JPH02277236A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JPH02277236A JPH02277236A JP9932089A JP9932089A JPH02277236A JP H02277236 A JPH02277236 A JP H02277236A JP 9932089 A JP9932089 A JP 9932089A JP 9932089 A JP9932089 A JP 9932089A JP H02277236 A JPH02277236 A JP H02277236A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はドライアイス粒子を被洗浄物に吹きつけること
によって被洗浄物を洗浄する洗浄装置に関するものであ
る。
によって被洗浄物を洗浄する洗浄装置に関するものであ
る。
従来のこの種の洗浄装置は、液化炭酸ガスを断熱膨張さ
せて得られるドライアイス粒子（以下、ドライアイスス
ノーという。）を被洗浄物に吹きつけて洗浄するように
構成されている。これを第４図によって説明する。
せて得られるドライアイス粒子（以下、ドライアイスス
ノーという。）を被洗浄物に吹きつけて洗浄するように
構成されている。これを第４図によって説明する。
第４図はドライアイススノーを使用した従来の洗浄装置
を示す概略構成図である。同図において、１は被洗浄物
で、この被洗浄物ｌは支持台ｌａ上に載置固定されてい
る。２はこの被洗浄物ｌにドライアイススノーを吹きつ
けるための断熱膨張ノズルで、この断熱膨張ノズル２は
供給された液化炭酸ガスを断熱膨張させて固化させ、ド
ライアイススノーを作るように構成されており、炭酸ガ
ス移送配管３を介して液化炭酸ガス容器４に接続される
と共に、前記被洗浄物ｌの被洗浄面と対向する位置に配
置されている。このように構成されたドライアイススノ
ー式洗浄装置によって被洗浄物１を洗浄するには、液化
炭酸ガスを前記液化炭酸ガス容器４内の圧力によって炭
酸ガス移送配管３に噴出させ、断熱膨張ノズル２から噴
射させることによって行われる。この際、断熱膨張ノズ
ル２によって作られたドライアイススノーが被洗浄物ｌ
に吹きつけられ、被洗浄物１上に付着された汚染物はこ
のドライアイススノーによって除去されることになる。
を示す概略構成図である。同図において、１は被洗浄物
で、この被洗浄物ｌは支持台ｌａ上に載置固定されてい
る。２はこの被洗浄物ｌにドライアイススノーを吹きつ
けるための断熱膨張ノズルで、この断熱膨張ノズル２は
供給された液化炭酸ガスを断熱膨張させて固化させ、ド
ライアイススノーを作るように構成されており、炭酸ガ
ス移送配管３を介して液化炭酸ガス容器４に接続される
と共に、前記被洗浄物ｌの被洗浄面と対向する位置に配
置されている。このように構成されたドライアイススノ
ー式洗浄装置によって被洗浄物１を洗浄するには、液化
炭酸ガスを前記液化炭酸ガス容器４内の圧力によって炭
酸ガス移送配管３に噴出させ、断熱膨張ノズル２から噴
射させることによって行われる。この際、断熱膨張ノズ
ル２によって作られたドライアイススノーが被洗浄物ｌ
に吹きつけられ、被洗浄物１上に付着された汚染物はこ
のドライアイススノーによって除去されることになる。
このドライアイススノーは被洗浄物上の汚染物を除去し
た後に速やかに昇華される。
た後に速やかに昇華される。
このようにドライアイススノーを使用した洗浄装置にお
いては、高圧ガスブロー法等の気体流を使用した洗浄装
置に較べて、洗浄物がドライアイススノーという固体で
あるために洗浄能力が高く、しかも、高圧ジェット水洗
法や超音波洗浄法等の液体を使用した洗浄装置に較べて
、ドライアイススノーが被洗浄物１上の汚染物を除去し
た後に速やかに昇華されるために被洗浄物ｌを濡らすこ
とな（乾燥状態で洗浄を行なうことができるという利点
から、半導体ウェハ等のように湿式洗浄が不適当で汚染
物を確実に除去する必要のある物品を洗浄する際に使用
されている。
いては、高圧ガスブロー法等の気体流を使用した洗浄装
