JPH078853A - エアロゾルを生成するためのノズル装置 - Google Patents

エアロゾルを生成するためのノズル装置

Info

Publication number
JPH078853A
JPH078853A JP6120969A JP12096994A JPH078853A JP H078853 A JPH078853 A JP H078853A JP 6120969 A JP6120969 A JP 6120969A JP 12096994 A JP12096994 A JP 12096994A JP H078853 A JPH078853 A JP H078853A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nozzle
nozzle device
pressure
aerosol
gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP6120969A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2739925B2 (ja
Inventor
Tibor L Bauer
タイバー・ルイ・バウアー
William A Cavaliere
ウィリアム・アルバート・キャヴァリエール
David Clyde Linnell
デーヴィッド・クライド・リネル
Jin Jwang Wu
ジン・ジュワン・ウー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
International Business Machines Corp
Original Assignee
International Business Machines Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by International Business Machines Corp filed Critical International Business Machines Corp
Publication of JPH078853A publication Critical patent/JPH078853A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2739925B2 publication Critical patent/JP2739925B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24CABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
    • B24C5/00Devices or accessories for generating abrasive blasts
    • B24C5/02Blast guns, e.g. for generating high velocity abrasive fluid jets for cutting materials
    • B24C5/04Nozzles therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B7/00Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
    • B08B7/0064Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by temperature changes
    • B08B7/0092Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by temperature changes by cooling
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24CABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
    • B24C1/00Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
    • B24C1/003Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods using material which dissolves or changes phase after the treatment, e.g. ice, CO2
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S134/00Cleaning and liquid contact with solids
    • Y10S134/902Semiconductor wafer

