JPS6383106A - オレフイン重合体の製造法 - Google Patents
オレフイン重合体の製造法Info
- Publication number
- JPS6383106A JPS6383106A JP22896386A JP22896386A JPS6383106A JP S6383106 A JPS6383106 A JP S6383106A JP 22896386 A JP22896386 A JP 22896386A JP 22896386 A JP22896386 A JP 22896386A JP S6383106 A JPS6383106 A JP S6383106A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- solid
- ether
- polymer
- catalyst component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 title claims abstract description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 claims abstract description 46
- -1 ether compound Chemical class 0.000 claims abstract description 35
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- 239000012265 solid product Substances 0.000 claims abstract description 34
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 26
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 23
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 claims abstract description 23
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims abstract description 23
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 22
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 21
- 150000002901 organomagnesium compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 20
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 19
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 claims description 22
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 15
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 11
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 23
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 abstract description 14
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 abstract description 14
- 239000000843 powder Substances 0.000 abstract description 13
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 abstract description 8
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910003074 TiCl4 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 42
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 19
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 17
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 17
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 15
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 12
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 12
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 7
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 7
- 125000002734 organomagnesium group Chemical group 0.000 description 7
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 7
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 7
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 6
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 5
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 5
- 238000012685 gas phase polymerization Methods 0.000 description 5
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 5
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical group [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- DKQVJMREABFYNT-UHFFFAOYSA-N ethene Chemical group C=C.C=C DKQVJMREABFYNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 3
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOPDRZXCEAKHHW-UHFFFAOYSA-N 1-pentoxypentane Chemical compound CCCCCOCCCCC AOPDRZXCEAKHHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AQZGPSLYZOOYQP-UHFFFAOYSA-N Diisoamyl ether Chemical compound CC(C)CCOCCC(C)C AQZGPSLYZOOYQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N dibenzyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1COCC1=CC=CC=C1 MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWBWGOJHWAARSS-UHFFFAOYSA-N diethylalumanyloxy(diethyl)alumane Chemical compound CC[Al](CC)O[Al](CC)CC LWBWGOJHWAARSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005674 electromagnetic induction Effects 0.000 description 2
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 2
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 2
- QUXHCILOWRXCEO-UHFFFAOYSA-M magnesium;butane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].CCC[CH2-] QUXHCILOWRXCEO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FRIJBUGBVQZNTB-UHFFFAOYSA-M magnesium;ethane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[CH2-]C FRIJBUGBVQZNTB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N phenolphthalein Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C(=O)O1 KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N triisobutylaluminium Chemical compound CC(C)C[Al](CC(C)C)CC(C)C MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- NKJOXAZJBOMXID-UHFFFAOYSA-N 1,1'-Oxybisoctane Chemical compound CCCCCCCCOCCCCCCCC NKJOXAZJBOMXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1Cl RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 1-chlorobutane Chemical compound CCCCCl VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQUBQBFVDOLUKC-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-methylpropane Chemical compound CCOCC(C)C RQUBQBFVDOLUKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQAYBCWERYRAMF-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-3-methylbutane Chemical compound COCCC(C)C ZQAYBCWERYRAMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXBDYQVECUFKRK-UHFFFAOYSA-N 