JPS6396755A - 光学式情報記録円盤の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 １五立１ 本発明は、再生専用型光ディスク、追記型光ディスク、
書換型光ディスク等の光学式情報記録円盤の製造方法に
関する。

１１且韮 ビデオディスク等の光デイスク半径方向における記録面
上に同心円状又は渦巻状に形成されたビットの列又は案
内溝（プリグループ）の間隔は、略１．６μｍと微細な
幅で決定されている。従って、光ディスクを再生装置の
ターンテーブルに装着する場合、光ディスクの中心孔に
該ターンテーブルのスピンドルを嵌め合せているので、
この光ディスクとスピンドルとの位置合せは、光ディス
クの回転精度を決定する上で極めて重要な意味を持って
いる。また、光ディスクの中心のズレが大きい場合には
、トラッキングサーボを用いて補正しているにもかかわ
らず、レーザ光によるビットの列又は案内溝のトラッキ
ングが不可能になる場合もある。従って、光ディスクの
中心孔を設ける場合、その中心孔の中心点と、ビットの
列又は案内溝の同心円又は渦巻からなる記録面の中心点
と、のズレの量すなわち偏心量を少なくして中心孔を設
ける高精度の加工方法が要求される。

従来の光ディスクの中心孔の形成は、ＰＭＭＡ樹脂、Ｐ
Ｃ樹脂等で射出形成された透明な円形平板からなる基板
に切削加工法を施して行なわれている。しかしながら、
光学機器等により基板又は案内溝の渦巻の中心を決定し
て、基板を強固に固定して穿孔がなされているので、切
削加工装置が大型化したり、基板表面を痛めたり、切削
面が欠落したりするという問題があった。

また、樹脂による基板の射出成形時に、中心孔を形成で
きる金型により直接、中心孔を設けている場合があるが
、加工精度が低くく真円の中心孔が得られないという問
題もあった。

この様な問題を解決するために、第３図に示す如く、同
心円状又は渦巻状に形成されたビットの列又は案内溝が
設けられた基板２２の中央部分に金属製ハブ２５を貼着
し、該金属製ハブの中央部分に中心孔２３を設けた構造
の光ディスクが考えられている。この光ディスクでは、
金属製ハブに中心孔を穿孔しているので真円を得易い故
に、光ディスクの偏心を少なくでき、更に、再生装置に
おける光ディスクを挟持するクランプ機構に磁石を用い
金属製ハブを吸着して光ディスクを固定するするという
磁石吸着固定方法を用いることが出来る。

しかしながら、金属製ハブ２５と基板２２とは無機物と
有機物との組合わせである故に、両者を接着することが
本来難しく、更にそれらの接合面積が広くとれない故に
、再生装置における光デイスク回転時に金属製ハブ２５
が光ディスクを支えきれず剥がれてしまうという問題が
ある。

また、金属製ハブと基板とを接合させるために金属製ハ
ブと基板との間に樹脂層を設けて、金属製ハブ及び基板
の両側から超音波を印加して金属製ハブ及び基板を接合
させる超音波ウェルド法による接合方法も考えられてい
るが、かかる方法では、基板、樹脂層の材質として熱可
塑性の樹脂しか使用できず、基板材質の選択の幅が狭い
等の問題、また、両者の中心を一致させる位置決工程の
後に超音波装置の超音波を発するホーン部分を金属製ハ
ブ及び基板に接触させなければならず、ホーン部分接触
による振動が不可避なため正確なる中心位置合わせが困
難である等の問題があった。

ｌ且五五Ｉ 従って、本発明の目的は、少ない製造工程数によって中
心孔の中心の偏心量の少なく且つ丈夫な光ディスクを得
る製造方法を提供することである。

本発明の光学式情報記録円盤の製造方法は、大円形中心
孔を有した透明な円形基板の−１面上に該大円形中心孔
に対して同心的に案内溝渦巻を形成し、次に、その大円
形中心孔よりも小なる内径の小中心孔を有した大円形中
心孔の内径よりも大なる外径の金属積層円盤部材を形成
し、次に、金属積層円盤部材の小円形中心孔を円形基板
に対して同心的に位置決めし、その金属積層円盤部材を
第１接着剤を介して円形基板の−１面上に載置し、次に
、その金属積層円盤部材の周縁側面の円形基板の表面近
傍に第２接着剤を配した後、第１接着剤より先に第２接
着剤を硬化させて金属積層円盤部材及び前記円形基板を
仮止めすることを特徴としている。

