JPH04291726A - 炭酸ガスによるブラスト洗浄方法および装置 - Google Patents
炭酸ガスによるブラスト洗浄方法および装置Info
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- JPH04291726A JPH04291726A JP5638591A JP5638591A JPH04291726A JP H04291726 A JPH04291726 A JP H04291726A JP 5638591 A JP5638591 A JP 5638591A JP 5638591 A JP5638591 A JP 5638591A JP H04291726 A JPH04291726 A JP H04291726A
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Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体技術において、半
導体の半製品または加工装置の洗浄に有用な洗浄方法お
よび装置に関する。
導体の半製品または加工装置の洗浄に有用な洗浄方法お
よび装置に関する。
【０００２】半導体産業は、製品の清浄度を保持するた
めに、半製品の他、その加工装置および装置内の治具の
清浄管理が重要である。半導体装置の製造においては、
ガスまたは金属などを使用するので、これらに基づく汚
れが発生し、さらにプロセス中の加熱によって、複雑な
汚れになり、これらを除去することが必要である。
めに、半製品の他、その加工装置および装置内の治具の
清浄管理が重要である。半導体装置の製造においては、
ガスまたは金属などを使用するので、これらに基づく汚
れが発生し、さらにプロセス中の加熱によって、複雑な
汚れになり、これらを除去することが必要である。
【０００３】
【従来の技術】半導体産業において、半製品の洗浄は、
水洗では乾燥時にウォータマークを生ずる欠点があるの
で、フレオンまたはトリクレンを利用して洗浄している
が、環境汚染の問題を伴なう。また装置の場合は、 Ｎ
Ｆ３または ＳＦ６のプラズマで洗浄したり、あるいは
分解して薬品に浸漬した後水洗することが行われている
。これに代る方法として、特開平１−２２５３２２は、
被洗浄物を加熱された状態として、ドライアイススノー
を吹付ける方法を開示し、ウェハなどの被洗浄物の表面
から微粒子や油分などを除去することを提案している。 この方法は炭酸ガスが断熱膨張によってドライアイスと
なり、被洗浄物の表面に吹付けられてブラスト洗浄する
のであるが、水分で表面が濡れてウォータマークを生ず
ることを防ぐために被洗浄物を加熱する。ドライアイス
の機械的洗浄効果を利用する方法である。
水洗では乾燥時にウォータマークを生ずる欠点があるの
で、フレオンまたはトリクレンを利用して洗浄している
が、環境汚染の問題を伴なう。また装置の場合は、 Ｎ
Ｆ３または ＳＦ６のプラズマで洗浄したり、あるいは
分解して薬品に浸漬した後水洗することが行われている
。これに代る方法として、特開平１−２２５３２２は、
被洗浄物を加熱された状態として、ドライアイススノー
を吹付ける方法を開示し、ウェハなどの被洗浄物の表面
から微粒子や油分などを除去することを提案している。 この方法は炭酸ガスが断熱膨張によってドライアイスと
なり、被洗浄物の表面に吹付けられてブラスト洗浄する
のであるが、水分で表面が濡れてウォータマークを生ず
ることを防ぐために被洗浄物を加熱する。ドライアイス
の機械的洗浄効果を利用する方法である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、炭酸ガスに
よるブラスト洗浄方法において、被洗浄物の表面から放
出されて浮遊する微粒子および炭酸ガスに溶解した不純
物を迅速に除去することを目的とする。
よるブラスト洗浄方法において、被洗浄物の表面から放
出されて浮遊する微粒子および炭酸ガスに溶解した不純
物を迅速に除去することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題は、炭酸ガスを
噴出させて生成したドライアイスを、加熱された被洗浄
物に吹付けてブラスト洗浄する方法であって、洗浄室内
を真空に吸引することを特徴とする方法、および密閉洗
浄室１に遠赤外線照射装置２と、炭酸ガス噴出用ノズル
３を設け、吸引管を介して、順次ドライ真空ポンプ４、
コールドトラップ５、コンプレッサ７、プレッシャスイ
ングアドソープションまたはテンパレチャスイングアド
ソープション６および流量制御弁９を経て噴出用ノズル
３に接続して主系列を形成し、コールドトラップ５が不
純物含有液体炭酸排出弁を有し、プレッシャスイングア
ドソープションまたはテンパレチャスイングアドソープ
ション６が不純物含有炭酸ガス排出弁を有し、さらに噴
出用ノズル３が高純度炭酸ガス貯槽８に切換え弁を介し
て連通していることを特徴とする、炭酸ガスによるブラ
スト洗浄装置によって達成することができる。
噴出させて生成したドライアイスを、加熱された被洗浄
物に吹付けてブラスト洗浄する方法であって、洗浄室内
を真空に吸引することを特徴とする方法、および密閉洗
浄室１に遠赤外線照射装置２と、炭酸ガス噴出用ノズル
