JPS637038B2 - - Google Patents
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- JPS637038B2 JPS637038B2 JP54150891A JP15089179A JPS637038B2 JP S637038 B2 JPS637038 B2 JP S637038B2 JP 54150891 A JP54150891 A JP 54150891A JP 15089179 A JP15089179 A JP 15089179A JP S637038 B2 JPS637038 B2 JP S637038B2
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 4
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0975—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は無声放電式ガスレーザ装置の改良に
関するものである。
関するものである。
第1図は従来の無声放電式ガスレーザ装置の縦
断面図で、レーザ光軸と平行にガスを流す形式の
レーザ装置である。図において、1は誘電体より
なる放電管、2−1,2−2は放電管1の外表面
に密着して設けられた一対の電極、4は高周波電
源、5は全反射鏡、6は部分反射鏡、7,8は送
気管、9は送風機、10は熱交換器である。
断面図で、レーザ光軸と平行にガスを流す形式の
レーザ装置である。図において、1は誘電体より
なる放電管、2−1,2−2は放電管1の外表面
に密着して設けられた一対の電極、4は高周波電
源、5は全反射鏡、6は部分反射鏡、7,8は送
気管、9は送風機、10は熱交換器である。
CO2レーザを例にとつて第1図の装置の動作を
説明する。放電管1内には、CO2、N2、Heの混
合ガスが圧力数10torrで充填され送風機9により
矢印A方向に循還している。電極2−1,2−2
間には高周波電源4より数10〜数100KHz、数kV
の高周波電圧が印加され、放電管1内に放電が起
る。この放電は両電極間に誘電体(放電管1の壁
面)が介在したもので、無声放電と呼ばれるもの
である。この放電によりガス中のCO2分子が励起
され、全反射鏡5と部分反射鏡6で構成される共
振器内でレーザ発振が起り、レーザ光の一部は部
分反射鏡6より外部に矢印Bに示すようにとり出
される。放電によりガス温度が上昇するとレーザ
発振が不可能になるので、送風機9によりガスを
矢印方向に循環させて熱交換器10で冷却し、放
電管1内のガス温度を所定の値以下に保つように
構成されている。
説明する。放電管1内には、CO2、N2、Heの混
合ガスが圧力数10torrで充填され送風機9により
矢印A方向に循還している。電極2−1,2−2
間には高周波電源4より数10〜数100KHz、数kV
の高周波電圧が印加され、放電管1内に放電が起
る。この放電は両電極間に誘電体(放電管1の壁
面)が介在したもので、無声放電と呼ばれるもの
である。この放電によりガス中のCO2分子が励起
され、全反射鏡5と部分反射鏡6で構成される共
振器内でレーザ発振が起り、レーザ光の一部は部
分反射鏡6より外部に矢印Bに示すようにとり出
される。放電によりガス温度が上昇するとレーザ
発振が不可能になるので、送風機9によりガスを
矢印方向に循環させて熱交換器10で冷却し、放
電管1内のガス温度を所定の値以下に保つように
構成されている。
このように構成された従来装置においては、レ
ーザ発振を効率的に行なわせるために必要な高い
放電密度を得るには、電源の周波数を数10KHz以
上に高くする必要があり、それに伴なつて高周波
数電源の変換電力効率が低下し、製作費も高くな
るという欠点がある。更に従来装置の電極配置で
は、第2図aに示すように放電管内の放電密度の
分布が面対称となり、高い放電密度が得難いとい
う欠点があつた。
ーザ発振を効率的に行なわせるために必要な高い
放電密度を得るには、電源の周波数を数10KHz以
上に高くする必要があり、それに伴なつて高周波
数電源の変換電力効率が低下し、製作費も高くな
るという欠点がある。更に従来装置の電極配置で
は、第2図aに示すように放電管内の放電密度の
分布が面対称となり、高い放電密度が得難いとい
う欠点があつた。
この発明は上記従来装置の欠点の改善を目的と
してなされたもので、電極を放電管の周囲に光軸
方向に延在し、光軸方向に対して軸対称に配設す
るとともに多相電源で駆動することにより、放電
管内の放電を軸対称で中央が高密度の分布となる
ように構成し、もつて単一モードのレーザ発振を
効率よく行なわせるようにしたものである。
してなされたもので、電極を放電管の周囲に光軸
方向に延在し、光軸方向に対して軸対称に配設す
るとともに多相電源で駆動することにより、放電
管内の放電を軸対称で中央が高密度の分布となる
ように構成し、もつて単一モードのレーザ発振を
効率よく行なわせるようにしたものである。
第1図の従来装置とこの発明の装置と異なると