友−豊−３ 以下に本発明による一実施例を添付図面に基づいて説明
する。

まず、ＰＭＭＡ樹脂からなる透明な円形状の基板で、そ
の中心には大円形中心孔が設けられているものを射出成
形する。尚、該大円形中心孔の直径は次の工程で作成さ
れる金属積層円盤部材の直径より小とされている。

次に、第１図の断面図に示すような直径２５ｍｍの金属
積層円盤部材１を形成する。該金属積層円盤部材は、中
心孔２を有した円形状平板部分と該中心孔の周囲の突出
円筒部分とからなるＰＭＭＡ製のセンターサポータ３と
、そのセンターサポータ３の平坦主面上に貼着された最
終的に光ディスクの中心孔となる小円形孔４を設けた円
形金属板５とから構成されている。センターサポータは
射出成形で形成されている。

円形金属板５とセンターサポータ３との接合は、例えば
、センターサポータ形状の金型に金属板を組込み樹脂を
注入して成形するインサートインジェクション法、予め
成形されたセンターサポータの平坦主面と金属板の主面
とを合わせ、それらの両側から超音波発生器のホーンを
接触させ超音波を印加して、センターサポータと金属板
を張合わせる超音波ウェルド法、センターサポータと金
属板とを接着剤を介して貼り合わせ接着剤を硬化させる
接着剤による方法、センターサポータの平坦主面と金属
板の主面とを両面粘着テープで貼り合わせる粘着テープ
による方法等により行なわれる。

金属積層円盤５は、その直径が基板３の大円形中央孔よ
りも大きくなるように形成されている。

センターサポータ３の中心孔２の内径は、金属板５の中
心孔４が金属積層円盤部材の小円形中心孔として働かせ
るために、金属板の小円形中心孔内径より大きく形成さ
れている。従って、金属積層円盤部材の小円形中心孔は
、転写工程におけるスタンバ−上の案内溝の渦巻の中心
と芯合わせを行う場合、転写装置のスピンドル等を通し
、また、光デイスク完成後における再生装置のクランプ
機構のスピンドルを通す貫通孔となるため真円に加工さ
れている。

また、金属積層円盤部材の金属板５の面と反対側のセン
ターサポータの主面においては、基板と金属積層円盤部
材との接着の際に接着剤が該部材の周囲からはみ出て、
基板表面を汚さないように金属積層円盤部材の円周角部
を落して周縁傾斜部６を形成しておくことが好ましい。

第２図（ω〜（ｄ＋は、本実施例の製造工程の金属積層
円盤部材を基板に固定する部分を示す概略断面図である
。

従来の２Ｐ転写方法と同様に、転写装置の支持台上に取
付けられたスタンパ−上に紫外線硬化樹脂液を付与し、
射出成形で得られた基板を支持台のスピンドルにその中
心孔を嵌合して該樹脂液を介してスタンパ−の上に同心
的に載置し、基板側から紫外線を照射して紫外線硬化樹
脂液を硬化させて基板の主面に紫外線硬化樹脂からなる
案内溝層を固着して転写させる。かかる案内溝層の外部
面は、該大円形中心孔に対して同心的に案内溝渦巻を成
している。このように、スタンバ−から基板を剥離して
、第２図（ａ）示す如き案内溝層１８が形成された案内
溝付基板７が完成する。

予め案内溝渦巻層１８が形成された基板を基板移動位置
決め機構を有した回転テーブル（図示せず）の上に載置
し、該基板の中心点を決定する。

基板移動位置決め機構を有した回転テーブルは、その回
転軸方向に直角でかつ互いに直角に交叉するＸＹ方向に
移動自在となっている。かかる基板の中心点の位置決め
工程においては、回転テーブルを回転させつつ該基板の
最内周の案内溝を顕微鏡等で目視し、該チルプルをＸＹ
方向に適宜に移動調整して最内周案内溝の偏倚を観測す
ることによって該偏倚が無くなった点を案内溝渦巻の中
心点として決定する。

次に、第２図（ωに示す如く、中心点が決定された案内
溝渦巻層１８を担持した基板７の案内溝渦巻層と反対側
の主面における大円形中心孔８の周囲に第１接着剤９を
付与する。

次に、第２図φ）に示す如く、金属積層円盤部材１を第
１接着剤９を介して基板７上に載置する。

この際、基板７の決定された中心点と金属積層円盤の金
属板の中心孔４の中心点とが一致するように位置合わせ
を行いつつ載置する。尚、金属積層円盤部材１を基板７
の案内溝渦巻層１８と反対側の主面に取り付けているが
、同一側に取り付けても良い。