1-methoxybutane Chemical compound CCCCOC CXBDYQVECUFKRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJAACKBSCULPH-UHFFFAOYSA-N C=1C=CC=CC=1[Mg]C1=CC=CC=C1 Chemical group C=1C=CC=CC=1[Mg]C1=CC=CC=C1 QXJAACKBSCULPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABXKXVWOKXSBNR-UHFFFAOYSA-N CCC[Mg]CCC Chemical compound CCC[Mg]CCC ABXKXVWOKXSBNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940126657 Compound 17 Drugs 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDKFWIMBZAUBRS-UHFFFAOYSA-M [I-].CC[Mg+] Chemical compound [I-].CC[Mg+] CDKFWIMBZAUBRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N bis(2-methylpropyl)aluminum Chemical compound CC(C)C[Al]CC(C)C SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000853 cresyl group Chemical group C1(=CC=C(C=C1)C)* 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- PGRDNHQIURCHPZ-UHFFFAOYSA-N cyclohexyloxy(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)OC1CCCCC1 PGRDNHQIURCHPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 150000004796 dialkyl magnesium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 1
- URSLNVMUSKPBTL-UHFFFAOYSA-N dibutoxy(dibutyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](CCCC)(CCCC)OCCCC URSLNVMUSKPBTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACIRMTDSYZCTAP-UHFFFAOYSA-N dibutyl(dibutylalumanyloxy)alumane Chemical compound CCCC[Al](CCCC)O[Al](CCCC)CCCC ACIRMTDSYZCTAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- HJXBDPDUCXORKZ-UHFFFAOYSA-N diethylalumane Chemical compound CC[AlH]CC HJXBDPDUCXORKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- AVBCBOQFOQZNFK-UHFFFAOYSA-N dipropoxy(dipropyl)silane Chemical compound CCCO[Si](CCC)(CCC)OCCC AVBCBOQFOQZNFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- DFJDZTPFNSXNAX-UHFFFAOYSA-N ethoxy(triethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)CC DFJDZTPFNSXNAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 150000002681 magnesium compounds Chemical class 0.000 description 1
- CQRPUKWAZPZXTO-UHFFFAOYSA-M magnesium;2-methylpropane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].C[C-](C)C CQRPUKWAZPZXTO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IWCVDCOJSPWGRW-UHFFFAOYSA-M magnesium;benzene;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].C1=CC=[C-]C=C1 IWCVDCOJSPWGRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LWLPYZUDBNFNAH-UHFFFAOYSA-M magnesium;butane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].CCC[CH2-] LWLPYZUDBNFNAH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CCERQOYLJJULMD-UHFFFAOYSA-M magnesium;carbanide;chloride Chemical compound [CH3-].[Mg+2].[Cl-] CCERQOYLJJULMD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DLPASUVGCQPFFO-UHFFFAOYSA-N magnesium;ethane Chemical compound [Mg+2].[CH2-]C.[CH2-]C DLPASUVGCQPFFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGVPKMAWLOMPRS-UHFFFAOYSA-M magnesium;propane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].CC[CH2-] UGVPKMAWLOMPRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- WVWZECQNFWFVFW-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C WVWZECQNFWFVFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKUUVVYMPUDTGJ-UHFFFAOYSA-N methyl 5-hydroxy-4-methoxy-2-nitrobenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC(O)=C(OC)C=C1[N+]([O-])=O ZKUUVVYMPUDTGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011325 microbead Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005453 pelletization Methods 0.000 description 1
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- ANRQGKOBLBYXFM-UHFFFAOYSA-M phenylmagnesium bromide Chemical compound Br[Mg]C1=CC=CC=C1 ANRQGKOBLBYXFM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000008301 phosphite esters Chemical class 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 230000037048 polymerization activity Effects 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical class O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADLSSRLDGACTEX-UHFFFAOYSA-N tetraphenyl silicate Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 ADLSSRLDGACTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WILBTFWIBAOWLN-UHFFFAOYSA-N triethyl(triethylsilyloxy)silane Chemical compound CC[Si](CC)(CC)O[Si](CC)(CC)CC WILBTFWIBAOWLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORYGRKHDLWYTKX-UHFFFAOYSA-N trihexylalumane Chemical compound CCCCCC[Al](CCCCCC)CCCCCC ORYGRKHDLWYTKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHQZLUVCZCAMFU-UHFFFAOYSA-N tripropyl(tripropylsilyloxy)silane Chemical compound CCC[Si](CCC)(CCC)O[Si](CCC)(CCC)CCC KHQZLUVCZCAMFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQTYRTSKQFQYPQ-UHFFFAOYSA-N trisiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH2]O[SiH3] ZQTYRTSKQFQYPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分骨〉
本発明は、オレフィン重合体の製造法に関する。更に詳
しくは、種々の重合プロセス(スラリー重合、気相重合
番)において遷移金属当りの活性が極めて高い固体触媒
成分を用い、オレフィン重合体を製造する方法に関する
ものである。また固体触媒成分の粒子形状を極めて良好
に制御し、スラリー重合、気相重合等においては、嵩密
度が高(、微粉の少ない流動性良好なオレフィン重合体
を製造する方法に関するものである。
しくは、種々の重合プロセス(スラリー重合、気相重合
番)において遷移金属当りの活性が極めて高い固体触媒
成分を用い、オレフィン重合体を製造する方法に関する
ものである。また固体触媒成分の粒子形状を極めて良好
に制御し、スラリー重合、気相重合等においては、嵩密
度が高(、微粉の少ない流動性良好なオレフィン重合体
を製造する方法に関するものである。
オレフィン重合体を製造する場合に使用するMWの活性
(単位触媒当りの重合量)、特に遷移金属当りの活性が
高いことは、重合後に得られた重合体から触媒残液を除