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Nozzles (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 表面洗浄用の低温エアロゾルを生成するため
のノズル装置を提供すること。 【構成】 ある物質からエアロゾルを生成するためのノ
ズル装置は、第1の圧力で物質を受け取るための入口を
有する送出し管路を含む。ノズルを送出し管路に接続し
て、送出し管路から物質を受け取る。ノズルは、少なく
とも1つの出口開口を有し、これによって、物質がそこ
を通過して、第1の圧力から第1の圧力より低い第2の
圧力へ物質を膨張させて、物質を凝固させ、エアロゾル
を生成することができるようになっている。さらに、送
出し管路またはノズルに凝縮が形成されないように凝縮
防止手段を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、全般的には低温エアロ
ゾルの作成に関し、具体的には、低温エアロゾルを使用
する表面洗浄に関する。
【0002】
【従来の技術】
関連特許 本特許出願は、同一譲受人に譲渡され、同時に出願され
た下記の特許出願に関連する。 ・米国特許出願第08/076052号明細書、整理番
号FI9−93−041 ・米国特許出願第08/076051号明細書、整理番
号FI9−93−031 ・米国特許出願第08/076065号明細書、整理番
号FI9−93−033 ・米国特許出願第08/076064号明細書、整理番
号FI9−93−026
【0003】表面汚染は、多くの業界で幅広い関心を集
めている問題である。このような汚染は、低品質のまた
は役に立たない製品をもたらしたり、製造歩どまりをか
なり低下させる可能性がある。たとえば、具体的な例と
して、表面汚染は、マイクロエレクトロニクス加工業界
の一般的な問題であり、望ましくない粒子、被膜、分子
などの形をとる可能性がある。また、汚染される可能性
のある表面には、半導体ウェハ、表示装置、マイクロエ
レクトロニクス部品などが含まれる。これらの表面の汚
染は、さまざまな種類の欠陥、とりわけ短絡、開路、積
層欠陥などの原因となり得る。これらの欠陥は、回路に
悪影響を及ぼし、最終的にチップ全体を故障させる可能
性がある。
【0004】除去する必要のある汚染を有する別のタイ
プの表面は、プラズマ・エッチングや化学気相成長の反
応炉など、加工装置や加工チャンバや壁である。半導体
加工中に生成される反応残留物やポリマは、チャンバ壁
に堆積する傾向がある。これらの残留物またはポリマ
は、その後、加工中の製品や後で加工される製品の上に
はがれ落ちる可能性がある。この機構に起因する歩どま
り損失を防ぐために、製造加工チャンバを周期的に分解
して、洗浄または「ぬぐい落とす」必要がある。現在
は、週に1回、チャンバ内の治具を分解し、アルコール
と水の混合物を用いてすべての表面をぬぐい落とすこと
が行われている。この周期的な機械分解、ぬぐい落とし
および再組立てと、表面乾燥のため洗浄の後に必要な長
いポンプダウン時間のために、加工設備の生産量と信頼
性が大きく低下する。さらに、堆積した材料が水と反応
する時に形成される酸性煙霧が、洗浄担当者の健康上危
険となる場合も多い。
【0005】米国特許第5108512号明細書は、二
酸化炭素ペレットの衝撃による、多結晶シリコンの製造
に使用される化学気相成長反応炉の洗浄に関する。同明
細書には、ペレタイザに気体二酸化炭素を供給して気体
二酸化炭素を圧縮し固体二酸化炭素ペレットに形成する
方法が開示されている。このペレットは、ペレットの速
度を増すための加速気体と共に、ノズルに供給される。
このノズルは、「ベンチュリ」ノズルであり、ペレット
がそこから出る時に速度が最大になる。さらに、このノ
ズルは、コンベヤ・アームに取り付けられ、これによっ
てノズルが移動できるようになっている。同明細書の装
置に伴う短所として、ペレタイザが必要であること、お
よびノズルの移動のためにコンベヤ・アームにノズルを
取り付けることが含まれる。具体的に言うと、このコン
ベヤ・アーム配置では、ノズルをコンベヤ・アームの構
成に従って移動することしかできないので、ノズルの移
動度が制限される。
【0006】洗浄のもう1つの形として、ウェハや基板
などの表面から粒子または被膜の汚染物を洗浄するのに
使用される化学洗浄が含まれる。化学洗浄には、溶剤ま
たは液体洗浄剤を使用して、洗浄すべき表面から汚染物
を除去または溶解することが含まれる。化学洗浄に伴う
短所は、洗浄剤を高い清浄度と純度に保たなければなら
ないことである。したがって、高品質の溶剤が必要であ
り、この溶剤は、洗浄中に徐々に汚染されるので、定期
的に交換しなければならない。交換された化学薬品は、
処分を必要とし、環境汚染の原因となる。したがって、
化学洗浄方法を適切かつ有効に実施することは困難であ
り、高価につく。
【0007】本発明と同一の譲受人に譲渡された米国特
許第5062898号明細書は、洗浄すべき表面に当た
る少なくとも実質的に固体のアルゴン粒子のエアロゾル
を使用してマイクロエレクトロニクス表面を洗浄する方
法に関する。
【0008】本発明と同一の譲受人に譲渡される米国特
許出願第07/970346号明細書は、洗浄すべき表
面に当たる少なくとも実質的に固体のアルゴンまたは窒
素の粒子のエアロゾルを使用してマイクロエレクトロニ
クス表面を洗浄する方法に関する。
【0009】本発明と同一の譲受人に譲渡される米国特
許出願通し番号第07/958417号明細書は、米国
特許第5062898号明細書または米国特許出願第0
7/970346号明細書に記載の低温エアロゾルを用
いる洗浄処理を実行することのできる装置に関する。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、表面
洗浄用の低温エアロゾルを生成するためのノズル装置を
提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、全般的には、
ある物質からエアロゾルを生成するためのノズル装置に
関する。このノズル装置は、第1の圧力で物質を受け取
るための入口を有する送出し管路を含む。ノズルを送出
し管路に接続して、送出し管路から物質を受け取る。ノ
ズルは、少なくとも1つの出口開口を有し、これによっ
て、物質がそこを通過して、第1の圧力からそれより低
い第2の圧力へ物質を膨張させて、物質を凝固させ、エ
アロゾルを生成することができるようになっている。さ
らに、送出し管路またはノズルに凝縮が形成されないよ
うに凝縮防止手段を設ける。
【0012】
【実施例】一般に、汚染された表面のエアロゾル洗浄
は、洗浄すべき表面に低温粒子を高速で衝突させる処理
によって達成される。低温エアロゾル粒子は、表面上の
汚染粒子、汚染薄膜および汚染分子をたたく。この衝突
によって、汚染物を表面から解放するのに十分なエネル
ギーが汚染物に与えられる。解放された汚染物は、気体
の流れに巻き込まれ、排出される。エアロゾルの気相
は、この表面に当たり、表面を横切って流れ、したがっ
て、薄い境界層を形成する。汚染材料は、通常はこの低
速の境界層の中に存在する。したがって、気相だけで
は、せん断力が不十分なので小さな汚染物を除去できな
い。しかし、低温エアロゾル粒子は、十分な慣性を有
し、したがって、境界層を貫通して表面に達することが
できる。
【0013】低温エアロゾル粒子は、境界層を通過して
表面に向かう際に減速する傾向がある。洗浄作用を発生
させるためには、エアロゾル粒子が境界層を通過し、表
面をたたかなければならない。気流によって、厚さ"h"
で速度の法線成分が無視できる境界層が生成されるとい
う単純なモデルを仮定する。表面をたたくためには、凝
固した低温エアロゾル粒子が、少なくとも"h/t"に等
しい法線成分を有する速度で境界層に入らなければなら
ない。粒子の緩和時間"t"は、次式によって与えられ
る。
【数1】t = 2a2ρpC/9μ
【0014】上式で、"a"は低温エアロゾル粒子の半
径、"ρp"は粒子密度、"μ"は気体の動粘性、"C"は、
次式によって与えられるストークス・カニンガムのすべ
り補正係数である。
【数2】C = 1 + 1.246(λ/a) +
0.42(λ/a)exp[−0.87(a/λ)]
【0015】上式で、"λ"は、気体分子の平均自由行程
であり、気体の圧力に反比例する。
【0016】上記の分析から、洗浄処理の有効度が、低
温エアロゾル粒子の寸法に依存することが示される。洗
浄処理の効率は、大きな質量または高い初期速度を有す
る低温エアロゾル粒子の場合に高くなる。しかし、大き
いエアロゾル粒子は、洗浄すべき表面の微妙な構造に損
傷を与える可能性が高く、この損傷には、点食、亀裂、
転位または応力が含まれる。さらに、大きい寸法の低温
エアロゾル粒子は、構造のくぼみ区域やトレンチに進入
して有効に汚染物を除去することができない。
【0017】低温エアロゾル粒子は、膨張過程の間に形
成される。この膨張に伴う温度低下が、気体種または液
体種を核生成させ、少なくとも実質的に固体の粒子に凝
縮させる。核生成が発生するのは、気体または液体蒸気
が飽和し、分圧が平衡蒸気圧を越える状態になった時で
ある。この過程の間に形成される核の安定寸法は、次式
によって与えられる。
【数3】a = 2σv1/kTln S
【0018】上式で、"σ"は表面張力、"v1"は核生成
種の分子量、"k"はボルツマン定数、"T"は核生成が発
生する温度である。"S"は、膨張冷却の間に達した凝縮
可能種の飽和度である。迅速な凝縮と蒸気分子の拡散か
ら核への成長が同時に発生して、低温エアロゾル粒子の
寸法が大きくなる。
【0019】上の分析から、損傷なしの洗浄実行を達成
するために所望の低温エアロゾル粒子を生成するには、
膨張の前と後に、気体種または液体種の圧力と温度など
の膨張パラメータを制御することが不可欠であることが
実証される。
【0020】さまざまな表面を洗浄するための低温エア
ロゾルを生成するのに有効なことがわかっている不活性
物質には、二酸化炭素、アルゴンおよび窒素が含まれ
る。
【0021】まず図1を参照すると、汚染された表面の
洗浄または「サンドブラスト」用の低温エアロゾルを生
成することのできる装置は、エアロゾルを生成する元に
なる気体、液体または気体と液体の混合物(以下気液混
合物と略す)の供給源5を含む。供給源5によって供給
される物質は、洗浄すべき表面20に無害な物質でなけ
ればならず、表面20の必要とされる清浄度に見合った
純度を有するエアロゾルをもたらさなければならない。
たとえば、マイクロエレクトロニクス加工では、ウェハ
が非常に清浄であることが要求され、したがって、その
ようなウェハを洗浄するためには非常に純度の高いエア
ロゾルが必要になる。ところが、プラズマ加工チャンバ
は、それほど高い清浄度を必要としないことがあり、し
たがって、プラズマ加工チャンバの洗浄に使用されるエ
アロゾルの純度は、ウェハの洗浄に使用されるものほど
高くなくても十分なことがある。
【0022】一般に、気体、液体または気液混合物から
生成するエアロゾルは、どれもさまざまな汚染された表
