JPS6376859A - 蒸着用マスクとその製造法 - Google Patents
蒸着用マスクとその製造法Info
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- JPS6376859A JPS6376859A JP22306886A JP22306886A JPS6376859A JP S6376859 A JPS6376859 A JP S6376859A JP 22306886 A JP22306886 A JP 22306886A JP 22306886 A JP22306886 A JP 22306886A JP S6376859 A JPS6376859 A JP S6376859A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高い加工精度を有し、かつ大面積化が容易であ
る蒸着用マスクとその製造法に関するものである。
る蒸着用マスクとその製造法に関するものである。
従来の技術
ここで言う蒸着用マスクとは、基板上の所定の部分のみ
に金属などからなる蒸着膜を形成するために用いる、基
板と蒸発源との間に置く平板状のマスクのことである。
に金属などからなる蒸着膜を形成するために用いる、基
板と蒸発源との間に置く平板状のマスクのことである。
この蒸着用マスクの製造法として、従来より行われてい
るのは、主にエンチング法である。
るのは、主にエンチング法である。
エツチング法は、金属板上に耐食性皮膜をフォトグラフ
ィー的な手法で所定のパターンにて形成し、金属板を腐
食させる化学薬品に接触させることにより、耐食性皮膜
のない部分に穴を開ける方法である0片方の面から腐食
させる方法と両面から腐食させる方法とがある。
ィー的な手法で所定のパターンにて形成し、金属板を腐
食させる化学薬品に接触させることにより、耐食性皮膜
のない部分に穴を開ける方法である0片方の面から腐食
させる方法と両面から腐食させる方法とがある。
発明が解決しようとする問題点
基板上に蒸着膜を10×10μd程度の矩形パターンで
形成したい場合がある。このとき蒸着用マスクとしては
勿論同じ大きさの微細な開口の穴を持ったものが必要と
なる。しかしながら、エツチング法では、腐食が等方的
に進行するので、微細な矩形の開口部を持った穴を得る
のは困難である。実際、矩形ではなく、楕円形になる。
形成したい場合がある。このとき蒸着用マスクとしては
勿論同じ大きさの微細な開口の穴を持ったものが必要と
なる。しかしながら、エツチング法では、腐食が等方的
に進行するので、微細な矩形の開口部を持った穴を得る
のは困難である。実際、矩形ではなく、楕円形になる。
また、10μmのパターンを得るには、基板の厚さを少
なくとも10μm以下にしなければならず、製造工程上
において取り扱いが繁雑になる。
なくとも10μm以下にしなければならず、製造工程上
において取り扱いが繁雑になる。
問題点を解決するための手段
前記問題点を解決するために本発明の蒸着用マスクとそ
の製造法は、所定の開口部を有する金属板とフィルムレ
ジストとを一体とし、さらにフォトリソグラフィー過程
を経るものである。
の製造法は、所定の開口部を有する金属板とフィルムレ
ジストとを一体とし、さらにフォトリソグラフィー過程
を経るものである。
作用
本発明は前記した構成によって、まず金属板をエツチン
グ法やレーザーによって加工し、粗い精度で穴開けする
。その後、フィルムレジストを金属板に貼り付け、フォ
トリソグラフィー過程を経て高い加工精度で徽細な開口
部を有するマスクを得ることができる。さらに、レジス
ト側に金属蒸着することにより強度を持たせることも可
能である。
グ法やレーザーによって加工し、粗い精度で穴開けする
。その後、フィルムレジストを金属板に貼り付け、フォ
トリソグラフィー過程を経て高い加工精度で徽細な開口
部を有するマスクを得ることができる。さらに、レジス
ト側に金属蒸着することにより強度を持たせることも可
能である。
実施例
以下、本発明の代表的な一実施例について、図面を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
実施例1
第1図(alは本発明の実施例の諺着用マスクの構成断
面図、第1図tb)は平面図を示す図である。第1図(
a)においてlは金属板、2はフィルムレジスト、3は
金属膜であり、第1図Ta)およびfblにおいて、4
は開口部を示す。マスクの製造工程を第2図に示す、(
a)金属板1にレーザー加工により所望のパターンより
約10μm大きい形の穴を開ける。
面図、第1図tb)は平面図を示す図である。第1図(
a)においてlは金属板、2はフィルムレジスト、3は
金属膜であり、第1図Ta)およびfblにおいて、4
は開口部を示す。マスクの製造工程を第2図に示す、(
a)金属板1にレーザー加工により所望のパターンより
約10μm大きい形の穴を開ける。
■)金属板lにネガタイプのフィルムレジスト2を加熱
圧着する。(C)フィルムレジスト2の上に、所望のパ
ターンが形成されたガラス乾板5を置き、露光する。こ
の際、ガラス乾板5のパターンと金属板lの開口部を一
致させる。(d)現像し、加熱硬化させる。telフィ
ルムレジスト2の上に金属膜3を蒸着形成する。金属板
lはニッケル(Ni)。
圧着する。(C)フィルムレジスト2の上に、所望のパ
ターンが形成されたガラス乾板5を置き、露光する。こ
の際、ガラス乾板5のパターンと金属板lの開口部を一
致させる。(d)現像し、加熱硬化させる。telフィ
ルムレジスト2の上に金属膜3を蒸着形成する。金属板
lはニッケル(Ni)。
チタン(Ti)、銅(Cu)、ステンレス、アルミニウ
ム(Anり等、金属膜3はニッケル(Ni)。
ム(Anり等、金属膜3はニッケル(Ni)。
クロム(Cr)、アルミニウム(Aり等からそれぞれ形
成されている。以上のような製造法により10μm程度
のパターンの開口部を有する蒸着用マスクを得ることが
可能である。
成されている。以上のような製造法により10μm程度
のパターンの開口部を有する蒸着用マスクを得ることが
可能である。
実施例2
本発明の実施例はエツチング法を用いて金属板を加工す
る製造法である。マスクの構成は、第1図に示した実施
例1の構成と同様である。第3図fal、 (bl、
fcl、 (di、 telは製造工程を示す、第3図