３を設け、吸引管を介して、順次ドライ真空ポンプ４、
コールドトラップ５、コンプレッサ７、プレッシャスイ
ングアドソープションまたはテンパレチャスイングアド
ソープション６および流量制御弁９を経て噴出用ノズル
３に接続して主系列を形成し、コールドトラップ５が不
純物含有液体炭酸排出弁を有し、プレッシャスイングア
ドソープションまたはテンパレチャスイングアドソープ
ション６が不純物含有炭酸ガス排出弁を有し、さらに噴
出用ノズル３が高純度炭酸ガス貯槽８に切換え弁を介し
て連通していることを特徴とする、炭酸ガスによるブラ
スト洗浄装置によって達成することができる。
【０００６】
【作用】洗浄室内を真空に吸引することによって、ドラ
イアイスから蒸発した炭酸ガスが、さきに放出されて浮
遊する微粒子や溶解した不純物を迅速に除去し、このと
き真空圧を脈動させることによって、これらの除去を促
進し、かつ確実にする。また被洗浄物の加熱を遠赤外線
で行うことによって、被洗浄物を内部から加熱して、内
部の不純物の放出を容易にすることができる。
イアイスから蒸発した炭酸ガスが、さきに放出されて浮
遊する微粒子や溶解した不純物を迅速に除去し、このと
き真空圧を脈動させることによって、これらの除去を促
進し、かつ確実にする。また被洗浄物の加熱を遠赤外線
で行うことによって、被洗浄物を内部から加熱して、内
部の不純物の放出を容易にすることができる。
【０００７】またコールドトラップでは炭酸ガスの沸点
付近で精製を行うことが便宜である。こうしてコールド
トラップで回収した液体炭酸の汚れを分析して半製品の
加工状態の診断を行うことができ、さらに、回収した液
体炭酸からは、金、バナジウム、白金、銀などの回収も
行うことができる。
付近で精製を行うことが便宜である。こうしてコールド
トラップで回収した液体炭酸の汚れを分析して半製品の
加工状態の診断を行うことができ、さらに、回収した液
体炭酸からは、金、バナジウム、白金、銀などの回収も
行うことができる。
【０００８】本発明は、バッチ式でも行うことができる
が、連続式が有利である。すなわち排気した炭酸ガスを
コールドトラップと、プレッシャスイングアドソープシ
ョンまたはテンパレチャスイングアドソープションとを
利用して、回収し循環させて粗洗浄に使用することがで
きる。
が、連続式が有利である。すなわち排気した炭酸ガスを
コールドトラップと、プレッシャスイングアドソープシ
ョンまたはテンパレチャスイングアドソープションとを
利用して、回収し循環させて粗洗浄に使用することがで
きる。
【０００９】
【実施例】図１を参照して、本発明を説明する。密閉洗
浄室１にウェハを配置し、ドライ真空ポンプ４により０
．１〜１０Ｔｏｒｒの真空とし、遠赤外線照射装置２よ
り波長１μｍ以上の遠赤外線を照射しながら、上方の炭
酸ガス噴出ノズル３から炭酸ガスを噴出させた。炭酸ガ
スは断熱膨張して微粉末のドライアイスとなり、ウェハ
の表面をブラスト洗浄した。
浄室１にウェハを配置し、ドライ真空ポンプ４により０
．１〜１０Ｔｏｒｒの真空とし、遠赤外線照射装置２よ
り波長１μｍ以上の遠赤外線を照射しながら、上方の炭
酸ガス噴出ノズル３から炭酸ガスを噴出させた。炭酸ガ
スは断熱膨張して微粉末のドライアイスとなり、ウェハ
の表面をブラスト洗浄した。
【００１０】この間不純物を伴った炭酸ガスは、ドライ
真空ポンプ４の後に設けられ、−１８０ ℃に冷却され
たコールドトラップ５を通過して、不純物を液体炭酸に
溶解または吸収させ、次にプレッシャスイングアドソー
プション６によって炭酸ガスの吸着と脱着を行い、流量
制御弁９によって炭酸ガスの流量を脈動させて装置内か
らのダストの放出を容易にした。こうして、洗浄室を真
空にすることによって、ブラウン運動する程度の微粒子
の移動をガスの気流にのせ、迅速に除去することができ
た。 プレッシャスイングアドソープションの代りにテンパレ
チャスイングアドソープションを使用することができる
。
真空ポンプ４の後に設けられ、−１８０ ℃に冷却され
たコールドトラップ５を通過して、不純物を液体炭酸に
溶解または吸収させ、次にプレッシャスイングアドソー
プション６によって炭酸ガスの吸着と脱着を行い、流量
制御弁９によって炭酸ガスの流量を脈動させて装置内か
らのダストの放出を容易にした。こうして、洗浄室を真
空にすることによって、ブラウン運動する程度の微粒子
の移動をガスの気流にのせ、迅速に除去することができ
た。 プレッシャスイングアドソープションの代りにテンパレ
チャスイングアドソープションを使用することができる
。
【００１１】なお、コールドトラップ５では浮遊する微
粒子および溶解した不純物を液体炭酸で除去してこれを
放出し、プレッシャスイングアドソープションでは炭酸
ガスを回収するとともに、不純物含有炭酸ガスを放出す
る。こうして精製・回収された炭酸ガスは、コンプレッ
サ７によって、ノズル３に戻して、洗浄に利用し、その
後、高純度炭酸ガス貯槽８から新規の炭酸ガスを送って
洗浄を終了した。
粒子および溶解した不純物を液体炭酸で除去してこれを
放出し、プレッシャスイングアドソープションでは炭酸
ガスを回収するとともに、不純物含有炭酸ガスを放出す
る。こうして精製・回収された炭酸ガスは、コンプレッ
サ７によって、ノズル３に戻して、洗浄に利用し、その