ころは、放電電極の構成と電源であるから、この
点について更に詳しく比較説明を行なう。
ころは、放電電極の構成と電源であるから、この
点について更に詳しく比較説明を行なう。
第2図bは従来の単相放電の駆動状態を示す図
で、放電電極間に印加する高周波電圧V12と放電
期間とを示す。この場合放電期間は図示のように
間欠的となる。
で、放電電極間に印加する高周波電圧V12と放電
期間とを示す。この場合放電期間は図示のように
間欠的となる。
第3図aはこの発明の一実施例の断面図、同図
bはその駆動状態を示す図で、この例は三相放電
の場合を示したものである。
bはその駆動状態を示す図で、この例は三相放電
の場合を示したものである。
図において、2−1,2−2,2−3は誘電体
よりなる放電管1の外表面に軸対称に密着して設
けられ、光軸方向に延在する3個の電極、4は三
相の高周波電源で、電源4より三相対称の高周波
電圧が各電極に供給される。
よりなる放電管1の外表面に軸対称に密着して設
けられ、光軸方向に延在する3個の電極、4は三
相の高周波電源で、電源4より三相対称の高周波
電圧が各電極に供給される。
第3図bにおいて、V1,V2,V3はそれぞれ電
極2−1,2−2,2−3の対地電位で、これら
の電位差によつて各電極間電圧が決まり、その電
圧が放電開始電圧を越えている期間、電極間に放
電が起る。各電極間の放電期間はそれぞれ図に示
した通りである。
極2−1,2−2,2−3の対地電位で、これら
の電位差によつて各電極間電圧が決まり、その電
圧が放電開始電圧を越えている期間、電極間に放
電が起る。各電極間の放電期間はそれぞれ図に示
した通りである。
放電状態は第3図aおよびbから理解されるよ
うに、光軸上のいかなる断面においても放電が回
転するように時間的に移動して行くので、放電密
度は軸対称に近い分布となるとともに、光軸上の
いかなる断面においても、中央部分の放電密度が
周辺部より大きくなる。
うに、光軸上のいかなる断面においても放電が回
転するように時間的に移動して行くので、放電密
度は軸対称に近い分布となるとともに、光軸上の
いかなる断面においても、中央部分の放電密度が
周辺部より大きくなる。
この三相放電の場合は、従来の単相放電の場合
に比べて、同じ電圧、同じ周波数においては放電
管内の放電密度が1.5〜3倍(電圧波形、電圧ピ
ーク等により異なる)に増加するので、所定の放
電密度を得るために必要な周波数は単相の場合よ
り低減できることになる。
に比べて、同じ電圧、同じ周波数においては放電
管内の放電密度が1.5〜3倍(電圧波形、電圧ピ
ーク等により異なる)に増加するので、所定の放
電密度を得るために必要な周波数は単相の場合よ
り低減できることになる。
第4図aはこの発明の他の実施例の断面図、同
図bはその駆動状態を示す図で、この例は六相放
電の場合を示す。図において、2−1〜2−6は
誘電体よりなる放電管1の外表面に軸対称に密着
して設けられた6個の電極、4は六相の高周波電
源で、六相対称の高周波電圧が各電極に供給され
る。放電密度の増加は三相放電の場合と同様であ
るが、放電の軸対称性は三相放電の場合より更に
向上する。
図bはその駆動状態を示す図で、この例は六相放
電の場合を示す。図において、2−1〜2−6は
誘電体よりなる放電管1の外表面に軸対称に密着
して設けられた6個の電極、4は六相の高周波電
源で、六相対称の高周波電圧が各電極に供給され
る。放電密度の増加は三相放電の場合と同様であ
るが、放電の軸対称性は三相放電の場合より更に
向上する。
第5図はレーザ光軸と直交してガスを流す形式
(第1図〜第4図に示したレーザ装置はレーザ光
軸とガス流方向が平行)のCO2レーザ装置にこの
発明を適用した一実施例の放電管の構成を示す側
面図、第6図はその断面図で、2−1〜2−3は
金属管電極で、その外表面はそれぞれ誘電体3で
おおわれており、軸対称に、かつ平行に配設され
る。また各電極管内には絶縁性の液体が流されて
冷却されている。電極管の軸方向に全反射鏡5と
部分反射鏡6が配置され、光共振器が構成されて
いる。ガスは矢印Aで示すように電極管の軸、及
びレーザ光軸に対して直交して流れている。なお
ガスは送風機(図示されていない)で循環され、
熱交換器(図示されていない)で冷却されるのは
平行形の場合と同様である。電極管2−1,2−
2,2−3には三相高周波電源4より三相対称の
高周波電圧が供給される。このように三相放電を
用いることにより、放電密度が増加し、軸対称性
が向上するのは第3図に示した実施例と同様であ
る。
(第1図〜第4図に示したレーザ装置はレーザ光
軸とガス流方向が平行)のCO2レーザ装置にこの
発明を適用した一実施例の放電管の構成を示す側
面図、第6図はその断面図で、2−1〜2−3は
金属管電極で、その外表面はそれぞれ誘電体3で
おおわれており、軸対称に、かつ平行に配設され
る。また各電極管内には絶縁性の液体が流されて
冷却されている。電極管の軸方向に全反射鏡5と
部分反射鏡6が配置され、光共振器が構成されて
いる。ガスは矢印Aで示すように電極管の軸、及
びレーザ光軸に対して直交して流れている。なお
ガスは送風機(図示されていない)で循環され、