置に較べて、洗浄物がドライアイススノーという固体で
あるために洗浄能力が高く、しかも、高圧ジェット水洗
法や超音波洗浄法等の液体を使用した洗浄装置に較べて
、ドライアイススノーが被洗浄物１上の汚染物を除去し
た後に速やかに昇華されるために被洗浄物ｌを濡らすこ
とな（乾燥状態で洗浄を行なうことができるという利点
から、半導体ウェハ等のように湿式洗浄が不適当で汚染
物を確実に除去する必要のある物品を洗浄する際に使用
されている。
しかるに、従来のこの種ドライアイススノーを使用した
洗浄装置においては、洗浄が大気中で行われるため、被
洗浄物がドライアイススノーによって冷却された際に大
気中の水分が被洗浄物上に結露したり、あるいは、ドラ
イアイススノーの製造部、噴射部分でドライアイススノ
ーの表面に大気中の水分が結露したりする場合があった
。このような場合には被洗浄物上に結露した水分やドラ
イアイススノーの表面に結露した水分によって被洗浄物
が濡らされてしまい、乾燥状態で洗浄を行なうことがで
きなくなる。被洗浄物が濡らされると、洗浄後に大気中
の汚染物が被洗浄物上に残香として残ってしまうため、
再び洗浄しなければならない。
洗浄装置においては、洗浄が大気中で行われるため、被
洗浄物がドライアイススノーによって冷却された際に大
気中の水分が被洗浄物上に結露したり、あるいは、ドラ
イアイススノーの製造部、噴射部分でドライアイススノ
ーの表面に大気中の水分が結露したりする場合があった
。このような場合には被洗浄物上に結露した水分やドラ
イアイススノーの表面に結露した水分によって被洗浄物
が濡らされてしまい、乾燥状態で洗浄を行なうことがで
きなくなる。被洗浄物が濡らされると、洗浄後に大気中
の汚染物が被洗浄物上に残香として残ってしまうため、
再び洗浄しなければならない。
本発明に係る洗浄装置は、被洗浄物を密閉容器で覆い、
この密閉容器に、ドライアイス粒子噴射用ノズルと、低
露点ガス供給用配管と、密閉容器内のガスを排気する排
気管とを接続したものである。
この密閉容器に、ドライアイス粒子噴射用ノズルと、低
露点ガス供給用配管と、密閉容器内のガスを排気する排
気管とを接続したものである。
密閉容器内の気体を低露点ガスに置換することによって
、水分が被洗浄物あるいはドライアイス粒子に結露する
のを防止することができる。
、水分が被洗浄物あるいはドライアイス粒子に結露する
のを防止することができる。
以下、本発明の一実施例を第１図によって詳細に説明す
る。
る。
第１図は本発明に係る洗浄装置の概略構成を示す断面図
で、同図において前記第４図で説明したものと同一もし
くは同等部材については同一符号を付し、ここにおいて
詳細な説明は省略する。第１図において、１１は洗浄空
間を密閉するための洗浄容器で、被洗浄物（はこの洗浄
容器ｌｌ内に支持台（図示せず）等を介して載置固定さ
れており、この洗浄容器１１の天井部には断熱膨張ノズ
ル２が配設されている。１２は前記洗浄容器１１内に乾
燥空気、窒素ガス等の低露点ガスを供給するための低露
点ガス供給用配管で、一端が洗浄容器１１の上部に接続
され、かつ他端が低露点ガス供給装置（図示せず）に接
続されている。１３は前記洗浄容器１１内のガスを排出
するための排気管で、この排気管１３は洗浄容器１１の
下部に接続されている。
で、同図において前記第４図で説明したものと同一もし
くは同等部材については同一符号を付し、ここにおいて
詳細な説明は省略する。第１図において、１１は洗浄空
間を密閉するための洗浄容器で、被洗浄物（はこの洗浄
容器ｌｌ内に支持台（図示せず）等を介して載置固定さ
れており、この洗浄容器１１の天井部には断熱膨張ノズ
ル２が配設されている。１２は前記洗浄容器１１内に乾
燥空気、窒素ガス等の低露点ガスを供給するための低露
点ガス供給用配管で、一端が洗浄容器１１の上部に接続
され、かつ他端が低露点ガス供給装置（図示せず）に接
続されている。１３は前記洗浄容器１１内のガスを排出
するための排気管で、この排気管１３は洗浄容器１１の
下部に接続されている。
このように構成された洗浄装置によって被洗浄物１を洗