面の洗浄を行うことができるが、高純度エアロゾルが必
要な時には、気体からエアロゾルを生成することが好ま
しく、比較的低純度のエアロゾルが必要な時には、液体
または気液混合物からエアロゾルを生成することが好ま
しい。これに関して、熱交換機10は、気体からエアロ
ゾルを作る時には必要であるが、低温の液体または気液
混合物からエアロゾルを生成する時には不要であり、し
たがって、一般に、低温の液体または気液混合物からエ
アロゾルを生成するほうが安価である。
【0023】上で述べたように、さまざまな表面を洗浄
するためのエアロゾルを生成するのに有効なことがわか
っている不活性物質には、二酸化炭素、アルゴンおよび
窒素が含まれる。たとえば、気体アルゴンから生成され
た、少なくとも実質的に固体のアルゴン粒子を含むエア
ロゾルは、シリコン・ウェハの洗浄に有効なことがわか
っている。気体アルゴンは、単独で使用するか、超清浄
気体窒素と混合して使用でき、後者の場合、窒素を、気
相のままに留めて、生成される固体アルゴン粒子に高い
速度を与えるキャリアとして働かせることができる。ア
ルゴンに窒素を混合すると、より高い膨張率が可能にな
り、ジュール・トンプソン効果を強化し、冷却を強める
ことができる。気体窒素は、膨張の前にアルゴンと混合
する時、異なる寸法のアルゴン・エアロゾル粒子を生成
するための希釈剤として働かせることもできる。これら
の気体を混合し、任意選択である程度までろ過または冷
却もしくはその両方を行った後に、熱交換機10へ送り
出してさらに冷却することができる。
【0024】もう1つの例として、液体二酸化炭素、液
体アルゴンまたは液体窒素から生成されるエアロゾル
は、プラズマ加工チャンバの洗浄に有効なことがわかっ
ている。液体または気液混合物からエアロゾルを生成す
る時に、物質を、ノズル15に直接供給する、すなわち
熱交換機10を通過させないことを強調する必要があ
る。
【0025】気体からエアロゾルを生成する時には、気
体を、供給源5から熱交換機10に供給するが、以下で
この場合について詳細に説明する。一般に、熱交換機1
0は、気体をその液化点または凝固点付近、すなわち気
体から液体または固体への遷移温度より約2.8〜11
℃高い温度にまで冷却する。しかし、気体の大部分が、
熱交換機10中で気相に保たれることが重要である。熱
交換機10は、不純物トラップとしても働き、そこを通
過する気体から凝縮可能な不純物を除去する。通常、冷
却された気体、たとえば気体アルゴンは、およそ−12
3℃ないし−184℃程度の温度とおよそ138000
Paないし4760000Pa程度のゲージ圧力を有
し、好ましくは、およそ−157℃ないし−184℃程
度の温度とおよそ138000Paないし689000
Pa程度のゲージ圧力を有する。
【0026】その後、熱交換機10からの冷却された気
体あるいは供給源5からの液体または気液混合物である
物質をノズル15に供給し、そこで、この物質をより低
い圧力へ断熱膨張させ、それによってこの物質の少なく
ともかなりの部分を凝固させ、洗浄すべき表面20に向
ける。ノズル15については、後で詳細に説明する。膨
張した物質の圧力は、高真空から大気圧以上までの範囲
にわたる。この膨張が、この物質のジュール・トンプソ
ン冷却をもたらして、好ましくはその凝固を引き起こ
し、その結果、エアロゾルを生成する。ただし、物質の
凝固が発生することが好ましいが、物質の一部が、その
代わりに液化するか液体のままに留まってもよい。な
お、物質のうち少なくともかなりの部分が固体粒子にな
り、物質の残りが液体として残るのであれば、表面20
を有効に洗浄できる。
【0027】気体は、その三重点より下の点まで加圧さ
れた場合に、液滴を形成せずに直接に固体粒子を形成す
る。気体がその三重点より下の点まで加圧されない場
合、その気体は、凝縮して液滴になる可能性があり、液
体のままに留まるか、圧力低下が十分な場合には、その
後凍結して固体粒子になる。たとえば、気体アルゴンの
三重点は、ゲージ圧68900Pa、−189.4℃で
ある。さらに、液体は、十分に冷却されれば固体粒子を
形成する。
【0028】ここで図2を参照すると、上記で概略を示
した冷却要件を実現できる熱交換機10が示されてい
る。熱交換機10は、ハウジング30内に取り付けた低
温タンク25を含む。低温タンク25は、複数の通常の
手段のいずれかによってハウジング30に取り付けるこ
とができるので、そのような通常の手段は、本明細書で
は説明も図示もしない。しかし、効率を最大にするた
め、低温タンク25は、ハウジング30の内壁に接触し
ないことが好ましい。なお、低温タンク25とハウジン
グ30の内壁の間に適当な断熱材を置くことによって、
低温タンク25をハウジング30の内壁から分離するこ
とができる。
【0029】低温タンク25は、固体材料を含むことが
好ましく、熱交換機10が、効率的かつ効果的に、気体
の温度を正確に、たとえば所望の温度から1.1℃ない
し1.7℃以内に制御できるようにするために、低温タ
ンク25は、高い熱伝導率、比較的大きな比熱値および
十分な寸法または質量を有する材料を含まなければなら
ない。また、製造性に関する問題、たとえばろう付けな
ども検討しなければならない。使用する材料の種類と必
要な質量は、エアロゾルの生成中の低温タンク25の冷
却エネルギー要件と許容可能な温度変動によって決定さ
れる。たとえば、約108Kgの質量を有する銅ブロッ
クが、特定の応用例での低温タンク25として働くため
に必要な特性を有することがわかっている。低温タンク
25を維持しなければならない温度は、気体の動作圧力
の関数である。通常、低温タンク25は、約−162℃
と−184℃の間の温度に維持される。気体の動作圧力
が高いほど、低温タンク25を維持しなければならない
温度も高くなり、逆も同様である。4つの熱センサ31
〜34を、低温タンク25の長さ方向に沿って配置し
て、低温タンク25の温度を監視し、これらの温度の読
みを使って、気体の温度を制御または調節する。
【0030】冷却される気体は、入口40から入り、配
管45を通過し冷却されて、冷却された気体が出口50
から出る。配管45は、それを通過する気体が、出口5
0に達した際に必要とされる温度まで適当に冷却される
のに適した長さと直径にしなければならない。一例とし
て、配管45は、ステンレス鋼または他の適当な材料を
含み、外径9.525mm、長さ約9.75mとするこ
とができる。この場合、配管45の最初の7.32m
で、低温タンク25の温度から約1.1℃ないし1.7
℃以内の温度に気体を冷却できることがわかっている。
この気体は、配管45の残りの長さを通過する間、この
温度に保たれる。
【0031】さらに、配管45の内側表面は、そこを通
る気体が汚染されないようにするのに適切な清浄度を有
する必要がある。たとえば、配管45の内側表面を、普
通の処理によって化学的に洗浄し電解研摩することがで
きる。
【0032】配管45は、低温タンク25と適当に熱的
に接触し、その結果、配管45を介して低温タンク25
の冷却エネルギーを効率的かつ効果的に気体に伝達でき
るようになっていなければならない。なお、冷却エネル
ギーの伝達をもたらすためには、配管45の少なくとも
一部が、その全長に沿って、低温タンク25と物理的に
接触するか少なくとも物理的に非常に近接し、したがっ
て、配管45を通過する気体も、低温タンク25に物理
的に非常に近接するようになっていることが好ましい。
したがって、この気体の熱エネルギーは、配管45を介
して低温タンク25の冷エネルギーと交換され、その結
果、気体が冷却される。
【0033】図3は、低温タンク25との適切な熱的接
触をもたらすように配管45を配置する方法の一例を示
す図である。具体的に言うと、低温タンク25内部とそ
の周囲に、らせん状で半径方向の溝55を機械加工す
る。溝55は、配管45を受けるのに適した寸法でなけ
ればならず、その結果、配管45のかなりの部分が、溝
55の中で低温タンク25と接触またはろう付け接触で
きるようになることが好ましい。任意選択で、溝55内
で溝55の全長に沿って切欠60を設けることもでき
る。
【0034】組立てのため、ろう付けワイヤを切欠60
内に置き、配管45を、低温タンク25の周囲の溝55
内にすえ込む。その後、溝55の外側に配管45の長さ
方向に沿ってさらにろう付けワイヤを置く。その後、低
温タンク25を、配管45およびろう付けワイヤと共
に、たとえば真空硬化炉に入れ、ろう付けワイヤを溶か
して、配管45と低温タンク25の間にボンドを形成す
ることができる。具体的に言うと、切欠60内のろう付
けワイヤは、溶融して切欠60を満たし、配管45用の
ボンドをもたらす。また、溝55の外側に配管45の長
さ方向に沿って置かれたろう付けワイヤは、溶融し、溝
55の内側と配管45の間を流れて、その間にボンドを
形成する。配管45は、低温タンク25との間に十分な
熱的接触が生じ、したがって配管45を通って低温タン
ク25から気体への冷却エネルギーの効率的な交換また
は伝達が可能になるように、低温タンク25に十分に接
合しなければならない。
【0035】上記で指定した必要な温度と安定性を達成
するために、低温タンク25と配管45ならびに配管4
5内の気体を、適当な断熱手段によって断熱したハウジ
ング30内に置くことによって、対流および伝導による
熱入力と放射熱負荷、またはそれらからの冷エネルギー
損失から絶縁する。たとえば、この断熱手段は、ハウジ
ング30内の構成要素またはハウジング30自体あるい
はその両方を囲む積層断熱手段を含むことができ、さら
に、ハウジング30から分子を真空排気する真空断熱手
段を含むこともできる。
【0036】一例を挙げると、積層断熱手段は、ハウジ
ング30を囲むまたはハウジング30の周囲に巻き付け
られた材料を含む。このような材料は、放射熱負荷を低
下させ、伝導を妨害する障壁として働くことができなけ
ればならない。好ましい実施例では、J.D.ゴンチ
(Gonczy)、W.N.ボロスキ(Borosk
i)およびR.C.ニーマン(Niemann)の"M
ultilayer Insulation (ML
I) in the Superconducting
Super Collider − a Pract
ical Engineering Approach
to Physical Parameters G
overning MLI Thermal Perf
ormance"、Fermi National A
ccelerator Laboratory、198
9年3月に開示され、1989年2月8日〜10日に米
国ルイジアナ州ニューオリンズで開催された1989
International Industrial
Symposium on the Super Co
lliderでJ.D.ゴンチによって発表された概念
を使用して、本発明の積層断熱手段を構成する。これら
の概念によれば、積層断熱手段は、多層ブランケット8
5を含むことができる。この多層ブランケット85の部
分平面断面図を、図4に示す。多層ブランケット85
は、反射層90とスペーサ層95を交互に有し、多層ブ
ランケット85は、スペーサ層95から始まりスペーサ