熱交換器(図示されていない)で冷却されるのは
平行形の場合と同様である。電極管2−1,2−
2,2−3には三相高周波電源4より三相対称の
高周波電圧が供給される。このように三相放電を
用いることにより、放電密度が増加し、軸対称性
が向上するのは第3図に示した実施例と同様であ
る。
多相放電としては三相或いは六相に限られるも
のではないが、三相は高周波電源の製作上最も簡
単である上に、効果が大きいので実用上重要であ
り、又六相は三相の高周波電源から変圧器による
極性変換により簡単に六相になるのでこれも実用
上重要である。
のではないが、三相は高周波電源の製作上最も簡
単である上に、効果が大きいので実用上重要であ
り、又六相は三相の高周波電源から変圧器による
極性変換により簡単に六相になるのでこれも実用
上重要である。
この発明は、光軸方向に延在し、レーザ光軸に
対して軸対称となるように配設された3個以上の
電極に、多相高周波電圧を印加して無声放電を起
させるように構成したことを特徴とするもので、
放電密度を単相放電の場合より高くでき、また放
電密度分布に有利となるなど実用上大きな効果が
得られる。
対して軸対称となるように配設された3個以上の
電極に、多相高周波電圧を印加して無声放電を起
させるように構成したことを特徴とするもので、
放電密度を単相放電の場合より高くでき、また放
電密度分布に有利となるなど実用上大きな効果が
得られる。
第1図は従来の無声放電式ガスレーザ装置の縦
断面図、第2図aはその−線よりみた断面
図、同図bは駆動状態を示す図、第3図aはこの
発明の一実施例の断面図、同図bはその動作状態
を示す図、第4図aはこの発明の他の実施例の断
面図、同図bはその動作状態の説明図、第5図は
この発明の更に他の実施例の要部の側面図、第6
図は第5図の−線よりみた断面図である。 図において、1は放電管、2−1〜2−6は電
極、3は誘電体層、4は多相電源、5は反射鏡、
6は部分反射鏡、7,8は送気管、9は送風機、
10は熱交換器である。なお図中同一符号はそれ
ぞれ同一または相当部分を示す。
断面図、第2図aはその−線よりみた断面
図、同図bは駆動状態を示す図、第3図aはこの
発明の一実施例の断面図、同図bはその動作状態
を示す図、第4図aはこの発明の他の実施例の断
面図、同図bはその動作状態の説明図、第5図は
この発明の更に他の実施例の要部の側面図、第6
図は第5図の−線よりみた断面図である。 図において、1は放電管、2−1〜2−6は電
極、3は誘電体層、4は多相電源、5は反射鏡、
6は部分反射鏡、7,8は送気管、9は送風機、
10は熱交換器である。なお図中同一符号はそれ
ぞれ同一または相当部分を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 電極間を流れるガス中に誘電体を介して発生
させた無声放電により上記ガスを励起させてレー
ザ光をとり出すように構成されたガスレーザ装置
において、レーザ光軸方向に延在し、かつ光軸に
対して軸対称に配設された3個以上の電極と、こ
れらの電極間に放電電圧を印加する3相以上の多
相高周波電源とを備えたことを特徴とする無声放
電ガスレーザ装置。 2 3個の電極を3相の高周波電源で駆動する構
成とした特許請求の範囲第1項記載の無声放電ガ
スレーザ装置。 3 6個の電極を6相の高周波電源で駆動する構
成とした特許請求の範囲第1項記載の無声放電ガ
スレーザ装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15089179A JPS5673484A (en) | 1979-11-21 | 1979-11-21 | Voiceless discharge gas laser device |
US06/206,606 US4375690A (en) | 1979-11-21 | 1980-11-13 | Multi-phase silent discharge gas laser apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15089179A JPS5673484A (en) | 1979-11-21 | 1979-11-21 | Voiceless discharge gas laser device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5673484A JPS5673484A (en) | 1981-06-18 |
JPS637038B2 true JPS637038B2 (ja) | 1988-02-15 |
Family
ID=15506632
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15089179A Granted JPS5673484A (en) | 1979-11-21 | 1979-11-21 | Voiceless discharge gas laser device |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4375690A (ja) |
