JPS6383940A - 光磁気デイスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 光磁気ディスク製造後に行う初期化処理を不要とする方
法として、基板上に記録層を成膜する段階で、該基板に
垂直に磁場を加えながら行う処理方法。

〔産業上の利用分野〕

本発明は初期化工程を不要とする光磁気ディスクの製造
方法に関する。

光磁気ディスクは光ディスクと共にレーザ光を用いて高
密度の情報記録を行うメモリであり、記録容量が大きく
、非接触で記録と再生を行うことができ、また塵埃の影
客を受けないなど優れた特徴をもっている。

すなわち、レーザ光はレンズによって直径が約１μｍの
小さなスポットに絞り込むことが可能であり、従って１
ビツトの情報記録に要する面積は１μｍ　２程度で足り
る。

また、レンズで絞り込まれたレーザ光の焦点面までの距
離は１〜２龍とれるので、非接触化が可能であり、また
基板面では光ビームの径は約１龍となるので、たとえ基
板面に数１０μｍ２の大きさの塵埃が存在していても記
録・再生に殆ど影言を与えずに済ませることができる。

ここで、光ディスクは記録媒体として低融点金属を用い
、情報の記録と再生を穴（ビット）の有無により行う読
み出し専用メモリ（Ｒｅａｄ　０ｎｌｙ　Ｍｅｍｏｒｙ
）であるのに対し、光磁気ディスクは四き換え可能なメ
モリ　（Ｅｒａｓａｂｌｅ　Ｍｅｍｏｒｙ）として開発
されているもので、記録媒体は垂直磁化した磁性膜から
なり、レーザ照射された磁性膜の温度上昇による磁化反
転が情報の記録と消去に用いられ、磁性膜からの反射光
あるいは透過光の偏光面の回転が磁化方向により異なる
のを利用して再生が行われている。

本発明は光磁気ディスクについて処理工程の改良に関す
るものである。

〔従来の技術〕

光磁気ディスクは希土類−遷移金属系アモルファス合金
からなる垂直磁性膜を記録層とするものであって、これ
に３亥当する材料としてはテルビウム・鉄・コバルト（
Ｔｂ　Ｆｅ　Ｃｏ）、ガドリニウム・コバルト（Ｇｄ　
Ｃｏ）、テルビウム・鉄（Ｔｂ　Ｆｅ）、ガドリニウム
・テルビウム・鉄（Ｇｄ　Ｔｂ　Ｆｅ）などが知られて
いる。

第２図はこの構造を示す部分断面図であって、ポリメチ
ルメタクリレート（略称ＰＭｌ’ｌＡ）やポリカーボネ
ート（略称ＰＣ）などの樹脂を加熱溶融し、予め多数の
案内溝を形成しであるスタンパと呼ばれる金型を用いて
モールド成形し、厚さが１．２〜１．５龍のディスク状
の基板１が作られている。

そして、この上に第１の保護層２．記録層３゜第２の保
護Ｎ４と層形成して光ディスクが作られている。

ここで、第１の保護層２は基板１を通しての湿気の侵入
や基板の吸着ガス或いはモノマーなどの移行により記録
層３の酸化などによる劣化を防ぐもので、窒化珪素（Ｓ
ｉＪ４）、窒化アルミ　（ＡＡＮ）などの薄膜が使われ
ている。

また、第２の保護層４は記録層３の上方からの酸化を防
ぐために設けられているもので、上記のような誘電体薄
膜或いは金属薄膜が使用されている。

また、基板１としてフォトエツチングにより案内溝を形
成したガラスを用いる場合もあるが、この場合は透湿や
吸着ガスによる劣化が少ないので、第１の保護Ｎ２の形
成は省略されている。

このように光磁気ディスクは基板１の上に記録層３が耐
酸化構造をとって形成されている。

そして、かかる光磁気ディスクへの情報の記録は垂直に
磁場を加えている状態で、基板１を通してレンズで集光
したレーザ光を記録層３に照射し、被照射部の温度が上
昇してキュリー温度の近傍にまで達し、垂直磁化膜の磁
化の方向が磁場の方向に反転するのを利用して行われて
いる。