去する必要がなく、重合体の製造工程を簡略化し得るの
で工業的に極めて利用価値が高いことは言うまでもない
。
(単位触媒当りの重合量)、特に遷移金属当りの活性が
高いことは、重合後に得られた重合体から触媒残液を除
去する必要がなく、重合体の製造工程を簡略化し得るの
で工業的に極めて利用価値が高いことは言うまでもない
。
一方、重合槽への付着が多い仁とは、操業上穏々の障害
を生じ操業効率を低下させる原因となる為、重合槽への
付着はできる限り少ないことが望ましい。また、スラリ
ー重合もしくは気相重合を行なう場合には、操業の安定
性、操業効率の面から重合体粉末のかさ密度が高く、粒
度分布が狭く、流動性が良好なことが望ましい。
を生じ操業効率を低下させる原因となる為、重合槽への
付着はできる限り少ないことが望ましい。また、スラリ
ー重合もしくは気相重合を行なう場合には、操業の安定
性、操業効率の面から重合体粉末のかさ密度が高く、粒
度分布が狭く、流動性が良好なことが望ましい。
〈従来の技術〉
近年開発されたマグネシウム化合物などの担体に四塩化
チタンなどの遷移金属化合物を担持した触媒は従来の触
媒に比べて重合活性が高いものの、遷移金属当りの触媒
活性という点で未だ不満足である(ベルギー特許第75
9601号公報、特公昭47−46269号公報、特公
昭47−26888号公報等)。
チタンなどの遷移金属化合物を担持した触媒は従来の触
媒に比べて重合活性が高いものの、遷移金属当りの触媒
活性という点で未だ不満足である(ベルギー特許第75
9601号公報、特公昭47−46269号公報、特公
昭47−26888号公報等)。
また、チタン化合物を有機マグネシウムで還元して固体
生成物を得る触媒系として、グリニヤール試薬と四塩化
チタンまたはアルコキシ含有ハロゲン化チタンから成る
固体触媒成分(特開昭46−4891号公報、特公昭4
7−40959号公報、特公昭50−89470号公報
、特公昭50−80102号公報等)、グリニヤール試
薬とアルコキシ含有ハロゲン化チタン化合物を反応させ
、更に四塩化チタンで処理することから成る固体触媒成
分(特公昭57−24861号公報、特開昭56−11
5802号公報等)が報告されているが、遷移金属当り
の触媒活性という点で未だ不充分である。
生成物を得る触媒系として、グリニヤール試薬と四塩化
チタンまたはアルコキシ含有ハロゲン化チタンから成る
固体触媒成分(特開昭46−4891号公報、特公昭4
7−40959号公報、特公昭50−89470号公報
、特公昭50−80102号公報等)、グリニヤール試
薬とアルコキシ含有ハロゲン化チタン化合物を反応させ
、更に四塩化チタンで処理することから成る固体触媒成
分(特公昭57−24861号公報、特開昭56−11
5802号公報等)が報告されているが、遷移金属当り
の触媒活性という点で未だ不充分である。
〈発明が解決すべき問題点〉
かかる現状において、本発明の解決すべき問題点、即ち
本発明の目的は、触媒残渣の除去が不必要となるほど、
遷移金属当りの触媒活性が充分高い固体触媒成分を用い
、嵩密度が高く、微粉の少ない流動性良好なオレフィン
重合体を製造する方法を提供することにある。
本発明の目的は、触媒残渣の除去が不必要となるほど、
遷移金属当りの触媒活性が充分高い固体触媒成分を用い
、嵩密度が高く、微粉の少ない流動性良好なオレフィン
重合体を製造する方法を提供することにある。
〈問題点を解決すべき手段〉
本発明は、
囚 細孔半径75〜20,000人における細孔容ff
iが0.65fn1/g以上のシリカゲルの存在下、一
般式Ti(OR’)nX+ −n (R’は炭素数が
1〜20の炭化水素基、Xはハロゲン原子、nは0<1
1く4の数字を表わす。)で表わされるチタン化合物を
有機マグネシウム化合物で還元して得られる固体生成物
を、エーテル化合物と四塩化チタンとの混合物で処理し
て得られる三価のチタン化合物含有固体触媒成分と、 (2)有機アルミニウム化合物とよりなる触媒系を用い
て、オレフィンを単独重合または弁型することを特徴と
するオレフィン重合体の製造法である。
iが0.65fn1/g以上のシリカゲルの存在下、一
般式Ti(OR’)nX+ −n (R’は炭素数が
1〜20の炭化水素基、Xはハロゲン原子、nは0<1
1く4の数字を表わす。)で表わされるチタン化合物を
有機マグネシウム化合物で還元して得られる固体生成物
を、エーテル化合物と四塩化チタンとの混合物で処理し
て得られる三価のチタン化合物含有固体触媒成分と、 (2)有機アルミニウム化合物とよりなる触媒系を用い
て、オレフィンを単独重合または弁型することを特徴と
するオレフィン重合体の製造法である。
又三価のチタン化合物含有固体触媒成分の合成を、5i
−0結合を有する有機ケイ素化合物及び細孔半径75〜
20.000人における細孔容態が0.65d/f以上
のシリカゲルの存在下に行い、有機アルミニウム化合物
とよりなる触媒系を用いてオレフィン重合を行うことを
特徴とするオレフィン重合体の製造法である。
−0結合を有する有機ケイ素化合物及び細孔半径75〜
20.000人における細孔容態が0.65d/f以上
のシリカゲルの存在下に行い、有機アルミニウム化合物
とよりなる触媒系を用いてオレフィン重合を行うことを
特徴とするオレフィン重合体の製造法である。
本触媒系の使用により、前記目的が達成される。
以下、本発明について具体的に説明する。
(a) チタン化合物
本発明において使用されるチタン化合物は一般式Ti(
OR)nX4−Kl (R1は炭素数が1〜20の炭化
水素基、Xはハロゲン原子、UはO< n <4の数字
を表わす。)で表わされる。Rの具体例としては、メチ
ル、エチル、n−プロピル110−プロピル、n−ブチ
ル、i@o−ブチル、n−アミル、1so−アミル、n
−ヘキシル、n−へプチル、n−オクチル、n−デシル
、n−ドデシル等のアルキル基、フェニル、クレジル、
キシリル、ナフチル等のアリル基、シクロヘキシル、シ
クロペンチル等のシクロアルキル基、プロペニル等のア
リール基、ベンジル等のアラルキル基等が例示される。
OR)nX4−Kl (R1は炭素数が1〜20の炭化
水素基、Xはハロゲン原子、UはO< n <4の数字
を表わす。)で表わされる。Rの具体例としては、メチ
ル、エチル、n−プロピル110−プロピル、n−ブチ
ル、i@o−ブチル、n−アミル、1so−アミル、n
−ヘキシル、n−へプチル、n−オクチル、n−デシル
、n−ドデシル等のアルキル基、フェニル、クレジル、
キシリル、ナフチル等のアリル基、シクロヘキシル、シ
クロペンチル等のシクロアルキル基、プロペニル等のア
リール基、ベンジル等のアラルキル基等が例示される。
これらの化合物のうち炭素数2〜18のアル≦嘘
キル基および炭素数6〜18のアリル基が好ましい。特
に炭素数2〜18の直鎖状アルキル基が好ましい。2糎
以との異なるOR”基を有するチタン化合物を用いるこ
とも可能である。
に炭素数2〜18の直鎖状アルキル基が好ましい。2糎
以との異なるOR”基を有するチタン化合物を用いるこ
とも可能である。
Xで表わされるハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨ
ウ素が例示できる。特に塩素が好ましい結果を与える。
ウ素が例示できる。特に塩素が好ましい結果を与える。
一般式Ti(OR1)nX4−nX4−Q で表わされ
るチタン化合物のnの値としては0<n=4、好ましく
は2≦n≦4、特に好ましくは、n=4である。
るチタン化合物のnの値としては0<n=4、好ましく
は2≦n≦4、特に好ましくは、n=4である。
一般式Ti(OR’ )HX4−HCO< n=4)で
表わされるチタン化合物の合成方法としては公知の方法
が使用できる。例九ば 71(OR1)nX4−4とTiX4を所定の割合で反
応させる方法、あるいはTiX4と対応するアルコール
類を所定量反応させる方法が使用できる。
表わされるチタン化合物の合成方法としては公知の方法
が使用できる。例九ば 71(OR1)nX4−4とTiX4を所定の割合で反
応させる方法、あるいはTiX4と対応するアルコール
類を所定量反応させる方法が使用できる。
(b) S i−0結合を有する有機ケイ素化合物本
発明のA)成分の合成に使用される5t−0結合を有す
る有機ケイ素化合物としては、下記の一般式で表わされ
るものである。
発明のA)成分の合成に使用される5t−0結合を有す
る有機ケイ素化合物としては、下記の一般式で表わされ
るものである。
5i(OR” )mR44−。
R’(R’5iO)pSiR”fi
または、(R82Sin)。
ここに、Haは炭素数が1〜20の炭化水素基、R4、
R5、R6、R7およびR8は炭素数が1〜20の炭化
水素基または水素原子であり、mはOhm≦4の数字で
あり、pは1〜1000の整数であり、qは2〜100
0の整数である。
R5、R6、R7およびR8は炭素数が1〜20の炭化
水素基または水素原子であり、mはOhm≦4の数字で
あり、pは1〜1000の整数であり、qは2〜100
0の整数である。
有機ケイ素化合物の具体例としては、下記のようなもの
を例示することができる。
を例示することができる。
テトラメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、テ
トラエトキシシラン、トリエトキシエチルシラン、ジェ
トキシジエチルシラン、エトキシトリエチルシラン、テ
トラ−1so−プロピルシラン、ジー1s。
トラエトキシシラン、トリエトキシエチルシラン、ジェ
トキシジエチルシラン、エトキシトリエチルシラン、テ
トラ−1so−プロピルシラン、ジー1s。
−プロポキシージー(SO−プロピルシラン、テトラプ
ロポキレシラン、ジプロポキレジプロピルシラン、テト
ラ−n−ブトキシシラン、ジ−n−ブトキシ−ジ−n−
ブチルシラン、ジシクロペントキシジエチルシラン、ジ
ェトキシジフェニルシラン、シクロヘキシロキシトリメ
チルシラン、フェノキシドリッチルシラン、テトラフェ
ノキシシラン、トリエトキシエチルシラン、ヘキサメチ
ルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、ヘキサプ
ロピルジシロキサン、オクタエチルトリシロキサン、ジ
メチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、メ
チルヒドロポリシロキサン、フェニルヒドロポリシロキ
サン等を例示することができる。
ロポキレシラン、ジプロポキレジプロピルシラン、テト
ラ−n−ブトキシシラン、ジ−n−ブトキシ−ジ−n−
ブチルシラン、ジシクロペントキシジエチルシラン、ジ
ェトキシジフェニルシラン、シクロヘキシロキシトリメ
チルシラン、フェノキシドリッチルシラン、テトラフェ
ノキシシラン、トリエトキシエチルシラン、ヘキサメチ
ルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、ヘキサプ
ロピルジシロキサン、オクタエチルトリシロキサン、ジ
メチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、メ
チルヒドロポリシロキサン、フェニルヒドロポリシロキ
サン等を例示することができる。
これらの有機ケイ素化合物のうち好ましいものは一般式
5i(0” )m” 4−m テ表b サれるアルコキ
シシラン化合物であり、好ましくは1≦m≦4であり、
特にm = 4のテトラアルコキシシラン化合物が好ま
しい。
5i(0” )m” 4−m テ表b サれるアルコキ
シシラン化合物であり、好ましくは1≦m≦4であり、
特にm = 4のテトラアルコキシシラン化合物が好ま
しい。
(C) 有機マグネシウム化合物
次に、本発明で用いる有機マグネシウムは、マグネシウ
ム−炭素の結合を含有する任意の型の有機マグネシウム
化合物を使用することができる。特に一般式R’MgX
(式中、R9は炭素数1〜20の炭化水素基を、Xはハ
ロゲンを表わす。)で表わされるグリニヤール化合物お
