JPH0450112A - シリカオルガノゾルおよびその製造方法 - Google Patents
シリカオルガノゾルおよびその製造方法Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
し、さらに詳しくは低屈折率の透明保護膜などを製造す
るために好適に使用することができるシリカオルガノゾ
ルおよびその製造方法に関する。
る透明保護膜、あるいはプラスチック成形品などの配合
剤として使用されている。
製造されており、例えばアルコキシシランを水とアルコ
ールなどの有機溶媒との混合溶媒中で加水分解・重縮合
させてシリカ粒子を生成させ、次いでこのシリカ粒子が
分散しているシリカ粒子分散液中の混合溶媒をグリコー
ルなどの有機溶媒で置換することにより製造されてきた
。
分解可能な有機金属酸化物をアルコールと水との混合溶
媒中で加水分解して水和物微粒子の分散液を調製し、次
いで該分散液の水を含むアルコールをグリコール溶媒に
置換した後、加熱処理することを特徴とする無機酸化物
微粒子のゲルコール単分散液の製造方法が開示されてい
る。
グリコール単分散液では、液中に含まれているシリカ粒
子の屈折率が高く、このため、このようなシリカ粒子を
透明保護膜、プラスチック配合剤などに使用すると、必
ずしも低屈折率のものが得られないという問題点があっ
た。
ようとするものであって、屈折率の低い透明保護膜、プ
ラスチック成形品などを製造することができるシリカオ
ルガノゾルおよびその製造方法を提供することを目的と
している。
0以下であるシリカ粒子が有機分散媒中に分散されてな
ることを特徴としている。
4−n は、同じであっても異なっていてもよく、炭素数1〜8
のアルキル基、アリール基またはビニル基を表わし、n
は0〜3の整数である)で示されるアルコキシシランを
、水と有機溶媒との混合溶媒中で加水分解、重縮合して
シリカ粒子を生成させ、得られたシリカ粒子が分散して
いるシリカ粒子分散液を加熱処理し、 次いで、前記シリカ粒子分散液中の少なくとも水の一部
を有機溶媒で置換することによって製造することができ
る。
方法について具体的に説明する。
0以下、好ましくは1.300〜1.450、さらに好
ましくは1.350〜1.430であるシリカ粒子が有
機分散媒中に分散されている。
率(n+(25℃))は、下記式[I]によって算出さ
れる値で定義される。
水 の屈折率(25℃)、n4 ニジリ
カオルガノゾルの屈折率(25℃)、C1ニジリカ粒子
の重量分率、 C2:有機分散媒の重量分率、 C: 水 の重量分率。
計算することができる。
4を測定するとともに、有機分散媒の屈折率n2および
水の屈折率n4を測定する。
び水の濃度を測定し、シリカ粒子の重量分率C1有機分
散媒の重量分率C2および水の重量分率C3を算出する
。
n 1並びに重量分率CSCおよ3 4
j 2びC3を上記式[I]に代入して計算
する。
子は、その平均粒径が約0.01μm程度の小粒径であ
る場合もあり、また10μm以上の大粒径である場合も
ある。このようなシリカ粒子は、有機分散媒中に単分散
しており、粒度分布もシャープであり、下記式[11]
によって定義されるCV値は0.2以下であることが好
ましい。
・ [■コ式中、 D2 :重量累計84%の時の粒径、 Dl :重量累計16%の時の粒径、 D、:平均粒径。
子は、S + 02換算で50重量%程度の高濃度で存
在しても、シリカオルガノゾル中に安定した分散状態で
存在することができる。
、通常、メタノール、エタノール、プロパツール、ブタ
ノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、
ヘキシレンゲルコール、グリセリンなどの1価または多
価アルコール類、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエー
テル類が用いられる。また、シリカオルガノゾルの用途
などに応じて上記以外の有機溶媒を用いることもできる
。
述する。
、一般式RnSi(OR’) (式中、n
4−n R,R’ は、同じであっても異なっていてもよく、
炭素数1〜8のアルキル基、アリール基またはビニル基
を表わし、nは0〜3の整数である)で示されるアルコ
キシシランを、水と有機溶媒との混合溶媒中で加水分解
・重縮合してシリカ粒子を生成させる。
トラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライ
ソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラオ
クチルシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリ
エトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、メチルト
リイソプロポキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、
メチルトリブトキシシラン、オクチルトリエトキシシラ
ン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シランなどが用いられる。
もよく、2種以上組合わせて用いてもよい。
しく用いられ、特に好ましくは、メタノール、エタノー
ル、n−プロパツール、イソプロパツール、n−ブタノ
ール、イソブタノールなどの低級アルコールが用いられ
る。また、これらの低級アルコールの混合溶媒も好まし
く用いることができる。
コール以外の有機溶媒を混合して用いることもできる。
<、シかも上記アルコキシシランと相溶性がよい有機溶
媒が使用される。
グリコール類、エチレングリコールモノエチルエーテル
などのエーテル類、酢酸エチルなどのエステル類、メチ
ルエチルケトンなどのケトン類などが用いられる。
で加水分解、重縮合するに際して、アルカリ触媒を反応
系に共存させることにより、上記アルコキシシランの加
水分解反応および重縮合反応を促進することができる。
、アルカリ金属水酸化物、第4級アンモニウム化合物、
アミン系カップリング剤など、水溶液中でアルカリ性を
示す化合物が用いられ、反応混合物のpHが8〜13と
なるような量で用いられる。
分解、重縮合してシリカ粒子を生成させるには、具体的
には、例えば水−アルコール混合溶媒を攪拌しながら、
この混合溶媒にアルコキシシランを添加し、例えばアン
モニア水のようなアルカリ触媒の存在下または不存在下
で反応させればよい。
基1モル当り2〜50モル、好ましくは5〜25モルと
なるような量で用いられる。
る溶媒の沸点以下の温度で、好ましくは沸点より5〜1
0℃程度低い温度で行なわれるが、オートクレーブ等の
耐熱耐圧容器を用いる場合には、この温度よりもさらに
高い温度で行なうこともできる。
、アルコキシシランの重縮合が三次元的に進行し、シリ
カ粒子が生成し、成長する。
のシード粒子をあらかじめ水と有機溶媒との混合溶媒中
に分散させ、この分散液中でアルコキシシランの加水分
解・重縮合反応を行なわせるとシード粒子を核としてシ
リカが成長し、比較的大きな粒径を有するシリカ粒子を
製造することができる。また、このようなシリカ粒子の
製造方法は、例えば、本出願人が本発明よりも先に出願
した特開昭62−275005号および特願平1−31
N23号などに記載されている。
がS iO2換算で2〜20重量%であるシリカ粒子の
分散液が得られる。
いるシリカ粒子分散液を加熱処理することにより、分散
液中のシリカ粒子を熟成する。この熟成操作によりシリ
カ粒子を核としてシリカ粒子分散液中に残存するアルコ
キシシランの加水分解、重縮合反応を進行させ、同時に
シリカ粒子中に残存するアルコキシド残基を加水分解、
重縮合して、はとんどアルコキシド残基が残存していな
いほぼ一定の大きさの球状シリカ粒子に成長させる。
に含まれている低沸点溶媒の沸点±10℃の温度で行な
うことが好ましい。
ができる。
温度によって大きく変化するが、通常、0.5〜2時間
、好ましくは1〜10時間である。
。
ール、プロピレングリコールなどの多価アルコール類の
共存下で行なうことにより、より一層シリカ゛粒子の熟
成が促進される。このため、有機溶媒として多価アルコ
ール類を用いていない場合には、多価アルコール類をシ
リカ粒子の熟成工程前にアルコキシシランおよび水と有
機溶媒との混合溶媒からなる反応系に添加することが好
ましい。
1モルに対して10モル以下の量で、特に1.0〜10
モルの量で前記反応系に存在していることが好ましい。
子を熟成した後、シリカ粒子分散液中のすくなくとも水
の一部を有機溶媒で置換することにより、本発明に係る
シリカオルガノゾルが得られる。
途によって上述したような有機溶媒が使用される。
液からエタノールを分散媒とするシリカオルガノゾルを
得る場合は、該分散液にエタノールを加えたのちに加熱
し、水を留去する。また、この分散液をエチレングリコ
ールと置換する場合は、エチレングリコールを加えて加
熱し、水とエタノールを留去する。
する溶媒置換前の水を含む分散媒の濃度は、前記溶媒置
換の方法、およびシリカオルガノゾルの用途に応じて種
々の値をとり得るが、約1重量%以下とすることも可能
である。
従来のシリカオルガノゾルに比較して低屈折率のシリカ
粒子が分散されたシリカオルガノゾルが製造される。
係るシリカオルガノゾルは、有機分散媒中に分散されて