浄するには、先ず、ドライアイススノーを噴射させる前
に、低露点ガス供給用配管Ｉ２から乾燥空気、窒素ガス
等の低露点ガスを洗浄容器１１内に供給すると共に、排
気管１３から洗浄容器１１内のガスを排出することによ
って洗浄容器内のガスの置換を行なう。次いで、液化炭
酸ガスを前記液化炭酸ガス容器４内の圧力によって炭酸
ガス移送配管３に噴出させ、断熱膨張ノズル２からドラ
イアイススノーとして噴射させる。このようにしてドラ
イアイススノーを噴射さ・せ被洗浄物Ｉに吹きつけるこ
とによって被洗浄物ｌが洗浄されることになる。この際
、被洗浄物ｌがドライアイススノーによって冷却される
ことになるが、密閉容器１１内は上述したように低露点
ガスによって置換されているために、被洗浄物１上に水
分が結露することはなく、また、ドライアイススノーに
も水分が結露しないため乾燥状態で洗浄を行なうことが
できる。
浄するには、先ず、ドライアイススノーを噴射させる前
に、低露点ガス供給用配管Ｉ２から乾燥空気、窒素ガス
等の低露点ガスを洗浄容器１１内に供給すると共に、排
気管１３から洗浄容器１１内のガスを排出することによ
って洗浄容器内のガスの置換を行なう。次いで、液化炭
酸ガスを前記液化炭酸ガス容器４内の圧力によって炭酸
ガス移送配管３に噴出させ、断熱膨張ノズル２からドラ
イアイススノーとして噴射させる。このようにしてドラ
イアイススノーを噴射さ・せ被洗浄物Ｉに吹きつけるこ
とによって被洗浄物ｌが洗浄されることになる。この際
、被洗浄物ｌがドライアイススノーによって冷却される
ことになるが、密閉容器１１内は上述したように低露点
ガスによって置換されているために、被洗浄物１上に水
分が結露することはなく、また、ドライアイススノーに
も水分が結露しないため乾燥状態で洗浄を行なうことが
できる。
また、ドライアイススノーの温度は−７８，５℃であり
、液化炭酸ガスの露点は超高純度のものであっても約−
６５℃、乾燥空気または窒素ガスの露点は約−７０″Ｃ
程度であるために、洗浄時間を延長させたりして被洗浄
物ｌを長時間ドライアイススノーに晒すと、被洗浄物Ｉ
がドライアイススノーの温度まで冷却される場合がある
。このような場合には、被洗浄物ｌ自体の温度が洗浄容
器ｌｌ内の雰囲気よりも低温となるために被洗浄物ｌへ
の結露が起こる可能性がある。このような不具合を解消
した洗浄装置゛を第２図に示す。第２図はヒーターが取
付けられた他の実施例の概略構成を示す断面図で、同図
において前記第１図で説明したものと同一部材について
は同一符号を付し、詳細な説明は省略する。第２図にお
いて、２１は被洗浄物ｌを加熱するためのヒーターで、
このヒーター２１は洗浄容器１１の底部に配置されてお
り、伝熱面からの熱が被洗浄物１に伝導されるように構
成されている。このヒーター２１で被洗浄物１を所定温
度に維持することによって、上述したような被洗浄物１
上への結露を防止することができる。
、液化炭酸ガスの露点は超高純度のものであっても約−
６５℃、乾燥空気または窒素ガスの露点は約−７０″Ｃ
程度であるために、洗浄時間を延長させたりして被洗浄
物ｌを長時間ドライアイススノーに晒すと、被洗浄物Ｉ
がドライアイススノーの温度まで冷却される場合がある
。このような場合には、被洗浄物ｌ自体の温度が洗浄容
器ｌｌ内の雰囲気よりも低温となるために被洗浄物ｌへ
の結露が起こる可能性がある。このような不具合を解消
した洗浄装置゛を第２図に示す。第２図はヒーターが取
付けられた他の実施例の概略構成を示す断面図で、同図
において前記第１図で説明したものと同一部材について
は同一符号を付し、詳細な説明は省略する。第２図にお
いて、２１は被洗浄物ｌを加熱するためのヒーターで、
このヒーター２１は洗浄容器１１の底部に配置されてお
り、伝熱面からの熱が被洗浄物１に伝導されるように構
成されている。このヒーター２１で被洗浄物１を所定温
度に維持することによって、上述したような被洗浄物１
上への結露を防止することができる。
なお、本発明に係る洗浄装置においては第３図に示すよ
うに洗浄容器１１に真空ポンプを接続することもできる
。第３図は真空ポンプが取付けられた他の実施例の概略