よび一般式 R10R11M g (式中・R10およびRItは
炭素数1〜20の炭化水素基を表わす。)で表わされる
ジアルキルマグネシウム化合物またはジアリールマグネ
シウム化合物が好適に使用される。ここでR9、RlG
、 R11は同−でも異なっていてもよく、メチル、
エチル、n−プロピルso−プロピル、n−ブチル、5
ec−ブチル、tert−ブチル、n−アミルso−ア
ミル、n−ヘキシル、 n−オクチル、2−エチルヘキシル、フェニル、ベンジ
ル等の炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、アルケニル基を示す。
ム−炭素の結合を含有する任意の型の有機マグネシウム
化合物を使用することができる。特に一般式R’MgX
(式中、R9は炭素数1〜20の炭化水素基を、Xはハ
ロゲンを表わす。)で表わされるグリニヤール化合物お
よび一般式 R10R11M g (式中・R10およびRItは
炭素数1〜20の炭化水素基を表わす。)で表わされる
ジアルキルマグネシウム化合物またはジアリールマグネ
シウム化合物が好適に使用される。ここでR9、RlG
、 R11は同−でも異なっていてもよく、メチル、
エチル、n−プロピルso−プロピル、n−ブチル、5
ec−ブチル、tert−ブチル、n−アミルso−ア
ミル、n−ヘキシル、 n−オクチル、2−エチルヘキシル、フェニル、ベンジ
ル等の炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、アルケニル基を示す。
具体的には、グリニヤール化合物として、メチーレマグ
ネシウムクロリド、エチルマグネシウムプロミド、エチ
ルマグネシウムプロミド、エチルマグネシウムアイオダ
イド、n−プロピルマグネシウムクロリド、n−プロピ
ルマグネシウムプロミド、n−ブチルマグネシウムクロ
リド、n−ブチルマグネシウムプロミド、5ec−ブチ
ルマグネシウムクロリド、@ec−ブチルマグネシウム
プロミド、tert−ブチルマグネシウムクロリド、t
art−ブチルマグネシウムプロミド、n−アミルマグ
ネシウムクロリドso−アミルマグネシウムクロリド、
フェニルマグネシウムクロリド、フェニルマグネシウム
プロミド等が、HloRllMg で表わされる化合物
としてジエチルマグネシウム、ジ−n−プロピルマグネ
シウム、ジー1so−プロピルマグネシウム、ジ−n−
ブチルマグネシウム−ジー5ec−ブチルマグネシウム
、ジーtart−ブチルマグネシウム、n−ブチル−5
eC−ブチルマグネシウム、ジ−n−アミルマグネシウ
ム、ジフェニルマグネシウム心が挙げられる。
ネシウムクロリド、エチルマグネシウムプロミド、エチ
ルマグネシウムプロミド、エチルマグネシウムアイオダ
イド、n−プロピルマグネシウムクロリド、n−プロピ
ルマグネシウムプロミド、n−ブチルマグネシウムクロ
リド、n−ブチルマグネシウムプロミド、5ec−ブチ
ルマグネシウムクロリド、@ec−ブチルマグネシウム
プロミド、tert−ブチルマグネシウムクロリド、t
art−ブチルマグネシウムプロミド、n−アミルマグ
ネシウムクロリドso−アミルマグネシウムクロリド、
フェニルマグネシウムクロリド、フェニルマグネシウム
プロミド等が、HloRllMg で表わされる化合物
としてジエチルマグネシウム、ジ−n−プロピルマグネ
シウム、ジー1so−プロピルマグネシウム、ジ−n−
ブチルマグネシウム−ジー5ec−ブチルマグネシウム
、ジーtart−ブチルマグネシウム、n−ブチル−5
eC−ブチルマグネシウム、ジ−n−アミルマグネシウ
ム、ジフェニルマグネシウム心が挙げられる。
上記の有機マグネシウム化合物の合成溶媒としては、ジ
エチルエーテル、ジ−n−プロビルエーテル、ジー1S
O−プロピフレエーテル、ジ−n−ブチルエーテル、ジ
ー1so−ブチルエーテル、ジ−n−アミフレエーテル
、ジー1so−アミルエーテル、ジ−n−ヘキシルエー
テル、ジ−n−ブチルエーテル、ジフェニルエーテル、
ジベンジルエーテル、フエネトール、アニソ−IL!、
テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル
溶媒を用いることができる・まf;%ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン
、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素溶媒、あ
るいはエーテル溶媒と炭化水素溶媒との混合溶媒を用い
てもよい。有機マグネシウム化合物は、エーテル溶液の
状態で使用することが好ましい。この場合のエーテル化
合物としては、分子内に炭素数6個以とを含有するエー
テル化合物または環状構造を有するエーテル化合物が用
いられる。
エチルエーテル、ジ−n−プロビルエーテル、ジー1S
O−プロピフレエーテル、ジ−n−ブチルエーテル、ジ
ー1so−ブチルエーテル、ジ−n−アミフレエーテル
、ジー1so−アミルエーテル、ジ−n−ヘキシルエー
テル、ジ−n−ブチルエーテル、ジフェニルエーテル、
ジベンジルエーテル、フエネトール、アニソ−IL!、
テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル
溶媒を用いることができる・まf;%ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン
、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素溶媒、あ
るいはエーテル溶媒と炭化水素溶媒との混合溶媒を用い
てもよい。有機マグネシウム化合物は、エーテル溶液の
状態で使用することが好ましい。この場合のエーテル化
合物としては、分子内に炭素数6個以とを含有するエー
テル化合物または環状構造を有するエーテル化合物が用
いられる。
特にR9MgCAで表わされるグリニヤール化合物をエ
ーテル溶液の状態で使用することが触媒性能の点から好
ましい。
ーテル溶液の状態で使用することが触媒性能の点から好
ましい。
又、上記の有機マグネシウム化合物と有機金属化合物と
の炭化水素可溶性錯体も使用することもできる。有機金
属化合物の例としては、Li 、 Be 、 B 、
AL またはZnの有機化合物が挙げられる。
の炭化水素可溶性錯体も使用することもできる。有機金
属化合物の例としては、Li 、 Be 、 B 、
AL またはZnの有機化合物が挙げられる。
d) シリカゲル
本発明のA)の成分に使用されるシリカゲルは、粒径が
好ましくは5〜250μの範囲であり、さらに好ましく
は10〜200μの範囲である。また、平均粒子径は好
ましくは10〜200μであり、さらに好ましくは20
〜160μである。そして、平均細孔半径は、好ましく
は75λ以上であり、さらに好ましくは90人以北であ
る。
好ましくは5〜250μの範囲であり、さらに好ましく
は10〜200μの範囲である。また、平均粒子径は好
ましくは10〜200μであり、さらに好ましくは20
〜160μである。そして、平均細孔半径は、好ましく
は75λ以上であり、さらに好ましくは90人以北であ
る。
また、細孔半径75〜20,000λ間暑こおける細孔
容量は、好ましくは0.65d/f以上であり、さらに
好ましくは0.7d/f以上、特に好ましくはQ、8d
/?〆七ある。
容量は、好ましくは0.65d/f以上であり、さらに
好ましくは0.7d/f以上、特に好ましくはQ、8d
/?〆七ある。
さらに、シリカゲルは吸着水を排除したものを使用する
が好ましい。具体的には、500℃程度以上の温度でか
焼するか、あるいは100°C程度以との温度で乾燥し
たものを有機マグネシウム等の有機金属化合物で処理し
て使用する方法等が挙げられる。
が好ましい。具体的には、500℃程度以上の温度でか
焼するか、あるいは100°C程度以との温度で乾燥し
たものを有機マグネシウム等の有機金属化合物で処理し
て使用する方法等が挙げられる。
(e) エーテル化合物
次に本発明で使用するエーテル化合物としては、ジエチ
ルエーテル、ジ−n−プロピルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、ジ−n−ブチルエーテル、ジ−n−アミル
エーテル、シー1so−アミルエーテル、ジイソアミル
エーテル、ジ−n−ヘキシルエーテル、ジ−n−オクチ
ルエーテル、メチル−n−ブチルエーテル、メチル−イ
ソアミルエーテル、エチル−イソブチルエーテルなどの
ジアルキルエーテルが好ましい。
ルエーテル、ジ−n−プロピルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、ジ−n−ブチルエーテル、ジ−n−アミル
エーテル、シー1so−アミルエーテル、ジイソアミル
エーテル、ジ−n−ヘキシルエーテル、ジ−n−オクチ
ルエーテル、メチル−n−ブチルエーテル、メチル−イ
ソアミルエーテル、エチル−イソブチルエーテルなどの
ジアルキルエーテルが好ましい。
ジ−n−ブチルエーテルと、ジー1go −アミルエー
テルが特に好ましい。
テルが特に好ましい。
(f) 固体触媒成分A)の合成
本発明の固体触媒成分A)は、シリカゲルの共存下一般
式 Ti (OR’ )nx4−nで表わされるチタン
化合物を有機マグネシウム化合物で還元して得られる固
体生成物を、エーテル化合物と四塩化チタンとの混合物
で処理して合成される。好ましくは、5i−o結合を有
する有機ケイ素化合物およびシリカゲルの共存下に、チ
タン化合物を有機マグネシウム化合物で還元1ノで得ら
れる固体生成物をエーテル化合物と四塩化チタンとの混
合物で処理して合成される。その際、還有機マグネシウ
ム化合物によるチタン化合物の還元反応の方法としては
、チタン化合物、有機ケイ素化合物およびシリカゲルの
混合物に、有機マグネシウム七合物を添加する方法が挙
げられる。
式 Ti (OR’ )nx4−nで表わされるチタン
化合物を有機マグネシウム化合物で還元して得られる固
体生成物を、エーテル化合物と四塩化チタンとの混合物
で処理して合成される。好ましくは、5i−o結合を有
する有機ケイ素化合物およびシリカゲルの共存下に、チ
タン化合物を有機マグネシウム化合物で還元1ノで得ら
れる固体生成物をエーテル化合物と四塩化チタンとの混
合物で処理して合成される。その際、還有機マグネシウ
ム化合物によるチタン化合物の還元反応の方法としては
、チタン化合物、有機ケイ素化合物およびシリカゲルの
混合物に、有機マグネシウム七合物を添加する方法が挙
げられる。
チタン化合物、有機ケイ素化合物およびシリカゲルは適
当な溶媒に溶解もしくは希釈して使用するのが好ましい
。
当な溶媒に溶解もしくは希釈して使用するのが好ましい
。
かかる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、
デカン等の脂肪族炭化水素、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン
、デカリン等の[1101式炭化水素、ジエチルエーテ
ル、ジブチルエーテル、ジイソアミルエーテル、テトラ
ヒドロフラン等のエーテル化合物が挙げられる。
デカン等の脂肪族炭化水素、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン
、デカリン等の[1101式炭化水素、ジエチルエーテ
ル、ジブチルエーテル、ジイソアミルエーテル、テトラ
ヒドロフラン等のエーテル化合物が挙げられる。
還元反応温度は、−50〜70℃、好ましくは一80〜
60°C1特に好ましくは一25〜35℃の温度範囲で
ある@ 滴下時間は特に制限はないが、通常80分〜6時間程度
である。還元反応終了後、サラに20〜120“Cの温
度で後反応を行なってもよい。
60°C1特に好ましくは一25〜35℃の温度範囲で
ある@ 滴下時間は特に制限はないが、通常80分〜6時間程度
である。還元反応終了後、サラに20〜120“Cの温