いるシリカ粒子の屈折率が1.450以下と低いので、
このシリカオルガノゾルを使用して製造した透明保護膜
、プラスチック材料成形品などは従来に比べて低屈折率
である。
散されたシリカオルガノゾルが製造できるが、この理由
は、以下のように推定される。
中にシリカ粒子が分散しているシリカ粒子分散液を加熱
処理しているので、シリカ粒子中に残存するアルコキシ
ド残基が水により加水分解、重縮合され、このため低屈
折率のシリカ粒子が分散されたシリカオルガノゾルが得
られると考えられる。
明するが、本発明はその要旨を超えない限り、これらの
実施例に何ら制限されるものではない。
よび純水5190gの混合溶液を35℃に保持し、この
混合溶液を攪拌しながら、この混合溶液中にテトラエト
キシシラン180gを加えた。添加終了後、さらに2時
間攪拌を続け、次いでこの混合溶液中に500gの28
%アンモニア水を加えてpHを12.5に調整すること
により、水−エタノール混合溶液中にシリカ粒子が分散
した状態のシリカ粒子分散液を得た。
容器に入れ、所定温度に設定した後、その温度で分散媒
が沸騰する圧力になるまで減圧し、表1に示す条件で加
熱保持してシリカ粒子を熟成した。
粒子分散液を、表1に示す有機溶媒と温度条件で、ロー
タリーエバポレーターを用いて溶媒置換し、実施例1の
シリカオルガノゾルを得た。
混合溶媒の量は1重量%以下であった。
キシシラン74gとテトラエトキシシラン90gを用い
た他は実施例1と同様にしてシリカ粒子分散液を得た。
入れて表1に示す温度に設定した後、この温度における
溶媒の蒸気圧をそのまま保持し、表1に示す条件で加熱
保持した。
同様にしてシリカ粒子分散液中の水とエタノールとを溶
媒置換し、実施例2のシリカオルガノゾルを得た。溶媒
置換後のシリカオルガノゾル中に残存する水を含む混合
溶媒の量は1重量%以下であった。
は実施例1と同様にしてシリカ粒子分散液を得た。
入れて表1に示す温度に設定した後、この温度における
溶媒の蒸気圧をそのまま保持し、表1に示す条件で加熱
保持した。
同様にしてシリカ粒子分散液中の水とエタノールとを溶
媒置換し、実施例3のシリカオルガノゾルを得た。溶媒
置換後のシリカオルガノゾル中に残存する水を含む混合
溶媒の量は1重量%以下であった。
レングリコールに代えた他は実施例1と同様にしてシリ
カ粒子分散液を得た。
容器に入れ、所定温度に設定した後、その温度で分散媒
が沸騰する圧力になるまで減圧し、表1に示す条件で加
熱保持した。
同様にしてシリカ粒子分散液中の水と工タノールとを溶
媒置換し、実施例4のシリカオルガノゾルを得た。溶媒
置換後のシリカオルガノゾル中に残存する水を含む混合
溶媒の量は1重量%以下であった。
実施例1と同様にしてシリカ粒子分散液を得た。
入れて表1に示す温度に設定した後、この温度における
溶媒の蒸気圧をそのまま保持し、表1に示す条件で加熱
保持した。
同様にしてシリカ粒子分散液中の水とエタノールとを溶
媒置換し、実施例5のシリカオルガノゾルを得た。溶媒
置換後のシリカオルガノゾル中に残存する水を含む混合
溶媒の量は1重量%以下であった。
例1.2と同様にして比較例1.2のシリカオルガノゾ
ルを製造した。
.2のシリカオルガノゾルのそれぞれの屈折率、平均粒
径、CV値および表面積を測定した。
における屈折率を測定し、上記[I]式(5頁参照)に
従ってシ・リカ粒子の屈折率を算出した。
)によりそれぞれのシリカオルガノゾル中のシリカ粒子
の平均粒径を測定した。
1および重量累計16%の時の粒径D1を求め、上記平
均粒径D とから、上記[II]式(7頁参照)に従っ
てシリカ粒子のCV値を算出した。
リカオルガノゾル中の有機溶媒を除去し、次いで400
℃で2時間焼成することにより得られたシリカ粒子をB
ET法によりその表面積を求めた。
シリカ粒子の熟成を行なゎながった比較例1.2のシリ
カオルガノゾルとを比較すると、それぞれに含まれるシ
リカ粒子の平均粒径、cV値および表面積に差はないも
のの、比較例1.2のシリカオルガノゾルに含まれるシ
リカ粒子の屈折率はいずれも1.450を越えており、
これに対し、実施例1.2のシリカオルガノゾルに含ま
れるシリカ粒子の屈折率はいずれも1.450未満であ
ることが分かる。
Claims (2)
- (1)屈折率が1.450以下であるシリカ粒子が有機
分散媒中に分散されてなることを特徴とするシリカオル
ガノゾル。 - (2)一般式R_nSi(OR’)_4_−_n(式中
、R、R’は、同じであっても異なっていてもよく、炭
素数1〜8のアルキル基、アリール基またはビニル基を
表わし、nは0〜3の整数である)で示されるアルコキ
シシランを、水と有機溶媒との混合溶媒中で加水分解、