層95で終わる。反射層90はそれぞれ、伝導に対する
障壁として機能するために低い放射率を有する材料を含
む中央部分92を有する。各反射層90の中央部分92
は、2つの末端層93と94の間に「挟まれ」ている。
末端層93と94はそれぞれ、熱エネルギーを反射する
能力を有する。スペーサ層95は、反射層90を互いに
隔てるよう機能し、したがって、末端層93および94
をカプセル封じして、熱が、ある反射層90から次の反
射層90へ直接伝達されないようにする。多層ブランケ
ット85が有効に機能するのに必要な、交互の反射層と
スペーサ層の具体的な総数は、それが使用される特定の
応用例によって変わる。一般に、多層ブランケット85
を通る熱流束は、実施された反射層90の数に反比例し
て変化し、多層ブランケット85の単位厚さあたりの反
射層90の密度または個数の関数である。具体的な例と
して、上記で指定した温度範囲でエアロゾルを生成する
ための積層断熱手段として機能するのに有効な多層ブラ
ンケット85を提供するには、21個のスペーサ層95
の間に20個の反射層90を交互に挟み、各反射層90
が、約0.03未満の放射率と約6.35μmの厚さを
有し、その中央部分92がポリエステルからなり、その
末端層93および94がそれぞれ、約350Åの厚さを
有するアルミめっき金属コーティングを含み、各スペー
サ層95が、約0.1mmの厚さと約17g/m2の密
度を有し、ポリエチレンテレフタラートまたはスパン接
合ポリエステルを含むと十分であることがわかってい
る。
【0037】例を示すと、ポンプ65を設けて、たとえ
ば約1.33×10-2Pa程度の高真空をハウジング3
0内で達成するために、ハウジング30から気体分子を
真空排気することができる。具体的な例として、ポンプ
65は、米国マイアミ州LexingtonのVari
an Vacuum Products社から市販され
ているTurbo−V60 Turbomolecul
ar Pump、No.969−9002とすることが
できる。しかし、他の市販ポンプを使用して、所望の真
空レベルを達成することもできる。さらに、冷却効率を
高めるため、ポンプ65を、90°エルボ70に取り付
けて、ポンプ65の口がハウジング30の内側に直接向
かわないようにすることができる。なお、90°エルボ
70によって、動作中にポンプ65が生成する熱のハウ
ジング30への伝達が最小になる。
【0038】ハウジング30内に延び、好ましくは低温
タンク25内に延びまたはこれと接触する冷却要素77
を有する、コールド・ヘッドなどの冷却手段75を設け
て、低温タンク25を所望の温度まで冷却する。冷却手
段75は、所望の温度に達するまで低温タンク25を一
定速度で冷却できるものであれば、市販のどんな冷却ユ
ニットでもよい。たとえば、米国ニューハンプシャー州
HudsonのBalzers社から市販されているB
alzers Model VHC 150Cryog
enic Refrigeratorは、77°Kで2
00Wの出力を供給できる密閉サイクル冷凍機である。
これを用いると、108.4Kgの銅ブロックを含む低
温タンク25を、室温から77°Kまで約9時間で冷却
でき、最低温度は約24°Kになる。この熱交換機10
を用いると、気体の大きな熱負荷を、所望の低温の小さ
な変動範囲内に保つことができる。たとえば、工程熱負
荷が毎分約1200Wの場合、気体の出力温度を、所望
の温度から±0.56℃以内に保ち、制御できることが
わかっている。
【0039】さらに、低温タンク25を所望の温度に正
確に維持するため、ハウジング30内に延び、好ましく
は低温タンク25内に延びまたはこれと接触する加熱棒
80を有する、通常の熱源(図示せず)などの加熱手段
を設けることも可能である。コールド・ヘッドと熱源
を、そのような目的のために循環的にオン・オフするこ
とができる。なお、コールド・ヘッドを適当に循環的に
オン・オフすることによって、加熱手段なしで低温タン
ク25を所望の温度に保つことも可能である。
【0040】さらに、本発明の熱交換機10は、冷却手
段75の代わりに加熱手段を実施するならば、冷却装置
ではなく加熱装置として使用できることが明白である。
現在市販されている熱源を、そのような目的に使用する
ことができる。その場合、低温タンク25は、低温タン
クではなく熱タンクと呼ぶことができる。
【0041】さらに、本発明の装置は、熱交換機または
清浄器(または不純物トラップ)あるいはその両方とし
て機能することができる。配管45内で気体の温度を下
げている間に、その気体に含まれる、保持温度を越える
遷移温度を有する不純物はすべて配管45の内壁上に凝
縮する。これは、配管45を通過する液体の場合にもあ
てはまる。なお、不純物トラップとして機能する時に
は、配管45の内壁に凝縮した不純物を脱着させるため
の再生手段を含めなければならないことにも留意された
い。また、ハウジング30内に延びる加熱棒80を有す
る通常の熱源(図示せず)などの加熱手段を使用して、
低温タンク25をその不純物の遷移温度以上の温度に
し、その後、脱着された不純物を配管45から「追い出
す」ことができる。
【0042】気体は、熱交換機10によって冷却された
後に、ノズル15に供給され、そこでエアロゾルが生成
され、洗浄すべき表面20に送られる。ノズル15は、
エアロゾルを生成するために気体の少なくともかなりの
部分を凝固させるのに必要なジュール・トンプソン冷却
を効率的に実現できなければならない。本発明によれ
ば、ノズル15を取り付けるためのさまざまな手段は、
具体的な応用例および洗浄すべき表面に応じて実施する
ことができる。
【0043】図5ないし図8を参照すると、1実施例で
は、ノズル102を含むノズル装置を、洗浄すべき表面
20、たとえばウェハを置いた加工チャンバ105に固
定して取り付ける。表面20は、ノズル102の下で、
たとえば表面20をその上に置いたチャック110を使
用して、操作することができる。したがって、生成され
るエアロゾルを表面20に向け、表面20を、ノズル1
02の下で操作しながら洗浄する。さらに、表面20の
洗浄中に、たとえば窒素のカーテン気体またはキャリア
気体を、矢印115で示すように処理チャンバ105中
に流すことができる。表面20から洗い落とされた粒子
を、このカーテン気体によって運び去ることができる。
さらに、このカーテン気体は、エアロゾルが表面20に
送られたことによって生じ、表面20上での水滴、氷ま
たは不純物凝縮の形成を最小にする働きをする。このよ
うな水滴または氷が形成されると、表面20の洗浄が不
十分になる可能性がある。また、表面20を乾燥状態に
保つために、通常の加熱手段によって表面20を加熱す
ることもできる。
【0044】図からわかるように、ノズル102は、送
出し管路120の一端に接続される。送出し管路120
の他端は、熱交換機10からの配管45に接続される
が、ノズル102に供給する前に物質を冷却する必要が
ない場合には、この他端を物質供給源に直接に接続する
ことができる。送出し管路120は、真空フィードスル
ー・アセンブリ125内に格納される。真空フィードス
ルー・アセンブリ125の一端は、熱交換機10に取り
付けられ、真空フィードスルー・接続アセンブリ125
の他端は、加工チャンバ105のチャンバ・カバー13
0に取り付けられる。チャンバ・カバー130は、処理
チャンバ105内に延びるノズル・ハウジング135を
有する。真空フィードスルー・アセンブリ125が、熱
交換機10に通じており、チャンバ・カバー130のノ
ズル・ハウジング135が、真空フィードスルー・アセ
ンブリ125に通じており、熱交換機10のハウジング
30内で達成された真空が真空フィードスルー・アセン
ブリ125内で実現され、さらにノズル・ハウジング1
35内でも実現されることが好ましい。したがって、真
空フィードスルー・アセンブリ125は、ハウジング3
0と共に取り付け密閉する必要があり、加工チャンバ1
05のチャンバ・カバー130は、真空フィードスルー
・アセンブリ125と共に取り付け密閉する必要があ
り、そうすると、ポンプ65を使用して、ハウジング3
0内ならびに真空フィードスルー・アセンブリ125お
よびノズル・ハウジング135内で真空を達成すること
ができるようになる。このような取付けと密閉は、通常
の手段によって達成でき、したがって本明細書では詳細
に説明しない。したがって、真空フィードスルー・アセ
ンブリ125およびノズル・ハウジング135内の真空
レベルは、ハウジング30内の真空レベルとほぼ等しい
レベル、たとえば約1.33×10-2Paに維持するこ
とができる。真空フィードスルー・アセンブリ125内
およびノズル・ハウジング135内で真空を実現して、
送出し管路120とノズル102を大気から断熱または
分離することにより、熱交換機10の配管45から送出
し管路120を経てノズル102に送り出される気体の
温度を、その遷移温度に比較的近い温度に維持できるよ
うになる。
【0045】さらに、真空フィードスルー・アセンブリ
125内およびノズル・ハウジング135で真空を実現
すると、送出し管路120またはノズル102での凝縮
物、水滴その他の不純物が形成されなくなる。送出し管
路120またはノズル102での凝縮物の形成は、エア
ロゾル作成にとって有害であり、不安定なエアロゾル・
ジェットを引き起こす可能性がある。送出し管路120
とノズル102の冷却の後に凝縮物が形成される場合、
その凝縮過程によって熱が解放され、温度が上昇する。
このように温度が上昇すると、気体を所望の温度に保て
なくなる可能性があり、したがって、エアロゾルを形成
できなくなくなる可能性がある。したがって、処理条件
が不安定になったり、待機温度から動作温度までの処理
時間が長くなりあるいは動作温度が達成できなくなる可
能性がある。
【0046】図6ないし図8に具体的に示すように、ノ
ズル102は、上部送出しマニホルド140と下部送出
しマニホルド145を含む。上部送出しマニホルド14
0と下部送出しマニホルド145は、特定の応用例に適
した寸法を有する。たとえば、203.2mm(8イン
チ)のウェハを洗浄する場合、上部送出しマニホルド1
40は、約206.4mmの長さL1を有することがで
き、下部送出しマニホルド145は、約218.7mm
の長さL2を有することができる。
【0047】上部送出しマニホルド140と下部送出し
マニホルド145の形成に選択される材料は、そこを通
過する気体の圧力に起因する浸食に耐える能力を有する
必要があり、破壊なしに低い動作温度に耐える能力を有
する必要がある。材料を選択する際に検討すべき他の要
因としては、機械加工の容易さまたは製造可能性と、費
用がある。使用できる材料には、セラミック、ガラス、
ステンレス鋼、銅、アルミニウム、プラスチック、合金
などが含まれる。
【0048】複数のつり合い開口またはつり合い穴15
0および152を、上部送出しマニホルド140と下部
送出しマニホルド145の境界面155に設けて、その
中に低圧点が生成されないようにする。つり合い穴15
0および152は、気体の均等な分布を実現して上部送
出しマニホルド140から下部送出しマニホルド145
