造するためには、露光印刷板を5%の硅酸ナ
トリウム溶液を用いて現像し、これによつて塗膜の露光
帯域を除去した。非露光塗膜帯域は、非着色印刷基体面
と比較して大きいコントラストで明らかであつた。
下記の例では、方法を前例に相応して行ない、得られた
感光性印刷板の露光後に、現像の前及び後の画像のコン
トラストに関して十分に相応する結果が得られた。それ
故塗膜溶液の処方、使用したセンシタイザーのタイプ、
使用した染料及び露光後の色変化だけが下記の例に記載
されている。
例2 塗膜液: 2−(3−ニトロ−4−ヒドロキシフエニル 1.400PW エテニル)−4,6−ビス−(トリクロルメ チル)−S−トリアジン1モルと塩化1,2 −ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホ ニル1モルとのエステル化生成物 スーダン・ブルーG(アントラキノン染料) 0.100PW 例1のようなノボラツク 6.000PW 例1のような溶剤混合物 100.00PW 露光後の色変化:緑色へ淡褐色 例3 塗膜液: 2−(4−ヒドロキシフエニルエテニル) 1.400PW −4,6−ビス−(トリクロルメチル)−S −トリアジン1モルと塩化1,2−ナフトキ ノン−2−ジアジド−4−スルホニル ニユートラル・レツド(アジン染料) 0.100PW 例1のようなノボラツク 6.600PW 例1のような溶剤混合物 100.00PW 露光後の色変化:赤色〜濃青色 例4 塗膜液: 2−(3−メトキシ−4−ヒドロキシフエニ 1.400PW ルエテニル)−4,6−ビス−(トリクロル メチル)−S−トリアジン1モルと塩化1, 2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スル ホニル1モルとのエステル化生成物 2,4−ジニトロ−6−クロルベンゼンのジ 0.100PW アゾニウムを2,5−ジメトキシ−N,N −ジエチルアニリンとカツプリングさせて得 られた濃青色のアゾ染料 例1のようなノボラツク 6.600PW 例1のような溶剤混合物 100.00PW 露光後の色変化:濃青色〜緑褐色 例5 塗膜液: 2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジブロムフ 1.400PW エニルエテニル−4,6−ビス−(トリク ロルメチル)−S−トリアジン1モルと塩化 1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5− スルホニル1モルとのエステル化生成物 ビクトリア・ピユア・ブルーBOD(トリフ 0.120PW エニルメタン染料) メタクリル酸ピロカテコールとスチレンとの 6.600PW コーポリマー(モル比70:30) 例1のような溶剤混合物 100.00PW 露光後の色変化:青色〜淡青色/無色 例6 塗膜液: 2−(3−メトキシ−4−ヒドロキシフエニ 1.400PW ルエテニル)4,6−ビス−(トリクロル メチル)−S−トリアジン1モルと塩化1, 2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スル ホニル1モルとのエステル化生成物 ナイル・ブルーBX(オキサジン染料) 0.800PW 例1のようなノボラツク 6.600PW 例1のような溶剤混合物 100.00PW 露光後の色変化:濃緑色〜淡青色 例7 塗膜液: 2,3,4−トリヒドロキシベンゾフエノン 1.400PW 1モルと塩化1,2−ナフトキノン−2−ジ アジド−5−スルホニル3モルとのエステル 化生成物 軟化点127〜145℃を有するクレゾール 6.600PW /ホルムアルデヒドノボラツク 2−(4−ヒドロキシフエニルエテニル)− 0.200PW 4,6−ビス−(トリクロルメチル)−S− トリアジン1モルと塩化1,2−ナフトキノ ン−2−ジアジド−4−スルホニル クリスタル・バイオレツト 0.070PW エチレングリコールモノメチルエーテル 40.00PW テトラヒドロフラン 60.00PW 露光後の色変化:著しい濃青色〜淡青色

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】主としてナフトキノンジアジドスルホン酸
    エステル、アルカリ性水溶液に可溶の樹脂結合剤及び塩
    を形成する有機染料を含有する感光性混合物において、
    式: 〔式中Dは を表わし、R1は水素、NO2、それぞれ4個までの炭素原
    子を有するアルキル又はアルコキシ、ハロゲン及び/又
    は−O−SO2−Dを表わし、R2はトリハロアルキル基を
    表わす〕の1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エス
    テルを含有する感光性混合物。
  2. 【請求項2】式中R1は水素、NO2、それぞれ炭素原子1
    個又は2個を有するアルキル又はアルコキシ塩素及び/
    又は臭素であり、R2はトリクロルメチルである請求項1
    記載の感光性混合物。
  3. 【請求項3】ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル
    は、感光性混合物の全固体含量の重量に対して1〜30重
    量%の量で存在する請求項1又は2記載の感光性混合
    物。
  4. 【請求項4】アルカリ性水溶液に可溶の結合剤は、ノボ
    ラツクである請求項1記載の感光性混合物。
  5. 【請求項5】アルカリ性水溶液に可溶の結合剤は、多価
    フエノールを用いてエステル化したアクリル酸又はメタ
    クリル酸のポリマー又はコーポリマーである請求項1記
    載の感光性混合物。
  6. 【請求項6】染料はトリフエニルメタン、アゾ、フエナ
    ジン、オキサジン又はアントラキノン染料である請求項
    1記載の感光性混合物。
  7. 【請求項7】塗膜基材及び感光性塗膜からなり、感光性
    塗膜は請求項1から6までのいずれか1項記載の混合物
    を含有する感光性複写材料。
JP63202040A 1987-08-18 1988-08-15 感光性混合物及び感光性複写材料 Expired - Lifetime JPH0677149B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3727443.0 1987-08-18
DE19873727443 DE3727443A1 (de) 1987-08-18 1987-08-18 Lichtempfindliches gemisch auf basis von 1,2-naphthochinondiaziden und hiermit hergestelltes kopiermaterial

