JPS6377940A - 真球状ポリメチルシルセスキオキサン粉末およびその製造方法 - Google Patents

真球状ポリメチルシルセスキオキサン粉末およびその製造方法

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Cited By (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3905785A1 (de) * 1988-02-26 1989-08-31 Toshiba Silicone Feine polyorganosilsesquioxan-teilchen und verfahren zu deren herstellung
JPH01265008A (ja) * 1988-04-14 1989-10-23 Nippon Chem Ind Co Ltd 化粧料
JPH01266136A (ja) * 1988-04-19 1989-10-24 Nippon Chem Ind Co Ltd 球状有機珪酸および球状シリカ粉末の製造法
JPH01268609A (ja) * 1988-04-19 1989-10-26 Toshiba Silicone Co Ltd 海棲生物付着防止剤
JPH0725727A (ja) * 1993-07-12 1995-01-27 Toshiba Silicone Co Ltd 複合球状粉体およびそれを含む化粧料
US5683501A (en) * 1993-11-09 1997-11-04 Nippon Shokubai Co., Ltd. Compound fine particles and composition for forming film
JP2000178357A (ja) * 1998-12-14 2000-06-27 Ge Toshiba Silicones Co Ltd シリコ―ン微粒子の製造方法
JP2000186148A (ja) * 1998-12-21 2000-07-04 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 球状ポリメチルシルセスキオキサン微粒子の製造方法
JP2003002973A (ja) * 2001-04-18 2003-01-08 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 球状シリコーン微粒子の製造方法
JP2003183395A (ja) * 2001-12-21 2003-07-03 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 球状シリコーン微粒子の製造方法
JP2007084396A (ja) * 2005-09-26 2007-04-05 Catalysts & Chem Ind Co Ltd 多孔質シリカ系粒子の製造方法および該方法から得られる多孔質シリカ系粒子
JP2008127564A (ja) * 2006-11-23 2008-06-05 Cheil Industries Inc シリコン系微粒子、その製造方法、及びその微粒子が含有された熱可塑性樹脂組成物
JP2008266248A (ja) * 2007-04-24 2008-11-06 Colcoat Kk ポリヘドラルシルセスキオキサンの製造方法
JP2009068019A (ja) * 2008-11-26 2009-04-02 Takemoto Oil & Fat Co Ltd 球状シルセスキオキサン微粒子及び高分子材料用表面改質剤
US7629041B2 (en) 2003-08-04 2009-12-08 Evonik Roehm Gmbh Diffuser disk for LCD applications, method for the production and use thereof
JP2011006592A (ja) * 2009-06-26 2011-01-13 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd ポリオルガノシロキサン粒子の製造方法
EP2339398A1 (de) 2003-08-04 2011-06-29 Evonik Röhm GmbH Kratzunempfindlicher Rückprojektionsschirm und Verfahren zu dessen Herstellung
WO2011102272A1 (ja) 2010-02-19 2011-08-25 東レ株式会社 蛍光体含有シリコーン硬化物、その製造方法、蛍光体含有シリコーン組成物、その組成物前駆体、シート状成型物、ｌｅｄパッケージ、発光装置およびｌｅｄ実装基板の製造方法
WO2012081411A1 (ja) 2010-12-13 2012-06-21 東レ株式会社 蛍光体シート、これを用いたｌｅｄおよび発光装置ならびにｌｅｄの製造方法
JP2013507509A (ja) * 2009-10-15 2013-03-04 インテルキム、ソシエダッド アノニマ シリルポリマー性安息香酸エステル化合物、それらの使用、及び組成物
DE102012216081A1 (de) 2012-09-11 2013-03-14 Evonik Industries Ag Verfahren zur Herstellung von lichtstreuenden Formteilen mit hervorragenden optischen Eigenschaften und deren Verwendung
US8609011B2 (en) 2003-05-06 2013-12-17 Evonik Roehm Gmbh Method for the production of light-diffusing moulded items with excellent optical characteristics
WO2014050255A1 (ja) 2012-09-27 2014-04-03 信越化学工業株式会社 シリコーンミスト抑制剤
WO2014065358A1 (ja) 2012-10-25 2014-05-01 東レ株式会社 蛍光体含有樹脂シートおよび発光装置
WO2014106768A1 (en) 2013-01-03 2014-07-10 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Hydrophilized silicone particles and making method
JP2023062477A (ja) * 2021-10-21 2023-05-08 株式会社日本触媒 有機無機複合粒子

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101077274B1 (ko) 2007-05-28 2011-10-27 코오롱인더스트리 주식회사 폴리알킬실세스퀴옥산 미립자 및 그 제조방법

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6013813A (ja) * 1983-07-05 1985-01-24 Toshiba Silicone Co Ltd ポリメチルシルセスキオキサンの製造方法
JPS61108628A (ja) * 1984-11-01 1986-05-27 Fujitsu Ltd 低級アルキルポリシルセスキオキサンの製法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6013813A (ja) * 1983-07-05 1985-01-24 Toshiba Silicone Co Ltd ポリメチルシルセスキオキサンの製造方法
JPS61108628A (ja) * 1984-11-01 1986-05-27 Fujitsu Ltd 低級アルキルポリシルセスキオキサンの製法