に渡される気体の圧力を等しくする。意図せずに低圧点
が生成された場合、その圧力の変化が、気体の遷移温度
の変化を引き起こし、その結果、ノズル102の下流側
に不均等なエアロゾルが生成される可能性がある。ノズ
ル内の不均等な圧力分布は、ノズル内部の気体の液化ま
たは凝固を引き起こす可能性があり、したがって、不安
定なエアロゾル・ジェットを引き起こす可能性がある。
上記で指定した長さを有するマニホルド内でのこれらの
低圧点の生成を防ぐには、次の隣接するつり合い穴15
0および152から約33.9mmの中心間距離で等間
隔に配置された約6個のつり合い穴150および152
の列を設けると、低圧点の生成を防止できることがわか
っている。ノズル102に供給された気体は、つり合い
穴150に向かい、その結果、これらのつり合い穴15
0は、境界面155の端に最も近い位置にあるつり合い
穴152よりも高い気圧を受ける。したがって、より高
い気圧を受けるつり合い穴150を、より低い圧力を受
けるつり合い穴152より小さくする。たとえば、つり
合い穴150および152は、それぞれ2.54mmな
いし6.35mmの直径にすることができる。具体例を
挙げると、つり合い穴150がそれぞれ約3.18mm
の直径を有し、つり合い穴152がそれぞれ約4.76
mmの直径を有する。
【0049】効率を高めるため、ノズル102の上部送
出しマニホルド140と下部送出しマニホルド145
に、たとえば約0.76mmないし約1.27mm程度
の薄い壁、すなわち断面積の小さい壁を備える。なお、
壁を薄くすると、上部送出しマニホルド140と下部送
出しマニホルド145を所望の動作温度に迅速に冷却で
きるようになる。これによって、ノズル102が待機温
度から動作温度に移行するサイクル時間が最小になり、
膨張の前の気体の冷却損失も最小になる。
【0050】下部送出しマニホルド145の下壁160
は、傾斜しており、この下壁160は出口開口165の
列を有し、この出口開口165を通じてエアロゾルが形
成され、洗浄すべき表面20に向かう。出口開口165
は、どのような形状でもよく、たとえば円形の穴やスリ
ットにすることができる。下壁160の傾斜により、エ
アロゾルを表面20に斜めに向けることによって、表面
20を効果的に洗浄できるようになる。なお、出口開口
165から生成されるエアロゾル・ジェットは、表面2
0に対して0°ないし90°の角度、好ましくは45°
に向けられる。さらに、出口開口165は、エアロゾル
が表面20から所定の距離に固体「カーテン」として形
成されるように、気体がそこを通って出る際にオーバー
ラップできる寸法で離隔させなければならない。これに
よって、表面20全体がエアロゾルによって覆われ、洗
浄すべきことが保証される。さらに、出口開口165の
直径は、物質が低い圧力まで十分に膨張し、その結果、
物質の少なくともかなりの部分が、エアロゾル生成用の
物質のジュール・トンプソン冷却によって凝固するよう
に、十分に小さくしなければならない。なお、出口開口
165の直径は、物質がノズル102に供給される時の
圧力の関数である。供給される物質の圧力が高いほど、
許容可能な出口開口165が大きくなり、その逆も同様
である。たとえば、気体アルゴンをゲージ圧約4830
00Paで供給している場合、出口開口165はそれぞ
れ、約0.13mmないし約2.54mm程度の直径を
有する穴とすることができる。さらに、これらの出口開
口165は、次の隣接する出口開口165から約1.5
9mmの中心間距離で離隔させることができ、その結
果、約218.7mmの長さを有する下部送出しマニホ
ルド145内に、約128個の出口開口165を置くこ
とができる。
【0051】この実施例では、ノズル102は、ノズル
102をチャンバ・カバー130のノズル・ハウジング
135に取り付けるための取付けセグメント170およ
び175を含む。取付けセグメント170および175
は、溶接などの通常の手段によって、ノズル・ハウジン
グ135に取り付けまたは固定することができる。熱伝
導を最小にするために、図5に示すように、取付セグメ
ント170および175をノズル・ハウジング135に
取り付けるだけでノズル102がノズル・ハウジング1
35内に支持され、ノズル102の表面の大部分が真空
に囲まれることに留意されたい。さらに、熱伝導をさら
に最小化するため、取付けセグメント170および17
5のノズル・ハウジング135に固定される部分とノズ
ル102との間の境界面180および185の断面積が
最小になるように、境界面180および185を薄くす
ることができる。したがって、境界面180および18
5は、ノズル102とノズル・ハウジング135の間の
熱障壁として機能する。たとえば、境界面180および
185の厚さは、約0.13mmまで薄くすることがで
きる。
【0052】図9ないし図12に示すもう1つの実施例
では、ノズル202が、操作可能または移動可能な形
で、ノズル取付け囲い壁、ノズル取付けハウジングまた
はノズル取付けチャンバ205から延びまたはそこから
もしくはその中で懸垂されるように、ノズル202を有
するノズル装置が取り付けられる。次いで、ノズル取付
けチャンバ205を、洗浄する必要のある、加工チャン
バ210または何らかの処理装置もしくはその一部に取
り付けることができる。その後、たとえば、加工チャン
バ210の内壁をノズル202から生成されるエアロゾ
ルで洗浄するために、ノズル202は、加工チャンバ2
10に向ける。この実施例のノズル202は、上記で説
明した実施例のようにハウジングに固定されてはいない
ので、ノズル202には、取付けセグメントが不要であ
り、ノズル202と支持構造の間には境界面が存在しな
い。したがって、上記の薄くした境界面180および1
85などの熱障壁も、この実施例では不要である。
【0053】少なくとも、ノズル取付けチャンバ205
の側壁215は、透明プラスチックなどの透明材料を含
み、洗浄中の加工チャンバ210の内部が使用者に見え
るようになっており、またノズル取付けチャンバ205
内のノズル装置も使用者に見えるようになっていること
が好ましい。側壁215は、カバー225とフランジ2
30の間に位置し、カバー225とフランジ230は、
たとえば、ノズル取付けチャンバ205中を通って延び
カバー225およびフランジ230に固定された4本の
鋼棒235などを使用して、一緒に保持される。
【0054】フランジ230は、ボルト212を使用す
るなど、通常の手段によって加工チャンバ210に一時
的に、取外し可能に取り付けることができる。具体的な
例として、本発明の装置は、米国カリフォルニア州Sa
nta ClaraのApplied Materia
ls,Inc.製のAME5000プラズマ加工チャン
バに取り付け、その内壁を効果的に洗浄できることがわ
かっている。
【0055】ノズル取付けチャンバ205には、さら
に、パージ・ポート240と出口ポート245が含まれ
る。パージ・ポート240には、パージ気体供給源24
2が接続されている。パージ気体をノズル取付けチャン
バ205に導入し、これによって、ノズル取付けチャン
バ205、カバー225、フランジ230および加工チ
ャンバ210の内側表面や、洗浄中の表面を含めてそこ
に格納される構成要素の表面に凝縮物または不純物が形
成されないようにする。たとえば、パージ気体は、少な
くとも約99%の純度を有する必要があり、このパージ
気体は、たとえば乾燥した気体窒素とすることができ
る。出口ポート245は、排気ポンプまたは真空ポンプ
247に接続される。このパージと真空排気は、加工チ
ャンバ210の表面から洗い落された汚染物または粒子
を出口ポート245から除去して、汚染物または粒子が
加工チャンバ210を再汚染するのを防止するように配
置される。たとえば、ノズル取付けチャンバ205と加
工チャンバ210内で正圧を確立するようにパージと真
空排気を配置することが、この課題を達成するための技
法の1つである。
【0056】圧力調整機249を、パージ配管または真
空排気のいずれかまたは両方に付加することができる。
圧力調整機249を用いると、ノズル取付けチャンバ2
05内の圧力を調整できるようになり、エアロゾルを生
成しているか否かにかかわらず、その圧力を一定値に維
持できるようになる。圧力調整機249は、圧力平衡設
計に従ってパージ側または真空排気側もしくはその両方
に接続することができ、図では真空排気側にある。さら
に、計器250を組み込んで、ノズル取付けチャンバ2
05内の圧力を監視できるようにすることも可能であ
る。
【0057】エアロゾルを生成するのに使用される気体
または液体の供給源を、ノズル取付けチャンバ205内
の供給管路260に供給するために、入口255に接続
する。上記に示したように、供給される具体的な物質と
その形態、すなわち気体、液体または気体と液体の混合
物は、洗浄すべき表面と純度要件に応じて変わる。一般
に、物質を選択する際に考慮すべき他の要因には、その
物質によって引き起こされる表面の損傷、洗浄すべき粒
子の種類、作業環境、その物質の入手しやすさ、その物
質によって引き起こされる環境上の危険などが含まれ
る。たとえば、液体二酸化炭素は、加工チャンバの洗浄
に有効であることがわかっている。なお、二酸化炭素エ
アロゾルは、有機性の堆積物の除去に好ましい。
【0058】ノズル202による膨張の前に冷却が必要
な時、すなわち気体からエアロゾルを生成する時には、
上記に指定した詳細に従って、入口255を熱交換機1
0の配管45に接続しなければならない。しかし、低温
の液体または気液混合物を使用し、そのような冷却が不
要な場合には、入口255を液体または気液混合物の供
給源に直接接続することができる。
【0059】供給管路260を介してノズル202へ物
質を供給して、加工チャンバ210の内側を洗浄するた
めのエアロゾルを生成する。供給管路260の一端は、
カバー225に固定され、供給管路260の他端は、ス
テンレス鋼のカラー263や溶接など、通常の手段を使
用してノズル202に接続される。したがって、ノズル
202は、供給管路260によって吊るされる。供給管
路260の長さは、洗浄すべき加工チャンバ210の寸
法と、エアロゾルを通じる必要のある加工チャンバ21
0の面積とに応じて変わる。なお、供給管路260は、
適宜、図のようにノズル202がフランジ230を越え
て延びる長さとしてもよく、あるいはノズル202がノ
ズル取付けチャンバ205内に留まるように短縮しても
よい。
【0060】この実施例のノズル202は、その上に保
護コーティング265を含むことができ、出口開口27
0を一つだけ有してもよい。保護コーティング265
は、誤ってノズル202を接触させた時に加工チャンバ
210の内側表面を損傷から保護する。保護コーティン
グ265は、たとえばテフロン(DuPont,Co.
社のポリテトラフルオロエチレンの商標)など、そのよ
うな目的に適した材料を含むことができる。
【0061】出口開口270は、ノズル202の端に接
したものとして図示してあるが、出口開口270は、ノ
ズル202上で、洗浄のためエアロゾルの向きを定める
のに好都合などんな場所に置いてもよい。たとえば、出