度で後反応を行なってもよい。
有機ケイ素化合物の使用量は、チタン化合物中のチタン
原子に対するケイ素原子の原子比で、S1/Ti=0〜
50.好ましくは、1〜80、特に好ましくは8〜26
の範囲である。
原子に対するケイ素原子の原子比で、S1/Ti=0〜
50.好ましくは、1〜80、特に好ましくは8〜26
の範囲である。
また、有機マグネシウム化合物の使用態は、チタン原子
とケイ素原子の和とマグネシウム原子の原子比で、T
i +S i /Mg = 0.1〜10.好ましくは
0.2〜6.0、特に好ましくは0.5〜2.0の範囲
である。
とケイ素原子の和とマグネシウム原子の原子比で、T
i +S i /Mg = 0.1〜10.好ましくは
0.2〜6.0、特に好ましくは0.5〜2.0の範囲
である。
シリカゲルの使用ユは固体生成物中におけるそのmtが
、20〜90重量%、好ましくは80〜757を量%の
範囲である。
、20〜90重量%、好ましくは80〜757を量%の
範囲である。
還元反応で得られる固体生成物は、固液分離し、ヘキサ
ン、ヘプタン等の不活性炭化水素溶媒で数回洗浄を汚な
う。
ン、ヘプタン等の不活性炭化水素溶媒で数回洗浄を汚な
う。
このようにして得られた固体生成物は三価のチタン、マ
グネシウムおよびハイドロカルビルオキシ基を含有し、
一般に非品性もしくは極めて弱い結晶性を示す。触媒性
能の点から、特に非品性の構造が好ましい。
グネシウムおよびハイドロカルビルオキシ基を含有し、
一般に非品性もしくは極めて弱い結晶性を示す。触媒性
能の点から、特に非品性の構造が好ましい。
次に、上記方法で得られた固体生成物は、エーテル化合
物と四塩化チタンとの混合物で処理を行なう。エーテル
化合物と四塩化チタンとの混合物による固体生成物の処
理は、スラリー状態で行なうのが好ましい。
物と四塩化チタンとの混合物で処理を行なう。エーテル
化合物と四塩化チタンとの混合物による固体生成物の処
理は、スラリー状態で行なうのが好ましい。
スラリー化するのに用いる溶媒としては、ペンタン、ヘ
キサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族炭化水
素、トルエン、キシレン答の芳香族炭化水素、デカリン
、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の1111
3式炭化水素、ジクロルエタン、トリクロルエタン、ト
リクロルエチレン、モノクロルベンゼン、ジクロルベン
ゼン、トリクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素が挙
げられる。
キサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族炭化水
素、トルエン、キシレン答の芳香族炭化水素、デカリン
、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の1111
3式炭化水素、ジクロルエタン、トリクロルエタン、ト
リクロルエチレン、モノクロルベンゼン、ジクロルベン
ゼン、トリクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素が挙
げられる。
スラリー濃度は0.05〜0.5f固体/d溶媒、特に
0.1〜0.8F固体/−溶媒が好ましい。
0.1〜0.8F固体/−溶媒が好ましい。
反応温度は80〜150℃、好ましくは45〜120’
C,特に好ましくは60〜100″Cである。
C,特に好ましくは60〜100″Cである。
反応時間は特に制限は無いが、通常80分から6時間が
好適である。
好適である。
固体生成物、エーテル化合物および四塩化チタンを添加
する方法としては、固体生成物にエーテル化合物および
四塩化チタンを加える方法、逆に、エーテル化合物およ
び四塩化チタンの溶液中に固体生成物を加える方法いず
れの方法でもよい。
する方法としては、固体生成物にエーテル化合物および
四塩化チタンを加える方法、逆に、エーテル化合物およ
び四塩化チタンの溶液中に固体生成物を加える方法いず
れの方法でもよい。
固体生成物にエーテル化合物および四塩化チタンを加え
る方法においては、予めエーテルと四塩化チタンを混合
した後奢加える方法、あるいはエーテル化合物と四塩化
チタンを同時に添加する方法が特に好ましい。
る方法においては、予めエーテルと四塩化チタンを混合
した後奢加える方法、あるいはエーテル化合物と四塩化
チタンを同時に添加する方法が特に好ましい。
固体生成物のエーテル化合物および四塩化チタンによる
反応は2回以と繰返し行なってもよい。
反応は2回以と繰返し行なってもよい。
エーテル化合物の使用量は、固体生成物中に含有される
チタン原子1モルに対し、0.1〜100モル、好まし
くは0.6〜50モル、特に好ましくは1〜20モルで
ある。
チタン原子1モルに対し、0.1〜100モル、好まし
くは0.6〜50モル、特に好ましくは1〜20モルで
ある。
四塩化チタンの添加量は、固体生成物中に含有されるチ
タン原子1モルに対し〜1oooモル、好ましくは8〜
600モル、特に好ましくは10〜800モルである。
タン原子1モルに対し〜1oooモル、好ましくは8〜
600モル、特に好ましくは10〜800モルである。
また、エーテル化合物1モルに対する四塩化チタンの添
加量は〜100モル、 好ましくは1.sニーysモル、特に好ましくは2〜5
0モルである。
加量は〜100モル、 好ましくは1.sニーysモル、特に好ましくは2〜5
0モルである。
上記方法で得られた三価のチタン化合物含有固体触媒成
分は、固液分離したのち、ヘキサン、ヘプタン等の不活
性炭化水素溶媒で数回洗浄したのち重合に用いる。
分は、固液分離したのち、ヘキサン、ヘプタン等の不活
性炭化水素溶媒で数回洗浄したのち重合に用いる。
固a分a後、多量のモノクロルベンゼン等のハロゲン化
炭化水素溶媒或いはトルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素等を用いて50〜120°Cの温度で1回以上洗浄
し、更にへ専サン等の詣防族炭化水素溶媒で数回洗浄を
繰り返したのち重合に用いてもよい。
炭化水素溶媒或いはトルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素等を用いて50〜120°Cの温度で1回以上洗浄
し、更にへ専サン等の詣防族炭化水素溶媒で数回洗浄を
繰り返したのち重合に用いてもよい。
本発明方法の実施に際し、オレフィン重合を行なうに先
立って、公知の方法により固体触媒成分囚は、周期律表
I−1族金属の有機金属化合物の共存下、少量のすレフ
イン(たとえば、エチレン、Ca〜CIOのα−オレフ
ィンなど)の予備重合もしくは予備共重合処理を行なう
こともできる。重合温度は20から100℃、好ましく
は20〜50℃の範囲、予備重合法は固体触媒成分囚1
g当り0.05〜toor、特に0.1〜20gの範囲
で行なうことが好ましい。
立って、公知の方法により固体触媒成分囚は、周期律表
I−1族金属の有機金属化合物の共存下、少量のすレフ
イン(たとえば、エチレン、Ca〜CIOのα−オレフ
ィンなど)の予備重合もしくは予備共重合処理を行なう
こともできる。重合温度は20から100℃、好ましく
は20〜50℃の範囲、予備重合法は固体触媒成分囚1
g当り0.05〜toor、特に0.1〜20gの範囲
で行なうことが好ましい。
(2)有様アルミニウム化合物B)
本発明において、上述した固体触媒成分A)と組合せて
使用する有償アル電ニウム化合物B)l、t、少なくと
も分子内に1個のAA−炭素結合を有するものである。
使用する有償アル電ニウム化合物B)l、t、少なくと
も分子内に1個のAA−炭素結合を有するものである。
代表的なものを一般式で下記に示す。
R、AAYa−。
R111R14Az、0.AzRtsRtscこで、R
121s、 R1415オヨヒR115は炭素数が1〜
8個の炭化水素基、Yはハロゲン、水素またはアルコキ
シ基を表わす。rは2≦r <8で表わされる数字であ
る。
121s、 R1415オヨヒR115は炭素数が1〜
8個の炭化水素基、Yはハロゲン、水素またはアルコキ
シ基を表わす。rは2≦r <8で表わされる数字であ
る。
ある。
有機アルミニウム化合物の具体例としては、トリエチル
アルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキ
シルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム、ジェ
チルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニ
ウムハイドライド等のジアルキルアルミニウム八イドラ
イド、ジエチルアル疋ニウムクロライド等のジアルキル
アルミニウムパライト、トリアルキルアルミニウムとジ
アルキルアルミニウムハライドの混合物、テトラエチル
ジアルモキサン、テトラブチルジアルモ専サン等のアル
キルアルモキサンが例示できる。
アルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキ
シルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム、ジェ
チルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニ
ウムハイドライド等のジアルキルアルミニウム八イドラ
イド、ジエチルアル疋ニウムクロライド等のジアルキル
アルミニウムパライト、トリアルキルアルミニウムとジ
アルキルアルミニウムハライドの混合物、テトラエチル
ジアルモキサン、テトラブチルジアルモ専サン等のアル
キルアルモキサンが例示できる。
これら有機アルミニウム化合物のうち、トリアルキルア
ルミニウム、トリアルキルアルミニウムとジアルキルア
ルミニウムハライドの混合物、アルキルアルモキサンが
好ましく、とりわけトリエチルアルミニウム、トリイソ
ブチルアルミニウム、トリエチルアルミニウムとジエチ
ルアル電ニウムクロリドの混合物およびテトラエチルジ
アルモキサンが好ましい。
ルミニウム、トリアルキルアルミニウムとジアルキルア
ルミニウムハライドの混合物、アルキルアルモキサンが
好ましく、とりわけトリエチルアルミニウム、トリイソ
ブチルアルミニウム、トリエチルアルミニウムとジエチ
ルアル電ニウムクロリドの混合物およびテトラエチルジ
アルモキサンが好ましい。
有機アル2ニウム化合物の使用量は、固体触媒中のチタ
ン原子1モル当り1〜1G00モルのごとく広範囲に選
ぶことができるが、特に6〜600モルの範囲が好まし
い。
ン原子1モル当り1〜1G00モルのごとく広範囲に選
ぶことができるが、特に6〜600モルの範囲が好まし
い。
(社) オレフィンの重合方法
各触媒成分を重合槽に供給する方法としては、窒素、ア
ルゴン等の不活性ガス中で水分のない状態で供給する以
外は、特に制限すべき条件はない。
ルゴン等の不活性ガス中で水分のない状態で供給する以
外は、特に制限すべき条件はない。
触媒成分A) 、 B)は個別に供給してもいいし、あ
らかじめ接触させて供給してもよい。
らかじめ接触させて供給してもよい。
t1覧シ80〜200℃までにわたって実施することが
できる。
できる。
重合圧力に関しては特に制限はないが、工業的かつ経済
的であるという点で、8〜100気圧程度気圧力が望ま
しい。重合法は連続式でもバッチ式でもいずれも可能で
ある。また、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、
ヘプタン、オクタンの如き不活性炭化水素溶媒によるス
ラリー重合あるいは無溶媒による液相重合、または気相
重合も可能である。
的であるという点で、8〜100気圧程度気圧力が望ま
しい。重合法は連続式でもバッチ式でもいずれも可能で
ある。また、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、