構成を示す断面図で、同図において前記第１図および第
２図で説明したものと同一部材については同一符号を付
し、詳細な説明は省略する。第３図において、３１は洗
浄容器１１内を高真空状態にするための真空ポンプで、
この真空ポンプ３１は吸気ダクト３２を介して洗浄容器
１１に接続されている。このように真空ポンプ３１が接
続された洗浄装置においては、真空ポンプ３１によって
洗浄容器ｌｌ内を高真空状態に維持させて洗浄が行われ
る。高真空状態では、炭酸ガス移送配管３内や洗浄容器
１１内の水分が除去されることになり、液化炭酸ガス中
、乾燥空気中あるいは窒素ガス中の微量な水分でさえも
昇華されるため、完全に乾燥した状態で洗浄を行なうこ
とができる。なお、この際、真空度が高い程水分の除去
効率は向上されるが、真空度を高くしすぎると、ドライ
アイススノーが被洗浄物ｌに吹きつけられる前に昇華さ
れてしまい洗浄効率が低下されてしまう。このため、断
熱膨張ノズル２と被洗浄物１との間隔を真空度に応じて
適宜変えることが必要である。
うに洗浄容器１１に真空ポンプを接続することもできる
。第３図は真空ポンプが取付けられた他の実施例の概略
構成を示す断面図で、同図において前記第１図および第
２図で説明したものと同一部材については同一符号を付
し、詳細な説明は省略する。第３図において、３１は洗
浄容器１１内を高真空状態にするための真空ポンプで、
この真空ポンプ３１は吸気ダクト３２を介して洗浄容器
１１に接続されている。このように真空ポンプ３１が接
続された洗浄装置においては、真空ポンプ３１によって
洗浄容器ｌｌ内を高真空状態に維持させて洗浄が行われ
る。高真空状態では、炭酸ガス移送配管３内や洗浄容器
１１内の水分が除去されることになり、液化炭酸ガス中
、乾燥空気中あるいは窒素ガス中の微量な水分でさえも
昇華されるため、完全に乾燥した状態で洗浄を行なうこ
とができる。なお、この際、真空度が高い程水分の除去
効率は向上されるが、真空度を高くしすぎると、ドライ
アイススノーが被洗浄物ｌに吹きつけられる前に昇華さ
れてしまい洗浄効率が低下されてしまう。このため、断
熱膨張ノズル２と被洗浄物１との間隔を真空度に応じて
適宜変えることが必要である。
以上説明したように本発明に係る洗浄装置は、被洗浄物
を密閉容器で覆い、この密閉容器に、ドライアイス粒子
噴射用ノズルと、低露点ガス供給用配管と、密閉容器内
のガスを排気する排気管とを接続したため、密閉容器内
の気体を低露点ガスに置換することによって、水分が被
洗浄物あるいはドライアイス粒子に結露するのを防止す
ることができる。したがって、被洗浄物を濡らすことな
く乾燥した状態で洗浄が行われるため、高圧ガスブロー
法等の気体流を使用した洗浄装置では除去できないよう
な強固に付着された汚染物をも確実に除去することがで
き、洗浄後に被洗浄物上に残香が残るのを阻止すること
ができるから、確実かつ高効率に洗浄を行なうことがで
きる。
を密閉容器で覆い、この密閉容器に、ドライアイス粒子
噴射用ノズルと、低露点ガス供給用配管と、密閉容器内
のガスを排気する排気管とを接続したため、密閉容器内
の気体を低露点ガスに置換することによって、水分が被
洗浄物あるいはドライアイス粒子に結露するのを防止す
ることができる。したがって、被洗浄物を濡らすことな
く乾燥した状態で洗浄が行われるため、高圧ガスブロー
法等の気体流を使用した洗浄装置では除去できないよう
な強固に付着された汚染物をも確実に除去することがで
き、洗浄後に被洗浄物上に残香が残るのを阻止すること
ができるから、確実かつ高効率に洗浄を行なうことがで
きる。
第１図は本発明に係る洗浄装置の概略構成を示す断面図
、第２図はヒーターが取付けられた他の実施例の概略構
成を示す断面図、第３図は真空ポンプが取付けられた他
の実施例の概略構成を示す断面図、第４図はドライアイ
ススノーを使用した従来の洗浄装置を示す概略構成図で
ある。 １・・・・被洗浄物、２・・・・断熱膨張ノズル、４・
・・・液化炭酸ガス容器、１１・・・・洗浄容器、１２
・・・・低露点ガス供給用配管、１３・・・・排気管。
、第２図はヒーターが取付けられた他の実施例の概略構