口開口270を、ノズル202の側面に置くこともでき
る。さらに、出口開口270は、1つだけ図示してある
が、適切な洗浄に必要な任意の個数の出口開口270を
任意のパターンでノズル202内に置くことができる。
含まれる出口開口270の個数は、洗浄すべき表面の表
面積に応じて変わる。ノズル202の先端にあり、約
0.51mmの直径を有する単一の円形の開口が、特定
の加工チャンバの洗浄に有効なエアロゾルを生成する能
力を有することが示されている。ノズル202用の出口
開口270のさまざまな配置の例を、図13ないし図1
5に示す。なお、ノズル202は、多数の洗浄要件に合
わせるために取外し可能かつ交換可能にすることができ
る。
【0062】比較的多数の出口開口270が必要な場合
には、低圧点の問題が発生する可能性があるので、上記
で説明した上部送り出しマニホルドと下部送り出しマニ
ホルドの配置を実施する必要が生じることがある。もち
ろん、出口開口270を1つだけ使用する時には、圧力
平衡化の問題は存在しない。また、上記で指定したよう
に、出口開口270の寸法は、物質が供給される時の圧
力に依存するが、エアロゾル生成に適した膨張が可能な
ように適度に小さくしなければならない。したがって、
ノズル202は、通常のねじ、ピン、クランプなどを用
いて取り付けることによって、簡単に取外し可能にする
ことができ、その結果、さまざまな位置に開口を有する
交換ノズルが交換して使用できるようになる。
【0063】エアロゾルを加工チャンバ210の汚染さ
れた表面のすべてに通じさせ、洗浄するために、ノズル
202を操作して、そのような汚染された表面にエアロ
ゾルを向けるための手段を設けなければならない。な
お、供給管路260は、必要な低温での洗浄の間に適度
な柔軟性を保つ材料を含むことができる。その場合、供
給管路260を操作して、洗浄すべき表面にノズル20
2を向けることができる。たとえば、プラスチックや特
定の金属の構成を供給管路260の構造に使用して、必
要な柔軟性を達成することができる。具体的な例とし
て、外径約3.18mmのステンレス鋼編組み配管が、
室温、ゲージ圧約5520000Paで液体二酸化炭素
からエアロゾルを生成するのに十分な柔軟性を保つこと
がわかっている。
【0064】操作性を提供するためのもう1つの手段
は、たとえば供給管路260をカバー225に接続す
る、自在型の継手264を含むものである。この場合、
供給管路260を継手264のところで旋回させて、洗
浄すべき表面にノズル202を向けることができる。
【0065】操作を制御するために、ロボット・アーム
などの通常の自動操作手段を設けることができ、また手
動操作手段を設けることもできる。図示のように、手動
操作の場合、ノズル取付けチャンバ205にアクセス開
口275を設けることができ、このアクセス開口275
を介して、たとえば1つまたは複数の手袋222をノズ
ル取付けチャンバ205内に導入することができる。ア
クセス開口275は、たとえばステンレス鋼からなり、
ノズル取付けチャンバ205内の大気からの十分な密閉
を維持しながら手袋222を受けるように適合された、
枠280を有することができる。使用者の手を手袋22
2に挿入して、ノズル202を手動操作する。さらに、
より簡単なまたはより便利な操作のために、ノズル・グ
リップ220を、供給管路260に沿ってノズル202
より前の位置に設けて、ハンドルとして使用することが
できる。ノズル・グリップ220は、たとえばテフロン
(DuPont,Co.社のポリテトラフルオロエチレ
ンの商標)を含むことができる。さらに便利かつ安全に
するために、供給管路260に沿って弁223を設け
て、ノズル202への物質の供給を制御または調節する
こともできる。
【0066】ここで図16および図17を参照すると、
本発明のもう1つの実施例では、フランジ300が、加
工チャンバ305を洗浄するため加工チャンバ305に
直接取り付けられるよう適合されている。フランジ30
0は、上記で説明したように従来通り加工チャンバ30
5に取り付けられ、永久的に取り付けられるようにする
ことも、洗浄の間だけ一時的に取り付けるようにするこ
ともできる。図からわかるように、フランジ300は、
パージ気体供給源315が接続されたパージ・ポート3
10と、排気ポンプまたは真空ポンプ325が接続され
た出口ポート320を含み、圧力調整機326が、真空
排気管路に接続される。さらに、ノズル330が、フラ
ンジ300に取り付けられる。ノズル330は、移動可
能または操作可能に取り付けるることも、固定的に取り
付けることもでき、供給源は、ノズル330の入口33
5に直接取り付けられる。上記と同様に、自在型の継手
340を設けてノズル330をフランジ300に接続す
ることができ、アクセス開口345をフランジ300内
に設けて、ノズル330を操作できるようにすることが
できる。さらに、このパージおよび真空排気手段は、加
工チャンバ305内に正圧をもたらし、加工チャンバ3
05内面上での凝縮物または水分は不純物の形成を防止
し、加工チャンバ305の再汚染を防止する。
【0067】本発明を具体的な実施例に関して説明して
きたが、前述の説明を考慮すれば、多数の代替案、修正
および変形が当業者に明白になることは明らかである。
したがって、本発明は、本発明および特許請求の範囲の
趣旨および範囲に含まれる、そのような代替案、修正お
よび変形のすべてを包含するものである。
【0068】まとめとして、本発明の構成に関して以下
の事項を開示する。
【0069】(1)第1の圧力で物質を受け取るための
入口を有する送出し管路と、少なくとも1つの出口開口
を有し、これによって、物質がそこを通過して、第1の
圧力から第1の圧力より低い第2の圧力へ物質を膨張さ
せて物質を凝固させ、エアロゾルを生成することができ
る、前記送出し管路に接続された、前記送出し管路から
物質を受け取るためのノズルと、前記送出し管路または
前記ノズルもしくはその両方に凝縮物が形成されないよ
うにするための凝縮防止手段とを具備する、物質からエ
アロゾルを生成するためのノズル装置。 (2)前記出口開口が、円形の穴であることを特徴とす
る、上記(1)に記載のノズル装置。 (3)前記出口開口が、約0.13mmないし約2.5
4mmの直径を有することを特徴とする、上記(2)に
記載のノズル装置。 (4)前記ノズルが、それぞれ次の隣接する穴から約
1.59mmの中心間距離で離隔された複数の穴を含む
ことを特徴とする、上記(3)に記載のノズル装置。 (5)前記凝縮防止手段が、前記送出し管路と前記ノズ
ルとを真空で分離するための真空手段を具備することを
特徴とする、上記(1)に記載のノズル装置。 (6)前記凝縮防止手段が、パージ手段を具備すること
を特徴とする、上記(1)に記載のノズル装置。 (7)さらに、前記送出し管路を断熱するための手段を
具備する、上記(1)に記載のノズル装置。 (8)前記断熱手段が、真空断熱を含むことを特徴とす
る、上記(7)に記載のノズル装置。 (9)さらに、前記ノズルを断熱するための手段を具備
する、上記(1)に記載のノズル装置。 (10)前記断熱手段が、真空断熱を含むことを特徴と
する、上記(9)に記載のノズル装置。 (11)前記ノズルがさらに、前記ノズルを支持構造に
取り付けるための取付け手段を含み、前記取付け手段
が、ノズルと支持構造の間に境界面を有することを特徴
とする、上記(1)に記載のノズル装置。 (12)さらに、ノズルと支持構造の間の熱伝導を最小
にするための熱障壁を具備する、上記(11)に記載の
ノズル装置。 (13)前記熱障壁が、小断面積の壁を含むことを特徴
とする、上記(12)に記載のノズル装置。 (14)前記壁が、約0.13mm程度の厚さを有する
ことを特徴とする、上記(13)に記載のノズル装置。 (15)前記ノズルが、所望の動作温度を効率的に達成
するために、小断面積の壁を有することを特徴とする、
上記(1)に記載のノズル装置。 (16)前記壁が、約0.76mmないし約1.27m
m程度の厚さを有することを特徴とする、上記(15)
に記載のノズル装置。 (17)前記ノズルがさらに、その中に低圧点が存在し
ないようにその中の圧力を平衡化するための圧力平衡化
手段を具備することを特徴とする、上記(1)に記載の
ノズル装置。 (18)前記圧力平衡化手段が、上部送出しマニホルド
と下部送出しマニホルドとを具備し、上部送出しマニホ
ルドと下部送出しマニホルドの間の境界面が、気体を通
すことのできるつり合い開口を有し、前記下部送出しマ
ニホルドが、その中に前記少なくとも1つの出口開口を
有することを特徴とする、上記(17)に記載のノズル
装置。 (19)前記つり合い開口が、約2.54mmないし約
6.35mmの直径を有することを特徴とする、上記
(18)に記載のノズル装置。 (20)前記穴が、次の隣接する穴から約33.9mm
の中心間距離で一列に離隔されることを特徴とする、上
記(19)に記載のノズル装置。 (21)前記ノズルが、取外し可能かつ交換可能である
ことを特徴とする、上記(1)に記載のノズル装置。
【図面の簡単な説明】
【図1】エアロゾル洗浄装置の全体概略図である。
【図2】本発明による熱交換機の部分断面図である。
【図3】図2の熱交換機の一部分の断面図である。
【図4】図2の熱交換機に使用される断熱材の断面図で
ある。
【図5】本発明による表面洗浄用装置の1実施例の断面
図である。
【図6】本発明によるノズル・チップの正面部分断面図
である。
【図7】図6のノズル・チップを異なる角度から見た図
である。
【図8】図6のノズル・チップを異なる角度から見た図
である。
【図9】本発明による表面洗浄用装置のもう1つの実施
例の断面図である。
【図10】図9の装置の平面図である。
【図11】図9の装置の底面図である。
【図12】本発明によるノズル・チップの断面図であ
る。
【図13】本発明に従って使用できるノズルの例を示す
図である。
【図14】本発明に従って使用できるノズルの例を示す
図である。
【図15】本発明に従って使用できるノズルの例を示す
図である。
【図16】本発明による表面洗浄用装置のもう1つの実
施例の断面図である。
【図17】図16の装置の平面図である。
【符号の説明】
202 ノズル 205 ノズル取付けチャンバ 210 加工チャンバ 215 側壁 220 ノズル・グリップ 222 手袋 223 弁 225 カバー 230 フランジ 240 パージ・ポート 242 パージ気体供給源 245 出口ポート 247 真空ポンプ 249 圧力調整機 255 入口 260 供給管路 264 継手 265 保護コーティング 270 出口開口 275 アクセス開口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ウィリアム・アルバート・キャヴァリエー ル アメリカ合衆国12585 ニューヨーク州ヴ ァーバンク アール・アール ボックス15 (72)発明者 デーヴィッド・クライド・リネル アメリカ合衆国12601 ニューヨーク州ポ ーキープシー ロックデール・ロード172 (72)発明者 ジン・ジュワン・ウー アメリカ合衆国10562 ニューヨーク州オ スィニング クロトンアベニュー139 ナ ンバー・エフ