ヘプタン、オクタンの如き不活性炭化水素溶媒によるス
ラリー重合あるいは無溶媒による液相重合、または気相
重合も可能である。
次に本発明に適用できるオレフィンは、炭素数が2以上
のものであり、具体例としては、エチレン、プロピレン
、ブテン−1、ペンテン−1、ヘキセン−1,8−メチ
ル−ペンテン−1,4−メチル−ペンテン−1などがあ
げられるが、本発明は上記化合物に限定されるべき性質
のものではない。
のものであり、具体例としては、エチレン、プロピレン
、ブテン−1、ペンテン−1、ヘキセン−1,8−メチ
ル−ペンテン−1,4−メチル−ペンテン−1などがあ
げられるが、本発明は上記化合物に限定されるべき性質
のものではない。
本発明による重合は、単独重合でも共重合でもいずれも
可能である。共重合に際しては22!!類、又はそれ以
との種類のオレフィンを混合した状態で接触させること
により、共重合体を得ることができる。
可能である。共重合に際しては22!!類、又はそれ以
との種類のオレフィンを混合した状態で接触させること
により、共重合体を得ることができる。
また、重合を2段以上にして行なうヘテロブロック共重
合も容易に行なうことができる。
合も容易に行なうことができる。
重合体の分子量を調節するために、水素等の連鎖移動剤
を添加することも可能である。
を添加することも可能である。
また、重合体の立体規則性、分子量を改良する目的で重
合系に公知の電子供与性化合物を添加するξとも可能で
ある。かかる電子供与性化合物として代表的な化合物を
例示すると、メタクリル酸メチル、トルイル酸メチル等
の有機カルボン酸エステル、トリフェニルホスファイト
等の亜リン酸エステル、テトラエトキシレラン、フェニ
ルトリエト卑シレラν等のケイ酸エステル等である。
合系に公知の電子供与性化合物を添加するξとも可能で
ある。かかる電子供与性化合物として代表的な化合物を
例示すると、メタクリル酸メチル、トルイル酸メチル等
の有機カルボン酸エステル、トリフェニルホスファイト
等の亜リン酸エステル、テトラエトキシレラン、フェニ
ルトリエト卑シレラν等のケイ酸エステル等である。
〈実施例〉
以下、実施例及び比較例によって本発明をさらに詳細に
説明する。
説明する。
尚、重合体粉末の粒度分布測定は、次の方法により行っ
た。
た。
即ち、生成した重合体粉末を、目開き0.125〜1.
68wのJIS標m網を用いて分級した。
68wのJIS標m網を用いて分級した。
次に各14とに残留するポリマー重量を計り、全ポリマ
ーMmに対するその比率を求め小粒径側から累績した。
ーMmに対するその比率を求め小粒径側から累績した。
実施例1
(1) 有機マグネシウム化合物の合成攪拌機、還流
冷却器、滴下ロート及び温度針を備えたはのフラスコを
アルゴンで置換したのち、グリニヤール開削状マグネシ
ウム82、Ofを投入した。滴下ロートにn−ブチルク
ロリド120gとジ−n−ブチルエーテル500−を仕
込み、フラスコ中のマグネシウムに約80drli下し
、反応を開始させた。
冷却器、滴下ロート及び温度針を備えたはのフラスコを
アルゴンで置換したのち、グリニヤール開削状マグネシ
ウム82、Ofを投入した。滴下ロートにn−ブチルク
ロリド120gとジ−n−ブチルエーテル500−を仕
込み、フラスコ中のマグネシウムに約80drli下し
、反応を開始させた。
反応開始後、60℃で4時間にわたって滴下を続け、滴
下終了後、60″Cでさらに1時間反応を続けた。その
後、反応溶液を20°Cに冷却し、固形分を枦別した。
下終了後、60″Cでさらに1時間反応を続けた。その
後、反応溶液を20°Cに冷却し、固形分を枦別した。
このジ−n−ブチルエーテル中のn−ブチルマグネシウ
ムクロリドを1規定硫酸で加水分解し規定水酸化ナトリ
ウ−ム水溶液で逆滴定して濃度を決定したところ(指示
薬としてフェノールフタレインを使用)!1度は−2,
08モル/lであった。
ムクロリドを1規定硫酸で加水分解し規定水酸化ナトリ
ウ−ム水溶液で逆滴定して濃度を決定したところ(指示
薬としてフェノールフタレインを使用)!1度は−2,
08モル/lであった。
(2)固体生成物の合成
攪拌機、滴下ロートを備えた内容積800−のフラスコ
をアルゴンで置換した後、富士f’ヒソン化学C株)製
952グレードシリカゲル(ポロシメーター測定の結果
、細孔半径75.20.000 Af!Ilにおける細
孔容量(以後dvp(sg/g)と略す)がdvp g
= 0.94d/9であった。)をアルゴン雰囲気下8
00℃で6時間か焼した色の20gと、n−ブチルエー
テル100−を投入し、撹拌下に(1)で合成した有機
マグネシウム化合物56mをフラスコ内の温度を80°
Cに保ちながら滴下ロートから1時間かけて滴下し、さ
らに同温度で1時間処理を行なった。その後れ一ブチル
エーテル100−で1回、n−へブタン100−で2回
洗浄を繰り返したのち、減圧乾燥してシリカゲルの有機
マグネシウム処理物25.5fを得た。
をアルゴンで置換した後、富士f’ヒソン化学C株)製
952グレードシリカゲル(ポロシメーター測定の結果
、細孔半径75.20.000 Af!Ilにおける細
孔容量(以後dvp(sg/g)と略す)がdvp g
= 0.94d/9であった。)をアルゴン雰囲気下8
00℃で6時間か焼した色の20gと、n−ブチルエー
テル100−を投入し、撹拌下に(1)で合成した有機
マグネシウム化合物56mをフラスコ内の温度を80°
Cに保ちながら滴下ロートから1時間かけて滴下し、さ
らに同温度で1時間処理を行なった。その後れ一ブチル
エーテル100−で1回、n−へブタン100−で2回
洗浄を繰り返したのち、減圧乾燥してシリカゲルの有機
マグネシウム処理物25.5fを得た。
次に攪拌機、滴下ロートを備えた内容積800mjのフ
ラスコをチッ素で置換したのち、先に得られたシリカゲ
ルの有機マグネシウム処理物28.01とn−へブタン
120−、テトラブトキレチタン2G++d、テトラブ
トキレチン8.9−を投入し20℃で80分間攪拌した
。更に(1)″′Q合成した有機マグネシウム化合物1
1.4−をフラスコ内の温度を6℃に保ちながら滴下ロ
ートから80分かけて滴下した。滴下終了後、6°Cで
80分間、さらに20℃で1時間攪拌したのち室温に静
置して固液分離した。更に、n−へブタン12〇−で3
回洗浄を繰り返したのち、減圧乾燥して黒茶色の固体生
成物を得た。
ラスコをチッ素で置換したのち、先に得られたシリカゲ
ルの有機マグネシウム処理物28.01とn−へブタン
120−、テトラブトキレチタン2G++d、テトラブ
トキレチン8.9−を投入し20℃で80分間攪拌した
。更に(1)″′Q合成した有機マグネシウム化合物1
1.4−をフラスコ内の温度を6℃に保ちながら滴下ロ
ートから80分かけて滴下した。滴下終了後、6°Cで
80分間、さらに20℃で1時間攪拌したのち室温に静
置して固液分離した。更に、n−へブタン12〇−で3
回洗浄を繰り返したのち、減圧乾燥して黒茶色の固体生
成物を得た。
(8) 固体触媒成分の合成
内容9100dのフラスコをチッ素で置換したのち、と
記(2)で調製した固体生成物10.Ofとn−へブタ
ン50−をフラスコに投入し、フラスコ内の温度を80
℃に保った。
記(2)で調製した固体生成物10.Ofとn−へブタ
ン50−をフラスコに投入し、フラスコ内の温度を80
℃に保った。
次にn−ブチルエーテル1. Odと四塩化チタン20
wtの混合液を添加した後、80℃で1時間反応を行な
った。
wtの混合液を添加した後、80℃で1時間反応を行な
った。
反応後静置し、固液分離し、更に80℃でn−へブタン
Sodで4回洗浄を繰り返した。
Sodで4回洗浄を繰り返した。
減圧乾燥後、赤紫色の固体12.Ofを得た。
この固体触媒II中にはチタン原子が0.8ミリモル含
有されていた。
有されていた。
(4) エチレンの重合
0.4Lの電磁誘導攪拌機付オートクレーブをアルゴン
で充分置換した後、n−へブタン200−、トリエチル
アルミニウム1. Ornno 1を加えた。60°C
まで昇温した後、水素を全圧が8匂/−になるまで加え
、次にエチレンを全圧が9に#/−になるまで加えた。
で充分置換した後、n−へブタン200−、トリエチル
アルミニウム1. Ornno 1を加えた。60°C
まで昇温した後、水素を全圧が8匂/−になるまで加え
、次にエチレンを全圧が9に#/−になるまで加えた。
上記(8)で合成した固体触媒成分11.lvを加えて
重合を開始した。その後、エチレンを連続して供給しつ
つ全圧を一定に保ちなから60’Oで1時間重合を行な
った。
重合を開始した。その後、エチレンを連続して供給しつ
つ全圧を一定に保ちなから60’Oで1時間重合を行な
った。
重合終了後、生成した重合体をf5過し、60℃にて減
圧乾燥した。重合体の収量は21,8fであった。この
場合の触媒活性は50,000g重合体/f遷移全遷移
hrであった。この重合体のかさ密度は0.89N/−
であり、重合体粉末の形状はほぼ球形で、表−1に示す
様に粒度分布の狭い流動性の良好なものであった。また
、粒子径260μm以下の微細粒子は0.8 W 1%
とごく少量であった。
圧乾燥した。重合体の収量は21,8fであった。この
場合の触媒活性は50,000g重合体/f遷移全遷移
hrであった。この重合体のかさ密度は0.89N/−
であり、重合体粉末の形状はほぼ球形で、表−1に示す
様に粒度分布の狭い流動性の良好なものであった。また
、粒子径260μm以下の微細粒子は0.8 W 1%
とごく少量であった。
比較例1
(1] 固体生成物の合成
攪拌機、滴下ロートを備えた内容積500−のフラスコ
をアルゴンで置換したのち、テトラブトキシチタン29
.1−とテトラエトキシシラン56.9−とn−へブタ
ン180−をフラスコに投入し、均一溶液とした。次に
実施例1(1)で合成した有機マグネシウム化合物17
0−をフラスコ内の温度を5℃に保ちながら滴下ロート
から2時間かけて徐々に滴下し、還元反応を行なった。
をアルゴンで置換したのち、テトラブトキシチタン29
.1−とテトラエトキシシラン56.9−とn−へブタ
ン180−をフラスコに投入し、均一溶液とした。次に
実施例1(1)で合成した有機マグネシウム化合物17
0−をフラスコ内の温度を5℃に保ちながら滴下ロート
から2時間かけて徐々に滴下し、還元反応を行なった。
滴下終了後、20゛Cでさらに1時間攪拌したのち20
℃に静置して固液分離した、更に、n−へブタン800
−で8回洗浄を繰り返したのち、減圧乾燥して黒系色の
固体生成物を得た。
℃に静置して固液分離した、更に、n−へブタン800
−で8回洗浄を繰り返したのち、減圧乾燥して黒系色の
固体生成物を得た。
(2) 固触媒成分の合成
内容積100−のフラスコをアルゴンで置換したのら上
記(2)で調製した固体生成物9.61とn−へブタン
50−をフラスコに投入し、フラスコ内の温度を80℃
に保った。
記(2)で調製した固体生成物9.61とn−へブタン
50−をフラスコに投入し、フラスコ内の温度を80℃
に保った。
次にn−ブチルエーテル8.1−とv!;i塩化チタン
66−の混合物を添加した後、80℃で1時間反応を行
なった。その後20℃に静置して、固液分離したのち、
n−へブタン5〇−で4回洗浄を繰り返したのち減圧乾
燥して紫色の固体触媒成分を得た。
66−の混合物を添加した後、80℃で1時間反応を行
なった。その後20℃に静置して、固液分離したのち、
n−へブタン5〇−で4回洗浄を繰り返したのち減圧乾
燥して紫色の固体触媒成分を得た。
この固体触媒11中にはチタン原子が2.821モル含
有されていた。
有されていた。
(8) エチレンの重合
上記(2)で合成した固体2.4岬を固体触媒成分とし
て使用する以外は実施例1(4)と同様にエチレンの重
合を行ない、25.2Nの重合体を得た。この場合の触
媒活性は96.0OOf重合体/f遷移金属、hrであ
った。この重合体のかさ密度は0.81f/jであり、
