JPS637831A - 真空装置の洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は真空装置の洗浄方法に関する。

〔従来の技術及びその問題点〕

一般に、容器などの洗浄には水などの液体を用いるのが
有効であり、広く利用されている。特に水は安価で６シ
、ｔｆｃ超純水製造等のダストを除去する技術も発達し
ており、利用度が高い。真空装置の洗浄に対しても同様
である。

然しながら洗浄後、容器内に残った水を乾燥させるには
非常に時間がか＼る。真空装置に対しては、特に放出ガ
ス等の問題もあり、水は好ましくない。水の代ゎシにア
ルコールやアセトン等の薬品を用いれば乾燥時間はかな
シ短縮できるが、超高真空を必要とする装置では、やけ
クハイドロカーボンの影響がある。ま次−般に、工業用
薬品に含まれるダストはかなシ多く、ダストの少ない特
殊な電子工業用薬品は高価である。従って薬品による洗
浄は経済的にも効率の良いものでおるとは言い難い。

１次、流体（液体）による洗浄法は、表面に境界層が生
じる几め、流れによってダスト粒子に与える力は弱くな
り洗浄効率は限られてしまうという問題点がある。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明は上記問題に鑑みてなされ、乾燥時間を短かくし
、経済性を向上させ得る真空装置の洗浄方法を提供する
ことを目的とする。

〔問題点を解決する友めの手段〕

上記目的は、真空装置内部に低温液化ガスをジェット状
に導入して各部を洗浄し、前記真を装置の底部に設けた
排出口から洗浄後の前記低温液化ガスを外部に排出する
ようにしたことを特徴とする真空装置の洗浄方法によっ
て達成される。

〔作　　用〕

低温液化ガスのジェット流によって例えば内壁面は洗浄
される。壁面は一般に常温であるｔめ直ちに気化し、そ
こにできている液体境界層を乱す友め、ジェット流の働
らきと＼もに流れの与える力を大きくする。洗浄力は水
と同程度、ま次はそれ以上であり、更に乾燥時間は水に
比べれば殆んど無視し得るほどに短かくなる。従って真
空装置の稼動効率を向上させることができる。

〔実施例〕

以上、本発明の実施例による真空装置の洗浄方法につい
て図面を参照して説明する。

第１図は本方法を具体化する第１実施例の洗浄装置を真
空装置と共に示す図でちゃ、真空容器（１）は例えば半
導体製造装置用であって、真空ポンプ（２）に管路（３
）及びバルブ（４）ヲ介して接続されている。

ま次上壁部には管路（６）及びリークバルブ（５）ｆ：
介して窒素ガスタンク（７）に接続されている。

真空容器（１）の側壁部にはゲートパルプ（８）が設け
られておフ、これに伸縮自在なべａ−ズ（９）が連設さ
れている。ベローズ（９）内にはその端壁−に支持され
次液化ガス導入バイブαＱが配設されておシ、その先端
部にノズルＯηが取り付けられている。液化ガス導入パ
イプａＱはフィルタ（ロ）を介して低温液化ガスタンク
（至）が接続されている。本実施例では低温液化ガスと
して液体窒素が用いられる。

真空容器（１）の底壁部は逆円錐形状となりており、こ
の排出用開口部にゲートバルブＱ４が設けられ、これに
排出ダクト（至）が接続されている。

本発明の第１実施例は以上のように構成されるが、次に
この作用、効果などについて説明する。

真を装置の通常の使用状態ではバルブ（５）（８）α柳
は閉じておシ、バルブ（４）だけが開いて真空ポンプ（
２ンの働らきにより真空容器（１）内は真翌とされてい
る。

真空容器（１）の洗浄に際しては、真空ポンプ（２）は
停止され、バルブ（４）は閉じられる。次いでリークパ
ルプ（５）を開いて、タンク（７）から窒素ガスが例え
は容器（１）内が大気圧になるまで導入される。

次いでゲートバルブ（８）ｔ−開け、ベローズ（９）’
ｔ　縮ませてパイプαＱの先端部分及びノズル回ヲ容器
（１）内に尋人する。低温液化ガスタンク（至）からは
−定の圧カマフィルタ（６）を介して液化ガス（液体窒
素）がノズルｃＩυへと供給される。ノズル（ｌＩυか
らはこの液化ガスがジェット流で吹き出し、例えば真空
容器（１）の内壁を洗浄する。なお、図示せずともノズ
ルσηもしくはパイプ（ＩＱの先端部を回転させる機構
が設けられており、これにより容器（１）内をく′１な
くジェット流で吹きつけることができるものとする。場
合によっては、ゲートバルブ（３）、べａ−ズ（９）、
ノズルσηなどの液化ガスの導入機構を容器（１）の９
１Ｉｌ壁部の複数箇所に設けるようにしてもよい。