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】第1の圧力で物質を受け取るための入口を
    有する送出し管路と、 少なくとも1つの出口開口を有し、これによって、物質
    がそこを通過して、第1の圧力から第1の圧力より低い
    第2の圧力へ物質を膨張させて物質を凝固させ、エアロ
    ゾルを生成することができる、前記送出し管路に接続さ
    れた、前記送出し管路から物質を受け取るためのノズル
    と、 前記送出し管路または前記ノズルもしくはその両方に凝
    縮物が形成されないようにするための凝縮防止手段とを
    具備する、物質からエアロゾルを生成するためのノズル
    装置。
  2. 【請求項2】前記出口開口が、円形の穴であることを特
    徴とする、請求項1に記載のノズル装置。
  3. 【請求項3】前記出口開口が、約0.13mmないし約
    2.54mmの直径を有することを特徴とする、請求項
    2に記載のノズル装置。
  4. 【請求項4】前記ノズルが、それぞれ次の隣接する穴か
    ら約1.59mmの中心間距離で離隔された複数の穴を
    含むことを特徴とする、請求項3に記載のノズル装置。
  5. 【請求項5】前記凝縮防止手段が、前記送出し管路と前
    記ノズルとを真空で分離するための真空手段を具備する
    ことを特徴とする、請求項1に記載のノズル装置。
  6. 【請求項6】前記凝縮防止手段が、パージ手段を具備す
    ることを特徴とする、請求項1に記載のノズル装置。
  7. 【請求項7】さらに、前記送出し管路を断熱するための
    手段を具備する、請求項1に記載のノズル装置。
  8. 【請求項8】前記断熱手段が、真空断熱を含むことを特
    徴とする、請求項7に記載のノズル装置。
  9. 【請求項9】さらに、前記ノズルを断熱するための手段
    を具備する、請求項1に記載のノズル装置。
  10. 【請求項10】前記断熱手段が、真空断熱を含むことを
    特徴とする、請求項9に記載のノズル装置。
  11. 【請求項11】前記ノズルがさらに、前記ノズルを支持
    構造に取り付けるための取付け手段を含み、前記取付け
    手段が、ノズルと支持構造の間に境界面を有することを
    特徴とする、請求項1に記載のノズル装置。
  12. 【請求項12】さらに、ノズルと支持構造の間の熱伝導
    を最小にするための熱障壁を具備する、請求項11に記
    載のノズル装置。
  13. 【請求項13】前記熱障壁が、小断面積の壁を含むこと
    を特徴とする、請求項12に記載のノズル装置。
  14. 【請求項14】前記壁が、約0.13mm程度の厚さを
    有することを特徴とする、請求項13に記載のノズル装
    置。
  15. 【請求項15】前記ノズルが、所望の動作温度を効率的
    に達成するために、小断面積の壁を有することを特徴と
    する、請求項1に記載のノズル装置。
  16. 【請求項16】前記壁が、約0.76mmないし約1.
    27mm程度の厚さを有することを特徴とする、請求項
    15に記載のノズル装置。
  17. 【請求項17】前記ノズルがさらに、その中に低圧点が
    存在しないようにその中の圧力を平衡化するための圧力
    平衡化手段を具備することを特徴とする、請求項1に記
    載のノズル装置。
  18. 【請求項18】前記圧力平衡化手段が、上部送出しマニ
    ホルドと下部送出しマニホルドとを具備し、上部送出し
    マニホルドと下部送出しマニホルドの間の境界面が、気
    体を通すことのできるつり合い開口を有し、前記下部送
    出しマニホルドが、その中に前記少なくとも1つの出口
    開口を有することを特徴とする、請求項17に記載のノ
    ズル装置。
  19. 【請求項19】前記つり合い開口が、約2.54mmな
    いし約6.35mmの直径を有することを特徴とする、
    請求項18に記載のノズル装置。
  20. 【請求項20】前記穴が、次の隣接する穴から約33.
    9mmの中心間距離で一列に離隔されることを特徴とす
    る、請求項19に記載のノズル装置。
  21. 【請求項21】前記ノズルが、取外し可能かつ交換可能
    であることを特徴とする、請求項1に記載のノズル装
    置。
JP6120969A 1993-06-14 1994-06-02 エアロゾルを生成するためのノズル装置 Expired - Fee Related JP2739925B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US076053 1993-06-14
US08/076,053 US5366156A (en) 1993-06-14 1993-06-14 Nozzle apparatus for producing aerosol
EP94480140A EP0712693B1 (en) 1993-06-14 1994-11-15 Nozzle apparatus for producing aerosol