また、情報の消去は記録位置の磁化の方向と逆の方向に
磁場を加えなからレーザ光を照射して加熱し、元どおり
の方向に磁化を反転させることにより行われている。

然し、このように情報の記録と消去を行うには記録層の
磁化の方向が基板に対し直角に配向していることが必要
で、従来は光磁気ディスク製造の最終段階で一方向に磁
場を加えな力＾・−ザ光を照射し案内溝の記録層を磁場
の方向に揃える初期化処理が行われている。

然し、初期化にはかなりの°時間を必要とし、この筒略
化が望まれている。

例えば径１２インチ光磁気ディスクの初期化にはディス
クの回転を３６００ｒｐｍで行っても約２０分を必要と
していた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

以上記したように従来の光磁気ディスクの製造において
は記録層の初期化処理が必要で、この処理にかなりの工
数を要する点が問題である。

〔問題点を解決するための手段〕

上記の問題は記録層を成膜する際に、基板へ垂直に磁場
を加える初期化処理を行うことにより解決することがで
きる。

〔作用〕

本発明は光磁気ディスク製造の最終工程で初期化処理を
行い、案内溝の記録層の磁化の方向を消去方向に配向さ
せていたのに対し、記録層の製造を磁場を加えて行うこ
とにより初期化処理を不要とするものである。

〔実施例〕

第１図は本発明の詳細な説明する断面図であって、記録
層３を膜形成する基板１をヘルムホルツコイル５，５′
の中に誼き、磁場を加えながら真空蒸着する実施例を示
している。

すなわち、基板１は保持板６に固定してモータ７によっ
て回転するようにし、複数の蒸発源８゜８′を用いてフ
壬り磁性体からなる記録媒体を蒸着させる。

この実施例の場合、厚さ１．２　ｓ＊のＰＭＭＡからな
る基板１の上に硫化亜鉛（ＺｎＳ）からなる厚さ１００
　ｎｍの第１の保護層２を形成した後、保持板６に固定
し、モータ７により低速回転させた。

次に二元蒸着源８，８′にＴｂとＦｅ　Ｃｏとをそれぞ
れ充填し、チャンバ内をＩ　Ｘｌ０−’Ｐａに真空排気
した。

次に、ヘルムホルツコイル５．５′としては線径１ｍｍ
で、直径３０ｃｍ、　５００ターンに構成し、これに４
Ａの電流を通じて中央で約１２００ｅの磁界を　　　−
作った。　そして、か＼る磁界の許でＴｂを２．２人／
Ｓ　またＦｅ　Ｃｏ合金を２．０人／Ｓの速度で共蒸若
して１００　ｎｍの記録層３を形成した。

次に、従来と同様な方法で１００　ｎｍの厚さに第２の
保護層４を形成して光磁気ディスクができ上がった。

表は本発明の詳細な説明するもので、スペクトルアナラ
イザを用い、０．５Ｍ１ｌｚの信号についてハンド幅３
０Ｋｌｌｚでノイズレヘルを比較したものである。

表 このように磁場中で形成した記録層は完成、後に初期化
した場合と同様に消去方向に配向していることが判る。

〔発明の効果〕

以上記したように本発明の実施により初期化工程を省略
することができ、これにより工程の短縮が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施法を説明する断面図、第２図は光
磁気ディスクの構成を示す部分断面図、 である。 図において、 １は基板、　　　　　　　　２は第１の保護層、３は記
録層、　　　　　　　４は第２の保護層、５．５′はへ
ルムホルッコイル、 ８．８′は蒸発源、 である。。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 案内溝を備えた透明基板上に第１の保護層、希土類−遷
   移金属系アモルファス磁性体よりなる記録層および第２
   の保護層と順次層形成してなる光磁気ディスクにおいて
   、 前記記録層を成膜する際に、前記基板へ垂直に磁場を加
   えながら行うことを特徴とする光磁気ディスクの製造方
   法。