tal金属板lに感光剤6を塗布する。第3図(bl感
光剤6の上に、所望のパターンが形成されたガラス乾板
5を置き、露光する。第3図(C1現像し、加熱硬化さ
せる。第3図Fdl金属板1をエツチング液(主に王水
)に接触させて感光剤6のない部分に穴を開ける。第3
図fal感光剤6を剥離させる。以下、第2図の(bl
から(elの工程を経てマスクを製作する。
る製造法である。マスクの構成は、第1図に示した実施
例1の構成と同様である。第3図fal、 (bl、
fcl、 (di、 telは製造工程を示す、第3図
tal金属板lに感光剤6を塗布する。第3図(bl感
光剤6の上に、所望のパターンが形成されたガラス乾板
5を置き、露光する。第3図(C1現像し、加熱硬化さ
せる。第3図Fdl金属板1をエツチング液(主に王水
)に接触させて感光剤6のない部分に穴を開ける。第3
図fal感光剤6を剥離させる。以下、第2図の(bl
から(elの工程を経てマスクを製作する。
金属板1および金属膜3の材質は実施例1と同様のもの
が可能である。
が可能である。
実施例1および2においては金属膜3を蒸着したが、こ
の工程を省略してもマスクとして使用できる。また、金
属板1および金属膜3の少なくとも一方が磁性金属であ
れば、このマスクを蒸着の際使用するとき、磁石によっ
て固定することができる。
の工程を省略してもマスクとして使用できる。また、金
属板1および金属膜3の少なくとも一方が磁性金属であ
れば、このマスクを蒸着の際使用するとき、磁石によっ
て固定することができる。
発明の効果
以上のように本発明の蒸着用マスクは、あらかじめエツ
チング法またはレーザー加工により六1tFlけした金
属板にフィルムレジストを加熱圧着し、フォトリソグラ
フィ過程を経て、先の穴に重なる位置のフィルムレジス
トに加工精度の良い開口部を得ることができる。このマ
スクを用いて蒸着を行えば所望のパターンの蒸着膜が形
成できる。たとえば、面積がl OXI Oμdの矩形
パターンも可能である。
チング法またはレーザー加工により六1tFlけした金
属板にフィルムレジストを加熱圧着し、フォトリソグラ
フィ過程を経て、先の穴に重なる位置のフィルムレジス
トに加工精度の良い開口部を得ることができる。このマ
スクを用いて蒸着を行えば所望のパターンの蒸着膜が形
成できる。たとえば、面積がl OXI Oμdの矩形
パターンも可能である。
第1図(alは本発明の一実施例1および一実施例用マ
スクの製造工程図、第3図Ta) 、 (bl 、 (
cl 、 (d) 。 (elは本発明による実施例1の蒸着用マスクの製造工
程図である。 1・・・・・・金i+反、2・・・・・・フィルムレジ
スト、3・・・・・・金属+l!!、4・・・・・・開
口部、5・・・・・・ガラス乾板、8・・・・・・感光
剤。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか1名/−−−全
属板 ?−−−フイルムレシスト 3−一一名じ―芹帆 4−一一開口杯 第1図 5−一一ガラス乾穆、 第2図 6−−−惑九キ) 第3図
スクの製造工程図、第3図Ta) 、 (bl 、 (
cl 、 (d) 。 (elは本発明による実施例1の蒸着用マスクの製造工
程図である。 1・・・・・・金i+反、2・・・・・・フィルムレジ
スト、3・・・・・・金属+l!!、4・・・・・・開
口部、5・・・・・・ガラス乾板、8・・・・・・感光
剤。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか1名/−−−全
属板 ?−−−フイルムレシスト 3−一一名じ―芹帆 4−一一開口杯 第1図 5−一一ガラス乾穆、 第2図 6−−−惑九キ) 第3図
Claims (4)
- (1)所定の開口部を有する金属板とフィルムレジスト
とを一体とした構造を有することを特徴とする蒸着用マ
スク。 - (2)金属板もしくはフィルムレジストの少なくとも一
方に金属層が蒸着形成されていることを特徴とする特許
請求の範囲第(1)項記載の蒸着用マスク。 - (3)金属板がニッケル(Ni)、チタン(Ti)、銅
(Cu)、ステンレス、アルミニウム(Al)の何れか
からなることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項ま
たは第(2)項の何れかに記載の蒸着用マスク。 - (4)所定の開口部を有する金属板とフィルムレジスト
とを密着させ、さらにフォトリソグラフィー工程により
前記開口部の領域内において所定の形状部分のフィルム
レジストを剥離させることを特徴とする蒸着用マスクの
製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22306886A JPS6376859A (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 | 蒸着用マスクとその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22306886A JPS6376859A (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 | 蒸着用マスクとその製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6376859A true JPS6376859A (ja) | 1988-04-07 |
Family
ID=16792327
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22306886A Pending JPS6376859A (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 | 蒸着用マスクとその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6376859A (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1986
- 1986-09-19 JP JP22306886A patent/JPS6376859A/ja active Pending
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