表−1に示す様に重合体粉末のかき密度、流動性の点で
不満足なものであった。また、粒子径zsosm以下の
微細粒子は1.7 w 1%あり、実施例1に比べて多
かった。
て使用する以外は実施例1(4)と同様にエチレンの重
合を行ない、25.2Nの重合体を得た。この場合の触
媒活性は96.0OOf重合体/f遷移金属、hrであ
った。この重合体のかさ密度は0.81f/jであり、
表−1に示す様に重合体粉末のかき密度、流動性の点で
不満足なものであった。また、粒子径zsosm以下の
微細粒子は1.7 w 1%あり、実施例1に比べて多
かった。
比較例2
実施例1(2)の固体生成物の合成において、シリカゲ
ルとして富士デビソン化学(株)製スーパーマイクロビ
ーズシリカゲル4Bタイプ(dvp−0,1lsd/
I )を100°Cで真空乾燥したものを用いた以外は
実施例1と同様な方法で固体触媒成分を合成した。この
固体部B11flにはチタン原子が1.Otリモル含有
されていた。
ルとして富士デビソン化学(株)製スーパーマイクロビ
ーズシリカゲル4Bタイプ(dvp−0,1lsd/
I )を100°Cで真空乾燥したものを用いた以外は
実施例1と同様な方法で固体触媒成分を合成した。この
固体部B11flにはチタン原子が1.Otリモル含有
されていた。
と記固体25.1 qを固体触媒成分として使用する以
外は実施@1 (4)と同様にエチレンの重合を行ない
6.Ofの重合体を得た。この場合の触媒活性は12,
6oost合体/I遷移金属、hrであった。この重合
体のかさ密度は0.aof/−であり、表−1に示す様
に重合体粉末のかさ密度、流動性の点で不満足なもので
あった。
外は実施@1 (4)と同様にエチレンの重合を行ない
6.Ofの重合体を得た。この場合の触媒活性は12,
6oost合体/I遷移金属、hrであった。この重合
体のかさ密度は0.aof/−であり、表−1に示す様
に重合体粉末のかさ密度、流動性の点で不満足なもので
あった。
比較例8
実施例1(2)の固体生成物の合成において、シリカゲ
ルとして西尾工業(株)製ガスクロマトグラフィーカラ
ムバッキング用シリカゲルAdsorb −SIL
(dvp −0,04dl l )を100°Cで真空
乾燥したものを用いた以外は、実施例1と同様な方法で
固体触媒成分を合成した。
ルとして西尾工業(株)製ガスクロマトグラフィーカラ
ムバッキング用シリカゲルAdsorb −SIL
(dvp −0,04dl l )を100°Cで真空
乾燥したものを用いた以外は、実施例1と同様な方法で
固体触媒成分を合成した。
この固体触媒1gにはチタン原子が1.0ミリモル含有
されていた。
されていた。
上記固体26.1 weを固体触媒成分として使用する
以外は実施例1(4)と同様にエチレンの重合を行なっ
たが、木跡量の重合体しか得られなかった。
以外は実施例1(4)と同様にエチレンの重合を行なっ
たが、木跡量の重合体しか得られなかった。
実施例2
0.41の電磁誘導攪拌機付オートクレーブをアルゴン
で充分置換した後、ブタン901、トリエチルアルミニ
ウム1.0 mmol、ブテン−1101を加えた。6
0℃まで昇温した後、水素を全圧が9Kt/iになるま
で加え、次にエチレンを全圧が15匂/−になるまで加
えた。実施例1(8)で合成した固体触媒成分9.0岬
を加えて重合を開始した。その後エチレンを連続して供
給しつつ全圧を一定に保ちながら60°Cで1時間エチ
レンとブテン−1の共重合を行なった。重合終了後、生
成した重合体を一過し、60℃にて減圧乾燥した。重合
体の我社は19.41であった。この場合の触媒活性は
56,701’を合体/I遷移金属、hrであった。こ
の共重合体中には炭素数1000個当り17.4個のエ
チル基が存在しており、MIは1.20f/10分、か
き密度は0.88f/−であり、重合体粉本の形状はほ
ぼ球形で粒度分布の狭い流動性良好なものであった。
で充分置換した後、ブタン901、トリエチルアルミニ
ウム1.0 mmol、ブテン−1101を加えた。6
0℃まで昇温した後、水素を全圧が9Kt/iになるま
で加え、次にエチレンを全圧が15匂/−になるまで加
えた。実施例1(8)で合成した固体触媒成分9.0岬
を加えて重合を開始した。その後エチレンを連続して供
給しつつ全圧を一定に保ちながら60°Cで1時間エチ
レンとブテン−1の共重合を行なった。重合終了後、生
成した重合体を一過し、60℃にて減圧乾燥した。重合
体の我社は19.41であった。この場合の触媒活性は
56,701’を合体/I遷移金属、hrであった。こ
の共重合体中には炭素数1000個当り17.4個のエ
チル基が存在しており、MIは1.20f/10分、か
き密度は0.88f/−であり、重合体粉本の形状はほ
ぼ球形で粒度分布の狭い流動性良好なものであった。
比較例4
比較例!(2)で合成した固体2.8−yを固体触媒成
分として使用する以外は、実施例2と同様にエチレンと
ブテン−1の共重合を行な、い、81Fの重合体を得た
。この場合の触媒活性は124.00Of重合体/g遷
移金属、hrであった。この共重合体中には炭素数10
00個当り18.441のエチル基が存在しており、M
I lio、5 N/10分、かき密度は0.82f
/−であり、重合体粉末のかさ密度、流動性の点で不満
足なものであった。
分として使用する以外は、実施例2と同様にエチレンと
ブテン−1の共重合を行な、い、81Fの重合体を得た
。この場合の触媒活性は124.00Of重合体/g遷
移金属、hrであった。この共重合体中には炭素数10
00個当り18.441のエチル基が存在しており、M
I lio、5 N/10分、かき密度は0.82f
/−であり、重合体粉末のかさ密度、流動性の点で不満
足なものであった。
実施例8
実施例1(2)の固体生成物の合成において、シリカゲ
ルとしてdvp W 0.85 ml/ I 、平均細
孔半径260人のシリカゲルを100℃で真空乾燥した
ものを用いた以外は、実施例1と同様な方法で固体触媒
成分を合成した。この固体触rslfにはチタン原子が
0.61リモル含有されていた。
ルとしてdvp W 0.85 ml/ I 、平均細
孔半径260人のシリカゲルを100℃で真空乾燥した
ものを用いた以外は、実施例1と同様な方法で固体触媒
成分を合成した。この固体触rslfにはチタン原子が
0.61リモル含有されていた。
上記固体20.24を固体触媒成分として使用する以外
は、実施例1(4)と同様にエチレンの1合を行ない、
29.81の重合体を得た。
は、実施例1(4)と同様にエチレンの1合を行ない、
29.81の重合体を得た。
ξの場合の触媒活性は60,400 IN合体/f遷移
金属%hrであった。この重合体のかさ密度は0.88
1/−であり、重合体粉末の形状はほぼ球形で、粒度分
布の狭い流動性の良好なものであった。
金属%hrであった。この重合体のかさ密度は0.88
1/−であり、重合体粉末の形状はほぼ球形で、粒度分
布の狭い流動性の良好なものであった。
比較例6
実施例1(幻の固体生成物の合成において・シリカゲル
としてdvp = 0.64 dl l 、平均細孔半
径90人のシリカゲルを100℃で真空乾燥したものを
用いた以外は、実施例1と同様な方法で固体触媒成分を
合成した。この固体触媒11にはチタン原子が0.6t
リモル含有されていた。
としてdvp = 0.64 dl l 、平均細孔半
径90人のシリカゲルを100℃で真空乾燥したものを
用いた以外は、実施例1と同様な方法で固体触媒成分を
合成した。この固体触媒11にはチタン原子が0.6t
リモル含有されていた。
上記固体24.8qを固体触媒成分として使用する以外
は、実施例1(4)と同様にエチレンの重合を行ない、
29.2 tの重合体を得た。
は、実施例1(4)と同様にエチレンの重合を行ない、
29.2 tの重合体を得た。
この場合の触媒活性は40.0001重合体/l遷移金
真、hr であった。この重合体のかさ密度は0.84
17−であり、重合体粉末のかき密度、流動性の点で不
満足なものであった。
真、hr であった。この重合体のかさ密度は0.84
17−であり、重合体粉末のかき密度、流動性の点で不
満足なものであった。
実施例6
(1) 固体生成物の合成
攪拌機、滴下ロートを備えた内容8I200−のフラス
コをアルゴンで置換した後、富士テヒソン化学(株)1
1952グレードシリカゲル(ポロシメーター測定の結
果、細孔半径75〜go、oooA間における細孔容量
(以後dvp (−ン’y >と略す)がdvp =
0.94 w4/IIであった。)をアルゴン雰囲気下
800°Cで6時間か焼したもの10fとn−ブチルエ
ーテル50−を投入し、攪拌下に実施例1(1)で合成
した有機マグネシウム化合物28mをフラスコ内の温度
を80°Cに保ちながら滴下ロートから1時間かけて滴
下し、さらに同温度で1時間処理を行なった。その後n
−ブチルエーテル100−で1回、n−へブタン10〇
−で2回洗浄を繰り返したのち、減圧乾燥してシリカゲ
ルの有機マグネシウム処理物18.01を得た。次に攪
拌機、滴下ロートを備えた内容積800−のフラスコを
アルゴンで置換したのち、先に得られたシリカゲルの有
機マグネシウム処理物10.Ofとn−へブタン50−
、テトラブトキシチタン4,8−を投込し、20℃で8
0分間攪拌した。次に、実施例1(1)で合成した有機
マグネシウム化合物6.8−をフラスコ内の温度を5°
Cに保ちながら滴下ロートから80分かけて滴下した。
コをアルゴンで置換した後、富士テヒソン化学(株)1
1952グレードシリカゲル(ポロシメーター測定の結
果、細孔半径75〜go、oooA間における細孔容量
(以後dvp (−ン’y >と略す)がdvp =
0.94 w4/IIであった。)をアルゴン雰囲気下
800°Cで6時間か焼したもの10fとn−ブチルエ
ーテル50−を投入し、攪拌下に実施例1(1)で合成
した有機マグネシウム化合物28mをフラスコ内の温度
を80°Cに保ちながら滴下ロートから1時間かけて滴
下し、さらに同温度で1時間処理を行なった。その後n
−ブチルエーテル100−で1回、n−へブタン10〇
−で2回洗浄を繰り返したのち、減圧乾燥してシリカゲ
ルの有機マグネシウム処理物18.01を得た。次に攪
拌機、滴下ロートを備えた内容積800−のフラスコを
アルゴンで置換したのち、先に得られたシリカゲルの有
機マグネシウム処理物10.Ofとn−へブタン50−
、テトラブトキシチタン4,8−を投込し、20℃で8
0分間攪拌した。次に、実施例1(1)で合成した有機
マグネシウム化合物6.8−をフラスコ内の温度を5°
Cに保ちながら滴下ロートから80分かけて滴下した。
滴下終了後、6°Cで80分間、さらに20°Cで1時
間攪拌したのち室温に静置して固液分離した。更に、n
−へブタン12G−で8回洗浄を繰り返したのち、減圧
乾燥して黒茶色の固体生成物を得た。
間攪拌したのち室温に静置して固液分離した。更に、n
−へブタン12G−で8回洗浄を繰り返したのち、減圧
乾燥して黒茶色の固体生成物を得た。
(2) 固体触媒成分の合成
内容810G−のフラスコをアルゴンで置換したのち、
上記(2)で調製した固体生成物io、oyとn−へブ
タン60−をフラスコに投入し、フラスコ内の温度を8
0℃に保った。
上記(2)で調製した固体生成物io、oyとn−へブ
タン60−をフラスコに投入し、フラスコ内の温度を8
0℃に保った。
次に、n−ブチルエーテル1. Odと四塩化チタン2
0−の混合液を添加した後、80℃で1時間反応を行な
った。
0−の混合液を添加した後、80℃で1時間反応を行な
った。
反応後静置し、固液分離し、更に80℃でn−へブタン
60−で4回洗浄を繰り返した。
60−で4回洗浄を繰り返した。
減圧乾燥後、赤紫色の固体10.2fを得た。
この固体触媒ll中にはチタン原子が、o、satリモ
ル含有されていた。
ル含有されていた。
(8) エチレンの重合
と記(2)で合成した固体15.2qを固体触媒成分と
して使用する以外は実施例1(4)と同様にエチレンの