Cited By (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3905785A1 (de) * 1988-02-26 1989-08-31 Toshiba Silicone Feine polyorganosilsesquioxan-teilchen und verfahren zu deren herstellung
GB2216535A (en) * 1988-02-26 1989-10-11 Toshiba Silicone Polyorganosilsesquioxane fine particles and process for producing them
GB2216535B (en) * 1988-02-26 1992-08-05 Toshiba Silicone "process for producing polyorganosilsesquioxane spherical particles"
DE3905785C2 (de) * 1988-02-26 1994-06-09 Toshiba Silicone Verfahren zur Herstellung feiner Polyorganosilsesquioxan-Teilchen
JPH01265008A (ja) * 1988-04-14 1989-10-23 Nippon Chem Ind Co Ltd 化粧料
JPH01266136A (ja) * 1988-04-19 1989-10-24 Nippon Chem Ind Co Ltd 球状有機珪酸および球状シリカ粉末の製造法
JPH01268609A (ja) * 1988-04-19 1989-10-26 Toshiba Silicone Co Ltd 海棲生物付着防止剤
JPH0725727A (ja) * 1993-07-12 1995-01-27 Toshiba Silicone Co Ltd 複合球状粉体およびそれを含む化粧料
US5683501A (en) * 1993-11-09 1997-11-04 Nippon Shokubai Co., Ltd. Compound fine particles and composition for forming film
JP2000178357A (ja) * 1998-12-14 2000-06-27 Ge Toshiba Silicones Co Ltd シリコ―ン微粒子の製造方法
JP2000186148A (ja) * 1998-12-21 2000-07-04 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 球状ポリメチルシルセスキオキサン微粒子の製造方法
JP2003002973A (ja) * 2001-04-18 2003-01-08 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 球状シリコーン微粒子の製造方法
JP2003183395A (ja) * 2001-12-21 2003-07-03 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 球状シリコーン微粒子の製造方法
US8609011B2 (en) 2003-05-06 2013-12-17 Evonik Roehm Gmbh Method for the production of light-diffusing moulded items with excellent optical characteristics
US7629041B2 (en) 2003-08-04 2009-12-08 Evonik Roehm Gmbh Diffuser disk for LCD applications, method for the production and use thereof
EP2339398A1 (de) 2003-08-04 2011-06-29 Evonik Röhm GmbH Kratzunempfindlicher Rückprojektionsschirm und Verfahren zu dessen Herstellung
JP2007084396A (ja) * 2005-09-26 2007-04-05 Catalysts & Chem Ind Co Ltd 多孔質シリカ系粒子の製造方法および該方法から得られる多孔質シリカ系粒子
JP2008127564A (ja) * 2006-11-23 2008-06-05 Cheil Industries Inc シリコン系微粒子、その製造方法、及びその微粒子が含有された熱可塑性樹脂組成物
DE102007055631B4 (de) * 2006-11-23 2016-03-10 Cheil Industries, Inc. Silicon-Feinteilchen, Verfahren zur Herstellung derselben und thermoplastische Harzzusammensetzung unter Verwendung derselben
US7897714B2 (en) 2006-11-23 2011-03-01 Cheil Industries Inc. Silicone fine particles, method for preparing the same, and thermoplastic resin composition using the same
JP2008266248A (ja) * 2007-04-24 2008-11-06 Colcoat Kk ポリヘドラルシルセスキオキサンの製造方法
JP2009068019A (ja) * 2008-11-26 2009-04-02 Takemoto Oil & Fat Co Ltd 球状シルセスキオキサン微粒子及び高分子材料用表面改質剤
JP2011006592A (ja) * 2009-06-26 2011-01-13 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd ポリオルガノシロキサン粒子の製造方法
JP2013507509A (ja) * 2009-10-15 2013-03-04 インテルキム、ソシエダッド アノニマ シリルポリマー性安息香酸エステル化合物、それらの使用、及び組成物
WO2011102272A1 (ja) 2010-02-19 2011-08-25 東レ株式会社 蛍光体含有シリコーン硬化物、その製造方法、蛍光体含有シリコーン組成物、その組成物前駆体、シート状成型物、ｌｅｄパッケージ、発光装置およびｌｅｄ実装基板の製造方法
WO2012081411A1 (ja) 2010-12-13 2012-06-21 東レ株式会社 蛍光体シート、これを用いたｌｅｄおよび発光装置ならびにｌｅｄの製造方法
EP2943046A1 (en) 2010-12-13 2015-11-11 Toray Industries, Inc. Phosphor sheet, led and light emitting device using same and method for producing led
DE102012216081A1 (de) 2012-09-11 2013-03-14 Evonik Industries Ag Verfahren zur Herstellung von lichtstreuenden Formteilen mit hervorragenden optischen Eigenschaften und deren Verwendung
WO2014050255A1 (ja) 2012-09-27 2014-04-03 信越化学工業株式会社 シリコーンミスト抑制剤
WO2014065358A1 (ja) 2012-10-25 2014-05-01 東レ株式会社 蛍光体含有樹脂シートおよび発光装置
WO2014106768A1 (en) 2013-01-03 2014-07-10 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Hydrophilized silicone particles and making method
US9434819B2 (en) 2013-01-03 2016-09-06 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Hydrophilized silicone particles and making method
JP2023062477A (ja) * 2021-10-21 2023-05-08 株式会社日本触媒 有機無機複合粒子

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Publication number Publication date
JPH0470335B2 (enrdf_load_html_response) 1992-11-10

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