JP (1) | JPS5673484A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0291031U (ja) * | 1988-12-29 | 1990-07-19 | ||
JPH0291032U (ja) * | 1988-12-29 | 1990-07-19 |
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---|---|---|---|---|
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FR2554983A1 (fr) * | 1983-11-16 | 1985-05-17 | Comp Generale Electricite | Cathode creuse pour laser a gaz et laser en faisant application |
FR2575339B2 (fr) * | 1983-11-16 | 1987-01-16 | Comp Generale Electricite | Cathode creuse pour laser a vapeur metallique et laser en faisant application |
FR2554982B1 (fr) * | 1983-11-16 | 1986-02-21 | Comp Generale Electricite | Cathode creuse pour laser a vapeur metallique et laser en faisant application |
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JPS60178681A (ja) * | 1984-02-24 | 1985-09-12 | Mitsubishi Electric Corp | ガスレ−ザ装置 |
JPS60178686A (ja) * | 1984-02-24 | 1985-09-12 | Mitsubishi Electric Corp | ガスレ−ザ装置 |
DE3422525A1 (de) * | 1984-06-16 | 1986-02-13 | Trumpf GmbH & Co, 7257 Ditzingen | Gefalteter co(pfeil abwaerts)2(pfeil abwaerts)-laser |
DE3428653C2 (de) * | 1984-08-03 | 1994-06-01 | Trumpf Gmbh & Co | Quergeströmter CO¶2¶-Laser |
DE8526361U1 (de) * | 1985-09-14 | 1986-01-02 | Trumpf GmbH & Co, 7257 Ditzingen | Gas-Laser |
EP0183023B1 (de) * | 1984-11-24 | 1991-02-20 | Trumpf GmbH & Co | Gas-Laser mit Quereinkopplung von Hochfrequenzenergie |
US4800567A (en) * | 1986-01-29 | 1989-01-24 | Fanuc Ltd | High-frequency-discharge excited gas laser |
JPS6398175A (ja) * | 1986-10-14 | 1988-04-28 | Fanuc Ltd | レ−ザ装置 |
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DE19936955A1 (de) | 1999-08-05 | 2001-02-15 | Trumpf Lasertechnik Gmbh | Gaslaser |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1979
- 1979-11-21 JP JP15089179A patent/JPS5673484A/ja active Granted
-
1980
- 1980-11-13 US US06/206,606 patent/US4375690A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
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JPS4825275A (ja) * | 1971-08-04 | 1973-04-02 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5673484A (en) | 1981-06-18 |
US4375690A (en) | 1983-03-01 |
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