重縮合してシリカ粒子を生成させ、 得られたシリカ粒子が分散しているシリカ粒子分散液を
加熱処理し、 次いで、前記シリカ粒子分散液中の少なくとも水の一部
を有機溶媒で置換することを特徴とする屈折率が1.4
50以下であるシリカ粒子が有機分散媒中に分散されて
なるシリカオルガノゾルの製造方法。
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KR100481460B1 (ko) * | 2002-04-09 | 2005-04-07 | (주) 개마텍 | 실리카 오가노졸 제조방법 |
JP2005298226A (ja) * | 2004-04-06 | 2005-10-27 | Mitsubishi Chemicals Corp | シリカゾル及びその製造方法 |
EP1754685A3 (en) * | 2005-08-02 | 2007-04-18 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Organosol of silica and process for producing the same |
JP2008127513A (ja) * | 2006-11-24 | 2008-06-05 | Kikusui Chemical Industries Co Ltd | 親水性無機塗料 |
JP2008239435A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Jsr Corp | シリカ系中空粒子分散体およびその製造方法、ならびにシリカ系中空粒子 |
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Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5215078A (en) * | 1975-07-28 | 1977-02-04 | Masayoshi Saito | Ship body |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5215078A (en) * | 1975-07-28 | 1977-02-04 | Masayoshi Saito | Ship body |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100481460B1 (ko) * | 2002-04-09 | 2005-04-07 | (주) 개마텍 | 실리카 오가노졸 제조방법 |
JP2004091220A (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-25 | Fuso Chemical Co Ltd | 高純度親水性有機溶媒分散シリカゾルの製造方法及びその方法で得られる高純度親水性有機溶媒分散シリカゾル並びに高純度有機溶媒分散シリカゾルの製造方法及びその方法で得られる高純度有機溶媒分散シリカゾル |
JP2005298226A (ja) * | 2004-04-06 | 2005-10-27 | Mitsubishi Chemicals Corp | シリカゾル及びその製造方法 |
US20150147469A1 (en) * | 2004-07-21 | 2015-05-28 | Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. | Method of producing silica-based particles |
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EP1754685A3 (en) * | 2005-08-02 | 2007-04-18 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Organosol of silica and process for producing the same |
JP2008127513A (ja) * | 2006-11-24 | 2008-06-05 | Kikusui Chemical Industries Co Ltd | 親水性無機塗料 |
JP2008239435A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Jsr Corp | シリカ系中空粒子分散体およびその製造方法、ならびにシリカ系中空粒子 |
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