成を示す断面図、第３図は真空ポンプが取付けられた他
の実施例の概略構成を示す断面図、第４図はドライアイ
ススノーを使用した従来の洗浄装置を示す概略構成図で
ある。 １・・・・被洗浄物、２・・・・断熱膨張ノズル、４・
・・・液化炭酸ガス容器、１１・・・・洗浄容器、１２
・・・・低露点ガス供給用配管、１３・・・・排気管。
Claims (1)
- 被洗浄物にドライアイス粒子を吹きつけることによって
被洗浄物を洗浄する洗浄装置において、前記被洗浄物を
密閉容器で覆い、この密閉容器に、ドライアイス粒子噴
射用ノズルと、低露点ガス供給用配管と、密閉容器内の
ガスを排気する排気管とを接続したことを特徴とする洗
浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9932089A JPH02277236A (ja) | 1989-04-18 | 1989-04-18 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9932089A JPH02277236A (ja) | 1989-04-18 | 1989-04-18 | 洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02277236A true JPH02277236A (ja) | 1990-11-13 |
Family
ID=14244346
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9932089A Pending JPH02277236A (ja) | 1989-04-18 | 1989-04-18 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02277236A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05253551A (ja) * | 1991-10-01 | 1993-10-05 | Hughes Aircraft Co | ジェットスプレイによる正確な洗浄のためのシステムおよび方法 |
| JP2001180924A (ja) * | 1999-12-22 | 2001-07-03 | Nippon Sanso Corp | 精製液化炭酸ガスの供給方法及びその装置並びにそれで得られた精製液化炭酸ガスを用いた洗浄方法 |
| CN100447975C (zh) * | 2003-03-04 | 2008-12-31 | 东京毅力科创株式会社 | 衬底处理系统以及半导体器件的制造方法 |
| JP2013059711A (ja) * | 2011-09-12 | 2013-04-04 | Japan Display East Inc | 洗浄方法 |
-
1989
- 1989-04-18 JP JP9932089A patent/JPH02277236A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05253551A (ja) * | 1991-10-01 | 1993-10-05 | Hughes Aircraft Co | ジェットスプレイによる正確な洗浄のためのシステムおよび方法 |
| JP2001180924A (ja) * | 1999-12-22 | 2001-07-03 | Nippon Sanso Corp | 精製液化炭酸ガスの供給方法及びその装置並びにそれで得られた精製液化炭酸ガスを用いた洗浄方法 |
| CN100447975C (zh) * | 2003-03-04 | 2008-12-31 | 东京毅力科创株式会社 | 衬底处理系统以及半导体器件的制造方法 |
| JP2013059711A (ja) * | 2011-09-12 | 2013-04-04 | Japan Display East Inc | 洗浄方法 |
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