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6481941A JPS6481941A (en) 1989-03-28
JPH0677149B2 true JPH0677149B2 (ja) 1994-09-28

Family

ID=6333944

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63202040A Expired - Lifetime JPH0677149B2 (ja) 1987-08-18 1988-08-15 感光性混合物及び感光性複写材料

Country Status (5)

Country Link
EP (1) EP0303945B1 (ja)
JP (1) JPH0677149B2 (ja)
KR (1) KR960016307B1 (ja)
BR (1) BR8804196A (ja)
DE (2) DE3727443A1 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07120045B2 (ja) * 1987-10-22 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 パターン形成方法
JPH03242650A (ja) * 1990-02-20 1991-10-29 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型フオトレジスト組成物
JP2639853B2 (ja) * 1990-05-18 1997-08-13 富士写真フイルム株式会社 新規キノンジアジド化合物及びそれを含有する感光性組成物
KR100419841B1 (ko) * 2000-02-22 2004-02-25 (주)디엔엘 Pcb 용 아크릴레이트계 감광성 수지 조성물
KR100530629B1 (ko) * 2000-02-22 2005-11-23 학교법인 한양학원 Ps 판용 아크릴레이트계 감광성 수지 조성물
JP4483371B2 (ja) * 2003-04-07 2010-06-16 東レ株式会社 感光性樹脂組成物

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2641100C2 (de) * 1976-09-13 1987-02-26 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
US4758497A (en) * 1985-08-22 1988-07-19 Polychrome Corporation Photosensitive naphthoquinone diazide sulfonyl ester compounds for the fabrication of lithographic plates and photosensitive sheet construction with the compounds
JPH0652425B2 (ja) * 1986-01-30 1994-07-06 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物

Also Published As

Publication number Publication date
KR890004205A (ko) 1989-04-20
BR8804196A (pt) 1989-03-14
KR960016307B1 (ko) 1996-12-09
DE3727443A1 (de) 1989-03-02
JPS6481941A (en) 1989-03-28
EP0303945A2 (de) 1989-02-22
EP0303945A3 (en) 1990-05-30
EP0303945B1 (de) 1993-11-24
DE3885817D1 (de) 1994-01-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4458000A (en) Light-sensitive mixture and light-sensitive copying material prepared therefrom wherein image produced therein is visible under yellow safety light
US4404272A (en) Light-sensitive mixture and copying material prepared therefrom with novolak having brominated phenol units
US4350753A (en) Positive acting composition yielding pre-development high visibility image after radiation exposure comprising radiation sensitive diazo oxide and haloalkyl-s-triazine with novolak and dyestuff
US3759711A (en) Er compositions and elements nitrogen linked apperding quinone diazide light sensitive vinyl polym
US4467025A (en) Photosensitive compositions
US4536465A (en) Positive-working photosensitive composition with o-quinone diazide and admixture of resins
US5234791A (en) Radiation-curable composition and radiation-sensitive recording material prepared therefrom for use with high-energy radiation
HK178995A (en) Positive-working photosensitive composition containing a dye and positive-working photosensitive recording material prepared from this composition
US4457999A (en) Light-sensitive 1,2 quinone diazide containing mixture and light-sensitive copying material prepared therefrom wherein imaged produced therein is visible under yellow safety light
JPS6313031A (ja) 感放射線記録材料
US4889788A (en) Photosensitive composition, photosensitive copying material prepared from this composition with thermal hardening symmetric triazine alkyl(aryl)-ether
US5225310A (en) Photosensitive mixture containing an ester or amide of 1,2-naphthoquinone diazide sulfonic or carboxylic acid, a phenolic binder resin and a bis-(4-hydroxyphenyl) speed enhancing compound
US5298364A (en) Radiation-sensitive sulfonic acid esters and their use
US5017462A (en) Process of producing negative relief copies utilizing photosensitive copying material with thermal hardening triazine compound
US5275908A (en) Radiation-sensitive mixture and recording material comprising as a binder a copolymer having hydroxybenzyl(meth)acrylate groups or derivatives thereof
US4639406A (en) Light-sensitive compound, light-sensitive mixture, and light-sensitive copying material prepared therefrom with 0-naphthoquinone diazide compound
US4628020A (en) Light-sensitive compound mixture and copying material comprising o-naphthquinonediazide compound
JPH0677149B2 (ja) 感光性混合物及び感光性複写材料
US4229514A (en) Photosensitive composition
JPH0252349A (ja) ポジ型の感放射線性混合物、および該混合物を含有する感放射線性複写材料
JP2541736B2 (ja) オルトナフトキノンジアジドスルフォン酸エステルを含む感光性混合物、およびそれでつくった記録材料
US5776652A (en) Aromatic hexafluoropropanesulfonate diazonium salts and their use in radiation-sensitive mixtures
JP3203843B2 (ja) カラーフィルター用レジスト組成物
US5200293A (en) Photoresist composition containing specific amounts of a naphthoquinone diazide sulfonyl ester of tetrahydroxy diphenyl sulfide and a polyhydroxy compound
US4871644A (en) Photoresist compositions with a bis-benzotriazole