次に、第２図（Ｃ）に示す如く、金属積層円盤１の周縁
側面と基板の主面とが接している周縁隅部に紫外線硬化
型樹脂１０を仮止め接着剤として金属積層円盤１の全周
に亘って塗布する。このとき、金属積層円盤部材の周縁
傾斜部６と基板主面とが形成する凹部に仮止め接着剤を
付与すると、仮止め接着剤は表面張力により広がらない
ので基板を汚すことが少なくなり、更に接着面積が広く
なる故に硬化後の両者の固着力が増す。

次に、第２図（小に示す如く、紫外線（矢印）を金属積
層円盤１の周縁隅部に照射して仮止め接着剤１０を硬化
させる。この金属積層円盤１と基板７とを仮止めした後
に、第１接着剤９が徐々に硬化して金属積層円盤と基板
とが強固に固着する。

このようにして、基板の小円形中心孔が形成される。

ここで仮止め接着剤１０は、紫外線硬化型に限らず第１
接着剤９よりも先に硬化するものを選ぶことが好ましい
。第１接着剤９は、強力な固着力を達成するために同質
の系統のものを選ぶことが好ましく、本実施例の場合は
アクリル系接着剤を第１接着剤に使用している。また、
第１接着剤９と仮止め接着剤１０とを同じ紫外線硬化型
接着剤を用いて、紫外線が照射されるか否かによって金
属積層円盤１と基板７との仮止めを行ってもよい。

その後、この案内溝付基板の案内溝層側の表面に信号記
録層を設け、スペーサ、保護板等の部材と共に組立てる
ことにより、光ディスクが得られる。

以上の工程により、基板の中心孔又は外径部の切削加工
が製造工程で不要となり、正確な真円形状の中心孔を有
する偏心の少ない光ディスクが製造できる。

更に、得られた光ディスクは金属層部分があるため該金
属層部分に磁性金属を用いることにより、光ディスクの
再生装置のクランプ機構においてターンテーブル等に磁
石を用いる磁石吸着固定法が適用され得る。したがって
、得られた光ディスクによれば再生装置のクランプ機構
を小型化できる可能性がある。

１且五ヱ１ 上記した如く、本発明の製造方法によれば基板と金属積
層円盤部材とを別々に成形し且つ両部材の主面全体で接
合させることが出来るので、金属積層円盤部材の金属部
分に精度の高い穿孔加工を施すことができ、さらに、仮
止め工程によって第１接着剤の硬化する間、金属積層円
盤部材の基板に対する位置のズレが防止できるので、真
円で且つ偏心の少ない中心孔を有する光ディスクを得る
ことができ、またさらに、二度の接着工程を行っている
故に強固な光ディスクの中心部を得ることができる。ま
た、接着剤の硬化までに時間をかなり要した硬化又は乾
燥工程を省ける故に、工程数の少ない増加に比べて製造
時間を短縮できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は金属積層円盤の拡大断面図、第２図は本発明の
製造工程を説明する概略断面図、第３図は従来の基板を
説明する概略断面図である。 主要部分の符号の説明 １・・・・・・金属積層円盤 ２・・・・・・センターサポートの中心孔３・・・・・
・センターサポート ４・・・・・・小円形中心孔 ５・・・・・・円形金属板 ７・・・・・・基板 ８・・・・・・大円形中心孔 ９・・・・・・第１接着剤 １０・・・・・・仮止め接着剤 １８・・・・・・案内溝層

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 大円形中心孔を有した透明な円形基板の一主面上に該大
   円形中心孔に対して同心的に案内溝渦巻を形成する工程
   と、前記大円形中心孔よりも小なる内径の小中心孔を有
   した前記大円形中心孔の内径よりも大なる外径の金属積
   層円盤部材を形成する工程と、前記金属積層円盤部材の
   前記小円形中心孔を前記案内溝渦巻に対して同心的に位
   置決めする工程と、前記金属積層円盤部材を第１接着剤
   を介して前記円形基板の一主面上に載置する工程と、前
   記金属積層円盤部材の周縁側面の前記円形基板の表面近
   傍に第２接着剤を配した後、第１接着剤より先に第２接
   着剤を硬化させて前記金属積層円盤部材及び前記円形基
   板を仮止めする工程とを含む光学式情報記録円盤の製造
   方法。