ゲートバルブ（８）と同時又はこの直後に底壁部のゲー
トバルブ０４も開かれ、洗浄後の液化ガスはこのバルブ
Ｑ◆及びダクト（ト）を弁して外部に排出される。容器
（１）の底壁部は逆円錐形状となっているので、容易に
排出口へと流出し、底壁部にｆｃまるということがなく
、乾燥がより効果的に行われる。

本実施例は以上のような作用を行うのであるが、次のよ
うな効果を奏するものである。

（１）　　低温液化ガスとしての液体窒素は室温では気
体となるので乾燥が容易である。

（２）　　液体窒素は容器（１）内をはゾ大気圧にする
ためのリークガスとしての窒素ガスと共に用いられてい
るが、窒素は吸着性がなく真空装置の洗浄には特に良い
結果を与える。

（３）　　洗浄媒体は液体であるので、洗浄力は水と同
程度ま友はそれ以上である。ま友壁面は室温であるので
、すぐ気化し、液体境界層を気体で乱す几め流れの与え
る力は大きくなる。

（４）乾燥時間が水に比べれば皆無に等しいため真空装
置の稼動効率は向上する。液化ガスのコストを考慮して
も経済的効果は充分に大きいものである。

第２図は本発明の第２実施例を示すが、図において第１
図に対応する部分については同一の符号を付すものとす
る。

本実施例では、第１実施例と異なり液化ガスの導入機構
が排出機構と共に一体化して容器（１）の底部に設けら
れている。従って、図示せずとも第１図の１ｌＩｌ壁部
に設けられている液化ガスの導入機構は省略されている
。

すなわち、第２図において、容器（１）の底壁部の排出
開口に設けられているゲートパルプ四には伸縮自在なべ
ａ−ズＱυが連設されており、ぺａ−ズΩυ内にはその
端壁ｔ２４１に支持され次液化ガス導入パイプＱ２が配
設されてお夛、その先端部にノズル［有］が取シ付けら
れている。液化ガス導入パイプのはフィルタ□□□を介
して低温液化ガスタンク（至）が接続されている。本実
施例でも低温液化ガスとして液体窒素が用いられる。″
１友端壁１２４）にはべａ−ズＱυ内に開口して排出ダ
クトムが接続されている。

第２冥施例は以上のように構成されるが、作用。

効果については第１実施例と同様でおるので省略するが
、構成がより簡単となりている。

以上、本発明の実施例について説明し次が、勿論、本発
明はこれに限定されることなく、本発明の技術的思想に
基づいて種々の変形が可能である。

例えば、以上の実施例では低温液化ガスとして液体窒素
が用いられ友が、これに限ることなく常温では気体であ
シ、冷却すれば液化するものであればよく、例えばフロ
ンガスが用いられてもよい。

また以上の実施例では、洗浄液導入パイプ及びノズルを
真空容器内に導入するのにべａ−ズを用い友が、これに
限ることなく一般に、真空装置等で用いられている方式
であれば何でも適用可能である。

ま友、ガスとしてフａン障やフロン２２ヲ用いれば、冷
凍機を取りつけて閉サイクルで比較的、安価に洗浄系を
つくることが可能となる９例えば、真空容器内への導入
パイプと洗浄液排出口とを結ぶパイプ途中に冷凍機を介
在させ、更にパイプにダストを除くフィルタを設けるよ
うにしておけばよい。

ま比以上の実施例では真空容器の内壁を洗浄する場合を
説明し九が、勿論、これに限ることなく、この容器内に
配設され九谷槙のアダプタや容器を洗浄するようにして
もよい− 〔発明の効果〕 以上述べ友ように本発明の真空ｆ！置の洗浄方法によれ
ば、乾燥時間全非常に短かくして経済性を向上させるこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１実施例による洗浄装置を真空装置
と共に示す側面図、及び第２図は本発明の第２実施例に
よる洗浄装置を真空装置と共に示す側面図である。 なお図において、

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 真空装置内部に低温液化ガスをジェット状に導入して各
   部を洗浄し、前記真空装置の底部に設けた排出口から洗
   浄後の前記低温液化ガスを外部に排出するようにしたこ
   とを特徴とする真空装置の洗浄方法。