後、高純度炭酸ガス貯槽８から新規の炭酸ガスを送って
洗浄を終了した。
【００１２】
【発明の効果】本発明によって、炭酸ガスによるブラス
ト洗浄の利点、すなわち被洗浄物表面の水分凝縮の防止
をしながらドライアイスによる機械的な微粒子の放出を
容易にし、さらに気体炭酸ガスによる放出微粒子の搬送
効果を高め、かつ液体炭酸による溶解性を利用して、不
純物を除去しながら、炭酸ガスを精製し回収することが
できる。
ト洗浄の利点、すなわち被洗浄物表面の水分凝縮の防止
をしながらドライアイスによる機械的な微粒子の放出を
容易にし、さらに気体炭酸ガスによる放出微粒子の搬送
効果を高め、かつ液体炭酸による溶解性を利用して、不
純物を除去しながら、炭酸ガスを精製し回収することが
できる。
【図１】本発明の炭酸ガスによるブラスト洗浄装置の模
式図である。
式図である。
１…密閉洗浄室
２…遠赤外線照射装置
３…炭酸ガス噴出用ノズル
４…ドライ真空ポンプ
５…コールドトラップ
６…プレッシャスイングアドソープション７…コンプレ
ッサ ８…高純度炭酸ガス貯槽 ９…流量制御弁
ッサ ８…高純度炭酸ガス貯槽 ９…流量制御弁
Claims (5)
- 【請求項１】 炭酸ガスを噴出させて生成した微粉状
ドライアイスを、加熱された被洗浄物に吹付けてブラス
ト洗浄する方法であって、洗浄室内を真空に吸引するこ
とを特徴とするブラスト洗浄方法。 - 【請求項２】 真空圧を脈動させながら吸引する、請
求項１記載の方法。 - 【請求項３】 加熱を遠赤外線で行う、請求項１記載
の方法。 - 【請求項４】 吸引した炭酸ガスを、コールドトラッ
プ付きプレッシャスイングアドソープションまたはテン
パレチャスイングアドソープションを利用して精製回収
し、回収した炭酸ガスを圧縮し、循環させて洗浄に使用
し、新たな高純度炭酸ガスで最終洗浄を行う、請求項１
または２記載の方法。 - 【請求項５】 密閉洗浄室１に遠赤外線照射装置２と
、炭酸ガス噴出用ノズル３とを設け、吸引管を介して順
次ドライ真空ポンプ４、コールドトラップ５、コンプレ
ッサ７、プレッシャスイングアドソープションまたはテ
ンパレチャスイングアドソープション６および流量制御
弁９を経て噴出用ノズル３に接続して主系列を形成し、
コールドトラップ５が不純物含有液体炭酸排出弁を有し
、プレッシャスイングアドソープションまたはテンパレ
チャスイングアドソープション６が不純物含有炭酸ガス
排出弁を有し、さらに噴出用ノズル３が高純度炭酸ガス
貯槽８に切換え弁を介して連通していることを特徴とす
る、炭酸ガスによるブラスト洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5638591A JPH04291726A (ja) | 1991-03-20 | 1991-03-20 | 炭酸ガスによるブラスト洗浄方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5638591A JPH04291726A (ja) | 1991-03-20 | 1991-03-20 | 炭酸ガスによるブラスト洗浄方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04291726A true JPH04291726A (ja) | 1992-10-15 |
Family
ID=13025786
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5638591A Withdrawn JPH04291726A (ja) | 1991-03-20 | 1991-03-20 | 炭酸ガスによるブラスト洗浄方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04291726A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6589359B2 (en) * | 2000-07-11 | 2003-07-08 | Tokyo Electron Limited | Cleaning method and cleaning apparatus for substrate |
| JP2015173065A (ja) * | 2014-03-12 | 2015-10-01 | 住友電装株式会社 | コネクタのための異物除去方法及びその装置 |
-
1991
- 1991-03-20 JP JP5638591A patent/JPH04291726A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6589359B2 (en) * | 2000-07-11 | 2003-07-08 | Tokyo Electron Limited | Cleaning method and cleaning apparatus for substrate |
| JP2015173065A (ja) * | 2014-03-12 | 2015-10-01 | 住友電装株式会社 | コネクタのための異物除去方法及びその装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980514 |