重合を行ない、24.8Iの重合体を得た。この場合の
触媒活性は88.000 f重合体/l遷移金属、h
rであった。この重合体のかさ密度は0.4(1/−で
あり、重合体粉末の形状はほぼ球形で表−1に示す様甚
こ粒度分布の狭い流動性の良好なものであった。
して使用する以外は実施例1(4)と同様にエチレンの
重合を行ない、24.8Iの重合体を得た。この場合の
触媒活性は88.000 f重合体/l遷移金属、h
rであった。この重合体のかさ密度は0.4(1/−で
あり、重合体粉末の形状はほぼ球形で表−1に示す様甚
こ粒度分布の狭い流動性の良好なものであった。
また粒子径260μm以下の微細粒子は0.8wt%と
ごく少量であった。
ごく少量であった。
比較例6
(1)固体生成物の合成
攪拌機、滴下ロートを備えた内容[600−のフラスコ
をアルゴンで置換したのち、テトラブトキシチタン84
−とn−へブタン210−をフラスコに投入し、均一溶
液とした。次に実施例1(1)で合成した有機マグネシ
ウム化合物60−をフラスコ内の温度を5°Cに保ちな
がら滴下ロートから2時間かけて徐々に滴下し、還元反
応を行なった。滴下終了後、室温でさらに1時間攪拌し
たのち室温に静置して固液分離した。更に、n−へブタ
ン800−で8回洗浄を繰り返したのち、減圧乾燥して
黒茶色の固体生成物を得た。
をアルゴンで置換したのち、テトラブトキシチタン84
−とn−へブタン210−をフラスコに投入し、均一溶
液とした。次に実施例1(1)で合成した有機マグネシ
ウム化合物60−をフラスコ内の温度を5°Cに保ちな
がら滴下ロートから2時間かけて徐々に滴下し、還元反
応を行なった。滴下終了後、室温でさらに1時間攪拌し
たのち室温に静置して固液分離した。更に、n−へブタ
ン800−で8回洗浄を繰り返したのち、減圧乾燥して
黒茶色の固体生成物を得た。
(2) 固触媒成分の合成
内容量 100−のフラスコをアlレゴンで置換したの
ちと記(1)で調製した固体生成物9.81とn−へブ
タン89−をフラスコに投入し、フラスコ内の温度を8
0℃に保った。
ちと記(1)で調製した固体生成物9.81とn−へブ
タン89−をフラスコに投入し、フラスコ内の温度を8
0℃に保った。
次にn−ブチルエーテル42−と四塩化チタン50−を
添加し、80″Cで1時間反応を行なった。
添加し、80″Cで1時間反応を行なった。
20℃に静置し、固液分離したのち、n−へブタン60
−で4回洗浄を繰り返したのち減圧乾燥して紫色の固体
触媒成分を得た。
−で4回洗浄を繰り返したのち減圧乾燥して紫色の固体
触媒成分を得た。
この固体触媒1g中にはチタン原子が8.8ミリモル含
有されていた。
有されていた。
(8) エチレンの重合
上記(2)で合成した固体8.2岬を固体触媒成分とし
て使用する以外は実施例1(4)と同様にエチレンの重
合を行ない27.5 flの重合体を得た。この場合の
触媒活性は46.0001T1合体/f遷移金属、hr
であったつこの重合体のかさ密度は0.81f/dであ
り、表−i+c示す様に重合体粉末のかさ密度、流動性
の点で不満足なものであった。また、粒子径250μm
以下の微細粒子は8.6wt%であり、実施例6にくら
べて多かった。
て使用する以外は実施例1(4)と同様にエチレンの重
合を行ない27.5 flの重合体を得た。この場合の
触媒活性は46.0001T1合体/f遷移金属、hr
であったつこの重合体のかさ密度は0.81f/dであ
り、表−i+c示す様に重合体粉末のかさ密度、流動性
の点で不満足なものであった。また、粒子径250μm
以下の微細粒子は8.6wt%であり、実施例6にくら
べて多かった。
〈発明の効果〉
本発明のオレフィンの重合方法では、遷移金属当りの触
媒活性が高いことにより、生成する重合体中の触媒残存
量が少なく、急謀除去工程を省略できる。また、重合時
に重合槽への付着が少なく、スラリー重合もしくは気相
重合を行なった場合には粒度分布が狭く、はぼ球形もし
くは長球形のかき密度が高く流動性良好な重合体粉末を
与えるので、ペレット化工程の省略も可能となり、重合
の効率、操業性がαめて優れている。
媒活性が高いことにより、生成する重合体中の触媒残存
量が少なく、急謀除去工程を省略できる。また、重合時
に重合槽への付着が少なく、スラリー重合もしくは気相
重合を行なった場合には粒度分布が狭く、はぼ球形もし
くは長球形のかき密度が高く流動性良好な重合体粉末を
与えるので、ペレット化工程の省略も可能となり、重合
の効率、操業性がαめて優れている。
第1図は、本発明の理解を助けるためのフローチャート
図である。本フローチャート図は、本発明の実施態様の
代表例であり、本発明は、何らこれに限定されるもので
はない。
図である。本フローチャート図は、本発明の実施態様の
代表例であり、本発明は、何らこれに限定されるもので
はない。
Claims (2)
- (1)(A)細孔半径75〜20,000Åにおける細
孔容量が0.65ml/g以上のシリカゲルの存在下、
一般式Ti(OR^1)_nX_4_−_n(R^1は
炭素数が1〜20の炭化水素基、Xはハロゲン原子、n
はO<n≦4の数字を表わす。)で表わされるチタン化
合物を有機マグネシウム化合物で還元して得られる固体
生成物を、エーテル化合物と四塩化チタンとの混合物で
処理して得られる三価のチタン化合物含有固体触媒成分
と、 (B)有機アルミニウム化合物とよりなる触媒系を用い
て、オレフィンを単独重合または共重合することを特徴
とするオレフィン重合体の製造法。 - (2)三価のチタン化合物含有固体触媒成分A)がSi
−O結合を有する有機ケイ素化合物および細孔半径75
〜20,000Åにおける細孔容量が0.65ml/g
以上のシリカゲルの存在下、一般式Ti(OR^1)_
nX_4_−_n(R^1は炭素数が1〜20の炭化水
素基、Xはハロゲン原子、nは0<n≦4の数字を表わ
す。)で表わされるチタン化合物を有機マグネシウム化
合物で還元して得られる固体生成物を、エーテル化合物
と四塩化チタンとの混合物で処理して得られる三価のチ
タン化合物含有固体触媒成分であることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載のオレフィン重合体の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22896386A JPS6383106A (ja) | 1986-09-26 | 1986-09-26 | オレフイン重合体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22896386A JPS6383106A (ja) | 1986-09-26 | 1986-09-26 | オレフイン重合体の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6383106A true JPS6383106A (ja) | 1988-04-13 |
JPH0437843B2 JPH0437843B2 (ja) | 1992-06-22 |
Family
ID=16884608
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22896386A Granted JPS6383106A (ja) | 1986-09-26 | 1986-09-26 | オレフイン重合体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6383106A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007505955A (ja) * | 2003-09-18 | 2007-03-15 | 中国石油化工股▲分▼有限公司 | オレフィン重合用触媒成分、触媒およびその使用 |
WO2012014893A1 (ja) | 2010-07-29 | 2012-02-02 | Toto株式会社 | 光触媒層を備えた無機材料およびその製造方法、並びに無機材料用光触媒コーティング液 |
-
1986
- 1986-09-26 JP JP22896386A patent/JPS6383106A/ja active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007505955A (ja) * | 2003-09-18 | 2007-03-15 | 中国石油化工股▲分▼有限公司 | オレフィン重合用触媒成分、触媒およびその使用 |
WO2012014893A1 (ja) | 2010-07-29 | 2012-02-02 | Toto株式会社 | 光触媒層を備えた無機材料およびその製造方法、並びに無機材料用光触媒コーティング液 |
US9221031B2 (en) | 2010-07-29 | 2015-12-29 | Toto Ltd. | Inorganic material comprising photocatalyst layer, method for producing same, and photocatalyst coating liquid for inorganic material |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0437843B2 (ja) | 1992-06-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH02163104A (ja) | 高立体規則性a―オレフィン重合体の製造方法 | |
KR940004714B1 (ko) | 알파-올레핀 중합체의 제조방법 | |
JPS61218606A (ja) | α−オレフイン重合体の製造法 | |
JPS61296007A (ja) | オレフイン重合体の製造法 | |
JPH10504055A (ja) | 担持オレフィン重合触媒 | |
JPH01115909A (ja) | オレフィン重合用固体触媒成分 | |
JPH0780968B2 (ja) | オレフィン重合体の製造法 | |
JPH01319508A (ja) | オレフィン重合用固体触媒の製造法 | |
JPS60228504A (ja) | オレフイン重合体の製造法 | |
JP4149809B2 (ja) | α−オレフィン重合用の固形触媒成分の連続製造方法 | |
JP2006521451A (ja) | 電子供与体としてシクロアルカンジカルボキシレートを含むオレフィン重合触媒 | |
JPH05194662A (ja) | エチレンおよびα−オレフィンの(共)重合用触媒の固体成分 | |
JPH05117317A (ja) | オレフイン重合体の製造方法 | |
JPH03265610A (ja) | α―オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法 | |
JPS5846202B2 (ja) | オレフィン重合体の製造法 | |
JPS5846129B2 (ja) | 高結晶性オレフィン重合体の製造法 | |
JPS6383106A (ja) | オレフイン重合体の製造法 | |
JPH05506679A (ja) | オレフイン類重合用プロ触媒組成物,その製法 | |
JPH01230606A (ja) | α−オレフィン重合体の製造方法 | |
JPH02283703A (ja) | 高立体規則性α―オレフィン重合体の製造法 | |
KR0169718B1 (ko) | 올레핀 중합촉매 및 에틸렌 공중합체의 제조법 | |
JPH09110921A (ja) | 複数の固体触媒成分の組合わせから成るオレフィン重合用プレポリマー | |
JPH02132105A (ja) | α−オレフィン重合体の製造法 | |
JPH0251505A (ja) | オレフィン重合体の製造法 | |
JP2600271B2 (ja) | オレフィンの重合方法 |