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH078853A true JPH078853A (ja) 1995-01-13
JP2739925B2 JP2739925B2 (ja) 1998-04-15

Family

ID=26137598

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6120969A Expired - Fee Related JP2739925B2 (ja) 1993-06-14 1994-06-02 エアロゾルを生成するためのノズル装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5366156A (ja)
EP (2) EP0631847B1 (ja)
JP (1) JP2739925B2 (ja)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5512106A (en) * 1993-01-27 1996-04-30 Sumitomo Heavy Industries, Ltd. Surface cleaning with argon
US5366156A (en) * 1993-06-14 1994-11-22 International Business Machines Corporation Nozzle apparatus for producing aerosol
US5925024A (en) * 1996-02-16 1999-07-20 Joffe; Michael A Suction device with jet boost
US5699679A (en) * 1996-07-31 1997-12-23 International Business Machines Corporation Cryogenic aerosol separator
US5810942A (en) * 1996-09-11 1998-09-22 Fsi International, Inc. Aerodynamic aerosol chamber
US5942037A (en) * 1996-12-23 1999-08-24 Fsi International, Inc. Rotatable and translatable spray nozzle
US6036786A (en) * 1997-06-11 2000-03-14 Fsi International Inc. Eliminating stiction with the use of cryogenic aerosol
US5961732A (en) * 1997-06-11 1999-10-05 Fsi International, Inc Treating substrates by producing and controlling a cryogenic aerosol
US6332470B1 (en) * 1997-12-30 2001-12-25 Boris Fishkin Aerosol substrate cleaner
DE19828987A1 (de) * 1998-06-29 2000-01-05 Air Liquide Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen einer Leiterplattenschablone oder einer Leiterplatte
US6060031A (en) * 1998-07-27 2000-05-09 Trw Inc. Method for neutralizing acid gases from laser exhaust
US6572457B2 (en) 1998-09-09 2003-06-03 Applied Surface Technologies System and method for controlling humidity in a cryogenic aerosol spray cleaning system
DE19860084B4 (de) * 1998-12-23 2005-12-22 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Strukturieren eines Substrats
JP2002055422A (ja) * 2000-05-29 2002-02-20 Fuji Photo Film Co Ltd 感光材料の液中搬送構造
US6764385B2 (en) * 2002-07-29 2004-07-20 Nanoclean Technologies, Inc. Methods for resist stripping and cleaning surfaces substantially free of contaminants
US7101260B2 (en) * 2002-07-29 2006-09-05 Nanoclean Technologies, Inc. Methods for resist stripping and other processes for cleaning surfaces substantially free of contaminants
US7134941B2 (en) * 2002-07-29 2006-11-14 Nanoclean Technologies, Inc. Methods for residue removal and corrosion prevention in a post-metal etch process
US7297286B2 (en) * 2002-07-29 2007-11-20 Nanoclean Technologies, Inc. Methods for resist stripping and other processes for cleaning surfaces substantially free of contaminants
US7066789B2 (en) * 2002-07-29 2006-06-27 Manoclean Technologies, Inc. Methods for resist stripping and other processes for cleaning surfaces substantially free of contaminants
JP4118194B2 (ja) * 2003-06-02 2008-07-16 横河電機株式会社 洗浄装置
US7654010B2 (en) * 2006-02-23 2010-02-02 Tokyo Electron Limited Substrate processing system, substrate processing method, and storage medium
SE530835C2 (sv) * 2007-03-20 2008-09-23 Water Jet Sweden Ab Kollisionssensoranordning
US10518286B2 (en) 2017-02-28 2019-12-31 AirGas USA, LLC Nozzle assemblies for coolant systems, methods, and apparatuses
US20180311707A1 (en) * 2017-05-01 2018-11-01 Lam Research Corporation In situ clean using high vapor pressure aerosols
US10239185B2 (en) 2017-08-23 2019-03-26 Aeroetch Holdings, Inc. Self-powered pressurized granular particle ejector tool with remote operation

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS647831A (en) * 1987-06-30 1989-01-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd Digital signal transmission method
US5209028A (en) * 1992-04-15 1993-05-11 Air Products And Chemicals, Inc. Apparatus to clean solid surfaces using a cryogenic aerosol

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE396979A (ja) * 1932-06-24 1933-06-16
DE1528919A1 (de) * 1964-05-14 1970-04-30 Max Planck Gesellschaft Vakuummantelheber fuer tiefsiedende Fluessigkeiten
US3729946A (en) * 1971-05-26 1973-05-01 A Massey Cryogenic liquid handling system
US4296610A (en) * 1980-04-17 1981-10-27 Union Carbide Corporation Liquid cryogen delivery system
JPS6067077A (ja) * 1983-09-19 1985-04-17 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd 被研掃物の研掃方法及び装置
US4617064A (en) * 1984-07-31 1986-10-14 Cryoblast, Inc. Cleaning method and apparatus
US4641786A (en) * 1984-12-14 1987-02-10 Cryoblast, Inc. Nozzle for cryogenic cleaning apparatus
US4631250A (en) * 1985-03-13 1986-12-23 Research Development Corporation Of Japan Process for removing covering film and apparatus therefor
US4747421A (en) * 1985-03-13 1988-05-31 Research Development Corporation Of Japan Apparatus for removing covering film
US4715187A (en) * 1986-09-29 1987-12-29 Vacuum Barrier Corporation Controlled cryogenic liquid delivery
US4806171A (en) * 1987-04-22 1989-02-21 The Boc Group, Inc. Apparatus and method for removing minute particles from a substrate
DE3844648C2 (ja) * 1987-06-23 1992-02-20 Taiyo Sanso Co. Ltd., Osaka, Jp
US4870838A (en) * 1988-03-21 1989-10-03 Zeamer Geoffrey H Cryostat
US4854128A (en) * 1988-03-22 1989-08-08 Zeamer Corporation Cryogen supply system
DE3818046C1 (ja) * 1988-05-27 1989-06-15 Lechler Gmbh & Co Kg, 7012 Fellbach, De
US4962891A (en) * 1988-12-06 1990-10-16 The Boc Group, Inc. Apparatus for removing small particles from a substrate
US5018667A (en) * 1989-02-08 1991-05-28 Cold Jet, Inc. Phase change injection nozzle
US5025632A (en) * 1989-06-13 1991-06-25 General Atomics Method and apparatus for cryogenic removal of solid materials
US5001873A (en) * 1989-06-26 1991-03-26 American Air Liquide Method and apparatus for in situ cleaning of excimer laser optics
US5009240A (en) * 1989-07-07 1991-04-23 United States Of America Wafer cleaning method
JPH03116832A (ja) * 1989-09-29 1991-05-17 Mitsubishi Electric Corp 固体表面の洗浄方法
DE4009850C1 (ja) * 1990-03-27 1991-11-07 Lambda Physik Gesellschaft Zur Herstellung Von Lasern Mbh, 3400 Goettingen, De
US5142874A (en) * 1990-04-10 1992-09-01 Union Carbide Canada Limited Cryogenic apparatus
US5062898A (en) * 1990-06-05 1991-11-05 Air Products And Chemicals, Inc. Surface cleaning using a cryogenic aerosol
US5125979A (en) * 1990-07-02 1992-06-30 Xerox Corporation Carbon dioxide snow agglomeration and acceleration
DE4112890A1 (de) * 1991-04-19 1992-10-22 Abony Szuecs Eva Verfahren und vorrichtung zum reinigen von oberflaechen, insbesondere von empfindlichen oberflaechen
US5108512A (en) * 1991-09-16 1992-04-28 Hemlock Semiconductor Corporation Cleaning of CVD reactor used in the production of polycrystalline silicon by impacting with carbon dioxide pellets
US5366156A (en) * 1993-06-14 1994-11-22 International Business Machines Corporation Nozzle apparatus for producing aerosol

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS647831A (en) * 1987-06-30 1989-01-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd Digital signal transmission method
US5209028A (en) * 1992-04-15 1993-05-11 Air Products And Chemicals, Inc. Apparatus to clean solid surfaces using a cryogenic aerosol

Also Published As

Publication number Publication date
US5366156A (en) 1994-11-22
EP0631847B1 (en) 1998-12-23
JP2739925B2 (ja) 1998-04-15
EP0712693A1 (en) 1996-05-22
EP0712693B1 (en) 2000-02-16
EP0631847A1 (en) 1995-01-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2739925B2 (ja) エアロゾルを生成するためのノズル装置
JP2765676B2 (ja) 熱交換機
JP2739926B2 (ja) エアロゾルを生成するための装置
JP2501304B2 (ja) 低温エアロゾル洗浄用の取付装置
US5062898A (en) Surface cleaning using a cryogenic aerosol
US5294261A (en) Surface cleaning using an argon or nitrogen aerosol
US5512106A (en) Surface cleaning with argon
EP0569708B1 (en) Apparatus to clean solid surfaces using a cryogenic aerosol
JPH06295895A (ja) アルゴンによる表面洗浄
EP0713071B1 (en) Heat exchanger
KR0145028B1 (ko) 에어로졸 생성장치
KR0122874B1 (ko) 에어로졸 생성용 노즐장치
KR0133228B1 (ko) 열교환기
KR0145032B1 (ko) 공구 장착 및 에어로졸 생성장치
JPH07153729A (ja) 固体表面の洗浄装置
JP2837826B2 (ja) 洗浄装置及び洗浄方法
JP2828876B2 (ja) 表面洗浄方法及び装置
JP2000256823A (ja) 表面処理方法及び装置並びにこれに用いられるガス加熱方法及び装置
JPH0324768B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080123

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090123

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090123

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100123

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100123

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110123

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120123

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130123

Year of fee payment: 15

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140123

Year of fee payment: 16

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees